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基本情報

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伊藤 智子

Ito Tomoko

工学研究科 附属アトミックデザイン研究センター,助教

学歴

  • 2010年04月 ~ 2013年03月,大阪大学,大学院工学研究科,マテリアル生産科学専攻生産科学コース 博士後期課程
  • 2008年04月 ~ 2010年03月,大阪大学大学院,工学研究科,マテリアル生産科学専攻生産科学コース博士前期課程
  • 2004年04月 ~ 2008年03月,奈良女子大学,理学部,物理科学科(その他)

経歴

  • 2020年04月01日 ~ 継続中,大阪大学 工学研究科 附属アトミックデザイン研究センター,助教
  • 2016年04月01日 ~ 2020年03月31日,大阪大学 工学研究科 附属アトミックデザイン研究センター,特任研究員(常勤)
  • 2014年04月01日 ~ 2016年03月31日,大阪大学 工学研究科 附属アトミックデザイン研究センター,特任研究員

研究内容・専門分野

  • エネルギー,プラズマ応用科学

所属学会

  • American Vacuum Society
  • プラズマエレクトロニクス分科会(応用物理学会 )
  • 応用物理学会

論文

  • Formation and desorption of nickel hexafluoroacetylacetonate Ni(hfac)2 on a nickel oxide surface in atomic layer etching processes,Abdulrahman H. Basher,Marjan Krstić,Karin Fink,Tomoko Ito,Kazuhiro Karahashi,Wolfgang Wenzel,Satoshi Hamaguchi,Journal of Vacuum Science & Technology A,American Vacuum Society,Vol. 38,No. 5,p. 052602-052602,2020年09月,研究論文(学術雑誌)
  • Experimental and numerical analysis of the effects of ion bombardment in silicon oxide (SiO2) plasma enhanced atomic layer deposition (PEALD) processes,Hu Li,Tomoko Ito,Kazuhiro Karahashi,Munehito Kagaya,Tsuyoshi Moriya,Masaaki Matsukuma,Satoshi Hamaguchi,Japanese Journal of Applied Physics,IOP Publishing,Vol. 59,No. SJ,p. SJJA01-SJJA01,2020年06月01日,研究論文(学術雑誌)
  • Stability of hexafluoroacetylacetone molecules on metallic and oxidized nickel surfaces in atomic-layer-etching processes,Abdulrahman H. Basher,Marjan Krstić,Takae Takeuchi,Michiro Isobe,Tomoko Ito,Masato Kiuchi,Kazuhiro Karahashi,Wolfgang Wenzel,Satoshi Hamaguchi,Journal of Vacuum Science & Technology A,American Vacuum Society,Vol. 38,No. 2,p. 022610-022610,2020年03月,研究論文(学術雑誌)
  • XPS Study of Hexafluoroacetylacetone(hHfac) Adsorbed on Cobalt Surfaces for Atomic layer etching (ALE),Tomoko Ito,Kazuhiro Karahashi,Satoshi Hamaguchi,Proceedings of 32nd International Microprocesses and Nanotechnology Conference,2019年11月,研究論文(国際会議プロシーディングス)
  • Molecular dynamics simulations of atomic-layer etching (ALE) of SiO2,Yuki Okada,Michiro Isobe,Tomoko Ito,Kazuhiro Karahashi,Satoshi Hamaguchi,Proceedings of the 39th International Symposium on Dry Process (DPS2017),p. 47-48,2017年11月,研究論文(国際会議プロシーディングス)
  • Surface reactions of metal surfaces with adsorbed organic compounds by Ar+ ion irradiation,,Tomoko Ito,Kazuhiro Karahashi,Satoshi Hamaguchi,Proceedings of the 39th International Symposium on Dry Process (DPS2017),p. 45-46,2017年11月,研究論文(国際会議プロシーディングス)
  • Etching yields and surface reactions of amorphous carbon by fluorocarbon ion irradiation,Kazuhiro Karahashi,Hu Li,Kentaro Yamada,Tomoko Ito,Satoshi Numazawa,Ken Machida,Kiyoshi Ishikawa,Satoshi Hamaguchi,Japanese Journal of Applied Physics,IOP Publishing,Vol. 56,No. 6S2,p. 06HB09-06HB09,2017年06月01日,研究論文(学術雑誌)
  • Mass spectrometry analyses of ions generated by atmospheric-pressure plasma jets in ambient air,Tomoko Ito,Kensaku Gotou,Kanako Sekimoto,Satoshi Hamaguchi,Plasma Medicine,Vol. 5,No. 2-4,p. 283-298,2015年12月,研究論文(学術雑誌)
  • 技術解説 低温大気圧プラズマによる滅菌技術,伊藤智子,浜口智志,空気清浄,2014年04月
  • Characterization of polymer layer formation during SiO2/SiN etching by fluoro/hydrofluorocarbon plasmas,Keita Miyake,Tomoko Ito,Michiro Isobe,Kazuhiro Karahashi,Masanaga Fukasawa,Kazunori Nagahata,Tetsuya Tatsumi,Satoshi Hamaguchi,Japanese Journal of Applied Physics,IOP Publishing,Vol. 53,No. 3S2,p. 03DD02-03DD02,2014年01月01日,研究論文(学術雑誌)
  • Characteristics of silicon etching by silicon chloride ions,Tomoko Ito,Kazuhiro Karahashi,Song-Yun Kang,Satoshi Hamaguchi,Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films,American Vacuum Society,Vol. 31,No. 3,p. 031301-031301,2013年05月,研究論文(学術雑誌)
  • Etching reaction of CoFeB by carbon monoxide /methyl alcohol based plasmas,Kazuhiro Karahashi,Tomoko Ito,Satoshi Hamaguchi,Proceedings of International Symposium on Dry Process (DPS),p. 167-168,2012年11月,研究論文(国際会議プロシーディングス)
  • Si Damage Due to Oblique-Angle Ion Impact Relevant for Vertical Gate Etching Processes,Tomoko Ito,Kazuhiro Karahashi,Kohei Mizotani,Michiro Isobe,Song-Yun Kang,Masanobu Honda,Satoshi Hamaguchi,Japanese Journal of Applied Physics,IOP Publishing,Vol. 51,p. 08HB01-08HB01,2012年08月20日,研究論文(学術雑誌)
  • Mechanisms of selective etching for magnetic thin films by reactive plasmas for MRAM applications,p. 183-184,2011年11月,研究論文(国際会議プロシーディングス)
  • Si recess of poly-Si gate etching: damage enhanced by ion assisted oxygen diffusion,Tomoko Ito,Kazuhiro Karahashi,Masanaga Fukasawa,Tetsuya Tatsumi and,Satoshi Hamaguchi,p. 187-188,2011年11月,研究論文(国際会議プロシーディングス)
  • Etching reactions of Ni and Ta films by CO+, C+,O+ and OH+ ion irradiation,Kazuhiro Karahashi,Tomoko Ito,Satoshi Hamaguchi,p. 11-12,2011年11月,研究論文(国際会議プロシーディングス)
  • Hydrogen effects in hydrofluorocarbon plasma etching of silicon nitride: Beam study with CF+, CF2+, CHF2+, and CH2F+ ions,Tomoko Ito,Kazuhiro Karahashi,Masanaga Fukasawa,Tetsuya Tatsumi,Satoshi Hamaguchi,Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films,American Vacuum Society,Vol. 29,No. 5,p. 050601-050601,2011年09月,研究論文(学術雑誌)
  • Si Recess of Polycrystalline Silicon Gate Etching: Damage Enhanced by Ion Assisted Oxygen Diffusion,Tomoko Ito,Kazuhiro Karahashi,Masanaga Fukasawa,Tetsuya Tatsumi,Satoshi Hamaguchi,Japanese Journal of Applied Physics,IOP Publishing,Vol. 50,No. 8,p. 08KD02-08KD02,2011年08月22日,研究論文(学術雑誌)
  • Evaluation of Si etching yields by Cl+Br+and HBr+ion irradiation,Tomoko Ito,Kazuhiro Karahashi,Song-Yun Kang,Satoshi Hamaguchi,Journal of Physics: Conference Series,IOP Publishing,Vol. 232,p. 012021-012021,2010年06月01日,研究論文(学術雑誌)

特許・実用新案・意匠

  • 放射性プルーム監視システムおよび放射性物質検出装置,浜口智志,出口智子,竹内正人,タム・アンディ,内田清志,加藤万寿夫,隅谷典久,2014-179899,出願日:2014年09月

受賞

  • 第62 回質量分析総合討論会ベストプレゼンテーション賞優秀賞,伊藤智子,関本奏子,浜口智志,日本質量分析学会,2014年05月
  • 第11回プラズマエレクトロニクス賞,Tomoko Ito,Kazuhiro Karahashi,Masanaga Fukasawa,Tetsuya Tatsumi,Satoshi Hamaguchi,応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会,2012年09月
  • Young Researcher Award (The 32nd International Symposium on Dry Process),Tomoko Ito,第32回ドライプロセス国際シンポジウム組織委員会,2010年11月

講演・口頭発表等

  • Surface reactions of fluorinated Y2O3 by H+ and O+ ion irradiation,Hojun Kang,Tomoko Ito,Junghwan Um,Hikaru Kokura,Taekyun Kang,Sung-Il Cho,Hyunjung Park,Kazuhiro Karahashi,Satoshi Hamaguchi,the 68th JSAP Spring Meeting,2020年09月11日
  • XPS Study of Hexafluoroacetylacetone(hHfac) Adsorbed on Cobalt Surfaces for Atomic layer etching (ALE),Tomoko Ito,Kazuhiro Karahashi,Satoshi Hamaguchi,32nd International Microprocesses and Nanotechnology Conference,2019年11月29日
  • Analyses of Hexafluoroacetylacetone (Hfac) Adsorbed on Transition Metal Surfaces,Tomoko Ito,Kazuhiro Karahashi,Satoshi Hamaguchi,AVS 18th International Conference on Atomic Layer Deposition (ALD 2019) and the 5th International Atomic Layer Etching Workshop (ALE 2019),2019年07月23日
  • 原子層エッチングプロセスにおける表面反応解析,伊藤智子,唐橋一浩,浜口智志,The 4th Atomic Layer Process (ALP) Workshop,2019年06月19日
  • ヘキサフルオロアセチルアセトンによる遷移金属(Ni, Co)におけるサーマルエッチング反応解析,伊藤智子,唐橋一浩,浜口智志,第66回応用物理学会春季学術講演会,2019年03月
  • Effects of Light Ion Beam Irradiation in Plasma Etching Processes,Kazuhiro Karahashi,Tomoko Ito,Hu Li,Michiro Isobe,Kohei Mizotani,Shunpei Shigeno,Masanaga Fukasawa,Akiko Hirata,Tetsuya Tatsumi,Satoshi Hamaguchi,AVS 65th International Symposium & Exhibition,2018年10月23日
  • Atomic-Layer Etching (ALE) of Nickel or Nickel Oxide Films by Hexafluoroacetylacetone (HFAC) Molecules,Abdulrahman Basher,Michiro Isobe,Tomoko Ito,Kazuhiro Karahashi,Masato Kiuchi,Takae Takeuchi,Satoshi Hamaguchi,AVS 65th International Symposium & Exhibition,2018年10月25日
  • Mechanisms for Atomic Layer Etching of Metal Films by the Formation of Beta-diketonate Metal Complexes,Tomoko Ito,Kazuhiro Karahashi,Satoshi Hamaguchi,AVS 65th International Symposium & Exhibition,2018年10月25日
  • 金属原子層エッチングプロセスにおける錯体形成表面反応解析,伊藤 智子,唐橋 一浩,浜口 智志,第79回応用物理学会秋季学術講演会,2018年09月20日
  • Molecular dynamics simulation of SiO2 atomic-layer etching (ALE) by fluorocarbon and argon plasmas,Yuki Okada,Michiro Isobe,Tomoko Ito,Kazuhiro Karahashi,Satoshi Hamaguchi,AVS 18th International Conference on Atomic Layer Deposition (ALD 2018) and the 5th International Atomic Layer Etching Workshop (ALE 2018),2018年07月30日
  • Etching Reactions of Halogenated Layers Induced by Irradiation of Low-energy Ions and Gas-clusters,Kazuhiro Karahashi,Tomoko Ito,Satoshi Hamaguchi,AVS 18th International Conference on Atomic Layer Deposition (ALD 2018) and the 5th International Atomic Layer Etching Workshop (ALE 2018),2018年07月30日
  • Reactions of Hexafluoroacetylacetone (hfac) and Metal Surfaces under Low-energy Ion Irradiation,Tomoko Ito,Kazuhiro Karahashi,Satoshi Hamaguchi,AVS 18th International Conference on Atomic Layer Deposition (ALD 2018) and the 5th International Atomic Layer Etching Workshop (ALE 2018),2018年07月30日
  • 医療におけるプラズマプロセスの開発,伊藤智子,「量子ビームによるナノ構造形成とその医療・バイオ応用技術」 調査専門委員会第5回委員会,2018年06月11日
  • ヘキサフルオロアセチルアセトン吸着表面金属(Ni.Cu)におけるエッチング反応,伊藤智子,唐橋一浩,浜口智志,第65回応用物理学会春季学術講演会,2018年03月19日
  • Amino Group Surface Modification of Cell Culture Polystyrene Dishes by an Inverter Plasma Process,Satoshi Sugimoto,Tomoko Ito,Kai Kubota,Kazuma Nishiyama,Satoshi Hamaguchi,2017年12月
  • XPS Analysis of Adsorbed Organic Compounds on Magnetic Materials Surfaces,Tomoko Ito,Kazuhiro Karahashi,Satoshi Hamaguchi,2017年12月
  • Molecular Dynamics Simulation of Ni Etching by CO Plasmas,Akito Kumamoto,Nicolas A. Mauchamp,Michiro Isobe,Kohei Mizotani,Hu Li,Tomoko Ito,Kazuhiro Karahashi,S. Hamaguchi,AVS 63rd International Symposium & Exhibition,2017年11月06日
  • Plasma-based Functionalization of Polystyrene Surfaces of Cell Culture Plates,Kazuma Nishiyama,Tomoko Ito,Satoshi Sugimoto,Kensaku Gotoh,Michiro Isobe,Mina Okamoto,Akira Myoui,Hideki Yoshikawa,Satoshi Hamaguchi,AVS 63rd International Symposium & Exhibition,2017年11月06日
  • Si, SiO2, and Si3N4 Etching Characteristics of Silicon Halide Ions (SiFx+, SiClx+, and SiBrx+),,K. Karahashi,T. Ito,H. Li,Y. Muraki,M. Matsukuma,S. Hamaguchi,AVS 64th International Symposium & Exhibition,2017年10月31日
  • Surface reactions of metal surfaces with adsorbed organic compounds by Ar+ ion irradiation,Tomoko Ito,Kazuhiro Karahashi,Satoshi Hamaguchi,2017年11月
  • Molecular dynamics simulations of atomic-layer etching (ALE) of SiO2,Yuki Okada,Michiro Isobe,Tomoko Ito,Kazuhiro Karahashi,Satoshi Hamaguchi,2017年11月
  • Ni 表面に 対する ヘキサフルオロアセチルアセトン による 表面反応の 解明,伊藤 智子,唐橋,一浩,浜口 智志,第78回応用物理学会秋季学術講演会,2017年09月07日
  • 金属表面におけるXeF2曝露によるフッ化物層のエッチング反応,伊藤智子,唐橋一浩,浜口智志,2017年09月
  • Etching yields and surface reactions of amorphous carbon by fluorocarbon ion irradiation,Kazuhiro Karahashi,Hu Li,Kentaro Yamada,Tomoko Ito,Satoshi Numazawa,Ken Machida,Kiyoshi Ishikawa,Satoshi Hamaguchi,2017年05月
  • プラズマ照射によるポリスチレン細胞培養皿表面のアミノ基修飾,伊藤智子,西山一馬,杉本敏司,浜口智志,2017年03月
  • 大気中の放電による大気イオン生成および大気エアロゾルのイオン化機構の解明,伊藤智子,浜口智志,2014年度第2回研究会「“自己組織化・微粒子プラズマと複雑システム」,2015年03月27日
  • Characterization of plasma-surface interaction for Si based materials by multi-beam experiments,Tomoko Ito,Satoshi Hamaguchi,2014年01月10日
  • Mass spectrometry of ions formed in atmospheric-pressure plasma jets,Tomoko Ito,Kanako Sekimoto,Satoshi Hamaguchi,International Workshop on Diagnostics and Modelling for Plasma Medicine (DMPM2014),2014年05月
  • 高エネルギー水素イオン入射によるSi表面の増殖酸化,伊藤智子,溝谷浩平,礒部倫郎,唐橋一浩,深沢正永,長畑和典,辰巳哲也,浜口智志,第74回応用物理学会秋季学術講演会 「プラズマエレクトロニクス賞受賞記念講演」,2013年09月17日
  • プラズマエッチングにおけるナノメートル表面層反応機構の解明,伊藤智子,第156回応物Siテクノロジー研究会,2013年02月16日
  • Etching reaction of CoFeB by carbon monoxide /methyl alcohol based plasmas,Kazuhiro Karahashi,Tomoko Ito,Satoshi Hamaguchi,2012年
  • “Roles of hydrogen for hydrofluorocarbon (HFC) plasma etching of silicon nitride (SiN),2012年
  • Reactive etching or deposition properties of silicon halide ions in gate etching processes,Tomoko Ito,Kazuhiro Karahashi,Satoshi Hamaguchi,2012年11月
  • Mechanisms of selective etching for magnetic materials: Ni, Co and Ta etching by carbon monoxide /methyl alcohol based plasmas,Kazuhiro Karahashi,Tomoko Ito,Satoshi Hamaguchi,2011年
  • Silicon etching characteristics by hydrogen halide ions (HCl+ and HBr+) and ions of desorbed species (SiClx+),Tomoko Ito,Kazuhiro Karahashi,Song-Yun Kang,Satoshi Hamaguchi,2011年
  • Etching mechanisms of Pt, Co and PtCo magnetic films by chemically reactive energetic ion injections,2011年10月
  • Characteristics of silicon nitride etching by reactive plasmas containing CHxFy ions,2011年10月
  • Si酸化反応における水素イオン照射効果,伊藤智子,唐橋一浩,深沢正永,辰巳哲也,浜口智志,第58回応用物理学関係連合講演会,2011年03月
  • CHxFy+ イオンエッチングにおける水素の効果,伊藤智子,唐橋一浩,深沢正永,辰巳哲也,浜口智志,第71回応用物理学術講演会,2010年09月
  • CHxFy+イオン照射によるエッチング反応の評価,伊藤智子,唐橋一浩,深沢正永,辰巳哲也,浜口智志,第57回応用物理学関係連合講演会,2010年03月
  • Cl+, Br+ イオン照射によるSiエッチング反応の評価,伊藤智子,松本祥志,唐橋一浩,康 松潤,浜口智志,2009年春季 第56回応用物理学関係連合講演会,2009年