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有馬 健太
Kenta Arima
有馬 健太
Kenta Arima
機関リポジトリ
工学研究科　物理学系専攻，教授

keyword 生産工学・加工学，半導体プロセス，表面科学

機関リポジトリ

経歴 6

  1. 2023年4月 ～ 継続中
    大阪大学 大学院 工学研究科 物理学系専攻 教授

  2. 2009年4月 ～ 2023年3月
    大阪大学　大学院 工学研究科　准教授

  3. 2007年4月 ～ 2009年3月
    大阪大学　大学院 工学研究科　助教

  4. 2007年11月 ～ 2008年10月
    米国ローレンスバークレー国立研究所　客員研究員

  5. 2000年4月 ～ 2007年3月
    大阪大学　大学院 工学研究科　助手

  6. 1997年4月 ～ 2000年3月
    理化学研究所　表面界面工学研究室　ジュニアリサーチアソシエイト

学歴 3

  1. 大阪大学　大学院 工学研究科　精密科学専攻 博士後期課程

    1997年4月 ～ 2000年3月

  2. 大阪大学　大学院 工学研究科　精密科学専攻 博士前期課程

    1995年4月 ～ 1997年3月

  3. 大阪大学　工学部　精密工学科

    1991年4月 ～ 1995年3月

委員歴 13

  1. 応用物理学会 薄膜・表面物理分科会　常任幹事　学協会

    2024年4月 ～ 継続中

  2. 応用物理学会 界面ナノ電子化学研究会　副委員長　学協会

    2022年1月 ～ 継続中

  3. 精密工学会 関西支部　幹事　学協会

    2018年7月 ～ 継続中

  4. 精密工学会 超精密加工専門委員会　幹事　学協会

    2010年4月 ～ 継続中

  5. 応用物理学会 界面ナノ電子化学研究会　コアメンバー　学協会

    2019年1月 ～ 2021年12月

  6. 日本表面真空学会 学術講演会委員会　委員　学協会

    2018年4月 ～ 2019年3月

  7. 日本表面真空学会 関西支部　委員　学協会

    2018年4月 ～ 2019年3月

  8. 応用物理学会 界面ナノ電子化学研究会　アドバイザー　学協会

    2016年4月 ～ 2018年12月

  9. 精密工学会 関西支部　商議委員　学協会

    2011年4月 ～ 2018年6月

  10. 精密工学会　校閲委員　学協会

    2016年4月 ～ 2018年3月

  11. 日本表面科学会　関西支部役員　学協会

    2013年4月 ～ 2018年3月

  12. 日本表面科学会　支部推薦本部企画委員　学協会

    2015年4月 ～ 2017年3月

  13. 精密工学会　会誌編集委員　学協会

    2012年4月 ～ 2015年3月

所属学会 5

  1. The Electrochemical Society

  2. Materials Research Society

  3. 日本表面真空学会

  4. 応用物理学会

  5. 精密工学会

研究内容・専門分野 3

  1. ナノテク・材料 / 材料加工、組織制御 /

  2. ものづくり技術（機械・電気電子・化学工学） / 加工学、生産工学 /

  3. ナノテク・材料 / 薄膜、表面界面物性 /

受賞 28

  1. ベストポスタープレゼンテーション賞

    宇野瑞真, 橋本龍人, 稲垣耕司, 有馬健太　精密工学会 関西地方定期学術講演会　2025年6月

  2. Poster Award

    村瀬詩花, 東知樹, 稲垣耕司, 有馬健太　第85回応用物理学会秋季学術講演会　2024年11月

  3. Best Poster Award

    Junhuan Li, Kouji Inagaki, Kenta Arima　ACSIN-15 (15th International Conference on Atomically Controlled Surfaces, Interfaces and Nanostructures)　2024年5月

  4. 2024年度秋季大会 ベストプレゼンテーション賞

    竹内鉄朗, 橋本龍人, 馬智達, 稲垣耕司, 有馬健太　精密工学会　2023年11月

  5. 2023年度春季大会 ベストプレゼンテーション賞

    李君寰, 稲垣耕司, 孫栄硯, 山村和也, 有馬健太　精密工学会　2023年6月

  6. 優秀講演賞

    竹内鉄朗, 馬智達, 橋本龍人, 孫栄硯, 山村和也, 有馬健太　応用物理学会 界面ナノ電子化学研究会（第7回ポスター発表展）　2022年9月

  7. 2021年度秋季大会 ベストプレゼンテーション賞

    梶本稜有, 越智諒, 川合健太郎, 山村和也, 有馬健太　精密工学会　2021年12月

  8. 工学研究科長表彰

    有馬健太　2021年3月

  9. 2020年度秋季大会 ベストプレゼンテーション賞

    三栗野諒, 小笠原歩見, 平野智暉, 川合健太郎, 山村和也, 有馬健太　精密工学会　2020年12月

  10. 2020年度秋季大会 ベストプレゼンテーション賞

    馬智達、増本晴文、川合健太郎、山村和也、有馬健太　精密工学会　2020年12月

  11. Young Researcher Award

    Zhida Ma, Seiya Masumoto, Kentaro Kawai, Kazuya Yamamura, Kenta Arima　ICPE 2020　2020年11月

  12. ベストポスタープレゼンテーション賞

    増本晴文, 川合健太郎, 山村和也, 有馬健太　精密工学会 2019年度秋季大会　2019年9月

  13. ベストポスタープレゼンテーション賞

    増本晴文, 川合健太郎, 山村和也, 有馬健太　精密工学会 関西地方定期学術講演会　2019年6月

  14. 講演奨励賞

    平野智暉, 中田裕己, 山下裕登, 李韶賢, 川合健太郎, 山村和也, 有馬健太　第79回 応用物理学会 秋季学術講演会　2019年3月

  15. Young Scientist Award

    Shaoxian LI, Tomoki HIRANO, Kentaro KAWAI, Kazuya YAMAMURA, Kenta ARIMA　PCSI-46　2019年1月

  16. Young Scientist Award

    Tomoki HIRANO, Yuki NAKATA, Hiroto YAMASHITA, Shaoxian LI, Kentaro KAWAI, Kazuya YAMAMURA, Kenta ARIMA　PCSI-46　2019年1月

  17. ベストポスタープレゼンテーション賞

    南映希, 伊藤亮太, 細尾幸平, 佐野泰久, 川合健太郎, 有馬健太　精密工学会 関西地方定期学術講演会　2018年6月

  18. 優秀講演賞

    平野智暉, 中出和希, 李韶賢, 川合健太郎, 山村和也, 有馬健太　応用物理学会 界面ナノ電子化学研究会（第3回ポスター発表展）　2018年3月

  19. ベストプレゼンテーション賞

    中田裕己, 平野智暉, 李韶賢, 川合健太郎, 山村和也, 有馬健太　精密工学会 2018年度春季大会　2018年3月

  20. ベストポスタープレゼンテーション賞

    平野智暉, 中出和希, 李韶賢, 森田瑞穂, 川合健太郎, 有馬健太　精密工学会 2017年度秋季大会　2017年9月

  21. ベストポスタープレゼンテーション賞

    伊藤亮太, 細尾幸平, 南映希, 森田瑞穂, 佐野泰久, 川合健太郎, 有馬健太　精密工学会 2017年度秋季大会　2017年9月

  22. 安田賞（第21回 電子デバイス界面テクノロジー研究会）

    中出和希, 森大地, 川瀬達也, 川合健太郎, 佐野泰久, 山内和人, 森田瑞穂, 有馬健太　応用物理学会 薄膜・表面物理分科会／シリコンテクノロジー研究会　2016年1月

  23. 総長奨励賞

    有馬 健太　大阪大学　2015年7月

  24. ベストポスタープレゼンテーション賞（関西支部 定期学術講演会）

    齋藤雄介, 森大地, 村敦史, 川合健太郎, 森田瑞穂, 有馬健太　精密工学会 関西支部　2014年7月

  25. 会誌賞

    山内和人, 佐野泰久, 有馬健太　日本表面科学会　2013年11月

  26. 総長奨励賞

    有馬 健太　大阪大学　2013年8月

  27. Best Poster Award (First International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology)

    Akina Yoshimatsu, Hiroki Sakane, Takushi Shigetoshi, Junichi Uchikoshi, Mizuho Morita, Kenta Arima　精密工学会 超精密加工専門委員会　2009年2月

  28. Image of the Month

    有馬 健太　RHK Technology　2005年12月

論文 134

  1. Measurement of electrical characteristics of Ge-based diodes with thermal GeO2 films exposed to controlled humidity conditions

    Shuto Sano, Hiroki Takano, Yohei Wada, Ethan J. Crumlin, Kouji Inagaki, Kenta Arima

    JOURNAL OF APPLIED PHYSICS　Vol. 137　No. 15　p. 155304-1-155304-7　2025年4月16日　研究論文（学術雑誌）

    出版者・発行元：

  2. Nanocarbon-assisted chemical etching of Ge(100) in H2O2

    Junhuan Li, Seiya Yamamoto, Kouji Inagaki, Kenta Arima

    ELECTROCHEMISTRY COMMUNICATIONS　Vol. 163　p. 107735-1-107735-5　2024年4月29日　研究論文（学術雑誌）

    出版者・発行元：

  3. First-principles simulations of scanning tunneling microscopy images exhibiting anomalous dot patterns on armchair-edged graphene nanoribbons

    Junhuan Li, Kouji Inagaki, Kenta Arima

    PHYSICAL REVIEW RESEARCH　Vol. 6　No. 1　p. 013252-1-013252-9　2024年3月7日　研究論文（学術雑誌）

    出版者・発行元：

  4. Nanocarbon-Induced Etching Property of Semiconductor Surfaces: Testing Nanocarbon’s Catalytic Activity for Oxygen Reduction Reaction at a Single-Sheet Level

    Ayumi Ogasawara, Kentaro Kawai, Kazuya Yamamura, Kenta Arima

    ECS JOURNAL OF SOLID STATE SCIENCE AND TECHNOLOGY　Vol. 11　No. 4　p. 041001-1-041001-5　2022年4月5日　研究論文（学術雑誌）

    出版者・発行元：

  5. Separation of Neighboring Terraces on a Flattened Si(111) Surface by Selective Etching along Step Edges Using Total Wet Chemical Processing

    Zhida Ma, Seiya Masumoto, Kentaro Kawai, Kazuya Yamamura, Kenta Arima

    LANGMUIR　Vol. 38　No. 12　p. 3748-3754　2022年3月29日　研究論文（学術雑誌）

    出版者・発行元：

  6. Atomic-scale insights into the origin of rectangular lattice in nanographene probed by scanning tunneling microscopy

    Junhuan Li, Shaoxian Li, Tomoki Higashi, Kentaro Kawai, Kouji Inagaki, Kazuya Yamamura, Kenta Arima

    PHYSICAL REVIEW B　Vol. 103　No. 24　p. 245433-1-245433-9　2021年6月24日　研究論文（学術雑誌）

  7. Catalytic Properties of Chemically Modified Graphene Sheets to Enhance Etching of Ge Surface in Water

    Ryo Mikurino, Ayumi Ogasawara, Tomoki Hirano, Yuki Nakata, Hiroto Yamashita, Shaoxian Li, Kentaro Kawai, Kazuya Yamamura, Kenta Arima

    The JOURNAL OF PHYSICAL CHEMISTRY C　Vol. 124　No. 11　p. 6121-6129　2020年3月19日　研究論文（学術雑誌）

    出版者・発行元：

  8. Improvements in graphene growth on 4H-SiC(0001) using plasma induced surface oxidation

    Ouki Minami, Ryota Ito, Kohei Hosoo, Makoto Ochi, Yasuhisa Sano, Kentaro Kawai, Kazuya Yamamura, Kenta Arima

    JOURNAL OF APPLIED PHYSICS　Vol. 126　No. 6　p. 065301-1-065301-10　2019年8月14日　研究論文（学術雑誌）

  9. Investigation of reaction sequence occurring in graphene-assisted chemical etching of Ge surfaces in water

    Shaoxian Li, Kazuki Nakade, Tomoki Hirano, Kentaro Kawai, Kenta Arima

    MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING　Vol. 87　p. 32-36　2018年11月15日　研究論文（学術雑誌）

  10. Chemical etching of a semiconductor surface assisted by single sheets of reduced graphene oxide

    Tomoki Hirano, Kazuki Nakade, Shaoxian Li, Kentaro Kawai, Kenta Arima

    CARBON　Vol. 127　p. 681-687　2018年2月　研究論文（学術雑誌）

  11. Comparative study of GeO2/Ge and SiO2/Si structures on anomalous charging of oxide films upon water adsorption revealed by ambient-pressure X-ray photoelectron spectroscopy

    Daichi Mori, Hiroshi Oka, Takuji Hosoi, Kentaro Kawai, Mizuho Morita, Ethan J. Crumlin, Zhi Liu, Heiji Watanabe, Kenta Arima

    JOURNAL OF APPLIED PHYSICS　Vol. 120　No. 9　p. 095306-1-095306-10　2016年9月2日　研究論文（学術雑誌）

  12. Catalyst-Assisted Electroless Flattening of Ge Surfaces in Dissolved-O2-Containing Water

    Tatsuya Kawase, Yusuke Saito, Atsushi Mura, Takeshi Okamoto, Kentaro Kawai, Yasuhisa Sano, Mizuho Morita, Kazuto Yamauchi, Kenta Arima

    CHEMELECTROCHEM　Vol. 2　No. 11　p. 1656-1659　2015年7月23日　研究論文（学術雑誌）

  13. Aggregation of carbon atoms at SiO2/SiC(0001) interface by plasma oxidation toward formation of pit-free graphene

    Naoki Saito, Daichi Mori, Akito Imafuku, Keisuke Nishitani, Hiroki Sakane, Kentaro Kawai, Yasuhisa Sano, Mizuho Morita, Kenta Arima

    CARBON　Vol. 80　p. 440-445　2014年12月　研究論文（学術雑誌）

  14. Metal-assisted chemical etching of Ge(100) surfaces in water toward nanoscale patterning

    Tatsuya Kawase, Atsushi Mura, Katsuya Dei, Keisuke Nishitani, Kentaro Kawai, Junichi Uchikoshi, Mizuho Morita, Kenta Arima

    NANOSCALE RESEARCH LETTERS　Vol. 8　p. 151-1-151-7　2013年4月2日　研究論文（学術雑誌）

  15. Water Growth on GeO2/Ge(100) Stack and Its Effect on the Electronic Properties of GeO2

    Atsushi Mura, Iori Hideshima, Zhi Liu, Takuji Hosoi, Heiji Watanabe, Kenta Arima

    JOURNAL OF PHYSICAL CHEMISTRY C　Vol. 117　No. 1　p. 165-171　2013年1月10日　研究論文（学術雑誌）

  16. Catalytic behavior of metallic particles in anisotropic etching of Ge(100) surfaces in water mediated by dissolved oxygen

    Tatsuya Kawase, Atsushi Mura, Keisuke Nishitani, Yoshie Kawai, Kentaro Kawai, Junichi Uchikoshi, Mizuho Morita, Kenta Arima

    JOURNAL OF APPLIED PHYSICS　Vol. 111　No. 12　p. 126102-1-126102-3　2012年6月20日　研究論文（学術雑誌）

  17. Mechanism of atomic-scale passivation and flattening of semiconductor surfaces by wet-chemical preparations

    Kenta Arima, Katsuyoshi Endo, Kazuto Yamauchi, Kikuji Hirose, Tomoya Ono, Yasuhisa Sano

    JOURNAL OF PHYSICS-CONDENSED MATTER　Vol. 23　No. 39　p. 394202-1-394202-14　2011年9月15日　研究論文（学術雑誌）

  18. Characterization of Terraces and Steps on Cl-Terminated Ge(111) Surfaces After HCl Treatment in N2 Ambient

    Katsuya Dei, Tatsuya Kawase, Kazufumi Yoneda, Junichi Uchikoshi, Mizuho Morita, Kenta Arima

    JOURNAL OF NANOSCIENCE AND NANOTECHNOLOGY　Vol. 11　No. 4　p. 2968-2972　2011年4月1日　研究論文（学術雑誌）

  19. Selective Adsorption of Organosilane Molecules Along Step Edges of Atomically Flattened Si(111) Surfaces

    Hiroki Sakane, Akina Yoshimatsu, Takushi Shigetoshi, Junichi Uchikoshi, Mizuho Morita, Kenta Arima

    JOURNAL OF NANOSCIENCE AND NANOTECHNOLOGY　Vol. 11　No. 4　p. 2962-2967　2011年4月1日　研究論文（学術雑誌）

  20. Water Adsorption, Solvation, and Deliquescence of Potassium Bromide Thin Films on SiO2 Studied by Ambient-Pressure X-ray Photoelectron Spectroscopy

    Kenta Arima, Peng Jiang, Xingyi Deng, Hendrik Bluhm, Miquel Salmeron

    JOURNAL OF PHYSICAL CHEMISTRY C　Vol. 114　No. 35　p. 14900-14906　2010年9月9日　研究論文（学術雑誌）

  21. Ion Segregation and Deliquescence of Alkali Halide Nanocrystals on SiO2

    Kenta Arima, Peng Jiang, Deng-Sung Lin, Albert Verdaguer, Miquel Salmeron

    JOURNAL OF PHYSICAL CHEMISTRY A　Vol. 113　No. 35　p. 9715-9720　2009年9月3日　研究論文（学術雑誌）

  22. Development of surface Hall potentiometry to reveal the variation of drift velocity of carriers in semiconductor materials

    Kenta Arima, Yuji Hidaka, Kenji Hiwa, Junichi Uchikoshl, Mizuho Morita

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS　Vol. 47　No. 4　p. 3041-3045　2008年4月25日　研究論文（学術雑誌）

  23. Ex situ scanning tunneling microscopy study of Cu nanowires formed by electroless deposition at atomic-step edges of flat Si(111) surfaces

    Akina Yoshimatsu, Takushi Shigetoshi, Junichi Uchikoshi, Mizuho Morita, Kenta Arima

    SURFACE AND INTERFACE ANALYSIS　Vol. 40　No. 6-7　p. 1134-1137　2008年3月7日　研究論文（学術雑誌）

  24. Atomic-scale flattening of SiC surfaces by electroless chemical etching in HF solution with Pt catalyst

    Kenta Arima, Hideyuki Hara, Junji Murata, Takeshi Ishida, Ryota Okamoto, Keita Yagi, Yasuhisa Sano, Hidekazu Mimura, Kazuto Yamauchi

    APPLIED PHYSICS LETTERS　Vol. 90　No. 20　p. 202106-1-202106-3　2007年5月16日　研究論文（学術雑誌）

  25. Microscratches with depths of angstrom order on Si wafers detected by light scattering and AFM

    Takushi Shigetoshi, Haruyuki Inoue, Tsukasa Kawashima, Takaaki Hirokane, Toshihiko Kataoka, Mizuho Morita, Kenta Arima

    ELECTROCHEMICAL AND SOLID STATE LETTERS　Vol. 10　No. 7　p. H206-H209　2007年4月25日　研究論文（学術雑誌）

  26. Highly resolved scanning tunneling microscopy study of Si(001) surfaces flattened in aqueous environment

    Kenta Arima, Akihisa Kubota, Hidekazu Mimura, Kouji Inagaki, Katsuyoshi Endo, Yuzo Mori, Kazuto Yamauchi

    SURFACE SCIENCE　Vol. 600　No. 15　p. L185-L188　2006年8月1日　研究論文（学術雑誌）

  27. Surface Hall Potentiometry for Characterizing Semiconductor Films

    Kenta Arima, Kenji Hiwa, Ryoji Nakaoka, Mizuho Morita

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS BRIEF COMMUNICATIONS & REVIEW PAPERS　Vol. 45　No. 4B　p. 3601-3605　2006年4月25日　研究論文（学術雑誌）

  28. Atomic-Scale Evaluation of Si(111) Surfaces Finished by the Planarization Process Utilizing SiO2 Particles Mixed with Water

    Jun Katoh, Kenta Arima, Akihisa Kubota, Hidekazu Mimura, Kouji Inagaki, Yuzo Mori, Kazuto Yamauchi, Katsuyoshi Endo

    JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY　Vol. 153　No. 6　p. G560-G560　2006年4月13日　研究論文（学術雑誌）

  29. Surface photovoltage measurements of intrinsic hydrogenated amorphous Si films on Si wafers on the nanometer scale

    Kenta Arima, Takushi Shigetoshi, Hiroaki Kakiuchi, Mizuho Morita

    PHYSICA B-CONDENSED MATTER　Vol. 376-377　p. 893-896　2006年4月1日　研究論文（学術雑誌）

  30. Hydrogen termination of Si(110) surfaces upon wet cleaning revealed by highly resolved scanning tunneling microscopy

    Kenta Arima, Jun Katoh, Shinya Horie, Katsuyoshi Endo, Tomoya Ono, Shigetoshi Sugawa, Hiroshi Akahori, Akinobu Teramoto, Tadahiro Ohmi

    JOURNAL OF APPLIED PHYSICS　Vol. 98　No. 10　p. 103525-103525　2005年11月15日　研究論文（学術雑誌）

  31. Atomic-scale analysis of hydrogen-terminated Si(110) surfaces after wet cleaning

    Kenta Arima, Jun Katoh, Katsuyoshi Endo

    APPLIED PHYSICS LETTERS　Vol. 85　No. 25　p. 6254-6256　2004年12月20日　研究論文（学術雑誌）

  32. Scanning tunneling microscopy/spectroscopy observation of intrinsic hydrogenated amorphous silicon surface under light irradiation

    Kenta Arima, Hiroaki Kakiuchi, Manabu Ikeda, Katsuyoshi Endo, Mizuho Morita, Yuzo Mori

    SURFACE SCIENCE　Vol. 572　No. 2-3　p. 449-458　2004年11月20日　研究論文（学術雑誌）

  33. Visible Light Irradiation Effects on STM Observations of Hydrogenated Amorphous Silicon Surfaces

    Kenta Arima, Hiroaki Kakiuchi, Manabu Ikeda, Katsuyoshi Endo, Mizuho Morita, Yuzo Mori

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS　Vol. 43　No. 4B　p. 1891-1895　2004年4月27日　研究論文（学術雑誌）

  34. Scanning tunneling microscopy study of hydrogen-terminated Si(001) surfaces after wet cleaning

    K. Arima, K. Endo, T. Kataoka, Y. Oshikane, H. Inoue, Y. Mori

    SURFACE SCIENCE　Vol. 446　No. 1-2　p. 128-136　2000年2月1日　研究論文（学術雑誌）

  35. Atomically resolved scanning tunneling microscopy of hydrogen-terminated Si(001) surfaces after HF cleaning

    Kenta Arima, Katsuyoshi Endo, Toshihiko Kataoka, Yasushi Oshikane, Haruyuki Inoue, Yuzo Mori

    APPLIED PHYSICS LETTERS　Vol. 76　No. 4　p. 463-465　2000年1月24日　研究論文（学術雑誌）

  36. Observation of metal on Si(001) by STM/STS and its consideration based on the first principles calculations

    Kenta Arima, Katsuyoshi Endo, Toshihiko Kataoka, Kikuji Hirose, Hidekazu Goto, Yasushi Oshikane, Haruyuki Inoue, Yoshitaka Tatara, Yuzo Mori

    COMPUTATIONAL MATERIALS SCIENCE　Vol. 14　No. 1-4　p. 236-240　1999年3月4日　研究論文（学術雑誌）

  37. Highly efficient finishing of large-sized single crystal diamond substrates by combining nanosecond pulsed laser trimming and plasma-assisted polishing

    Nian Liu, Kentaro Sugimoto, Naoya Yoshitaka, Hideaki Yamada, Rongyan Sun, Kenta Arima, Kazuya Yamamura

    Ceramics International　Vol. 49　No. 11　p. 19109-19123　2023年6月　研究論文（学術雑誌）

    出版者・発行元：Elsevier BV

  38. Electroluminescence in metal-oxide-semiconductor tunnel diodes with a crystalline silicon/silicon dioxide quantum well

    Yuki Miyata, Yasunori Nakamukai, Cassia Tiemi Azevedo, Ayano Tsuchida, Miho Morita, Yasushi Oshikane, Junichi Uchikoshi, Kentaro Kawai, Kenta Arima, Mizuho Morita

    Micro and Nanostructures　Vol. 166　p. 207228-207228　2022年6月　研究論文（学術雑誌）

    出版者・発行元：

  39. Effects of polishing pressure and sliding speed on the material removal mechanism of single crystal diamond in plasma-assisted polishing

    Nian Liu, Kentaro Sugimoto, Naoya Yoshitaka, Hideaki Yamada, Rongyan Sun, Kentaro Kawai, Kenta Arima, Kazuya Yamamura

    Diamond and Related Materials　Vol. 124　p. 108899-108899　2022年4月　研究論文（学術雑誌）

    出版者・発行元：Elsevier BV

  40. Charge Utilization Efficiency and Side Reactions in the Electrochemical Mechanical Polishing of 4H-SiC (0001)

    Xiaozhe Yang, Xu Yang, Haiyang Gu, Kentaro Kawai, Kenta Arima, Kazuya Yamamura

    Journal of The Electrochemical Society　Vol. 169　No. 2　p. 023501-023501　2022年2月1日　研究論文（学術雑誌）

    出版者・発行元：The Electrochemical Society

  41. Comparison of surface and subsurface damage of mosaic single-crystal diamond substrate processed by mechanical and plasma-assisted polishing

    Nian Liu, Hideaki Yamada, Naoya Yoshitaka, Kentaro Sugimoto, Rongyan Sun, Kentaro Kawai, Kenta Arima, Kazuya Yamamura

    Diamond and Related Materials　Vol. 119　p. 108555-108555　2021年11月　研究論文（学術雑誌）

    出版者・発行元：Elsevier BV

  42. Novel highly-efficient and dress-free polishing technique with plasma-assisted surface modification and dressing

    Rongyan Sun, Atsunori Nozoe, Junji Nagahashi, Kenta Arima, Kentaro Kawai, Kazuya Yamamura

    Precision Engineering　Vol. 72　p. 224-236　2021年11月　研究論文（学術雑誌）

    出版者・発行元：Elsevier BV

  43. Novel SiC wafer manufacturing process employing three-step slurryless electrochemical mechanical polishing

    Xu Yang, Xiaozhe Yang, Kentaro Kawai, Kenta Arima, Kazuya Yamamura

    Journal of Manufacturing Processes　Vol. 70　p. 350-360　2021年10月1日　研究論文（学術雑誌）

    出版者・発行元：Elsevier Ltd

  44. Dominant factors and their action mechanisms on material removal rate in electrochemical mechanical polishing of 4H-SiC (0001) surface

    Xiaozhe Yang, Xu Yang, Kentaro Kawai, Kenta Arima, Kazuya Yamamura

    Applied Surface Science　Vol. 562　p. 150130-150130　2021年10月　研究論文（学術雑誌）

    出版者・発行元：Elsevier BV

  45. Damage-free highly efficient plasma-assisted polishing of a 20-mm square large mosaic single crystal diamond substrate

    Nian Liu, Kohki Sugawara, Naoya Yoshitaka, Hideaki Yamada, Daisuke Takeuchi, Yuko Akabane, Kenichi Fujino, Kentaro Kawai, Kenta Arima, Kazuya Yamamura

    Scientific Reports　Vol. 10　No. 1　2020年12月　研究論文（学術雑誌）

    出版者・発行元：Springer Science and Business Media LLC

  46. Feasibility using ethanol-added argon instead of helium as the carrier gas used in atmospheric-pressure plasma chemical vaporization machining

    Rongyan Sun, Keiichiro Watanabe, Shiro Miyazaki, Toru Fukano, Masanobu Kitada, Kentaro Kawai, Kenta Arima, Kazuya Yamamura

    Proceedings of the 20th International Conference of the European Society for Precision Engineering and Nanotechnology, EUSPEN 2020　p. 159-160　2020年　研究論文（国際会議プロシーディングス）

    出版者・発行元：euspen

  47. Nanopore sensing device integrating nanopillar array for DNA translocation control

    Takahiro Tanaka, Syogo Kanetani, Kenta Arima, Kentaro Kawai

    21st International Conference on Miniaturized Systems for Chemistry and Life Sciences, MicroTAS 2017　p. 362-363　2020年　研究論文（国際会議プロシーディングス）

    出版者・発行元：Chemical and Biological Microsystems Society

  48. Rapid folding of DNA nanostructures in microfluidic channel

    Keita Hara, Kenta Arima, Osamu Tabata, Kentaro Kawai

    21st International Conference on Miniaturized Systems for Chemistry and Life Sciences, MicroTAS 2017　p. 387-388　2020年　研究論文（国際会議プロシーディングス）

  49. High-quality plasma-assisted polishing of aluminum nitride ceramic

    Rongyan Sun, Xu Yang, Kenta Arima, Kentaro Kawai, Kazuya Yamamura

    CIRP Annals　Vol. 69　No. 1　p. 301-304　2020年　研究論文（学術雑誌）

    出版者・発行元：Elsevier BV

  50. Obtaining Atomically Smooth 4H–SiC (0001) Surface by Controlling Balance Between Anodizing and Polishing in Electrochemical Mechanical Polishing

    Xu Yang, Xiaozhe Yang, Rongyan Sun, Kentaro Kawai, Kenta Arima, Kazuya Yamamura

    Nanomanufacturing and Metrology　Vol. 2　No. 3　p. 140-147　2019年9月　研究論文（学術雑誌）

    出版者・発行元：Springer Science and Business Media LLC

  51. Etching Characteristics of Quartz Crystal Wafers Using Argon-Based Atmospheric Pressure CF4 Plasma Stabilized by Ethanol Addition

    Rongyan Sun, Xu Yang, Keiichiro Watanabe, Shiro Miyazaki, Toru Fukano, Masanobu Kitada, Kenta Arima, Kentaro Kawai, Kazuya Yamamura

    Nanomanufacturing and Metrology　Vol. 2　No. 3　p. 168-176　2019年9月　研究論文（学術雑誌）

    出版者・発行元：Springer Science and Business Media LLC

  52. Highly efficient planarization of sliced 4H-SiC (0001) wafer by slurryless electrochemical mechanical polishing

    Yang Xu, Yang Xiaozhe, Kawai Kentaro, Arima Kenta, Yamamura Kazuya

    INTERNATIONAL JOURNAL OF MACHINE TOOLS & MANUFACTURE　Vol. 144　2019年9月

  53. Rapid Assembly of DNA Origami in Microfluidic Temperature Gradient

    Kentaro Kawai, Hara Keita, Ryota Nakamura, Kenta Arima, Kazuya Yamamura, Osamu Tabata

    2019 20th International Conference on Solid-State Sensors, Actuators and Microsystems and Eurosensors XXXIII, TRANSDUCERS 2019 and EUROSENSORS XXXIII　p. 398-401　2019年6月　研究論文（国際会議プロシーディングス）

  54. Ultrasonic-assisted anodic oxidation of 4H-SiC (0001) surface

    Yang Xiaozhe, Yang Xu, Kawai Kentaro, Arima Kenta, Yamamura Kazuya

    ELECTROCHEMISTRY COMMUNICATIONS　Vol. 100　p. 1-5　2019年3月

  55. Surface Modification and Microstructuring of 4H-SiC(0001) by Anodic Oxidation with Sodium Chloride Aqueous Solution

    Yang Xu, Sun Rongyan, Kawai Kentaro, Arima Kenta, Yamamura Kazuya

    ACS APPLIED MATERIALS & INTERFACES　Vol. 11　No. 2　p. 2535-2542　2019年1月16日　研究論文（学術雑誌）

  56. Freestanding graphene CVD growth on insulating substrate using ga catalyst

    Tomoki Tsuji, Kenta Arima, Kazuya Yamamura, Kentaro Kawai

    23rd International Conference on Miniaturized Systems for Chemistry and Life Sciences, MicroTAS 2019　p. 1194-1195　2019年　研究論文（国際会議プロシーディングス）

    出版者・発行元：Chemical and Biological Microsystems Society

  57. Nanopore Fabrication of Two-Dimensional Materials on SiO2 Membranes Using He Ion Microscopy

    Hayashi Takumi, Arima Kenta, Yamashita Naoki, Park Seongsu, Ma Zhipeng, Tabata Osamu, Kawai Kentaro

    IEEE TRANSACTIONS ON NANOTECHNOLOGY　Vol. 17　No. 4　p. 727-730　2018年7月　研究論文（学術雑誌）

  58. Investigation of anodic oxidation mechanism of 4H-SiC (0001) for electrochemical mechanical polishing

    Xu Yang, Rongyan Sun, Yuji Ohkubo, Kentaro Kawai, Kenta Arima, Katsuyoshi Endo, Kazuya Yamamura

    Electrochimica Acta　Vol. 271　p. 666-676　2018年5月1日　研究論文（学術雑誌）

  59. Electrochemical mechanical polishing of 4H-SiC (0001) with different grinding stones

    Xu Yang, Kentaro Kawai, Kenta Arima, Kazuya Yamamura

    ISAAT 2018 - 21st International Symposium on Advances in Abrasive Technology　2018年　研究論文（国際会議プロシーディングス）

    出版者・発行元：21st International Symposium on Advances in Abrasive Technology, ISAAT 2018

  60. Preliminary study on figuring of reaction-sintered silicon carbide by plasma chemical vaporization machining

    Rongyan Sun, Yuji Ohkubo, Kentaro Kawai, Kenta Arima, Kazuya Yamamura

    Proceedings - 33rd ASPE Annual Meeting　p. 335-338　2018年　研究論文（国際会議プロシーディングス）

    出版者・発行元：American Society for Precision Engineering, ASPE

  61. Photoetching method that provides improved silicon-on-insulator layer thickness uniformity in a defined area

    Yuki Miyata, Yasunori Nakamukai, Cassia Tiemi Azevedo, Miho Morita, Junichi Uchikoshi, Kentaro Kawai, Kenta Arima, Mizuho Morita

    MICROELECTRONIC ENGINEERING　Vol. 180　p. 93-95　2017年8月　研究論文（学術雑誌）

  62. 異なる被覆層を有するSiC表面上に形成したグラフェンの構造比較

    伊藤 亮太, 細尾 幸平, 川合 健太郎, 佐野 泰久, 森田 瑞穂, 有馬 健太

    精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2017　p. 85-86　2017年

    出版者・発行元：公益社団法人 精密工学会

  63. Effect of metal particles on the rate of Si etching with N-fluoropyridinium salts

    Masaki Otani, Kentaro Kawai, Kentaro Tsukamoto, Takabumi Nagai, Kenji Adachi, Junichi Uchikoshi, Kenta Arima, Mizuho Morita

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS　Vol. 55　No. 10　2016年10月　研究論文（学術雑誌）

  64. N-フルオロピリジニウム塩を用いた光エッチングによるSi表面ランダムダブルテクスチャ形成

    熊田 竜也, 川合 健太郎, 永井 隆文, 足達 健二, 有馬 健太, 森田 瑞穂

    応用物理学会学術講演会講演予稿集　Vol. 2016.1　p. 3719-3719　2016年3月3日

    出版者・発行元：公益社団法人 応用物理学会

  65. 水分子が吸着した極薄GeO2/Geの構造と電気的性質のAP-XPS観察

    有馬 健太, 森 大地, 岡 博史, 細井 卓治, 川合 健太郎, 森田 瑞穂, 渡部 平司, Liu Zhi, Crumlin Ethan J.

    表面科学学術講演会要旨集　Vol. 36　p. 405-405　2016年

    出版者・発行元：公益社団法人 日本表面科学会

  66. 室温プラズマ酸化を援用した低欠陥グラフェン形成に関する研究

    細尾 幸平, 斎藤 直樹, 今福 亮斗, 川合 健太郎, 佐野 泰久, 森田 瑞穂, 有馬 健太

    精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2016　p. 183-184　2016年

    出版者・発行元：公益社団法人 精密工学会

  67. 半導体表面の加工に用いるグラフェン系触媒の合成と電気化学的評価

    佐藤 慎祐, 森 大地, 中出 和希, 斎藤 雄介, 川合 健太郎, 森田 瑞穂, 有馬 健太

    精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2016　p. 181-182　2016年

    出版者・発行元：公益社団法人 精密工学会

  68. Microfluidic valve array control system integrating a fluid demultiplexer circuit

    Kentaro Kawai, Kenta Arima, Mizuho Morita, Shuichi Shoji

    JOURNAL OF MICROMECHANICS AND MICROENGINEERING　Vol. 25　No. 6　2015年6月　研究論文（学術雑誌）

  69. 酸素還元触媒を用いた水中でのGe表面の平坦化に関する研究

    中出 和希, 森 大地, 齋藤 雄介, 川合 健太郎, 佐野 泰久, 山内 和人, 森田 瑞穂, 有馬 健太

    精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2015　p. 297-298　2015年

    出版者・発行元：公益社団法人 精密工学会

  70. SiC表面のプラズマ酸化を援用した低ピット密度のグラフェン形成

    有馬 健太, 齋藤 直樹, 森 大地, 川合 健太郎, 佐野 泰久, 森田 瑞穂

    精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2015　p. 617-618　2015年

    出版者・発行元：公益社団法人 精密工学会

  71. 触媒金属の酸素還元活性を利用した水中でのGe表面の平坦化

    有馬 健太, 川瀬 達也, 齋藤 雄介, 川合 健太郎, 佐野 泰久, 森田 瑞穂, 山内 和人

    表面科学学術講演会要旨集　Vol. 35　p. 58-58　2015年

    出版者・発行元：公益社団法人 日本表面科学会

  72. N-フルオロピリジニウム塩を用いた光エッチングによるランダムダブルテクスチャの形成

    熊田 竜也, 川合 健太郎, 大谷 真輝, 平野 利典, 永井 隆文, 足達 健二, 有馬 健太, 森田 瑞穂

    応用物理学会学術講演会講演予稿集　Vol. 2014.2　p. 982-982　2014年9月1日

    出版者・発行元：公益社団法人 応用物理学会

  73. Enhancement of photoluminescence efficiency from GaN(0001) by surface treatments

    Azusa N. Hattori, Ken Hattori, Yuta Moriwaki, Aishi Yamamoto, Shun Sadakuni, Junji Murata, Kenta Arima, Yasuhisa Sano, Kazuto Yamauchi, Hiroshi Daimon, Katsuyoshi Endo

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS　Vol. 53　No. 2　2014年2月　研究論文（学術雑誌）

  74. N-フルオロピリジニウム塩を用いたパターニングレスSi陽極化成深堀加工

    中川 雄人, 川合 健太郎, 平野 利典, 大谷 真輝, 熊田 竜也, 永井 隆文, 足達 健二, 有馬 健太, 森田 瑞穂

    精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2014S　p. 935-936　2014年

    出版者・発行元：公益社団法人 精密工学会

  75. Si単結晶太陽電池用テクスチャのためのN-フルオロピリジニウム塩を用いた光エッチングによるランダム逆ピラミッドの形成

    熊田 竜也, 川合 健太郎, 大谷 真輝, 平野 利典, 永井 隆文, 足達 健二, 有馬 健太, 森田 瑞穂

    精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2014S　p. 931-932　2014年

    出版者・発行元：公益社団法人 精密工学会

  76. 純水中での溶存酸素を介した金属アシストエッチングによるGe表面のナノスケール加工

    有馬 健太, 川瀬 達也, 村 敦史, 川合 健太郎, 森田 瑞穂

    表面科学学術講演会要旨集　Vol. 34　p. 153-153　2014年

    出版者・発行元：公益社団法人 日本表面科学会

  77. Absolute flatness measurements of silicon mirrors by a three-intersection method by near-infrared interferometry

    Junichi Uchikoshi, Yoshinori Hayashi, Noritaka Ajari, Kentaro Kawai, Kenta Arima, Mizuho Morita

    NANOSCALE RESEARCH LETTERS　Vol. 8　2013年6月　研究論文（学術雑誌）

  78. N-フルオロピリジニウム塩を用いた光エッチングによるシリコンのランダム逆ピラミッドの形成

    平野 利典, 打越 純一, 大谷 真輝, 永井 隆文, 足達 健二, 川合 健太郎, 有馬 健太, 森田 瑞穂

    応用物理学会学術講演会講演予稿集　Vol. 2013.1　p. 2599-2599　2013年3月11日

    出版者・発行元：公益社団法人 応用物理学会

  79. 酸素還元触媒によるGe表面の純水エッチング:触媒材料の検討

    齋藤 雄介, 村 敦史, 川合 健太郎, 森田 瑞穂, 有馬 健太

    精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2013　p. 353-354　2013年

    出版者・発行元：公益社団法人 精密工学会

  80. 室温プラズマ酸化を援用したSiC表面上への低欠陥グラフェン成長

    齋藤 直樹, 今福 亮斗, 西川 央明, 佐野 泰久, 川合 健太郎, 森田 瑞穂, 有馬 健太

    精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2013　p. 345-346　2013年

    出版者・発行元：公益社団法人 精密工学会

  81. Planarization of SiC and GaN Wafers Using Polishing Technique Utilizing Catalyst Surface Reaction

    Yasuhisa Sano, Kenta Arima, Kazuto Yamauchi

    ECS JOURNAL OF SOLID STATE SCIENCE AND TECHNOLOGY　Vol. 2　No. 8　p. N3028-N3035　2013年　研究論文（学術雑誌）

  82. Characterization of Si etching with N-fluoropyridinium salt

    Kentaro Tsukamoto, Junichi Uchikoshi, Masaki Otani, Toshinori Hirano, Yutaka Ie, Takabumi Nagai, Kenji Adachi, Kentaro Kawai, Kenta Arima, Mizuho Morita

    CURRENT APPLIED PHYSICS　Vol. 12　p. S29-S32　2012年12月　研究論文（学術雑誌）

  83. Continuous generation of femtolitre droplets using multistage dividing microfluidic channel

    Kentaro Kawai, Masaru Fujii, Junichi Uchikoshi, Kenta Arima, Shuichi Shoji, Mizuho Morita

    CURRENT APPLIED PHYSICS　Vol. 12　p. S33-S37　2012年12月　研究論文（学術雑誌）

  84. Structural and chemical characteristics of atomically smooth GaN surfaces prepared by abrasive-free polishing with Pt catalyst

    Junji Murata, Shun Sadakuni, Takeshi Okamoto, Azusa N. Hattori, Keita Yagi, Yasuhisa Sano, Kenta Arima, Kazuto Yamauchi

    JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH　Vol. 349　No. 1　p. 83-88　2012年6月　研究論文（学術雑誌）

  85. Improvement of Removal Rate in Abrasive-Free Planarization of 4H-SiC Substrates Using Catalytic Platinum and Hydrofluoric Acid

    Takeshi Okamoto, Yasuhisa Sano, Kazuma Tachibana, Bui Van Pho, Kenta Arima, Kouji Inagaki, Keita Yagi, Junji Murata, Shun Sadakuni, Hiroya Asano, Ai Isohashi, Kazuto Yamauchi

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS　Vol. 51　No. 4　2012年4月　研究論文（学術雑誌）

  86. N-フルオロピリジニウム塩を用いたエッチングによるSi表面テクスチャの形成

    大谷 真輝, 打越 純一, 塚本 健太郎, 平野 利典, 永井 隆文, 足達 健二, 川合 健太郎, 有馬 健太, 森田 瑞穂

    精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2012S　p. 47-48　2012年

    出版者・発行元：公益社団法人 精密工学会

  87. 湿度制御雰囲気下でのin situ XPSによる吸着水／GeO2／Ge(100)構造の観察

    有馬 健太, 村 敦史, 秀島 伊織, 細井 卓治, 渡部 平司, Liu Zhi

    表面科学学術講演会要旨集　Vol. 32　p. 75-75　2012年

    出版者・発行元：公益社団法人 日本表面科学会

  88. 表面清浄化処理によるGaN(0001)からの発光強度の増大

    服部 梓, 遠藤 勝義, 服部 賢, 森脇 祐太, 山本 愛士, 有馬 健太, 佐野 泰久, 山内 和人, 大門 寛

    表面科学学術講演会要旨集　Vol. 32　p. 72-72　2012年

    出版者・発行元：公益社団法人 日本表面科学会

  89. 純水中での溶存酸素を介した金属吸着Ge表面の異方性エッチング

    有馬 健太, 川瀬 達也, 村 敦史, 西谷 恵介, 河合 佳枝, 川合 健太郎, 打越 純一, 森田 瑞穂

    表面科学学術講演会要旨集　Vol. 32　p. 108-108　2012年

    出版者・発行元：公益社団法人 日本表面科学会

  90. 酸素還元触媒を用いた純水中でのGe表面のナノスケール加工

    河合 佳枝, 村 敦史, 岡本 武志, 川合 健太郎, 打越 純一, 佐野 泰久, 森田 瑞穂, 有馬 健太

    精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2012　p. 707-708　2012年

    出版者・発行元：公益社団法人 精密工学会

  91. 室温プラズマ酸化を援用したSiC上へのグラフェン低温形成

    齋藤 直樹, 西谷 恵介, 西川 央明, 佐野 泰久, 川合 健太郎, 打越 純一, 森田 瑞穂, 有馬 健太

    精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2012　p. 703-704　2012年

    出版者・発行元：公益社団法人 精密工学会

  92. N-フルオロピリジニウム塩を用いたエッチングによるSiのランダム逆ピラミッドの形成

    平野 利典, 打越 純一, 大谷 真輝, 塚本 健太郎, 永井 隆文, 足達 健二, 川合 健太郎, 有馬 健太, 森田 瑞穂

    精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2012　p. 885-886　2012年

    出版者・発行元：公益社団法人 精密工学会

  93. Atomically Smooth Gallium Nitride Surfaces Prepared by Chemical Etching with Platinum Catalyst in Water

    Junji Murata, Takeshi Okamoto, Shun Sadakuni, Azusa N. Hattori, Keita Yagi, Yasuhisa Sano, Kenta Arima, Kazuto Yamauchi

    JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY　Vol. 159　No. 4　p. H417-H420　2012年　研究論文（学術雑誌）

  94. Single-nanometer focusing of hard x-rays by Kirkpatrick-Baez mirrors

    Kazuto Yamauchi, Hidekazu Mimura, Takashi Kimura, Hirokatsu Yumoto, Soichiro Handa, Satoshi Matsuyama, Kenta Arima, Yasuhisa Sano, Kazuya Yamamura, Koji Inagaki, Hiroki Nakamori, Jangwoo Kim, Kenji Tamasaku, Yoshinori Nishino, Makina Yabashi, Tetsuya Ishikawa

    JOURNAL OF PHYSICS-CONDENSED MATTER　Vol. 23　No. 39　2011年10月　研究論文（学術雑誌）

  95. N-フルオロピリジニウム塩を用いたシリコンの銅触媒エッチング

    塚本 健太郎, 打越 純一, 大谷 真輝, 永井 隆文, 足達 健二, 川合 健太郎, 有馬 健太, 森田 瑞穂

    応用物理学会学術講演会講演予稿集　Vol. 2011.2　p. 2266-2266　2011年8月16日

    出版者・発行元：公益社団法人 応用物理学会

  96. Center of Excellence for Atomically Controlled Fabrication Technology

    Yuji Kuwahara, Akira Saito, Kenta Arima, Hiromasa Ohmi

    JOURNAL OF NANOSCIENCE AND NANOTECHNOLOGY　Vol. 11　No. 4　p. 2763-2776　2011年4月

  97. Efficient Wet Etching of GaN (0001) Substrate with Subsurface Damage Layer

    Shun Sadakuni, Junji Murata, Keita Yagi, Yasuhisa Sano, Takeshi Okamoto, Arima Kenta, Azusa N. Hattori, Kazuto Yamauchi

    JOURNAL OF NANOSCIENCE AND NANOTECHNOLOGY　Vol. 11　No. 4　p. 2979-2982　2011年4月　研究論文（学術雑誌）

  98. Dependence of Process Characteristics on Atomic-Step Density in Catalyst-Referred Etching of 4H-SiC(0001) Surface

    Takeshi Okamoto, Yasuhisa Sano, Kazuma Tachibana, Kenta Arima, Azusa N. Hattori, Keita Yagi, Junji Murata, Shun Sadakuni, Kazuto Yamauchi

    JOURNAL OF NANOSCIENCE AND NANOTECHNOLOGY　Vol. 11　No. 4　p. 2928-2930　2011年4月　研究論文（学術雑誌）

  99. Improved Optical and Electrical Characteristics of Free-Standing GaN Substrates by Chemical Polishing Utilizing Photo-Electrochemical Method

    Junji Murata, Yuki Shirasawa, Yasuhisa Sano, Shun Sadakuni, Keita Yagi, Takeshi Okamoto, Azusa N. Hattori, Kenta Arima, Kazuto Yamauchi

    JOURNAL OF NANOSCIENCE AND NANOTECHNOLOGY　Vol. 11　No. 4　p. 2882-2885　2011年4月　研究論文（学術雑誌）

  100. Structure and Magnetic Properties of Mono- and Bi-Layer Graphene Films on Ultraprecision Figured 4H-SiC(0001) Surfaces

    Azusa N. Hattori, Takeshi Okamoto, Shun Sadakuni, Junji Murata, Hideo Oi, Kenta Arima, Yasuhisa Sano, Ken Hattori, Hiroshi Daimon, Katsuyoshi Endo, Kazuto Yamauchi

    JOURNAL OF NANOSCIENCE AND NANOTECHNOLOGY　Vol. 11　No. 4　p. 2897-2902　2011年4月　研究論文（学術雑誌）

  101. Formation of wide and atomically flat graphene layers on ultraprecision-figured 4H-SiC(0001) surfaces

    Azusa N. Hattori, Takeshi Okamoto, Shun Sadakuni, Junji Murata, Kenta Arima, Yasuhisa Sano, Ken Hattori, Hiroshi Daimon, Katsuyoshi Endo, Kazuto Yamauchi

    SURFACE SCIENCE　Vol. 605　No. 5-6　p. 597-605　2011年3月　研究論文（学術雑誌）

  102. N-フルオロピリジニウム塩を用いた光エッチング法によるシリコン表面の３次元形状の作製

    大谷 真輝, 打越 純一, 塚本 健太郎, 永井 隆文, 足達 健二, 川合 健太郎, 有馬 健太, 森田 瑞穂

    精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2011S　p. 991-992　2011年

    出版者・発行元：公益社団法人 精密工学会

  103. 残留金属不純物による純水中でのGe(100)表面へのラフネス形成に関する研究

    村 敦史, 川瀬 達也, 西谷 恵介, 川合 健太郎, 打越 純一, 森田 瑞穂, 有馬 健太

    精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2011　p. 1010-1011　2011年

    出版者・発行元：公益社団法人 精密工学会

  104. 原子レベルで平坦化された4H-SiC(0001)表面上への高品質グラフェンの形成

    西谷 恵介, 坂根 宏樹, 山口 崇光, 岡本 武志, 川合 健太郎, 打越 純一, 山内 和人, 森田 瑞穂, 有馬 健太

    精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2011　p. 996-997　2011年

    出版者・発行元：公益社団法人 精密工学会

  105. 触媒基準エッチング法による4H-SiCの平坦化における加工速度の検討

    橘 一真, 佐野 泰久, 岡本 武志, 礒橋 藍, 有馬 健太, 稲垣 耕司, 八木 圭太, 定國 峻, 森川 良忠, 山内 和人

    精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2011　p. 457-458　2011年

    出版者・発行元：公益社団法人 精密工学会

  106. N-フルオロピリジニウム塩を用いた光エッチングによるシリコン表面の精密位置合わせ３次元形状創成

    大谷 真輝, 打越 純一, 塚本 健太郎, 永井 隆文, 足達 健二, 川合 健太郎, 有馬 健太, 森田 瑞穂

    精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2011　p. 391-392　2011年

    出版者・発行元：公益社団法人 精密工学会

  107. Influence of gallium additives on surface roughness for photoelectrochemical planarization of GaN

    Shun Sadakuni, Junji Murata, Keita Yagi, Yasuhisa Sano, Kenta Arima, Takeshi Okamoto, Kazuma Tachibana, Kazuto Yamauchi

    PHYSICA STATUS SOLIDI C: CURRENT TOPICS IN SOLID STATE PHYSICS, VOL 8, NO 7-8　Vol. 8　No. 7-8　2011年　研究論文（国際会議プロシーディングス）

  108. Photoetching of Silicon by N-Fluoropyridinium Salt

    Kentaro Tsukamoto, Junichi Uchikoshi, Shigeharu Goto, Tatsuya Kawase, Noritaka Ajari, Takabumi Nagai, Kenji Adachi, Kenta Arima, Mizuho Morita

    ELECTROCHEMICAL AND SOLID STATE LETTERS　Vol. 13　No. 11　p. D80-D82　2010年　研究論文（学術雑誌）

  109. Planarization of GaN(0001) Surface by Photo-Electrochemical Method with Solid Acidic or Basic Catalyst

    Junji Murata, Shun Sadakuni, Keita Yagi, Yasuhisa Sano, Takeshi Okamoto, Kenta Arima, Azusa N. Hattori, Hidekazu Mimura, Kazuto Yamauchi

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS　Vol. 48　No. 12　2009年12月　研究論文（学術雑誌）

  110. Metal-Insulator-Gap-Insulator-Semiconductor Structure for Sensing Devices

    Takaaki Hirokane, Hideaki Hashimoto, Daisuke Kanzaki, Shinichi Urabe, Kenta Arima, Junichi Uchikoshi, Mizuho Morita

    ANALYTICAL SCIENCES　Vol. 25　No. 1　p. 101-104　2009年1月　研究論文（学術雑誌）

  111. Absolute Line Profile Measurements of Silicon Plane Mirrors by Near-Infrared Interferometry

    Junichi Uchikoshi, Amane Tsuda, Noritaka Ajari, Taichirou Okamoto, Kenta Arima, Mizuho Morita

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS　Vol. 47　No. 12　p. 8978-8981　2008年12月　研究論文（学術雑誌）

  112. Characterization of Tunneling Current through Ultrathin Silicon Dioxide Films by Different-Metal Gates Method

    Takaaki Hirokane, Naoto Yoshii, Tatsuya Okazaki, Shinichi Urabe, Kazuo Nishimura, Satoru Morita, Kenta Arima, Junichi Uchikoshi, Mizuho Morita

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS　Vol. 47　No. 11　p. 8317-8320　2008年11月　研究論文（学術雑誌）

  113. Catalyst-referred etching of 4H-SiC substrate utilizing hydroxyl radicals generated from hydrogen peroxide molecules

    Keita Yagi, Junji Murata, Akihisa Kubota, Yasuhisa Sano, Hideyuki Hara, Takeshi Okamoto, Kenta Arima, Hidekazu Mimura, Kazuto Yamauchi

    SURFACE AND INTERFACE ANALYSIS　Vol. 40　No. 6-7　p. 998-1001　2008年6月　研究論文（学術雑誌）

  114. Sensing of lambda DNA solutions by metal-gap-semiconductor devices

    Takaaki Hirokane, Daisuke Kanzaki, Hideaki Hashimoto, Shinichi Urabe, Kenta Arima, Junichi Uchikoshi, Mizuho Morita

    SURFACE AND INTERFACE ANALYSIS　Vol. 40　No. 6-7　p. 1131-1133　2008年6月　研究論文（学術雑誌）

  115. Chemical planarization of GaN using hydroxyl radicals generated on a catalyst plate in H2O2 solution

    J. Murata, A. Kubota, K. Yagi, Y. Sano, H. Hara, K. Arima, T. Okamoto, H. Mimura, K. Yamauchi

    JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH　Vol. 310　No. 7-9　p. 1637-1641　2008年4月　研究論文（学術雑誌）

  116. Characterization of patterned oxide buried in bonded silicon-on-insulator wafers by near-infrared scattering topography and microscopy

    Xing Wu, Junichi Uchikoshi, Takaaki Hirokane, Ryuta Yamada, Akihiro Takeuchi, Kenta Arima, Mizuho Morita

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS　Vol. 47　No. 4　p. 2511-2514　2008年4月　研究論文（学術雑誌）

  117. Defect-free planarization of 4H-SiC(0001) substrate using reference plate

    Keita Yagi, Junji Murata, Akihisa Kubota, Yasuhisa Sano, Hideyuki Hara, Kenta Arima, Takeshi Okamoto, Hidekazu Mimura, Kazuto Yamauchi

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS　Vol. 47　No. 1　p. 104-107　2008年1月　研究論文（学術雑誌）

  118. Characterization of pinhole in patterned oxide buried in bonded silicon-on-insulator wafers by near-infrared scattering topography and transmission microscopy

    Xing Wu, Junichi Uchikoshi, Takaaki Hirokane, Ryuta Yamada, Akihiro Takeuchi, Kenta Arima, Mizuho Morita

    JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY　Vol. 155　No. 11　p. H864-H868　2008年　研究論文（学術雑誌）

  119. Very high carrier mobility for high-performance CMOS on a Si(110) surface

    Akinobu Teramoto, Tatsufumi Hamada, Masashi Yamamoto, Philippe Gaubert, Hiroshi Akahori, Keiichi Nii, Masaki Hirayama, Kenta Arima, Katsuyoshi Endo, Shigetoshi Sugawa, Tadahiro Ohmi

    IEEE TRANSACTIONS ON ELECTRON DEVICES　Vol. 54　No. 6　p. 1438-1445　2007年6月　研究論文（学術雑誌）

  120. Catalyst-referred etching of silicon

    Hideyuki Hara, Yasuhisa Sano, Kenta Arima, Keita Yagi, Junji Murata, Akihisa Kubota, Hidekazu Mimura, Kazuto Yamauchi

    SCIENCE AND TECHNOLOGY OF ADVANCED MATERIALS　Vol. 8　No. 3　p. 162-165　2007年4月　研究論文（学術雑誌）

  121. Photodetective characteristics of metal-oxide-semiconductor tunneling structure with aluminum grid gate

    Hideaki Hashimoto, Ryuta Yamada, Takaaki Hirokane, Kenta Arima, Junichi Uchikoshi, Mizuho Morita

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS BRIEF COMMUNICATIONS & REVIEW PAPERS　Vol. 46　No. 4B　p. 2467-2470　2007年4月　研究論文（学術雑誌）

  122. Characterization of void in bonded silicon-on-insulator wafers by controlling coherence length of light source using near-infrared microscope

    Noritaka Ajari, Junichi Uchikoshi, Takaaki Hirokane, Kenta Arima, Mizuho Morita

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS BRIEF COMMUNICATIONS & REVIEW PAPERS　Vol. 46　No. 4B　p. 1994-1996　2007年4月　研究論文（学術雑誌）

  123. レーザ光散乱法によるSiウエハ表面上の極薄酸化膜段差の計測

    井上晴行, 片岡俊彦, 長尾祥浩, 押鐘寧, 中野元博, 越智保文, 有馬健太, 森田瑞穂

    精密工学会誌(CD-ROM)　Vol. 72　No. 11　p. 1363-1367　2006年11月5日　研究論文（学術雑誌）

    出版者・発行元：公益社団法人精密工学会

  124. Polishing characteristics of silicon carbide by plasma chemical vaporization machining

    Yasuhisa Sano, Masayo Watanabe, Kazuya Yamamura, Kazuto Yamauchi, Takeshi Ishida, Kenta Arima, Akihisa Kubota, Yuzo Mori

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS BRIEF COMMUNICATIONS & REVIEW PAPERS　Vol. 45　No. 10B　p. 8277-8280　2006年10月　研究論文（学術雑誌）

  125. Novel abrasive-free planarization of 4H-SiC (0001) using catalyst

    Hideyuki Hara, Yasuhisa Sano, Hidekazu Mimura, Kenta Arima, Akihisa Kubota, Keita Yagi, Junji Murata, Kazuto Yamauch

    JOURNAL OF ELECTRONIC MATERIALS　Vol. 35　No. 8　p. L11-L14　2006年8月

  126. Photo current through SnO2/SiC/p-Si(100) structures

    S Nishikawa, H Hashimoto, M Chikamoto, K Honikoshi, M Aoki, K Arima, J Uchikosi, M Morita

    THIN SOLID FILMS　Vol. 508　No. 1-2　p. 385-388　2006年6月　研究論文（学術雑誌）

  127. First-principles study on scanning tunneling microscopy images of different hydrogen-terminated Si(110) surfaces

    S Horie, K Arima, K Hirose, J Katoh, T Ono, K Endo

    PHYSICAL REVIEW B　Vol. 72　No. 11　2005年9月　研究論文（学術雑誌）

  128. Preparation of ultrasmooth and defect-free 4H-SiC(0001) surfaces by elastic emission machining

    A Kubota, H Mimura, K Inagaki, K Arima, Y Mori, K Yamauchi

    JOURNAL OF ELECTRONIC MATERIALS　Vol. 34　No. 4　p. 439-443　2005年4月　研究論文（学術雑誌）

  129. EEM(Elastic Emission Machining)によるSi(001)表面の平坦化(第2報)―加工表面の原子像観察と構造評価―

    山内和人, 三村秀和, 久保田章亀, 有馬健太, 稲垣耕司, 遠藤勝義, 森勇蔵

    精密工学会誌　Vol. 70　No. 4　p. 547-551　2004年4月　研究論文（学術雑誌）

    出版者・発行元：公益社団法人 精密工学会

  130. FTIR-ATR evaluation of organic contaminant cleaning methods for SiO2 surfaces

    A Shinozaki, K Arima, M Morita, Kojima, I, Y Azuma

    ANALYTICAL SCIENCES　Vol. 19　No. 11　p. 1557-1559　2003年11月　研究論文（学術雑誌）

  131. Atomic structure of Si(001)-c(4 × 4) formed by heating processes after wet cleaning and its first-principles study

    Katsuyoshi Endo, Tomoya Ono, Kenta Arima, Yuji Uesugi, Kikuji Kirose, Yuzo Mori

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, PART 1: REGULAR PAPERS AND SHORT NOTES AND REVIEW PAPERS　Vol. 42　No. 7B　p. 4646-4649　2003年7月　研究論文（学術雑誌）

  132. Atomic image of hydrogen-terminated Si(001) surfaces after wet cleaning and its first-principles study

    K Endo, K Arima, K Hirose, T Kataoka, Y Mori

    JOURNAL OF APPLIED PHYSICS　Vol. 91　No. 7　p. 4065-4072　2002年4月　研究論文（学術雑誌）

  133. Atomic structures of hydrogen-terminated Si(001) surfaces after wet cleaning by scanning tunneling microscopy

    K Endo, K Arima, T Kataoka, Y Oshikane, H Inoue, Y Mori

    APPLIED PHYSICS LETTERS　Vol. 73　No. 13　p. 1853-1855　1998年9月　研究論文（学術雑誌）

  134. STM/STS and the first principles calculations on Al/Si(001)2 × 1

    K. Endo, K. Arima, T. Kataoka, K. Hirose, Y. Oshikane, H. Inoue, H. Kuramochi, T. Sato, Y. Mori

    APPLIED PHYSICS A: MATERIALS SCIENCE AND PROCESSING　Vol. 66　No. 1　p. S145-S148　1998年　研究論文（学術雑誌）

MISC 94

  1. Selective Wet Etching of Semiconductor Materials by Novel Catalyst-assisted Modes

    Kenta Arima, Junhuan Li, Shiika Murase, Kouji Inagaki

    ECS Transactions　Vol. 114　No. 1　p. 17-26　2024年9月27日　研究発表ペーパー・要旨（国際会議）

    出版者・発行元：The Electrochemical Society

  2. 大阪大学大学院工学研究科 ナノ表面界面工学領域の紹介

    有馬健太

    応用物理学会 薄膜・表面物理分科会 News Letter　No. 187　p. 2-6　2024年6月　記事・総説・解説・論説等（その他）

  3. 超精密な表面計測が拓く次世代ものづくり：ナノ表面界面工学の世界

    有馬健太

    TECHNO NET　No. 601　p. 4-5　2023年10月　記事・総説・解説・論説等（その他）

  4. ナノ表面界面工学領域の始動にあたって

    有馬健太

    生産と技術　Vol. 75　No. 3　p. 34-36　2023年7月　記事・総説・解説・論説等（その他）

  5. ナノカーボンの触媒作用に基づく半導体表面の選択エッチング

    三栗野 諒, 小笠原 歩見, 川合 健太郎, 山村 和也, 有馬 健太

    表面と真空　Vol. 64　No. 8　p. 352-357　2021年8月10日　記事・総説・解説・論説等（学術雑誌）

    出版者・発行元：Surface Science Society Japan

  6. ナノカーボン触媒を用いた半導体表面の選択エッチングと応用

    有馬健太

    化学工業　Vol. 72　No. 2　p. 77-83　2021年2月　記事・総説・解説・論説等（商業誌、新聞、ウェブメディア）

  7. 関西での学術講演会が拓いた学会の新時代

    有馬健太

    表面と真空　Vol. 62　No. 8　p. 469-469　2019年8月10日　記事・総説・解説・論説等（学術雑誌）

  8. 準大気圧下でのX線光電子分光測定による水分子が吸着した極薄GeO2/Ge及びSiO2/Si構造の観察

    有馬健太

    表面科学　Vol. 38　No. 7　p. 330-335　2017年7月

    出版者・発行元：公益社団法人 日本表面科学会

  9. Reactivity of water vapor with ultrathin GeO2/Ge and SiO2/Si structures investigated by near-ambient-pressure X-ray photoelectron spectroscopy

    K. Arima, T. Hosoi, H. Watanabe, E. J. Crumlin

    ECS Transactions　Vol. 80　p. 131-140　2017年1月1日

  10. Formation of etch pits on germanium surfaces loaded with reduced graphene oxide in water

    K. Nakade, T. Hirano, S. Li, Y. Saito, D. Mori, M. Morita, K. Kawai, K. Arima

    ECS Transactions　Vol. 77　No. 4　p. 127-133　2017年

    出版者・発行元：Electrochemical Society Inc.

  11. Pit Formation, Patterning and Flattening of Ge Surfaces in O2-Containing Water by Metal-Assisted Chemical Etching

    T. Kawase, A. Mura, Y. Saito, T. Okamoto, K. Kawai, Y. Sano, K. Yamauchi, M. Morita, K. Arima

    PITS & PORES 7: NANOMATERIALS - FABRICATION PROCESSES, PROPERTIES, AND APPLICATIONS　Vol. 75　No. 1　p. 107-112　2016年

  12. 洗浄技術のコツ ―Si表面のウェット洗浄―

    有馬健太

    応用物理　Vol. 84　No. 11　p. 1009-1012　2015年11月

    出版者・発行元：応用物理学会

  13. 水中での溶存酸素を介したGe表面の金属アシストエッチングの基礎特性

    有馬健太, 川合健太郎, 森田瑞穂

    表面科学　Vol. 36　No. 7　p. 369-374　2015年7月

    出版者・発行元：The Surface Science Society of Japan

  14. 極薄GeO2／Ge(100)上に形成された吸着水の準大気圧下でのX線光電子分光観察

    有馬健太

    Journal of the Vacuum Society of Japan　Vol. 58　No. 1　p. 20-26　2015年　書評論文,書評,文献紹介等

    出版者・発行元：Vacuum Society of Japan

  15. 最新の電子光学装置が拓く表面・界面解析技術の現状と将来

    堤建一(インタビュワー, 有馬健太

    精密工学会誌　Vol. 80　No. 5　p. 425-428　2014年5月

    出版者・発行元：精密工学会 ; 1986-

  16. 超精密加工後の半導体表面の原子構造観察

    有馬健太

    精密工学会誌　Vol. 80　No. 5　p. 452-456　2014年5月

  17. Behaviors of Carbon Atoms during Plasma Oxidation of 4H-SiC(0001) Surfaces near Room Temperature

    ECS Transactions　Vol. 64　No. 17　p. 23-28　2014年　記事・総説・解説・論説等（国際会議プロシーディングズ）

  18. Ambient-Pressure XPS Study of GeO2/Ge(100) and SiO2/Si(100) at Controlled Relative Humidity

    ECS Transactions　Vol. 64　No. 8　p. 77-82　2014年　記事・総説・解説・論説等（国際会議プロシーディングズ）

  19. グラビア＆インタビュー －生産システムの開発とともに40年、そして2013年の夢－

    龍田康登, インタビュア, 有馬健太, 芦田極

    精密工学会誌　Vol. 79　No. 1　p. 3-6　2013年1月

    出版者・発行元：公益社団法人 精密工学会

  20. アルカリハライド微結晶群の潮解液滴表面その場観察：液滴内イオン分布の考察と環境科学への展開

    有馬健太, BLUHM Hendrik, SALMERON Miquel

    表面科学　Vol. 32　No. 6　p. 368-373　2011年6月

  21. Formation of Pyramidal Etch Pits Induced by Metallic Particles on Ge(100) Surfaces in Water

    Kenta Arima, Tatsuya Kawase, Keisuke Nishitani, Atsushi Mura, Kentaro Kawai, Junichi Uchikoshi, Mizuho Morita

    SEMICONDUCTOR CLEANING SCIENCE AND TECHNOLOGY 12 (SCST 12)　Vol. 41　No. 5　p. 171-178　2011年

  22. Graphene Formation on 4H-SiC(0001) Surface Flattened by Catalyst-Assisted Chemical Etching in HF Solution

    Keisuke Nishitani, Hiroki Sakane, Azusa N. Hattori, Takeshi Okamoto, Kentaro Kawai, Junichi Uchikoshi, Yasuhisa Sano, Kazuto Yamauchi, Mizuho Morita, Kenta Arima

    STATE-OF-THE-ART PROGRAM ON COMPOUND SEMICONDUCTORS 53 (SOTAPOCS 53)　Vol. 41　No. 6　p. 241-248　2011年

  23. Atomic-scale characterization of HF-treated 4H-SiC(0001)l×l surfaces by scanning tunneling microscopy

    Kenta Arima, Hideyuki Hara, Yasuhisa Sano, Keita Yagi, Ryota Okamoto, Junji Murata, Hidekazu Mimura, Kazuto Yamauchi

    Materials Research Society Symposium Proceedings　Vol. 996　p. 157-162　2007年12月1日

  24. Nano-scale characterization of surface defects on CMP-finished Si wafers by scanning probe microscopy combined with laser light scattering

    Kenta Arima, Takushi Shigetoshi, Haruyuki Inoue, Tsukasa Kawashima, Takaaki Hirokane, Toshihiko Kataoka, Mizuho Morita

    ADVANCES AND CHALLENGES IN CHEMICAL MECHANICAL PLANARIZATION　Vol. 991　p. 227-232　2007年

  25. プラズマ援用研磨法の開発(第25報)-RS-SiC材のSiC成分とSi成分の酸化レートの評価-

    陶通, 孫栄硯, 川合健太郎, 有馬健太, 山村和也

    精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 2022　2022年

  26. プラズマ援用研磨法の開発(第24報)-CF4プラズマ照射前後におけるAlN基板とダイヤモンド砥粒との吸着力の変化-

    孫栄硯, 陶通, 川合健太郎, 有馬健太, 山村和也

    精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 2022　2022年

  27. プラズマ援用研磨による多結晶ダイヤモンド基板の高能率ダメージフリー 平坦・平滑化に関する研究(第1報)

    杉本健太郎, 孫栄硯, 川合健太郎, 有馬健太, 山村和也

    砥粒加工学会学術講演会講演論文集(CD-ROM)　Vol. 2022　2022年

  28. Si表面の溝底部に埋め込んだ金属原子からの光電子検出~光電子検出量の脱出角依存性の検討~

    東知樹, 孫栄硯, 川合健太郎, 山村和也, 有馬健太

    精密工学会関西地方定期学術講演会講演論文集　Vol. 2022　2022年

  29. プラズマ援用研磨による単結晶ダイヤモンド基板の高能率ダメージフリー加工-研磨レートおよび表面性状の研磨圧力依存性および摺動速度依存性に関する検討-

    杉本健太郎, 劉念, 吉鷹直也, 孫栄硯, 川合健太郎, 有馬健太, 山村和也

    精密工学会関西地方定期学術講演会講演論文集　Vol. 2022　2022年

  30. 第一原理計算を用いたナノグラフエン上の特異な超構造電子状態の解析

    李君寰, 稲垣耕司, 川合健太郎, 孫栄硯, 山村和也, 有馬健太

    精密工学会関西地方定期学術講演会講演論文集　Vol. 2022　2022年

  31. プラズマ援用研磨による多結晶ダイヤモンド基板の高能率ダメージフリー平坦・平滑化に関する研究(第1報)

    杉本健太郎, 孫栄硯, 川合健太郎, 有馬健太, 山村和也

    精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 2022　2022年

  32. サブ分子層の吸着水がGeO2/Ge界面の電気特性に与える影響の超精密計測

    佐野修斗, 和田陽平, 孫栄硯, 川合健太郎, 山村和也, 有馬健太

    精密工学会関西地方定期学術講演会講演論文集　Vol. 2022　2022年

  33. Si表面の溝底部に埋め込んだ金属原子からの光電子検出~光電子検出量の脱出角依存性の検討~

    東知樹, 孫栄硯, 山村和也, 有馬健太

    精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 2022　2022年

  34. プラズマ援用研磨法の開発(第21報)-ビトリファイドボンド砥石を用いたドレスフリー研磨法の開発-

    孫栄硯, 川合健太郎, 有馬健太, 山村和也, 永橋潤司, 野副厚訓

    精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 2021　2021年

  35. 減圧プラズマフッ化における焼結AlN基板のフッ化レートの評価

    孫栄硯, 陶通, 川合健太郎, 有馬健太, 山村和也

    精密工学会関西地方定期学術講演会講演論文集　Vol. 2021　2021年

  36. 減圧プラズマ酸化における反応焼結SiCの酸化特性

    陶通, 孫栄硯, 川合健太郎, 有馬健太, 山村和也

    精密工学会関西地方定期学術講演会講演論文集　Vol. 2021　2021年

  37. プラズマCVM加工におけるガス組成と最適加工ギャップの関係

    北出隼人, 孫栄硯, 川合健太郎, 有馬健太, 山村和也

    精密工学会関西地方定期学術講演会講演論文集　Vol. 2021　2021年

  38. 窒化アルミニウムセラミックス材のプラズマ援用研磨に関する研究-異なる粒径のビトリファイドボンドダイヤモンド砥石を用いたAlN基板の研磨特性-

    陶通, 孫栄硯, 川合健太郎, 有馬健太, 山村和也

    砥粒加工学会学術講演会講演論文集(CD-ROM)　Vol. 2021　2021年

  39. プラズマ援用研磨法の開発(第22報)-フッ素系ガスを用いたプラズマ援用研磨における砥石成分の付着抑制-

    孫栄硯, 陶通, 川合健太郎, 有馬健太, 山村和也

    精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 2021　2021年

  40. マイクロ波プラズマジェット型プラズマCVMにおける加工痕形状の考察

    北出隼人, 孫栄硯, 川合健太郎, 有馬健太, 山村和也

    精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 2021　2021年

  41. プラズマ援用研磨法の開発(第23報)-AlN基板の研磨における砥粒材質と研磨特性の相関-

    陶通, 孫栄硯, 川合健太郎, 有馬健太, 山村和也

    精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 2021　2021年

  42. プラズマ援用研磨法の開発(第19報)-AlN基板の研磨特性の評価-

    孫栄硯, 川合健太郎, 有馬健太, 山村和也

    精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 2020　2020年

  43. プラズマ援用研磨法の開発(第20報)-焼結AlN基板の脱粒フリー研磨-

    孫栄硯, 川合健太郎, 有馬健太, 山村和也

    精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 2020　2020年

  44. プラズマ援用研磨法の開発(第18報)-フッ素系プラズマの照射によるAlN基板の表面改質効果の評価-

    孫栄硯, 川合健太郎, 有馬健太, 山村和也

    精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 2019　2019年

  45. プラズマCVMによる多成分材料の高精度加工に関する研究(第3報)-反応焼結SiC材の加工における反応生成堆積物の影響-

    孫栄硯, 川合健太郎, 有馬健太, 山村和也, 大久保雄司

    精密工学会関西地方定期学術講演会講演論文集　Vol. 2019　2019年

  46. プラズマCVMによる水晶ウエハの加工に関する研究-エタノール添加によるCF4含有大気圧Arプラズマの安定化-

    孫栄硯, 川合健太郎, 有馬健太, 山村和也, 渡辺啓一郎, 宮崎史朗, 深野徹, 北田勝信

    精密工学会関西地方定期学術講演会講演論文集　Vol. 2018　2018年

  47. プラズマCVMによる多成分材料の高精度加工に関する研究(第2報)-反応焼結SiC材に対する非球面形状の創成-

    孫栄硯, 川合健太郎, 有馬健太, 山村和也, 大久保雄司

    精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 2018　2018年

  48. 触媒表面を基準面とする化学研磨法の開発 (特集 SiC研磨技術の現状と新加工法)

    佐野 泰久, 有馬 健太, 山内 和人

    Abrasive technology : 砥粒加工学会誌 : journal of the Japan Society for Abrasive Technology　Vol. 61　No. 8　p. 426-429　2017年8月

    出版者・発行元：砥粒加工学会

  49. ウェットエッチングによる原子スケール平坦化 －触媒表面基準エッチング法の開発－

    山内和人, 佐野泰久, 有馬健太

    応用物理　Vol. 82　No. 5　p. 403-406　2013年5月

  50. Abrasive-Free Polishing of SiC Wafer Utilizing Catalyst Surface Reaction

    Y. Sano, K. Arima, K. Yamauchi

    GALLIUM NITRIDE AND SILICON CARBIDE POWER TECHNOLOGIES 3　Vol. 58　No. 4　p. 447-453　2013年

  51. 触媒表面基準エッチングによる単結晶SiC, GaN表面の平滑化

    山内和人, 佐野泰久, 有馬健太

    精密工学会誌　Vol. 78　No. 11　p. 947-951　2012年11月

    出版者・発行元：公益社団法人 精密工学会

  52. 触媒表面基準エッチングによる単結晶SiC, GaN, ZnO表面の平滑化

    山内和人, 佐野泰久, 有馬健太

    表面科学　Vol. 33　No. 6　p. 334-338　2012年6月

  53. 触媒表面基準エッチングによる単結晶SiC、GaN表面の平滑化 (特集 先端部品のための高付価値研磨・切断加工技術)

    山内 和人, 佐野 泰久, 有馬 健太

    機械技術　Vol. 60　No. 5　p. 37-41　2012年5月

    出版者・発行元：日刊工業出版プロダクション

  54. 触媒表面を基準面とする化学研磨法の開発

    有馬 健太, 山内 和人, 佐野 泰久, ヤマウチ カズト, サノ ヤスヒサ, アリマ ケンタ

    大阪大学低温センターだより　Vol. 150　p. 22-27　2010年4月

    出版者・発行元：大阪大学低温センター

  55. Fabrication Technology for Large-Scale Atomically Flat Surface

    Yasuhisa Sano, Hideyuki Hara, Kenta Arima, Kazuto Yamauchi

    JOURNAL OF JAPANESE SOCIETY OF TRIBOLOGISTS　Vol. 55　No. 3　p. 148-153　2010年

  56. Electroluminescence in Metal-Oxide-Semiconductor Tunnel Diodes with a Silicon Nano-layer

    Mizuho Morita, Kei Matsumura, Ryuta Yamada, Junichi Uchikoshi, Kenta Arima

    NANOSCALE LUMINESCENT MATERIALS　Vol. 28　No. 3　p. 279-284　2010年

  57. 触媒基準エッチング法(CAtalyst Referred Ething: CARE)の開発--SiC, GaN基板加工への応用 (特集 グリーンエネルギー時代を支える先進加工技術とその課題)

    山内 和人, 佐野 泰久, 有馬 健太

    機械と工具　Vol. 53　No. 8　p. 20-24　2009年8月

    出版者・発行元：工業調査会

  58. 触媒基準エッチング法

    原英之, 佐野泰久, 有馬健太, 山内和人

    応用物理　Vol. 77　No. 2　p. 168-171　2008年2月　記事・総説・解説・論説等（学術雑誌）

  59. Scanning Surface Hall Potentiometry on Semiconductor Wafers

    HIDAKA Yuji, MARUYAMA Daiki, UCHIKOSHI Junichi, MORITA Mizuho, ARIMA Kenta

    Extended abstracts of the ... Conference on Solid State Devices and Materials　Vol. 2007　p. 1024-1025　2007年9月19日

  60. Electrical detection of damage of extended λDNA molecules by ultraviolet radiation Extended Abstracts of International 21st Century COE Symposium on Atomistic Fabrication Technology

    Extended Abstracts of International 21st Century COE Symposium on Atomistic Fabrication Technology　p. 151-152　2007年

  61. Polishing characteristics of 4H-SiC Si-face and C-face by plasma chemical vaporization machining

    Yasuhisa Sano, Masayo Watanabe, Kazuya Yamamura, Kazuto Yamauchi, Takeshi Ishida, Kenta Arima, Akihisa Kubota, Yuzo Mori

    SILICON CARBIDE AND RELATED MATERIALS 2006　Vol. 556-557　p. 757-+　2007年

  62. Damage-free planarization of 4H-SiC(0001) by catalyst-referred etching

    Hideyuki Hara, Yasuhisa Sano, Hidekazu Mimura, Kenta Arima, Akihisa Kubota, Keita Yagi, Junji Murata, Kazuto Yamauchi

    SILICON CARBIDE AND RELATED MATERIALS 2006　Vol. 556-557　p. 749-+　2007年

  63. Characterization of pinhole in patterned oxide buried in bonded silicon-on-insulator wafers by near-infrared scattering topography and microscopy

    Xing Wu, Junichi Uchikoshi, Takaaki Hirokane, Ryuta Yamada, Kenta Arima, Mizuho Morita

    ECS Transactions　Vol. 11　No. 3　p. 173-182　2007年

  64. Profile measurements of microscratches remaining on polished Si(001) wafers

    Takushi Shigetoshi, Haruyuki Inoue, Tsukasa Kawashima, Takaaki Hirokane, Toshihiko Kataoka, Mizuho Morita, Kenta Arima

    ECS Transactions　Vol. 3　No. 41　p. 65-71　2007年

  65. Photodetective Characteristics of Metal-Oxide-Semiconductor Tunneling Structure with Aluminum Grid Gate

    HASHIMOTO Hideaki, YAMADA Ryuta, ARIMA Kenta, UCHIKOSHI Junichi, MORITA Mizuho

    Extended abstracts of the ... Conference on Solid State Devices and Materials　Vol. 2006　p. 860-861　2006年9月13日

  66. 触媒基準エッチング法によるGaNの加工

    村田 順二, 久保田 章亀, 八木 圭太, 佐野 泰久, 原 英之, 有馬 健太, 三村 秀和, 山内 和人

    精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2006　No. 0　p. 533-534　2006年

    出版者・発行元：The Japan Society for Precision Engineering

  67. 新規な研磨加工を行った4H–SiC(0001)表面の原子構造解析

    石田 剛志, 有馬 健太, 原 英之, 山村 和也, 山内 和人, 遠藤 勝義

    精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2006　No. 0　p. 1115-1116　2006年

    出版者・発行元：The Japan Society for Precision Engineering

  68. 湿式プロセスにより得られた超平坦4H-SiC(0001)実用表面の原子構造解析

    岡本 亮太, 有馬 健太, 佐野 泰久, 原 英之, 石田 剛志, 八木 圭太, 山内 和人, 遠藤 勝義

    精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2006　No. 0　p. 539-540　2006年

    出版者・発行元：The Japan Society for Precision Engineering

  69. Photodetection characteristics of SnO2-ultrathin SiO2-Si structures

    Motonori Chikamoto, Hideaki Hashimoto, Kosuke Horikoshi, Akihito Shinozaki, Satoru Morita, Kenta Arima, Junichi Uchikoshi, Mizuho Morita

    ECS Transactions　Vol. 1　p. 97-102　2005年12月

  70. Development of Nanao-Gap Device for Biosensor

    MORITA Satoru, HIROKANE Takaaki, TAKEGAWA Tatsuya, URABE Shinichi, ARIMA Kenta, UCHIKOSHI Junichi, MORITA Mizuho

    Extended abstracts of the ... Conference on Solid State Devices and Materials　Vol. 2005　p. 828-829　2005年9月13日

  71. Photodetector Characteristics of Metal-Oxide-Semiconductor Tunneling Structures with Transparent Conductive Tin Oxide Gate

    CHIKAMOTO Motonori, HASHIMOTO Hideaki, HORIKOSHI Kosuke, SHINOZAKI Akihito, MORITA Satoru, ARIMA Kenta, UCHIKOSHI Junichi, MORITA Mizuho

    Extended abstracts of the ... Conference on Solid State Devices and Materials　Vol. 2005　p. 734-735　2005年9月13日

  72. Surface Hall Potentiometry to Characterize Functional Semiconductor Films

    ARIMA Kenta, HIWA Kenji, NAKAOKA Ryoji, MORITA Mizuho

    Extended abstracts of the ... Conference on Solid State Devices and Materials　Vol. 2005　p. 378-379　2005年9月13日

  73. STMによるEEM(Elastic Emission Machining)の加工機構の解明

    加藤 潤, 久保田 章亀, 有馬 健太, 山村 和也, 森 勇藏, 山内 和人, 遠藤 勝義

    精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2005　No. 0　p. 779-780　2005年

    出版者・発行元：The Japan Society for Precision Engineering

  74. Nano-Gap Device for Liquid Sensing

    MORITA Satoru, TAKEGAWA Tatsuya, HIROKANE Takaaki, URABE Shinichi, ARIMA Kenta, UCHIKOSHI Junichi, MORITA Mizuho

    Extended abstracts of the ... Conference on Solid State Devices and Materials　Vol. 2004　p. 704-705　2004年9月15日

  75. STMによるSi(011),(111)ウエハ超精密加工表面の原子構造解析

    加藤 潤, 久保田 章亀, 有馬 健太, 山村 和也, 山内 和人, 遠藤 勝義, 森 勇藏

    精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2004　No. 0　p. 384-384　2004年

    出版者・発行元：The Japan Society for Precision Engineering

  76. Flattening of Si (001) Surface by EEM (Elastic Emission Machining):—Atomic Structure Identification of Processed Surface—

    山内 和人, 三村 秀和, 久保田 章亀, 有馬 健太, 稲垣 耕司, 遠藤 勝義, 森 勇蔵

    精密工学会誌論文集　Vol. 70　No. 4　p. 547-551　2004年

    出版者・発行元：The Japan Society for Precision Engineering

  77. EEM(Elastic Emission Machining)による表面広空間波長帯域の形状/粗さ修正

    森 勇藏, 山内 和人, 三村 秀和, 久保田 章亀, 稲垣 耕司, 有馬 健太, 遠藤 勝義

    精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2003　No. 0　p. 411-411　2003年

    出版者・発行元：The Japan Society for Precision Engineering

  78. 数値制御EEM (Elastic Emission Machining)による広空間波長帯域の形状修正

    森 勇藏, 山内 和人, 三村 秀和, 久保田 章亀, 遠藤 勝義, 有馬 健太, 稲垣 耕司

    精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2003　No. 0　p. 387-387　2003年

    出版者・発行元：The Japan Society for Precision Engineering

  79. 走査型トンネル顕微鏡による水素化アモルファスシリコン表面の原子像観察

    有馬 健太, 池田 学, 垣内 弘章, 遠藤 勝義, 森田 瑞穂, 森 勇蔵

    精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 2002　No. 2　p. 147-147　2002年10月1日

  80. モノメチルシラン(SiH_3CH_3)を用いた熱CVDによるシリコンカーバイド膜の作製

    青木 稔, 吉井 直人, 有馬 健太, 森田 瑞穂

    精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 2002　No. 2　p. 372-372　2002年10月1日

  81. 超清浄EEM(Elastic Emission Machining)システムに関する研究 : 最適加工条件の探索

    森 勇藏, 山内 和人, 三村 秀和, 有馬 健太, 稲垣 耕司, 久保田 章亀, 新林 洋介

    精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 2002　No. 2　p. 460-460　2002年10月1日

  82. 超清浄EEM (Elastic Emission Machining)加工システムの開発:加工表面の原子レベルでの評価

    森 勇蔵, 山内 和人, 三村 秀和, 有馬 健太, 稲垣 耕司, 久保田 章亀, 新林 洋介

    精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 2002　No. 1　p. 606-606　2002年3月1日

  83. SMTによる水素終端化Si(001)表面の昇温過程の観察

    遠藤 勝義, 大野 広基, 上杉 雄二, 有馬 健太, 森 勇蔵

    精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 2002　No. 1　p. 43-43　2002年3月1日

  84. 走査型トンネル顕微鏡による水素化アモルファスシリコン表面の構造解析

    有馬 健太, 池田 学, 垣内 弘章, 遠藤 勝義, 森田 瑞穂, 森 勇蔵

    精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 2002　No. 1　p. 44-44　2002年3月1日

  85. STMによる湿式洗浄Si(110)表面の昇温過程の観察

    遠藤 勝義, 大野 広基, 上杉 雄二, 池上 忠明, 有馬 健太, 森 勇蔵

    精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 2001　No. 2　p. 286-286　2001年9月1日

  86. 走査型トンネル顕微鏡による水素化アモルファスシリコン表面の構造解析

    有馬 健太, 後藤 由光, 垣内 弘章, 遠藤 勝義, 森田 瑞穂, 森 勇蔵

    精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 2001　No. 2　p. 287-287　2001年9月1日

  87. STM/STS observations and first-principles simulations of metal adsorbed Si(001) surfaces

    Katsuyoshi Endo, Kenta Arima, Toshihiko Kataoka, Yasushi Oshikane, Haruyuki Inoue, Kenji Koba, Kikuji Hirose, Yuzo Mori

    Technology Reports of the Osaka University　Vol. 50　p. 41-47　2000年4月

  88. STMによる溶液処理水素終端化Si(001)表面の原子構造観察

    有馬 健太, 遠藤 勝義, 片岡 俊彦, 押鐘 寧, 井上 晴行, 木庭 謙二, 中原 裕喜, 森 勇蔵

    精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 1999　No. 2　p. 659-659　1999年9月1日

  89. STMによる溶液処理水素終端化Si(001)表面の観察

    有馬 健太, 遠藤 勝義, 片岡 俊彦, 押鐘 寧, 井上 晴行, 木庭 謙二, 森 勇蔵

    精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 1999　No. 1　p. 503-503　1999年3月5日

  90. STMによる水素終端化Si(001)ウェーハ表面の観察

    有馬 健太, 遠藤 勝義, 片岡 俊彦, 押鐘 寧, 井上 晴行, 木庭 謙二, 森 勇蔵

    精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 1998　No. 2　p. 420-420　1998年9月1日

  91. STM/STSによるSiウェーハ表面の金属汚染物の極微量元素分析

    有馬 健太, 遠藤 勝義, 片岡 俊彦, 稲垣 耕司, 押鐘 寧, 井上 晴行, 森 勇蔵, 後藤 英和

    精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 1998　No. 1　p. 672-672　1998年3月5日

  92. STM/STSによる金属吸着Si(001)表面の観察

    遠藤 勝彦, 片岡 俊彦, 広瀬 喜久治, 森 勇藏, 押鐘 寧, 井上 晴行, 有馬 健太, 多田羅 佳孝, 大和 大周

    精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 1997　No. 2　p. 271-271　1997年10月1日

  93. STM/STSによるSiウェーハ表面の金属原子の観察

    遠藤 勝義, 片岡 俊彦, 森 勇蔵, 稲垣 耕司, 押鐘 寧, 井上 晴行, 有馬 健太, 多田羅 佳孝, 大和 正和

    精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 1997　No. 1　p. 377-378　1997年3月1日

  94. STM/STSによるSiウェーハ表面の金属汚染物の極微量元素分析

    遠藤 勝義, 片岡 俊彦, 森 勇蔵, 稲垣 耕司, 押 鐘寧, 井上 晴行, 有馬 健太, 増田 裕一, 多田羅 佳孝

    精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 1996　No. 1　p. 967-968　1996年3月1日

著書 8

  1. エッチングの高度化と３次元構造の作製技術

    田中 浩 他25名

    S&T出版（株）　2025年3月31日　学術書

    ISBN: 9784911146095

  2. 先端半導体製造プロセスの最新動向と微細化技術

    諏訪部 仁 他56名

    （株）技術情報協会　2023年9月29日

    ISBN: 9784861049828

  3. 半導体製造プロセスを支える洗浄・クリーン化・汚染制御技術

    羽深等, 清家善之, 白水好美, 有馬健太, カチョーンルンルアン パナート, 岩本花子, 前田主悦, 山崎克弘, 向井義雄, 長谷川浩史, 松井淳, 金洪杰

    サイエンス＆テクノロジー（株）　2022年11月29日

    ISBN: 9784864282949

  4. 半導体製造におけるウェット／ドライエッチング技術

    礒部 晶, 服部 毅, 大山 聡, 式田 光宏, 河合 晃, 堀 勝, 中野 博彦, 浜口 智志, 豊田 紀章, 唐橋 一浩, 江利口 浩二, 寒川 誠二, 篠田 和典, 佐藤 威友, 有馬 健太

    （株）R&D支援センター　2022年10月31日　学術書

    ISBN: 9784905507611

  5. 2020版 薄膜作製応用ハンドブック

    権田, 俊一, 酒井, 忠司, 田畑, 仁, 八瀬, 清志, 宮崎, 照宣

    （株）エヌ・ティー・エス　2020年2月14日　学術書

    ISBN: 9784860436315

  6. 超精密加工と表面科学 : 原子レベルの生産技術

    大阪大学グローバルCOEプログラム高機能化原子制御製造プロセス教育研究拠点, 精密工学会超精密加工専門委員会

    大阪大学出版会　2014年3月19日　教科書・概説・概論

    ISBN: 9784872594652

  7. 超精密加工と表面科学 : 原子レベルの生産技術

    大阪大学グローバルCOEプログラム高機能化原子制御製造プロセス教育研究拠点, 精密工学会超精密加工専門委員会

    大阪大学出版会　2014年3月19日　教科書・概説・概論

    ISBN: 9784872594652

  8. 問題と解説で学ぶ表面科学

    日本表面科学会, 松井, 文彦

    共立出版（株）　2013年10月25日　教科書・概説・概論

    ISBN: 9784320033740

報道 1

  1. 阪大がオンライン授業 「学ぶ機会を確保」

    毎日新聞社

    2020年4月17日

機関リポジトリ 7

大阪大学の学術機関リポジトリ（OUKA）に掲載されているコンテンツ

  1. Atomic-scale insights into the origin of rectangular lattice in nanographene probed by scanning tunneling microscopy

    Li Junhuan, Li Shaoxian, Higashi Tomoki, Kawai Kentaro, Inagaki Kouji, Yamamura Kazuya, Arima Kenta

    Physical Review B　Vol. 103　No. 24　p. 245433-1-245433-9　2021年6月24日

  2. Improvements in graphene growth on 4H-SiC(0001) using plasma induced surface oxidation

    Minami Ouki, Ito Ryota, Hosoo Kohei, Ochi Makoto, Sano Yasuhisa, Kawai Kentaro, Yamamura Kazuya, Arima Kenta

    Journal of Applied Physics　Vol. 126　No. 6　p. 065301-1-065301-10　2019年8月8日

  3. Comparative study of GeO2/Ge and SiO2/Si structures on anomalous charging of oxide films upon water adsorption revealed by ambient-pressure X-ray photoelectron spectroscopy

    Mori Daichi, Oka Hiroshi, Hosoi Takuji, Kawai Kentaro, Morita Mizuho, Crumlin Ethan J., Liu Zhi, Watanabe Heiji, Arima Kenta

    Journal of Applied Physics　Vol. 120　No. 9　p. 095306-1-095306-10　2016年9月2日

  4. 触媒表面を基準面とする化学研磨法の開発

    佐野 泰久, 有馬 健太, 山内 和人

    大阪大学低温センターだより　Vol. 150　p. 22-27　2010年4月

  5. Atomic-scale flattening of SiC surfaces by electroless chemical etching in HF solution with Pt catalyst

    Arima Kenta, Hara Hideyuki, Murata Junji, Ishida Takeshi, Okamoto Ryota, Yagi Keita, Sano Yasuhisa, Mimura Hidekazu, Yamauchi Kazuto

    Applied Physics Letters　Vol. 90　No. 20　2007年5月16日

  6. EEM(Elastic Emission Machining)によるSi(001)表面の平坦化（第2報） : 加工表面の原子像観察と構造評価

    山内 和人, 三村 秀和, 久保田 章亀, 有馬 健太, 稲垣 耕司, 遠藤 勝義, 森 勇藏

    精密工学会誌論文集　Vol. 70　No. 4　p. 547-551　2004年4月5日

  7. 走査型トンネル顕微鏡/分光法によるSi(001)洗浄表面に関する研究

    有馬 健太