研究者総覧 - 大阪大学

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佐野泰久

Yasuhisa Sano

佐野泰久

Yasuhisa Sano

工学研究科　物理学系専攻，教授

keyword 物理化学加工，超精密加工

経歴 3

2024年4月～継続中

大阪大学　教授
2007年～

- 大阪大学・准教授
2003年～

- 大阪大学・助教授

学歴 4

大阪大学　工学研究科　精密工学

～ 1993年
大阪大学

～ 1993年
大阪大学　工学部　精密工学

～ 1991年
大阪大学

～ 1991年

所属学会 6

応用物理学会半導体の結晶成長と加工および評価に関する産学連携委員会
応用物理学会先進パワー半導体分科会
精密工学会超精密加工専門委員会
精密工学会プラナリゼーションCMPとその応用技術専門委員会
応用物理学会
精密工学会

研究内容・専門分野 1

ものづくり技術（機械・電気電子・化学工学） / 加工学、生産工学 /

受賞 19

ベストポスタープレゼンテーション賞

南映希, 伊藤亮太, 細尾幸平, 佐野泰久, 川合健太郎, 有馬健太　2018年度精密工学会関西地方定期学術講演会　2018年6月
ベストポスタープレゼンテーション賞

伊藤亮太, 細尾幸平, 南映希, 佐野泰久, 川合健太郎, 有馬健太　2017年度精密工学会秋季大会　2017年9月
安田賞

中出和希, 森大地, 川瀬達也, 川合健太郎, 佐野泰久, 山内和人, 森田瑞穂, 有馬健太　応用物理学会第21回電子デバイス界面テクノロジー研究会　2016年1月
日本表面科学会会誌賞

山内和人, 佐野泰久, 有馬健太　公益社団法人日本表面科学会　2013年11月
JSPE Prize Best Paper Award

Shun Sadakuni, Junji Murata, Keita Yagi, Kenta Arima, Yasuhisa Sano, Takeshi Okamoto, Hidekazu Mimura, Kazuto Yamauchi　3rd International Conference of Asian Society for Precision Engineering and Nanotechnology (Japan Society for Precision Engineering)　2009年11月
JSPE Prize Best Paper Award

2009年
Best Paper Award 2006

Kazuya Yamamura, Kunihito Kato, Yasuhisa Sano, Masafumi Shibahara, Katsuyoshi Endo, Yuzo Mori　The 8th International Conference on Progress of Machining Technology　2006年11月
第19回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム学生会員発表賞

松山智至, 三村秀和, 湯本博勝, 原英之, 山村和也, 佐野泰久, 遠藤勝義, 森勇藏, 西野吉則, 玉作賢治, 矢橋牧名, 石川哲也, 山内和人　日本放射光学会　2006年2月
Best Paper Award 2006

2006年
奨励研究賞

原英之, 佐野泰久, 三村秀和, 山内和人　応用物理学会、SiC及び関連ワイドギャップ半導体研究会　2005年11月
工作機械技術振興賞（論文賞）

森勇藏, 山村和也, 佐野泰久　（財）工作機械技術振興財団　2003年6月
精密工学会賞

森勇藏, 山村和也, 佐野泰久　(社)精密工学会　2003年3月
精密工学会賞

2003年
工作機械技術振興賞（論文賞）

2003年
工作機械技術振興賞(論文賞)

森勇蔵, 山村和也, 佐野泰久　(財)工作機械技術振興財団　2002年6月
工作機械技術振興財団工作機械技術振興賞

2002年
精密工学会賞

山内和人, 杉山和久, 稲垣耕司, 山村和也, 佐野泰久, 森勇藏　精密工学会　2001年3月
工作機械技術振興財団工作機械技術振興賞

2001年
工作機械技術振興賞(論文賞)

森勇蔵, 山内和人, 山村和也, 佐野泰久　(財)工作機械技術振興財団　2000年6月

論文 275

{Nanofocused attosecond hard X-ray free-electron laser with intensity exceeding $10^{19}$ W/cm$^2$

Ichiro Inoue, Takahiro Sato, River Robles, Matthew Seaberg, Yanwen Sun, Diling Zhu, David Cesar, Yuantao Ding, Vincent Esposito, Paris Franz, Veronica Guo, Alex Halavanau, Nick Sudar, Zen Zhang, Yuichi Inubushi, Taito Osaka, Gota Yamaguchi, Yasuhisa Sano, Kazuto Yamauchi, Makina Yabashi, Agostino Marinelli, Junpei Yamada

Optica　2025年1月21日　研究論文（学術雑誌）
出版者・発行元：Optica Publishing Group
Dicing Process for 4H-SiC Wafers by Plasma Etching Using High-Pressure SF<sub>6</sub> Plasma with Metal Masks

Yasuhisa Sano, Yuma Nakanishi, Masaaki Oshima, Shunto Iden, Jumpei Yamada, Daisetsu Toh, Kazuto Yamauchi

Materials Science Forum　Vol. 1124　p. 51-55　2024年8月21日　研究論文（学術雑誌）
出版者・発行元：Trans Tech Publications, Ltd.
Ultra-precision smooth surface on polymer material prepared by catalyst-referred etching

D. Toh, K. Takeda, K. Kayao, Y. Ohkubo, K. Yamauchi, Y. Sano

International Journal of Automation Technology　Vol. 18　No. 2　p. 240-247　2024年3月5日　研究論文（学術雑誌）
High-precision finishing method for narrow-groove channel-cut crystal x-ray monochromator using plasma chemical vaporization machining with wire electrode

Shotaro Matsumura, Iori Ogasahara, Taito Osaka, Makina Yabashi, Kazuto Yamauchi, Yasuhisa Sano

Review of Scientific Instruments　Vol. 95　No. 1　2024年1月1日　研究論文（学術雑誌）
出版者・発行元：AIP Publishing
High-pressure plasma etching up to 9 atm toward uniform processing inside narrow grooves of high-precision X-ray crystal optics

Shotaro Matsumura, Iori Ogasahara, Masafumi Miyake, Taito Osaka, Daisetsu Toh, Jumpei Yamada, Makina YABASHI, Kazuto Yamauchi, Yasuhisa Sano

Applied Physics Express　2023年12月2日　研究論文（学術雑誌）
出版者・発行元：IOP Publishing
Fabrication of YAG ceramics surface without damage and grain boundary steps using catalyzed chemical wet etching

Daisetsu Toh, Kiyoto Kayao, Kazuto Yamauchi, Yasuhisa Sano

CIRP Journal of Manufacturing Science and Technology　Vol. 47　p. 1-6　2023年12月　研究論文（学術雑誌）
出版者・発行元：Elsevier BV
Catalyst enhancement approach for improving the removal rate and stability of silica glass polishing via catalyzed chemical etching in pure water

Daisetsu Toh, Kiyoto Kayao, Pho Van Bui, Kouji Inagaki, Yoshitada Morikawa, Kazuto Yamauchi, Yasuhisa Sano

Precision Engineering　Vol. 84　p. 21-27　2023年11月　研究論文（学術雑誌）
出版者・発行元：Elsevier BV
Bias-assisted photoelectrochemical planarization of GaN (0001) with impurity concentration distribution

D. Toh, K. Kayao, R. Ohnishi, A. I. Osaka, K. Yamauchi, Y. Sano

AIP Advances　Vol. 13　No. 9　2023年9月1日　研究論文（学術雑誌）
出版者・発行元：AIP Publishing
Role of Photoelectrochemical Oxidation in Enabling High-Efficiency Polishing of Gallium Nitride

Kiyoto Kayao, Daisetsu Toh, Kazuto Yamauchi, Yasuhisa Sano

ECS Journal of Solid State Science and Technology　Vol. 12　No. 6　p. 063005-063005　2023年6月1日　研究論文（学術雑誌）
出版者・発行元：The Electrochemical Society
High-Speed Plasma Etching of Gallium Oxide Substrates Using Atmospheric-Pressure Plasma with Hydrogen-Helium Mixed Gas

Yasuhisa Sano, Taiki Sai, Genta Nakaue, Daisetsu Toh, Kazuto Yamauchi

Solid State Phenomena　Vol. 342　p. 69-72　2023年5月25日　研究論文（学術雑誌）
出版者・発行元：Trans Tech Publications, Ltd.
High-speed etching of gallium nitride substrate using hydrogen-contained atmospheric-pressure plasma

Yasuhisa Sano, Genta Nakaue, Daisetsu Toh, Jumpei Yamada, Kazuto Yamauchi

Applied Physics Express　Vol. 16　No. 4　p. 045504-045504　2023年4月1日　研究論文（学術雑誌）
出版者・発行元：IOP Publishing
Hard x-ray intensity autocorrelation using direct two-photon absorption

Taito Osaka, Ichiro Inoue, Jumpei Yamada, Yuichi Inubushi, Shotaro Matsumura, Yasuhisa Sano, Kensuke Tono, Kazuto Yamauchi, Kenji Tamasaku, Makina Yabashi

Physical Review Research　Vol. 4　No. 1　2022年3月　研究論文（学術雑誌）
High-throughput deterministic plasma etching using array-type plasma generator system

Yasuhisa Sano, Ken Nishida, Ryohei Asada, Shinya Okayama, Daisetsu Toh, Satoshi Matsuyama, Kazuto Yamauchi

Review of Scientific Instruments　Vol. 92　No. 12　p. 125107-125107　2021年12月1日　研究論文（学術雑誌）
出版者・発行元：AIP Publishing
Optimal deformation procedure for hybrid adaptive x-ray mirror based on mechanical and piezo-driven bending system

Takato Inoue, Yuka Nishioka, Satoshi Matsuyama, Junki Sonoyama, Kazuteru Akiyama, Hiroki Nakamori, Yoshio Ichii, Yasuhisa Sano, Xianbo Shi, Deming Shu, Max D. Wyman, Ross Harder, Yoshiki Kohmura, Makina Yabashi, Lahsen Assoufid, Tetsuya Ishikawa, Kazuto Yamauchi

Review of Scientific Instruments　Vol. 92　No. 12　p. 123706-123706　2021年12月1日　研究論文（学術雑誌）
出版者・発行元：AIP Publishing
X-ray adaptive zoom condenser utilizing an intermediate virtual focus

Satoshi Matsuyama, Hiroyuki Yamaguchi, Takato Inoue, Yuka Nishioka, Jumpei Yamada, Yasuhisa Sano, Yoshiki Kohmura, Makina Yabashi, Tetsuya Ishikawa, Kazuto Yamauchi

Optics Express　Vol. 29　No. 10　p. 15604-15604　2021年5月10日　研究論文（学術雑誌）
出版者・発行元：The Optical Society
Photoelectrochemical Oxidation Assisted Catalyst-Referred Etching for SiC (0001) Surface

Daisetsu Toh, Pho Van Bui, Kazuto Yamauchi, Yasuhisa Sano

International Journal of Automation Technology　Vol. 15　No. 1　p. 74-79　2021年1月5日　研究論文（学術雑誌）
出版者・発行元：Fuji Technology Press Ltd.
High-speed etching of silicon carbide wafer using high-pressure SF6 plasma

Yasuhisa Sano, Koki Tajiri, Yuki Inoue, Risa Mukai, Yuma Nakanishi, Satoshi Matsuyama, Kazuto Yamauchi

ECS Journal of Solid State Science and Technology　Vol. 10　No. 1　2021年1月　研究論文（学術雑誌）
High-Speed Plasma Etching of SiC Wafer Toward Backside Thinning

Yasuhisa Sano

ECS Transactions　Vol. 104　No. 7　p. 85-92　2021年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
High-resolution micro channel-cut crystal monochromator processed by plasma chemical vaporization machining for a reflection self-seeded X-ray free-electron laser

Shotaro Matsumura, Taito Osaka, Ichiro Inoue, Satoshi Matsuyama, Makina Yabashi, Kazuto Yamauchi, Yasuhisa Sano

Optics Express　Vol. 28　No. 18　p. 25706-25715　2020年8月31日　研究論文（学術雑誌）
An abrasive-free chemical polishing method assisted by nickel catalyst generated by in situ electrochemical plating

D. Toh, P. V. Bui, A. Isohashi, S. Matsuyama, K. Yamauchi, Y. Sano

Review of Scientific Instruments　Vol. 91　No. 4　2020年4月　研究論文（学術雑誌）
Atomically smooth Si surface planarized using a thin film catalyst in pure water

Pho van Bui, Daisetsu Toh, Shinsaku Shiroma, Taku Hagiwara, Ai Isohashi Osaka, Satoshi Matsuyama, Yasuhisa Sano, Kazuto Yamauchi

Proceedings of the 20th International Conference of the European Society for Precision Engineering and Nanotechnology, EUSPEN 2020　p. 43-44　2020年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Cause of etch pits during the high speed plasma etching of silicon carbide and an approach to reduce their size

Y. Nakanishi, R. Mukai, S. Matsuyama, K. Yamauchi, Y. Sano

Materials Science Forum　Vol. 1004 MSF　p. 161-166　2020年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
触媒表面電位制御を取り入れた光電気化学触媒表面基準エッチング法によるSiC基板の高能率平坦化加工

大西諒典, 木田英香, 藤大雪, 松山智至, 佐野泰久, 山内和人

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2019A　p. 28-29　2019年8月20日
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
Improvements in graphene growth on 4H-SiC(0001) using plasma induced surface oxidation

Ouki Minami, Ryota Ito, Kohei Hosoo, Makoto Ochi, Yasuhisa Sano, Kentaro Kawai, Kazuya Yamamura, Kenta Arima

Journal of Applied Physics　Vol. 126　No. 6　p. 065301 1-065301 10　2019年8月　研究論文（学術雑誌）
Fabrication of optics with a thin part by plasma chemical vaporization machining

Hideo Takino, Kazuya Yamamura, Yasuhisa Sano, Yuzo Mori

Freeform Optics - Proceedings Optical Design and Fabrication 2019 (Freeform, OFT)　2019年6月3日　研究論文（国際会議プロシーディングス）
出版者・発行元：Optical Society of America (OSA)
Catalyzed chemical polishing of SiO2 glasses in pure water

D. Toh, P. V. Bui, A. Isohashi, N. Kidani, S. Matsuyama, Y. Sano, Y. Morikawa, K. Yamauchi

Review of Scientific Instruments　Vol. 90　No. 4　2019年4月　研究論文（学術雑誌）
X-ray optics for advanced ultrafast pump-probe X-ray experiments at SACLA.

Tetsuo Katayama, Takashi Hirano, Yuki Morioka, Yasuhisa Sano, Taito Osaka, Shigeki Owada, Tadashi Togashi, Makina Yabashi

Journal of synchrotron radiation　Vol. 26　No. Pt 2　p. 333-338　2019年3月1日　研究論文（学術雑誌）
Surface Finishing Method using Plasma Chemical Vaporization Machining for Narrow Channel Walls of X-ray Crystal Monochromators

T. Hirano, Y. Morioka, S. Matsumura, Y. Sano, T. Osaka, S. Matsuyama, M. Yabashi, K. Yamauchi

Int. J. Automation Technol.　Vol. 13　No. 2　p. 246-253　2019年3月　研究論文（学術雑誌）
Compact reflective imaging optics in hard X-ray region based on concave and convex mirrors

J. Yamada, S. Matsuyama, Y. Sano, Y. Kohmura, M. Yabashi, T. Ishikawa, K. Yamauchi

Optics Express　Vol. 27　No. 3　p. 3429-3438　2019年2月　研究論文（学術雑誌）
Figuring of fused silica optical surface with thin parts by plasma chemical vaporization machining

Hideo Takino, Kazuya Yamamura, Yasuhisa Sano, Yuzo Mori

Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering　Vol. 11168　2019年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
出版者・発行元：SPIE
Numerically controlled plasma chemical vaporization machining using array-type electrode toward high-throughput deterministic machining

Ken Nishida, Shinya Okayama, Satoshi Matsuyama, Kazuto Yamauchi, Yasuhisa Sano

Proceedings - 34th ASPE Annual Meeting　p. 466-469　2019年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
出版者・発行元：American Society for Precision Engineering, ASPE
High-efficiency SiC polishing using a thin film catalyst in pure water

Pho Van Bui, Daisetsu Toh, Satoshi Matsuyama, Yasuhisa Sano, Kazuto Yamauchi

European Society for Precision Engineering and Nanotechnology, Conference Proceedings - 19th International Conference and Exhibition, EUSPEN 2019　p. 50-51　2019年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Development of an abrasive-free polishing method for optical material using pure water and Ni catalyst

Daisetsu Toh, Ryosuke Ohnishi, Pho V. Bui, Ai Isohsahi, Satoshi Matsuyama, Yasuhisa Sano, Kazuto Yamauchi

Proceedings - 34th ASPE Annual Meeting　p. 474-477　2019年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
High-efficiency planarization of SIC wafers by water-CARE (Catalyst-referred etching) employing photoelectrochemical oxidation

H. Kida, D. Toh, P. V. Bui, A. Isohashi, R. Ohnishi, S. Matsuyama, K. Yamauchi, Y. Sano

Materials Science Forum　Vol. 963 MSF　p. 525-529　2019年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
High-efficiency planarization of GaN wafer by catalyst-referred etching with positive-biased photo-electrochemical oxidation

Ryosuke Ohnishi, Daisetsu Toh, Satoshi Matsuyama, Ai Isohashi, Yasuhisa Sano, Kazuto Yamauchi

Proceedings - 34th ASPE Annual Meeting　p. 79-83　2019年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Hard-x-ray imaging mirror optics using concave and convex mirrors

J. Yamada, S. Matsuyama, Y. Sano, Y. Kohmura, M. Yabashi, T. Ishikawa, K. Yamauchi

International Conference on Synchrotron Radiation Instrumentation (SRI 2018)　2018年6月
Development of hybrid X-ray adaptive optical system based on piezo-driven deformable mirror and a mechanical mirror bender

H. Yamaguchi, T. Goto, H. Hayashi, S. Matsuyama, J. Sonoyama, K. Akiyama, H. Nakamori, Y. Sano, Y. Kohmura, M. Yabashi, T. Ishikawa, K. Yamauchi

International Conference on Synchrotron Radiation Instrumentation (SRI 2018)　2018年6月
Development of adaptive Kirkpatrick-Baez mirrors based on bimorph and mechanical bending

H. Nakamori, T. Goto, S. Matsuyama, H. Hayashi, H. Yamaguchi, J. Sonoyama, K. Akiyama, Y. Sano, Y. Kohmura, M. Yabashi, T. Ishikawa, H. Okada, K. Yamauchi

International Workshop on X-ray Optics and Metrology Satellite Meeting of SRI 2018 (IWXM 2018)　2018年6月
Development of reflective imaging optics using concave and convex mirrors

J. Yamada, S. Matsuyama, Y. Sano, Y. Kohmura, M. Yabashi, T. Ishikawa, K. Yamauchi

International Workshop on X-ray Optics and Metrology Satellite Meeting of SRI 2018 (IWXM 2018)　2018年6月
Nearly diffraction-limited hard X-ray line focusing with hybrid adaptive X-ray mirror based on mechanical and piezo-driven deformation

T. Goto, S. Matsuyama, H. Hayashi, H. Yamaguchi, J. Sonoyama, K. Akiyama, H. Nakamori, Y. Sano, Y. Kohmura, M. Yabashi, T. Ishikawa, K. Yamauchi

Optics Express　Vol. 26　No. 13　p. 17477-17486　2018年6月　研究論文（学術雑誌）
Development of high-resolution X-ray imaging optical system using multilayer imaging mirrors

K. Hata, J. Yamada, S. Matsuyama, Y. Sano, Y. Kohmura, M. Yabashi, T. Ishikawa, K. Yamauchi

International Conference on X-ray Optics and Applications 2018 (XOPT2018)　2018年4月
Compact and large-magnification full-field X-ray microscope using concave-convex imaging mirrors

J. Yamada, S. Matsuyama, Y. Sano, Y. Kohmura, M. Yabashi, T. Ishikawa, K. Yamauchi

International Conference on X-ray Optics and Applications 2018 (XOPT2018)　2018年4月
Systematic-error-free wavefront measurement using an X-ray single-grating interferometer

T. Inoue, S. Matsuyama, S. Kawai, H. Yumoto, Y. Inubushi, T. Osaka, I. Inoue, T. Koyama, K. Tono, H. Ohashi, M. Yabashi, T. Ishikawa, K. Yamauchi

Review of Scientific Instruments　Vol. 89　No. 4　p. 043106-1-043106-7　2018年4月　研究論文（学術雑誌）
Platinum-catalyzed hydrolysis etching of SiC in water: A density functional theory study

Pho Van Bui, Daisetsu Toh, Ai Isohashi, Satoshi Matsuyama, Kouji Inagaki, Yasuhisa Sano, Kazuto Yamauchi, Yoshitada Morikawa

Japanese Journal of Applied Physics　Vol. 57　No. 5　p. 055703-1-055703-5　2018年4月　研究論文（学術雑誌）
出版者・発行元：The Japan Society of Applied Physics
Characteristics and Mechanism of Catalyst-Referred Etching Method: Application to 4H-SiC

Pho Van Bui, Yasuhisa Sano, Yoshitada Morikawa, Kazuto Yamauchi

International Journal of Automation Technology　Vol. 12　No. 2　p. 154-159　2018年3月　研究論文（学術雑誌）
光電気化学酸化を利用した触媒表面基準エッチング法によるGaN基板の高能率平坦化

木田英香, 藤大雪, 大西亮輔, 松山智至, 佐野泰久, 山内和人

年次大会　Vol. 2018　2018年
出版者・発行元：一般社団法人日本機械学会
High-efficiency planarization of SiC in pure water using a thin film catalyst

Pho Van Bui, Yuta Nakahira, Daisetsu Toh, Satoshi Matsuyama, Yasuhisa Sano, Kazuto Yamauchi

European Society for Precision Engineering and Nanotechnology, Conference Proceedings - 18th International Conference and Exhibition, EUSPEN 2018　p. 433-434　2018年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Development of high efficiency polishing method using pure water and Ni catalyst

Daisetsu Toh, Pho Van Bui, Nakahira Yuta, Hideka Kida, Takahisa Ohgushi, Satoshi Matsuyama, Yasuhisa Sano, Kazuto Yamauchi

European Society for Precision Engineering and Nanotechnology, Conference Proceedings - 18th International Conference and Exhibition, EUSPEN 2018　p. 435-436　2018年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Surface Modification of SiC by Plasma Oxidation to Form Graphene/SiC Structure with Low Pit Density

K. Arima, R. Ito, O. Minami, K. Hosoo, Y. Sano, K. Kawai

Abstract Book & Schedule of PCSI 45　p. 31-31　2018年1月
出版者・発行元：American Vacuum Society
Performance of a hard X-ray split-and-delay optical system with a wavefront division

Takashi Hirano, Taito Osaka, Yuki Morioka, Yasuhisa Sano, Yuichi Inubushi, Tadashi Togashi, Ichiro Inoue, Satoshi Matsuyama, Kensuke Tono, Aymeric Robert, Jerome B. Hastings, Kazuto Yamauchi, Makina Yabashi

Journal of Synchrotron Radiation　Vol. 25　No. 1　p. 20-25　2018年1月　研究論文（学術雑誌）
Characterization of temporal coherence of hard x-ray free-electron laser pulses with single-shot interferograms

T. Osaka, T. Hirano, Y. Morioka, Y. Sano, Y. Inubushi, I. Inoue, K. Tono, A. Robert, J. B. Hastings, K. Yamauchi, M. Yabashi

IUCrJ　Vol. 4　No. 6　p. 728-733　2017年11月　研究論文（学術雑誌）
Fabrication of X-ray imaging mirror for an achromatic and high-resolution full-field X-ray microscope

J. Yamada, S. Matsuyama, S. Yasuda, Y. Sano, K. Yamauchi

2017年10月
Plasma-assisted Oxidation of SiC Surface to Assist Forming Graphene with Low Pit Density

Ryota Ito, Kohei Hosoo, Ouki Minami, Mizuho Morita, Yasuhisa Sano, Kentaro Kawai, Kenta Arima

Program & Exhibition Guide of The 8th International Symposium on Surface Science　p. 476-476　2017年10月
Development of concave-convex imaging mirror system for a compact and achromatic full-field x-ray microscope

J. Yamada, S. Matsuyama, S. Yasuda, Y. Sano, Y. Kohmura, M. Yabashi, T. Ishikawa, K. Yamauchi

Proceedings of SPIE　Vol. 10386　p. 103860C-1-103860C-6　2017年9月　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Development of crystal-based split-and-delay optics with wavefront splitting at SACLA

T. Hirano, T. Osaka, Y. Sano, Y. Inubushi, T. Togashi, I. Inoue, S. Matsuyama, K. Tono, K. Yamauchi, M. Yabashi

SPIE Optics+Photonics2017　p. 187-187　2017年8月
Development of an X-ray imaging optical system consisting of concave and convex mirrors

J. Yamada, S. Matsuyama, S. Yasuda, Y. Sano, Y. Kohmura, M. Yabashi, T. Ishikawa, K. Yamauchi

The 24th Congress of the International Comission for Optics, X-ray and High-energy Optics　2017年8月
Development of hybrid adaptive x-ray focusing system based on piezoelectric bimorph mirror and mirror bender

T. Goto, S. Matsuyama, H. Hayashi, J. Sonoyama, K. Akiyama, H. Nakamori, Y. Sano, K. Yamauchi

SPIE Optics+Photonics2017　p. 187-187　2017年8月
Dynamic fracture of tantalum under extreme tensile stress

B. Albertazzi, N. Ozaki, V. Zhakhovsky, A. Faenov, H. Habara, M. Harmand, N. Hartley, D. Ilnitsky, N. Inogamov, Y. Inubushi, T. Ishikawa, T. Katayama, T. Koyama, M. Koenig, A. Krygier, T. Matsuoka, S. Matsuyama, E. McBride, K. P. Migdal, G. Morard, H. Ohashim T. Okuchi, T. Pikuz, N. Purejav, O. Sakata, Y. Sano, T. Sato, T. Sekine, Y. Seto, K. Takahashi, K. Tanaka, Y. Tange, T. Togashi, K. Tono, Y. Umeda, T. Vinci, M. Yabashi, T. Yabuuchi, K. Yamauchi, H. Yumoto, R. Kodama

Science Advances　Vol. 3　No. 6　p. e1602705-e1602705-6　2017年6月　研究論文（学術雑誌）
Chemical etching of silicon carbide in pure water by using platinum catalyst

A. Isohashi, P. V. Bui, S. Matsuyama, Y. Sano, K. Inagaki, Y. Morikawa, K. Yamauchi

Applied Phsyics Letters　Vol. 110　No. 20　2017年5月　研究論文（学術雑誌）
Hard X-ray Split-and-Delay Optics with wavefront Division at SACLA

T. Hirano, T. Osaka, Y. Sano, Y. Inubushi, T. Togashi, I. Inoue, S. Matsuyama, K. Tono, K. Yamauchi, M. Yabashi

International conference on X-ray optics and applications 2017 (XOPT'17) in OPIC2017　p. 34-34　2017年4月
High-magnification X-ray imaging mirror system consisting of elliptical concave and hyperbolic convex mirrors

J. Yamada, S. Matsuyama, S. Yasuda, Y. Sano, Y. Kohmura, M. Yabashi, T. Ishikawa, K. Yamauchi

International conference on X-ray optics and applications 2017 (XOPT'17) in OPIC2017　p. 66-66　2017年4月
Simulation of concave-convex imaging mirror system for development of a compact and achromatic full-field x-ray microscope

J. Yamada, S. Matsuyama, Y. Sano, K. Yamauchi

Applied Optics　Vol. 56　No. 4　p. 967-974　2017年2月　研究論文（学術雑誌）
Ultrafast observation of lattice dynamics in laser-irradiated gold foils

N. J. Hartley, N. Ozaki, T. Matsuoka, B. Albertazzi, A. Faenov, Y. Fujimoto, H. Habara, M. Harmand, Y. Inubushi, T. Katayama, M. Koenig, A. Krygier, P. Mabey, Y. Matsumura, S. Matsuyama, E. E. McBride, K. Miyanishi, G. Morard, T. Okuchi, T. Pikuz, O. Sakata, Y. Sano, T. Sato, T. Sekine, Y. Seto, K. Takahashi, K. A. Tanaka, Y. Tange, T. Togashi, Y. Umeda, T. Vinci, M. Yabashi, T. Yabuuchi, K. Yamauchi, R. Kodama

Applied Physics Letters　Vol. 110　No. 7　p. 071905-071905　2017年2月　研究論文（学術雑誌）
ニッケル触媒を利用した純水ベースの触媒表面基準エッチング法の開発

藤大雪, 礒橋藍, 稻田辰昭, 中平雄太, 木田英香, 松山智至, 佐野泰久, 山内和人

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2017A　p. 35-36　2017年
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
光電気化学酸化を援用した触媒表面基準エッチング法による窒化ガリウムの高能率平坦化

木田英香, 藤大雪, 中平雄太, 松山智至, 佐野泰久, 山内和人

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2017A　p. 19-20　2017年
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
Platinum-assisted chemical etching of SiC: A density functional theory study

Bui Pho Van, Toh Daisetsu, Inagaki Kouji, Sano Yasuhisa, Yamauchi Kazuto, Morikawa Yoshitada

Proceedings of JSPE Semestrial Meeting　Vol. 2017A　p. 251-252　2017年
出版者・発行元：The Japan Society for Precision Engineering
触媒表面基準エッチング法における水素水を用いた被毒除去法の提案

中平雄太, 礒橋藍, Bui Pho, 稻田辰昭, 藤大雪, 木田英香, 松山智至, 佐野泰久, 山内和人

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2017A　p. 1-2　2017年
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
Stabilization of removal rate of silica glass on catalyst-referred etching by cleaning catalyst surface

Yuta Nakahira, Ai Isohashi, Tatsuaki Inada, Daisetsu Toh, Hideka Kida, Satoshi Matsuyama, Yasuhisa Sano, Kazuto Yamauchi

ICPT 2017 - International Conference on Planarization/CMP Technology　p. 110-114　2017年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Planarization of SiC and oxide surfaces by using Catalyst-Referred Etching with water

Pho Van Bui, Ai Isohashi, Daisetsu Toh, Satoshi Matsuyama, Kouji Inagaki, Yasuhisa Sano, Kazuto Yamauchi

Proceedings of the 17th International Conference of the European Society for Precision Engineering and Nanotechnology, EUSPEN 2017　p. 157-158　2017年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Carbon overlayer on 4H-SiC surfaces by plasma oxidation at near room temperature followed by wet etching

Kohei Hosoo, Ryota Ito, Kentaro Kawai, Yasuhisa Sano, Mizuho Morita, Kenta Arima

Abstracts of Symposium on Surface Science & Nanotechnology -25th Anniversary of SSSJ Kansai-　p. 164-164　2017年1月
室温近傍でのプラズマ酸化とウェットエッチングによるSiC表面上へのC堆積物の生成

伊藤亮太, 細尾幸平, 川合健太郎, 佐野泰久, 森田瑞穂, 有馬健太

Extended Abstracts of the 22st Workshop on Symposium on Electron Device Interface Technology　p. 203-206　2017年1月
Angle-resolved photoelectron spectroscopy studies of initial stage of thermal oxidation on 4H-SiC (0001) on-Axis and 4° off-axis substrates

Hitoshi Arai, Ryoma Toyoda, Ai Ishohashi, Yasuhisa Sano, Hiroshi Nohira

ECS Transactions　Vol. 77　No. 6　p. 51-57　2017年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
出版者・発行元：Electrochemical Society Inc.
Change in surface morphology of Si (100) wafer after oxidation with atmospheric-pressure plasma

Hiroyasu Takei, Satoshi Kurio, Satoshi Matsuyama, Kazuto Yamauchi, Yasuhisa Sano

Key Engineering Materials　Vol. 723　p. 242-246　2017年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
出版者・発行元：Trans Tech Publications Ltd
The Polishing Effect of SiC Substrates in Femtosecond Laser Irradiation Assisted Chemical Mechanical Polishing (CMP)

Chengwu Wang, Syuhei Kurokawa, Toshiro Doi, Julong Yuan, Yasuhisa Sano, Hideo Aida, Kehua Zhang, Qianfa Deng

ECS JOURNAL OF SOLID STATE SCIENCE AND TECHNOLOGY　Vol. 6　No. 4　p. P105-P112　2017年　研究論文（学術雑誌）
Characterization of Aggregated Carbon Compounds at SiO2/SiC Interface after Plasma Oxidation at Near Room Temperature

K. Arima, K. Hosoo, R. Ito, N. Saito, K. Kawai, Y. Sano, M. Morita

Meeting Program of PRiME 2016　p. 283-283　2016年10月
Pit Formation, Patterning and Flattening of Ge Surfaces in O2-Containing Water by Metal-Assisted Chemical Etching

T. Kawase, A. Mura, Y. Saito, T. Okamoto, K. Kawai, Y. Sano, K. Yamauchi, M. Morita, K. Arima

Meeting Program of PRiME 2016　p. 124-124　2016年10月
Size-changeable x-ray beam collimation using an adaptive x-ray optical system based on four deformable mirrors

T. Goto, S. Matsuyama, H. Nakamori, H. Hayashi, Y. Sano, Y. Kohmura, M. Yabashi, T. Ishikawa, K. Yamauchi

Proceedings of SPIE　Vol. 9965　2016年10月　研究論文（学術雑誌）
Development of array-type atmospheric-pressure RF plasma generator with electric on-off control for high-throughput numerically controlled processes

H. Takei, S. Kurio, S. Matsuyama, K. Yamauchi, Y. Sano

Review of Scientific Instruments　Vol. 87　No. 10　2016年10月　研究論文（学術雑誌）
Development of an x-ray imaging optical system based on a combination of concave and convex mirrors

Satoshi Matsuyama, Jumpei Yamada, Yasuhisa Sano, Kazuto Yamauchi

SPIE Optics+Photonics　2016年9月
A Two-stage Adaptive X-ray Focusing System using Four Piezoelectric Deformable Mirrors

T. Goto, H. Nakamori, S. Matsuyama, H. Hayashi, T. Kimura, K. P. Khakurel, Y. Sano, Y. Kohmura, M. Yabashi, Y. Nishino, T. Ishikawa, K. Yamauchi

13th International Conference on X-ray Microscopy (XRM2016)　2016年8月
Simulation and Experimental Study of Wavefront Measurement Accuracy of the Pencil-Beam Method

T. Goto, S. Matsuyama, H. Nakamori, Y. Sano, Y. Kohmura, M. Yabashi, T. Ishikawa, K. Yamauchi

Synchrotron Radiation News　Vol. 29　No. 4　p. 32-36　2016年8月　研究論文（学術雑誌）
Development of speckle-free channel-cut crystal optics using plasma chemical vaporization machining for coherent X-ray applications

T. Hirano, T. Osaka, Y. Sano, Y. Inubushi, S. Matsuyama, K. Tono, T. Ishikawa, M. Yabashi, K. Yamauchi

Review of Scientific Instruments　Vol. 87　No. 6　2016年6月　研究論文（学術雑誌）
Fabrication of Strain-Free Crystal Optics for a Hard X-ray Split-and-Delay Optical System

T. Hirano, T. Osaka, Y. Sano, Y. Inubushi, S. Matsuyama, K. Tono, T. Ishikawa, M. Yabashi, K. Yamauchi

International Conference on X-ray Optics, Detectors, Sources, and their Applications 2016 (XOPT2016)　2016年5月
High-resolution imaging XAFS using advanced Kirkpatrick-Baez mirror optics

S. Yasuda, S. Matsuyama, H. Okada, Y. Sano, Y. Kohmura, M. Yabashi, T. Ishikawa, K. Yamauchi

International Conference on X-ray Optics, Detectors, Sources, and their Applications 2016 (XOPT2016)　2016年5月
Size-controllable X-ray beam collimation using a two-stage adaptive Kirkpatrick-Baez mirror system based on piezoelectric deformable mirrors

T. Goto, H. Nakamori, S. Matsuyama, H. Hayashi, Y. Sano, Y. Kohmura, M. Yabashi, T. Ishikawa, K. Yamauchi

International Conference on X-ray Optics, Detectors, Sources, and their Applications 2016 (XOPT2016)　2016年5月
A variable-numerical-aperture x-ray focusing system using a two-stage adaptive Kirkpatrick-Baez mirrors based on piezo electric deformable mirrors

H. Hayashi, T. Goto, H. Nakamori, S. Matsuyama, T. Kimura, K. P. Khakurel, Y. Sano, Y. Kohmura, M. Yabashi, Y. Nishino, T. Ishikawa, K. Yamauchi

International Conference on X-ray Optics, Detectors, Sources, and their Applications 2016 (XOPT2016)　2016年5月
Wavelength-tunable hard X-ray split-and-delay optics at SACLA

T. Osaka, T. Hirano, Y. Sano, Y. Inubushi, S. Matsuyama, K. Tono, T. Ishikawa, K. Yamauchi, M. Yabashi

International Conference on X-ray Optics, Detectors, Sources, and their Applications 2016 (XOPT2016)　2016年5月
Achromatic and high-resolution full-field X-ray microscopy based on four total-reflection mirrors

S.Matsuyama, S. Yashuda, H. Okada, Y. Kohmura, Y. Sano, M. Yabashi, T. Ishikawa, K. Yamauchi

International Conference on X-ray Optics, Detectors, Sources, and their Applications 2016 (XOPT2016)　2016年5月
Wavelength-tunable split-and-delay optical system for hard X-ray free-electron lasers

T. Osaka, T. Hirano, Y. Sano, Y. Inubushi, S. Matsuyama, K. Tono, T. Ishikawa, K. Yamauchi, M. Yabashi

Optics Express　Vol. 24　No. 9　p. 9187-9201　2016年4月　研究論文（学術雑誌）
Nearly diffraction-limited X-ray focusing with variable-numerical-aperture focusing optical system based on four deformable mirrors

S. Matsuyama, H. Nakamori, T. Goto, T. Kimura, K. P. Khakurel, Y. Kohmura, Y. Sano, M. Yabashi, T. Ishikawa, Y. Nishino, K. Yamauchi

Scientific Reports　Vol. 6　No. 1　2016年4月　研究論文（学術雑誌）
出版者・発行元：
Dry planarization method using transport of reactive species

Reiji Ryokume, Toshinobu Miyazaki, Satoshi Matsuyama, Yasuhisa Sano, Kazuto Yamauchi

Proceedings - 32nd ASPE Annual Meeting　p. 597-601　2016年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
出版者・発行元：American Society for Precision Engineering, ASPE
触媒表面基準エッチング法による GaN 基板平坦化における加工速度の高速化

稻田辰昭, 礒橋藍, 藤大雪, 中平雄太, 松山智至, 佐野泰久, 山内和人

年次大会　Vol. 2016　2016年
出版者・発行元：一般社団法人日本機械学会
触媒表面基準エッチング法における被毒物除去による加工速度安定化手法の開発

中平雄太, 礒橋藍, Bui Pho, 稻田辰昭, 藤大雪, 松山智至, 佐野泰久, 山内和人

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2016A　p. 211-212　2016年
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
High-efficiency planarization method combining mechanical polishing andatmospheric-pressure plasma etching for hard-to-machine semiconductorsubstrates

Y. Sano, K. Shiozawa, T. Doi, H. Aida, T. Miyashita, K. Yamauchi

Mechanical Engineering Journal　Vol. 3　No. 1　2016年1月　研究論文（学術雑誌）
出版者・発行元：The Japan Society of Mechanical Engineers
水中で酸素還元触媒と接触したGe表面のエッチング特性と平坦化への応用

中出和希, 森大地, 川瀬達也, 川合健太郎, 佐野泰久, 山内和人, 森田瑞穂, 有馬健太

Extended Abstracts of the 21st Workshop on Symposium on Electron Device Interface Technology　p. 9-12　2016年1月
Damage threshold of platinum/carbon multilayers under hard X-ray free-electron laser irradiation

J. Kim, A. Nagahira, T. Koyama, S. Matsuyama, Y. Sano, M. Yabashi, H. Ohashi, T. Ishikawa, K. Yamauchi

Optics Express　Vol. 23　No. 22　p. 29032-29037　2015年11月　研究論文（学術雑誌）
XFEL を用いた衝撃圧縮下の炭素凝集過程の超高速観察

小川剛史, 尾崎典雅, 高橋謙次郎, 羽原英明, 松岡健之, 田中和夫, 池谷正太郎, Ochante. M, Ricardo A, 喜田美佳, 久保田善大, 佐藤友哉, 西川豊人, 野間澄人, 藤本陽平, 松村祐介, 吉田有佑, 松山智至, 佐野泰久, 山内和人, Albertazzi Bruno, Hartley Nicholas, Pikuz Tatiana, Faenov Anatory, 犬伏雄一, 丹下慶範, 富樫格, 片山哲夫, 矢橋牧名, 薮内俊毅, 梅田悠平, 佐藤友子, 関根利守, 奥地拓生, 瀬戸雄介, 坂田修身, 兒玉了祐

2015年11月　研究論文（その他学術会議資料等）
XFEL を用いたハイパワーレーザーショック下における鉄の相転移観察

松村祐介, 尾崎典雅, Albertazzi Bruno, Hartley Nicholas, 高橋謙次郎, 羽原英明, 松岡健之, 田中和夫, 池谷正太郎, 小川剛史, Ochante Muray Ricardo Arturo, 喜田美佳, 久保田善大, 佐藤友哉, 西川豊人, 野間澄人, 藤本陽平, 吉田有佑, 松山智至, 佐野泰久, 山内和人, Pikuz Tatiana, Faenov Anatoly, 犬伏雄一, 丹下慶範, 富樫格, 薮内俊毅, 片山哲夫, 矢橋牧名, 梅田悠平, 佐藤友子, 関根利守, 奥地拓生, 瀬戸雄介, 坂田修身, 兒玉了祐

2015年11月　研究論文（その他学術会議資料等）
Study on the mechanism of platinum-assisted hydrofluoric acid etching of SiC using density functional theory calculations

P. V. Bui, A. Isohashi, H. Kizaki, Y. Sano, K. Yamauchi, Y. Morikawa, K. inagaki

Applied Physics Letters　Vol. 107　No. 20　p. 201601-1-201601-4　2015年11月　研究論文（学術雑誌）
Catalyst-Assisted Electroless Flattening of Ge Surfaces in Dissolved-O2-Containing Water

T. Kawase, Y. Saito, A. Mura, T. Okamoto, K. Kawai, Y. Sano, M. Morita, K. Yamauchi, K. Arima

ChemElectroChem　Vol. 2　No. 11　p. 1656-1659　2015年11月　研究論文（学術雑誌）
Development of ion beam figuring system with electrostatic deflection for ultraprecise X-ray reflective optics

J. Yamada, S. Matsuyama, Y. Sano, K. Yamauchi

Review of Scientific Instruments　Vol. 86　No. 9　2015年8月　研究論文（学術雑誌）
Metal-Assisted Etching of Ge Surfaces in Water: From Pit Formation to Flattening

Kenta Arima, Tatsuya Kawase, Atsushi Mura, Kentaro Kawai, Yasuhisa Sano, Kazuto Yamauchi, Mizuho Morita

Program of 2015 MRS Spring Meeting & Exhibit　p. 329-329　2015年4月
Hard X-ray nanofocusing using adaptive focusing optics based on piezoelectric deformable mirrors

Takumi Goto, Hiroki Nakamori, Takashi Kimura, Yasuhisa Sano, Yoshiki Kohmura, Kenji Tamasaku, Makina Yabashi, Tetsuya Ishikawa, Kazuto Yamauchi, Satoshi Matsuyama

Review of Scientific Instruments　Vol. 86　2015年4月　研究論文（学術雑誌）
Ion Beam Figuringを用いた高精度X線ミラーの作製（第7報）―静電偏向制御による非球面形状の作製と評価―

山田純平, 松山智至, 佐野泰久, 山内和人

アブストラクト集　2015年3月
X線集光ミラー形状測定のための姿勢補正機構を有する三次元測定機の開発

金章雨, 松山智至, 佐野泰久, 山内和人

アブストラクト集　2015年3月
モノリシックな一次元Wolter mirrorを用いた結像型硬X線顕微鏡の開発

安田周平, 松山智至, 木野英俊, 岡田浩巳, 青野真也, 佐野泰久, 香村芳樹, 石川哲也, 山内和人

アブストラクト集　2015年3月
Local atomic configuration of graphene, buffer layer, and precursor layer on SiC(0001) by photoelectron diffraction

H. Matsui, F. Matsui, N. Maejima, T. Matsushita, T. Okamoto, A. N. Hattori, Y. Sano, K. Yamauchi, H. Daimon

Surface Science　Vol. 632　p. 98-102　2015年2月　研究論文（学術雑誌）
Atomically controlled surfacing of single crystalline SiC and GaN by catalyst-referred etching

Kazuto Yamauchi, Ai Isohashi, Kenta Arima, Yasuhisa Sano

ICPT 2014 - Proceedings of International Conference on Planarization/CMP Technology 2014　p. 139-141　2015年1月20日　研究論文（国際会議プロシーディングス）
出版者・発行元：Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.
Study on a novel CMP/P-CVM fusion processing system (Type B) and its basic characteristics

Koki Oyama, Yasuhisa Sano, Hideo Aida, Seongwoo Kim, Hideakli Nishizawa, Toshiro K. Doi, Syuhei Kurokawa, Tadakazu Miyashita, Tsutomu Yamazaki

ICPT 2014 - Proceedings of International Conference on Planarization/CMP Technology 2014　p. 142-146　2015年1月20日　研究論文（国際会議プロシーディングス）
出版者・発行元：Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.
触媒表面基準エッチング法における触媒機能活性化手法の開発

藤大雪, 礒橋藍, 稻田辰昭, 中平雄太, 松山智至, 佐野泰久, 山内和人

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2015A　p. 447-448　2015年
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
A new mirror-like finish method for oxide materials by catalytically induced chemical etching in pure water

Ai Isohashi, Shun Sadakuni, Takahito Sugiura, Naotaka Kidani, Tatsuaki Inada, Wataru Yamaguchi, Koji Inagaki, Yasuhisa Sano, Kazuto Yamauchi

Proceedings of the 15th International Conference of the European Society for Precision Engineering and Nanotechnology, EUSPEN 2015　p. 345-346　2015年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
1次元Wolterミラー（Monolithic型）を用いた色収差のない結像型X線顕微鏡の開発

木野英俊, 松山智至, 岡田浩巳, 佐野泰久, 香村芳樹, 玉作賢治, 矢橋牧名, 津村尚史, 石川哲也, 山内和人

予稿集　2015年1月
形状可変ミラーによる二段集光光学系の開発

後藤拓実, 中森紘基, 松山智至, 木村隆志, 佐野泰久, 香村芳樹, 玉作賢治, 矢橋牧名, 石川哲也, 山内和人

予稿集　2015年1月
X線ミラー作製のためのビーム偏向制御を用いた数値制御イオンビーム加工装置の開発

山田純平, 松山智至, 佐野泰久, 山内和人

予稿集　2015年1月
Sub-10 nm集光用X線ミラーのための高精度形状計測装置の開発

金章雨, 長平良綾香, 西原明彦, 松山智至, 佐野泰久, 山内和人

予稿集　2015年1月
XFEL用集光ミラー用Pt/C多層膜の性能評価

長平良綾香, 金章雨, 小山貴久, 松山智至, 西原明彦, 湯本博勝, 佐野泰久, 大橋治彦, 後藤俊治, 矢橋牧名, 石川哲也, 山内和人

予稿集　2015年1月
超平坦SiC表面上へのプラズマ酸化を援用した低ピット密度グラフェンの形成

有馬健太, 斎藤直樹, 森大地, 川合健太郎, 佐野泰久, 山内和人, 森田瑞穂

Extended Abstracts of the 20th Workshop on Gate Stack Technology and Physics　p. 93-96　2015年1月
出版者・発行元：応用物理学会
Improvement of I-V characteristics of Schottky barrier diode by 4H-SiC surface planarization

H. Fujiwara, A. Onogi, T. Katsuno, T. Morino, T. Endo, Y. Sano

Materials Science Forum　Vol. 821-823　p. 567-570　2015年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
出版者・発行元：Trans Tech Publications Ltd
Planarization of 6-inch 4H-SiC wafer using catalyst-referred etching

A. Isohashi, Y. Sano, T. Kato, K. Yamauchi

Materials Science Forum　Vol. 821-823　p. 537-540　2015年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
出版者・発行元：Trans Tech Publications Ltd
Plasma-based nanomanufacturing under atmospheric pressure

Kazuya Yamamura, Yasuhisa Sano

HandBook of Manufacturing Engineering and Technology　p. 1529-1547　2015年1月1日　論文集(書籍)内論文
出版者・発行元：Springer-Verlag London Ltd
Basic study on etching selectivity of plasma chemical vaporization machining by introducing crystallographic damage into work surface

Yasuhisa Sano, Toshiro Doi, Syuhei Kurokawa, Hideo Aida, Osamu Ohnishi, Michio Uneda, Yuu Okada, Hiroaki Nishikawa, Kazuto Yamauchi

Key Engineering Materials　Vol. 625　p. 550-553　2015年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
出版者・発行元：Trans Tech Publications Ltd
Optimization of Machining Conditions of Basic-Type CMP/P-CVM Fusion Processing Using SiC Substrate

Yasuhisa Sano, Kousuke Shiozawa, Toshiro Doi, Syuhei Kurokawa, Hideo Aida, Koki Oyama, Tadakazu Miyashita, Haruo Sumizawa, Kazuto Yamauchi

2015 INTERNATIONAL CONFERENCE ON PLANARIZATION/CMP TECHNOLOGY (ICPT)　2015年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Numerically controlled atmospheric-pressure plasma sacrificial oxidation using electrode arrays for improving silicon-on-insulator layer uniformity

H. Takei, K. Yoshinaga, S. Matsuyama, K. Yamauchi, Y. Sano

Japanese Journal of Applied Physics　Vol. 54　No. 1S　2015年1月　研究論文（学術雑誌）
出版者・発行元：Institute of Physics
Aggregation of carbon atoms at SiO2/SiC(0001) interface by plasma oxidation toward formation of pit-free graphene

Naoki Saito, Daichi Mori, Akito Imafuku, Keisuke Nishitani, Hiroki Sakane, Kentaro Kawai, Yasuhisa Sano, Mizuho Morita, Kenta Arima

Carbon　Vol. 80　p. 440-445　2014年12月　研究論文（学術雑誌）
Development of a one-dimensional two-stage focusing system with two deformable mirrors

T. Goto, S. Matsuyama, H. Nakamori, T. Kimura, Y. Sano, Y. Kohmura, K. Tamasaku, M. Yabashi, T. Ishikawa, K. Yamauchi

Proceedings of SPIE　Vol. 9208　2014年10月　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Development of hard X-Ray split-delay optics based on Si(220) crystals

Taito Osaka, Takashi Hirano, Yuichi Inubushi, Makina Yabashi, Yasuhisa Sano, Satoshi Matsuyama, Kensuke Tono, Takahiro Sato, Kanade Ogawa, Tetsuya Ishikawa, Kazuto Yamauchi

JSAP-OSA Joint Symposia, JSAP 2014　2014年9月1日　研究論文（国際会議プロシーディングス）
出版者・発行元：Optical Society of America (OSA)
位相回折格子を用いたX線レーザーナノビームの高精度波面計測

西原明彦, 松山智至, 金章雨, 長平良綾香, 湯本博勝, 三村秀和, 小山貴久, 登野健介, 犬伏雄一, 佐藤尭洋, 片山拓也, 富樫格, 矢代航, 佐野泰久, 大橋治彦, 百生敦, 後藤俊治, 矢橋牧名, 石川哲也, 山内和人

アブストラクト集　p. 281-282　2014年9月
Ion Beam Figuringを用いた高精度X線ミラーの作製（第6報）～静電偏向制御による数値制御加工～

山田純平, 松山智至, 佐野泰久, 山内和人

アブストラクト集　p. 283-284　2014年9月
Development of high-precision figure measurement system for x-ray optics using laser focus microscope

J. Kim, S. Matsuyama, Y. Sano, K. Yamauchi

Technical program　p. 188-188　2014年8月　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Development of a two-stage x-ray focusing system with ultraprecise deformable mirrors

T. Goto, S. Matsuyama, H. Nakamori, T. Kimura, Y. Sano, Y. Kohmura, K. Tamasaku, M. Yabashi, T. Ishikawa, K. Yamauchi

Technical program　p. 193-193　2014年8月　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Development of achromatic full-field hard x-ray microscopy with ultraprecise total reflection mirrors

S. Masuyama, Y. Emi, H. Kino, Y. Sano, Y. Kohmura, T. Ishikawa, K. Yamauchi

Technical program　p. 192-192　2014年8月　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Development of split-delay x-ray optics using Si(220) crystals at SACLA

T. Osaka, T. Hirano, M. Yabashi, Y. Sano, K. Tono, Y. Inubushi, T. Sato, K. Ogawa, S. Matsuyama, T. Ishikawa, K. Yamauchi

Technical program　Vol. 9210　p. 198-198　2014年8月　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Removal Rate of Plasma Chemical Vaporization Machining of Intentionally Damaged Surface by Mechanical Action

K. Shiozawa, Y. Sano, T. Doi, S. Kurokawa, H. Aida, O. Ohnishi, M. Uneda, Y. Okada, K. Yamauchi

15th International Conference on Precision Engineering (ICPE2014), Abstracts, pp. 53, P22　p. 53-53　2014年7月　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Removal Mechanism in Catalyst-Referred Etching Process for SiC Planarization

P. V. Bui, K. Inagaki, Y. Sano, K. Yamauchi, Y. Morikawa

15th International Conference on Precision Engineering (ICPE2014), Abstracts, pp. 50, P05　p. 50-50　2014年7月　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Improving the Accuracy of Numerically Controlled Sacrificial Plasma Oxidation Using an Array of Electrodes to Produce Ultra-uniform SOI

H. Takei, S. Kurio, Y. Sano, S. Matsuyama, K. Yamauchi

15th International Conference on Precision Engineering (ICPE2014), Abstracts, pp. 32, B15　p. 32-32　2014年7月　研究論文（国際会議プロシーディングス）
A novel abrasive-free chemical planarization of oxide materials using pure water and Pt catalyst

T. Sugiura, A. Isohashi, W. Yamaguchi, S. Matsuyama, Y. Sano, K. Yamauchi

Extended Abstracts of European society for precision engineering & nanotechnology 2014　p. 351-354　2014年6月　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Combination of Plasma Oxidation and Wet Etching to Create Monolayer-scale C Source for Pit-free Graphene on SiC Surfaces

Kenta Arima, Naoki Saito, Daichi Mori, Kentaro Kawai, Mizuho Morita, Yasuhisa Sano

Program of Collaborative Conference on 3D&Materials Research 2014　p. 248-249　2014年6月
Dependence of GaN Removal Rate of Plasma Chemical Vaporization Machining on Mechanically Introduced Damage

Y. Sano, T. K. Doi, S. Kurokawa, H. Aida, O. Ohnishi, M. Ueda, K. Shiozawa, Y. Okada, K. Yamauchi

Sensors and Materials　Vol. 26　No. 6　p. 429-434　2014年6月　研究論文（学術雑誌）
Accumulation of C Atoms at SiO2/SiC Interface by Plasma Oxidation of 4H-SiC(0001) at Room Temperature: Toward Formation of PIt-Free Graphene

Kenta Arima, Naoki Saito, Kentaro Kawai, Yasuhisa Sano, Mizuho Morita

Program of 2014 MRS Spring Meeting & Exhibit　2014年4月
出版者・発行元：Materials Research Society
Generation of 1020 W/cm2 Hard X-ray Laser Pulses with Two-Stage Reflective Focusing System

H. Mimura, H. Yumoto, S. Matsuyama, T. Koyama, K. Tono, Y. Inubushi, T. Togashi, T. Sato, J. Kim, R. Fukui, Y. Sano, M. Yabashi, H. Ohashi, T. Ishikawa, K. Yamauchi

Nature Communications　Vol. 5　2014年4月　研究論文（学術雑誌）
Dicing of SiC wafer by atmospheric-pressure plasma etching process with slit mask for plasma confinement

Y. Sano, H. Nishikawa, Y. Okada, K. Yamamura, S. Matsuyama, K. Yamauchi

Materials Science Forum　Vol. 778-780　p. 759-762　2014年2月　研究論文（学術雑誌）
Thinning of a two-inch silicon carbide wafer by plasma chemical vaporization machining using a slit electrode

Y. Okada, H. Nishikawa, Y. Sano, K. Yamamura, K. Yamauchi

Materials Science Forum　Vol. 778-780　p. 750-753　2014年2月　研究論文（学術雑誌）
4H-SiC planarization using catalyst-referred etching with pure water

A. Isohashi, Y. Sano, S. Sadakuni, K. Yamauchi

Materials Science Forum　Vol. 778-780　p. 722-725　2014年2月　研究論文（学術雑誌）
Investigation of the Barrier Heights for Dissociative Adsorption of HF on SiC Surfaces in the Catalyst-Referred Etching Process

P. V. Bui, K. Inagaki, Y. Sano, K. Yamauchi, Y. Morikawa

Materials Science Forum　Vol. 778-780　p. 726-729　2014年2月　研究論文（学術雑誌）
Planarization of the gallium nitride substrate grown by the Na flux method applying catalyst-referred etching

W. Yamaguchi, S. Sadakuni, A. Isohashi, H. Asano, Y. Sano, M. Imade, M. Maruyama, M. Yoshimura, Y. Mori, K. Yamauchi

Materials Science Forum　Vol. 778-780　p. 1193-1196　2014年2月　研究論文（学術雑誌）
室温近傍でのプラズマ酸化を援用したSiC表面上への低欠陥グラフェン成長

齋藤直樹, 今福亮斗, 西川央明, 川合健太郎, 佐野泰久, 森田瑞穂, 有馬健太

Extended Abstracts of the 19th Workshop on Gate Stack Technology and Physics　2014年1月
出版者・発行元：The Japan Society of Applied Physics
Approach to high efficient CMP for power device substrates

S. Kurokawa, T. K. Doi, C. Wang, Y. Sano, H. Aida, K. Oyama, K. Takahashi

ECS Transactions　Vol. 60　No. 1　p. 641-646　2014年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
出版者・発行元：Electrochemical Society Inc.
Development of Basic-Type CMP/P-CVM Fusion Processing System (Type A) and Its Fundamental Characteristics

Kousuke Shiozawa, Yasuhisa Sano, Toshiro Doi, Syuhei Kurokawa, Hideo Aida, Koki Oyama, Tadakazu Miyashita, Haruo Sumizawa, Kazuto Yamauchi

2014 INTERNATIONAL CONFERENCE ON PLANARIZATION/CMP TECHNOLOGY (ICPT)　p. 275-278　2014年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Atomic scale flattening of gallium nitride substrate grown by Na flux method applying catalyst-referred etching

Wataru Yamaguchi, Shun Sadakuni, Ai Isohashi, Hiroya Asano, Yasuhisa Sano, Mamoru Imade, Mihoko Maruyama, Masashi Yoshimura, Yusuke Mori, Kazuto Yamauchi

2014 INTERNATIONAL CONFERENCE ON PLANARIZATION/CMP TECHNOLOGY (ICPT)　p. 337-339　2014年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Novel Chemical Mechanical Polishing/Plasma-Chemical Vaporization Machining (CMP/P-CVM) Combined Processing of Hard-to-Process Crystals Based on Innovative Concepts

Toshiro K. Doi, Yasuhisa Sano, Syuhei Kurowaka, Hideo Aida, Osamu Ohnishi, Michio Uneda, Koki Ohyama

SENSORS AND MATERIALS　Vol. 26　No. 6　p. 403-415　2014年　研究論文（学術雑誌）
Planarization of 4H-SiC(0001) by Catalyst-Referred Etching Using Pure Water Etchant

Ai Isohashi, Yasuhisa Sano, Kazuto Yamauchi

2014 INTERNATIONAL CONFERENCE ON PLANARIZATION/CMP TECHNOLOGY (ICPT)　p. 273-274　2014年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Enhancement of photoluminescence efficiency from GaN(0001) by surface treatments

A. N. Hattori, K. Hattori, Y. Morikawa, A. Yamamoto, S. Sadakuni, J. Murata, K. Arima, Y. Sano, K. Yamauchi, H. Daimon, K. Endo

Japanese Journal of Applied Physics　Vol. 53　No. 2　2014年1月　研究論文（学術雑誌）
Two-dimensional X-ray nanofocusing using piezoelectric deformable mirrors

H. Nakamori, S. Matsuyama, T. Goto, T. Kimura, Y. Sano, Y. Kohmura, K. Tamasaku, M. Yabashi, T. Ishikawa, K. Yamauchi

The 12th symposium on X-ray Imaging Optics, Abstract　p. 99-100　2013年11月
Development of one-dimensional Wolter Mirror figured on a single substrate for full-field X-ray microscopy

H. Kino, S. Matsuyama, Y. Emi, H. Okada, Y. Sano, K. Yamauchi

The 12th symposium on X-ray Imaging Optics, Abstract　p. 93-94　2013年11月
Fabrication of Thin Si Crystal for X-Ray Beam Splitter

T. Osaka, M. Yabashi, Y. Sano, K. Tono, Y. Inubushi, T. Sato, S. Matsuyama, T. Ishikawa, K. Yamauchi

28th The American Society for Precision Engineering Annual Meeting, Extended Abstracts　2013年10月　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Wet Chemical Planarization of Single-Crystalline SiC Using Catalyst-Referred Etching

A. Isohashi, Y. Sano, T. Okamoto, S. Sadakuni, P. V. Bui, K. Yagi, K. Yamauchi

28th The American Society for Precision Engineering Annual Meeting, Extended Abstracts　2013年10月　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Thin crystal development and applications for hard x-ray free-electron lasers

T. Osaka, M. Yabashi, Y. Sano, K. Tono, Y. Inubushi, T. Sato, K. Ogawa, S. Matsuyama, T. Ishikawa, K. Yamauchi

Proceedings of SPIE　Vol. 8848　2013年9月　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Development of achromatic full-field x-ray microscopy with compact imaging mirror system

S. Matsuyama, Y. Emi, H. Kino, Y. Sano, Y. Kohmura, K. Tamasaku, M. Yabashi, T. Ishikawa, K. Yamauchi

Proc. SPIE　Vol. 8851　2013年9月　研究論文（学術雑誌）
Damage characteristics of platinum/carbon multilayers under x-ray free-electron laser irradiation

J. Kim, T. Koyama, H. Yumoto, A. Nagahira, S. Matsuyama, Y. Sano, M. Yabashi, H. Ohashi, T. Ishikawa, K. Yamauchi

Proc. SPIE　Vol. 8848　2013年9月　研究論文（学術雑誌）
Planarization of SiC and GaN Wafers Using Polishing Technique Utilizing Catalyst Surface Reaction

Y. Sano, K. Arima, K. Yamauchi

ECS Journal of Solid State Science and Technology　Vol. 2　No. 8　p. N3028-N3035　2013年6月　研究論文（学術雑誌）
Nanofocusing and single shot wavefront diagnosis of SACLA

K. Yamauchi, M. Yabashi, H. Mimura, H. Yumoto, T. Koyama, K. Tono, T. Togashi, Y. Inubushi, T. Sato, T. Katayama, S. Matsuyama, J. Kim, R. Fukui, Y. Sano, W. Yashiro, T. Ohmori, S. Goto, H. Ohashi, A. Momose, T. Ishikawa

SPIE Optics+Optelectronics, Technical Abstracts　2013年4月　研究論文（国際会議プロシーディングス）
X-ray nanofocusing using a piezoelectric deformable mirror and at-wavelength metrology methods

H. Nakamori, S. Matsuyama, S. Imai, T. Kimura, Y. Sano, Y. Kohmura, T. Kenji, M. Yabashi, T. Ishikawa, K. Yamauchi

Nuclear Inst. and Methods in Physics Research, A　Vol. 710　p. 93-97　2013年4月　研究論文（学術雑誌）
Ion Beam Figuring を用いた高精度Ｘ線ミラーの作製第 5 報－X線集光ミラーの作製－

松山智至, 北村真一, 佐野泰久, 山内和人

2013年度精密工学会春季大会プログラム＆アブストラクト集　2013年3月
大変形可能な硬X線集光用形状可変ミラーの開発－シミュレーションによる設計指針の検討－

後藤拓実, 中森紘基, 松山智至, 今井将太, 木村隆志, 佐野泰久, 香村芳樹, 石川哲也, 山内和人

2013年度精密工学会春季大会プログラム＆アブストラクト集　2013年3月
Bias-Assisted Photochemical Planarization of GaN(0001) Substrate with Damage Layer

S. Sadakuni, J. Murata, Y. Sano, K. Yagi, S. Matsuyama, K. Yamauchi

Japanese Journal of Applied Physics　Vol. 52　No. 3R　p. 036504-1-4　2013年3月　研究論文（学術雑誌）
出版者・発行元：The Japan Society of Applied Physics
A Bragg beam splitter for hard x-ray free-electron lasers

T. Osaka, M. Yabashi, Y. Sano, K. Tono, Y. Inubushi, T. Sato, S. Matsuyama, T. Ishikawa, K. Yamauchi

Optics Express　Vol. 21　No. 3　p. 2823-2831　2013年2月　研究論文（学術雑誌）
X線自由電子レーザー集光用Pt/C多層膜の性能評価

金章雨, 福井亮介, 松山智至, 小山貴久, 湯本博勝, 佐野泰久, 大橋治彦, 後藤俊治, 矢橋牧名, 石川哲也, 山内和人

2013年1月
X線回折格子を用いたXFELナノビームのワンショット波面計測

福井亮介, 松山智至, 金章雨, 湯本博勝, 三村秀和, 小山貴久, 登野健介, 犬伏雄一, 佐藤尭洋, 片山哲夫, 富樫格, 矢代航, 佐野泰久, 大橋治彦, 百生敦, 後藤俊治, 矢橋牧名, 石川哲也, 山内和人

2013年1月
Micro-focusing of hard x-ray free electron laser radiation using Kirkpatrick-Baez mirror system

H. Yumoto, H. Mimura, S. Matsuyama, T. Koyama, Y. Hachisu, T. Kimura, H. Yokoyama, J. Kim, Y. Sano, K. Tono, T. Togashi, Y. Inubushi, T. Sato, T. Tanaka, M. Yabashi, H. Ohashi, H. Ohmori, T. Ishikawa, K. Yamauchi

11TH INTERNATIONAL CONFERENCE ON SYNCHROTRON RADIATION INSTRUMENTATION (SRI 2012)　Vol. 425　2013年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Advanced Kirkpatrick-Baezミラー光学系を用いた色収差のない結像型硬X線顕微鏡の開発

恵美陽治, 松山智至, 佐野泰久, 香村芳樹, 玉作賢治, 矢橋牧名, 石川哲也, 山内和人

第25回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム　2013年1月　研究論文（その他学術会議資料等）
Epitaxial Graphene Growth on Atomically Flattened SiC Assisted by Plasma Oxidation at 1000°C

Naoki Saito, Hiroaki Nishikawa, Yasuhisa Sano, Kentaro Kawai, Junichi Uchikoshi, Kazuto Yamauchi, Mizuho Morita, Kenta Arima

Program and Abstracts of 8th Handai Nanoscience and Nanotechnology International Symposium　2012年12月
Adsorption of hydrogen fluoride on SiC surfaces: A density functional theory study

Pho Van Bui, K. Inagaki, Y. Sano, K. Yamauchi, Y. Morikawa

Current Appl. Phys.　Vol. 12　p. S42-S46　2012年12月　研究論文（学術雑誌）
Focusing of X-ray free-electron laser pulses with reflective optics

Hirokatsu Yumoto, Hidekazu Mimura, Takahisa Koyama, Satoshi Matsuyama, Kensuke Tono, Tadashi Togashi, Yuichi Inubushi, Takahiro Sato, Takashi Tanaka, Takashi Kimura, Hikaru Yokoyama, Jangwoo Kim, Yasuhisa Sano, Yousuke Hachisu, Makina Yabashi, Haruhiko Ohashi, Hitoshi Ohmori, Tetsuya Ishikawa, Kazuto Yamauchi

Nature Photonics　Vol. 7　No. 1　p. 43-47　2012年12月　研究論文（学術雑誌）
Improvement of interface roughness in platinum/carbon multilayers for X-ray mirrors

J. Kim, S. Matsuyama, Y. Sano, K. Yamauchi

Key Engineering Materials　Vol. 523-524　p. 1076-1079　2012年11月　研究論文（学術雑誌）
Development of an ultraprecise piezoelectric deformable mirror for adaptive X-ray optics

Hiroki Nakamori, Satoshi Matsuyama, Shota Imai, Takashi Kimura, Yasuhisa Sano, Yoshiki Kohmura, Kenji Tamasaku, Makina Yabashi, Tetsuya Ishikawa, Kazuto Yamauchi

Key Engineering Materials　Vol. 523-524　p. 50-+　2012年11月　研究論文（学術雑誌）
Fabrication of ultraprecise X-ray mirrors by ion beam figuring system: Fabrication and evaluation of aspheric shape on silicon surface

Shinichi Kitamura, Satoshi Matsuyama, Yasuhisa Sano, Kazuto Yamauchi

Extended Abstracts of 5th International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology　2012年10月　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Development of ultraprecise piezoelectric deformable mirror for adaptive X-ray focusing

Hiroki Nakamori, Satoshi Matsuyama, Shota Imai, Takashi Kimura, Yasuhisa Sano, Yoshiki Kohmura, Kenji Tamasaku, Makina Yabashi, Tetsuya Ishikawa, Kazuto Yamauchi

Extended Abstracts of 5th International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology　2012年10月　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Development of one-dimensional Wolter mirror figured on a single substrate for full-field X-ray microscopy

Satoshi Matsuyama, Yoji Emi, Yasuhisa Sano, Kazuto Yamauchi

Extended Abstracts of 5th International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology　2012年10月　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Study of Pt/C multilayers for X-ray mirrors improvement of reflectivity

J. Kim, A. Nagahira, S. Matsuyama, Y. Sano, K. Yamauchi

Extended Abstracts of 5th International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology　2012年10月　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Analysis of Enhanced Oxygen Reduction Reaction on Ge(100) Surface in Water Toward Metal-free Machining Process

Atsushi Mura, Yoshie Kawai, Tatsuya Kawase, Kentaro Kawai, Yasuhisa Sano, Junichi Uchikoshi, Kazuto Yamauchi, Mizuho Morita, Kenta Arima

Extended Abstracts of Fifth International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology　2012年10月
Low Temparature Growth of Graphene on Atomically Flat SiC Assited by Plasma Oxidation

Kenta Arima, Naoki Saito, Hiroaki Nishikawa, Yasuhisa Sano, Kentaro Kawai, Junichi Uchikoshi, Kazuto Yamauchi, Mizuho Morita

Extended Abstracts of Fifth International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology　2012年10月
Ion Beam Figuring を用いた高精度Ｘ線ミラーの作製第 4 報 ―シリコン表面に対する非球面形状の作製と評価―

北村真一, 松山智至, 佐野泰久, 山内和人

2012年9月
硬Ｘ線集光用形状可変ミラーの開発－形状可変ミラー変形性能の評価－

中森紘基, 松山智至, 今井将太, 木村隆志, 佐野泰久, 香村芳樹, 玉作賢治, 矢橋牧名, 石川哲也, 山内和人

2012年9月
A Study of Terminated Species on 4H-SiC (0001) Surfaces Planarized using Hydrofluoric Acid

P. V. Bui, S. Sadakuni, T. Okamoto, K. Arima, Y. Sano, K. Yamauchi

2012年9月　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Low temperature growth of graphene on 4H-SiC(0001) flattened by catalyst-assisted etching in HF solution

K. Arima, K. Nishitani, N. Saito, K. Kawai, J. Uchikoshi, K. Yamauchi, Y. Sano, M. Morita

Abstract book of 24th General Conference of the Condensed Matter Division of the European Physical Society held jointly with 29th European Conference on Surface Science　2012年9月
出版者・発行元：Institute of Physics
Basic experiment on atmospheric-pressure plasma etching with slit aperture for high-efficiency dicing of SiC wafer

Yasuhisa Sano, Hiroaki Nishikawa, Kohei Aida, Chaiyapat Tangpatjaroen, Kazuya Yamamura, Satoshi Matsuyama, Kazuto Yamauchi

Vol. 740-742　p. 813-+　2012年9月　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Development of piezoelectric deformable mirror for hard X-ray nanofocusing

S. Matsuyama, T. Kimura, H. Nakamori, S. Imai, H. Yokoyama, J. Kim, R. Fukui, H. Mimura, Y. Sano, Y. Kohmura, K. Tamasaku, M. Yabashi, T. Ishikawa, K. Yamauchi

Technical Program　Vol. 8503　2012年8月　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Plasma Chemical Vaporization Machining of Silicon Carbide Wafer Using Flat-bar Electrode with Multiple Gas Nozzles

Y. Sano, K. Aida, H. Nishikawa, K. Yamamura, S. Matsuyama, K. Yamauchi

Advanced Materials Research　2012年8月　研究論文（学術雑誌）
Improved reflectivity of platinum/carbon multilayers for X-ray mirrors by carbon doping into platinum layer

J. Kim, H. Yokoyama, S. Matsuyama, Y. Sano, K. Yamauchi

Current Applied Physics　Vol. 12　p. S20-S23　2012年7月　研究論文（学術雑誌）
Fabrication of a Bragg beam splitter for hard X-ray free-electron laser

OSAKA Taito, YABASHI Makina, SANO Yasuhisa, TONO Kensuke, INUBUSHI Yuichi, SATO Takahiro, MATSUYAMA Satoshi, ISHIKAWA Tetsuya, YAMAUCHI Kazuto

Vol. 425　2012年7月　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Structural and chemical characteristics of atomically smooth GaN surfaces prepared by abrasive-free polishing with Pt catalyst

Murata Junji, Sadakuni Shun, Okamoto Takeshi, Hattori Azusa N, Yagi Keita, Sano Yasuhisa, Arima Kenta, Yamauchi Kazuto

JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH　Vol. 349　No. 1　p. 83-88　2012年6月15日
Experimental and simulation study of undesirable short-period deformation in piezoelectric deformable x-ray mirrors

Hiroki Nakamori, Satoshi Matsuyama, Shota Imai, Takashi Kimura, Yasuhisa Sano, Yoshiki Kohmura, Kenji Tamasaku, Makina Yabashi, Tetsuya Ishikawa, Kazuto Yamauchi

Review of Scientific Instruments　Vol. 83　No. 5　2012年5月　研究論文（学術雑誌）
Hard-X-ray imaging optics based on four aspherical mirrors with 50 nm resolution

Satoshi Matsuyama, Naotaka Kidani, Hidekazu Mimura, Yasuhisa Sano, Yoshiki Kohmura, Kenji Tamasaku, Makina Yabashi, Tetsuya Ishikawa, Kazuto Yamauchi

Optics Express　2012年4月　研究論文（学術雑誌）
Improvement of Removal Rate in Abrasive-Free Planarization of 4H-SiC Substrates Using Catalytic Platinum and Hydrofluoric Acid

Takeshi Okamoto, Yasuhisa Sano, Kazuma Tachibana, Bui Van Pho, Kenta Arima, Kouji Inagaki, Keita Yagi, Junji Murata, Shun Sadakuni, Hiroya Asano, Ai Isohashi, Kazuto Yamauchi

Japanese Journal of Applied Physics　Vol. 51　No. 4　p. 46501-046501-4　2012年4月　研究論文（学術雑誌）
出版者・発行元：The Japan Society of Applied Physics
Atomically Smooth Gallium Nitride Surfaces Prepared by Chemical Etching with Platinum Catalyst in Water

Junji Murata, Takeshi Okamoto, Shun Sadakuni, Azusa N. Hattori, Keita Yagi, Yasuhisa Sano, Kenta Arima, Kazuto Yamauchi

Journal of Electrochemical Society　2012年4月　研究論文（学術雑誌）
PtC/C多層膜を用いた硬X線集光用ミラーの反射率改善

金章雨, 横山光, 松山智至, 佐野泰久, 山内和人

2012年度精密工学会春季大会プログラム＆アブストラクト集　2012年3月　研究論文（その他学術会議資料等）
硬X線集光用形状可変ミラーの開発－SPring-8での集光特性－

松山智至, 中森紘基, 今井将太, 横山光, 木村隆志, 佐野泰久, 香村芳樹, 石川哲也, 山内和人

2012年度精密工学会春季大会プログラム＆アブストラクト集　2012年3月　研究論文（その他学術会議資料等）
Ion Beam Figuringを用いた高精度X線ミラーの作製第3報－シリコン表面に対する楕円形状の作製と評価－

北村真一, 松山智至, 佐野泰久, 山内和人

2012年度精密工学会春季大会プログラム＆アブストラクト集　2012年3月　研究論文（その他学術会議資料等）
High-resolution TEM observation of 4H-SiC (0001) surface planarized by catalyst-referred etching

Bui Van Pho, Shun Sadakuni, Takeshi Okamoto, Ryusuke Sagawa, Kenta Arima, Yasuhisa Sano, Kazuto Yamauchi

Materials Science Forum　Vol. 717-720　p. 873-876　2012年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
出版者・発行元：Trans Tech Publications Ltd
回折限界下で集光径可変なミラー集光光学系の開発

松山智至, 木村隆志, 中森紘基, 今井将太, 香村芳樹, 玉作賢治, 矢橋牧名, 石川哲也, 西野吉則, 山内和人

第25回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム　2012年1月
Rapid planarization method by ultraviolet light irradiation for gallium nitride using platinum catalyst

Hiroya Asano, Shun Sadakuni, K. Yagi, Y. Sano, S. Matsuyama, T. Okamoto, K. Tachibana, K. Yamauchi

EMERGING TECHNOLOGY IN PRECISION ENGINEERING XIV　Vol. 523-524　p. 46-+　2012年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
First-Principles Study of Reaction Process of SiC and HF Molecules in Catalyst-Referred Etching

Pho Van Bui, Kouji Inagaki, Yasuhisa Sano, Kazuto Yamauchi, Yoshitada Morikawa

EMERGING TECHNOLOGY IN PRECISION ENGINEERING XIV　Vol. 523-524　p. 173-177　2012年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Fabrication of ultrathin Bragg beam splitter by plasma chemical vaporization machining

T. Osaka, M. Yabashi, Y. Sano, K. Tono, Y. Inubushi, T. Sato, S. Matsuyama, T. Ishikawa, K. Yamauchi

EMERGING TECHNOLOGY IN PRECISION ENGINEERING XIV　Vol. 523-524　p. 40-+　2012年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Improving the Accuracy of Numerically Controlled Sacrificial Plasma Oxidation Using Array of Electrodes to Improve the Thickness Uniformity of SOI

H. Takei, K. Yoshinaga, Y. Sano, S. Matsuyama, K. Yamauchi

IEEE INTERNATIONAL SOI CONFERENCE　2012年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Atomically controlled chemical polishing of GaN using platinum and hydrofluoric acid

Shun Sadakuni, Junji Murata, Yasuhisa Sano, Keita Yagi, Takeshi Okamoto, Kazuma Tachibana, Hiroya Asano, Kazuto Yamauchi

PHYSICA STATUS SOLIDI C: CURRENT TOPICS IN SOLID STATE PHYSICS, VOL 9, NO 3-4　Vol. 9　No. 3-4　p. 433-435　2012年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Shape correction of optical surfaces using plasma chemical vaporization machining with a hemispherical tip electrode

Hideo Takino, Kazuya Yamamura, Yasuhisa Sano, Yuzo Mori

Applied Optics 51 (2012) 401-407.　2012年1月　研究論文（学術雑誌）
開口シフトを用いた位相回復計算による硬X線集光光学素子の波面収差算出法の開発

横山光, 三村秀和, 木村隆志, 今井将太, 松山智至, 佐野泰久, 香村秀樹, 玉作賢治, 矢橋牧名, 石川哲也, 山内和人

第25回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム　2012年1月　研究論文（その他学術会議資料等）
アダプティブ集光光学系のための高精度形状可変ミラーの作成と評価

中森紘基, 松山智至, 今井将太, 横山光, 木村隆志, 三村秀和, 佐野泰久, 香村芳樹, 玉作賢治, 矢橋牧名, 石川哲也, 山内和人

第25回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム　2012年1月　研究論文（その他学術会議資料等）
PtC/C多層膜を用いたX線集光用ミラーの反射率改善

金章雨, 横山光, 松山智至, 佐野泰久, 香村芳樹, 玉作賢治, 矢橋牧名, 石川哲也, 山内和人

第25回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム　2012年1月　研究論文（その他学術会議資料等）
Back-side thinning of silicon carbide wafer by plasma etching using atmospheric-pressure plasma

Y. Sano, K. Aida, H. Nishikawa, K. Yamamura, S. Matsuyama, K. Yamauchi

Abstracts of 4th International Conference of Asian Society for Precision Engineering and Nanotechnology, 72　Vol. 516　p. 108-+　2011年11月　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Determination of Had X-ray Focusing Mirror Aberration using Phase Retrieval with Transverse Translation Diversity

H. Yokoyama, T. Kimura, H. Mimura, S. Imai, S. Matsuyama, Y. Kohmura, T. Ishikawa, K. Yamauchi

Extended Abstracts of 4th International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology　2011年11月
Development of an ultra-precise deformable mirror for hard X-ray nanofocusing

Hiroki Nakamori, Satoshi Matsuyama, Takashi Kimura, Shouta Imai, Yoshiki Kohmura, Tetsuya Ishikawa, Yoshinori Nishino, Kazuto Yamauchi

Program of 7th Handai Nanoscience and Nanotechnology International Symposium　2011年11月
Development of an adaptive hard X-ray focusing system with adaptive mirrors

S. Imai, S. Matsuyama, H. Nakamori, T. Kimura, H. Yokoyama, H. Mimura, Y. Sano, Y. Kohmura, T. Ishikawa, K. Yamauchi

Extended Abstracts of 4th International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology　2011年11月
Development of an Adaptive X-Ray Focusing Mirror with Large NA -Evaluation of Reproducibility of Deformable Mirror-

H. Nakamori, S. Matsuyama, S. Imai, H. Yokoyama, T. Kimura, H. Mimura, Y. Sano, Y. Kohmura, T. Ishikawa, K. Yamauchi

Extended Abstracts of 4th International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology　2011年11月
KBミラー光学系を用いた硬X線二次元Sub-10nm集光システムの開発

横山光, 三村秀和, 木村隆志, 今井将太, 松山智至, 佐野泰久, 香村秀樹, 玉作賢治, 矢橋牧名, 石川哲也, 山内和人

プログラム予稿集第11回X線結像光学シンポジウム　2011年11月　研究論文（その他学術会議資料等）
Development of Hard X-ray Imaging Optics for Achromatic Full-Field X-ray Microscopy

Satoshi Matsuyama, Naotaka Kidani, Yoji Emi, Yasuhisa Sano, Yoshiki Kohmura, Tetsuya Ishikawa, Kazuto Yamauchi

Extended Abstracts of 4th International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology　2011年11月
Reflectivity improvement using PtC/C multilayers for X-ray mirrors

Jangwoo Kim, Hikaru Yokoyama, Satoshi Matsuyama, Yasuhisa Sano, Kazuto Yamauchi

Extended Abstracts of 4th International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology　2011年11月
Cutting of SiC substrates by atmospheric-pressure plasma etching with slit mask for plasma confinement

H. Nishikawa, Y. Sano, K. Aida, T. Chaiyapat, K. Yamamura, S. Matsuyama, K. Yamauchi

Abstracts of The 33rd International Symposium on Dry Process, 35-36.　2011年11月　研究論文（国際会議プロシーディングス）
硬X線集光用形状可変ミラーの開発－変形再現性の評価―

中森紘基, 松山智至, 今井将太, 横山光, 木村隆志, 三村秀和, 佐野泰久, 香村芳樹, 石川哲也, 山内和人

2011年度精密工学会秋季大会学術講演会アブストラクト集　2011年9月　研究論文（その他学術会議資料等）
IBF(Ion Beam Figuring)を用いた高精度X線ミラーの作製 ―シリコン表面の加工特性とビームの安定性の評価―

北村真一, 松山智至, 佐野泰久, 山内和人

2011年度精密工学会秋季大会学術講演会アブストラクト集　2011年9月　研究論文（その他学術会議資料等）
硬X線集光用多層膜ミラーの開発

金章雨, 横山光, 松山智至, 三村秀和, 佐野泰久, 香村芳樹, 石川哲也, 山内和人

2011年度精密工学会秋季大会学術講演会アブストラクト集　2011年9月　研究論文（その他学術会議資料等）
Mechanism of atomic-scale passivation and flattening of semiconductor surfaces by wet-chemical preparations

Kenta Arima, Katsuyoshi Endo, Kazuto Yamauchi, Kikuji Hirose, Tomoya Ono, Yasuhisa Sano

Journal of Physics: Condensed Matter　Vol. 23　No. 39　p. 394202 1-394202 14　2011年9月　研究論文（学術雑誌）
出版者・発行元：IOP Publishing
Development of a one-dimensional Wolter mirror for achromatic full-field X-ray microscopy

S. Matsuyama, N. Kidani, H. Mimura, J. Kim, Y. Sano, K. Tamasaku, Y. Kohmura, M. Yabashi, T. Ishikawa, K. Yamauchi

Proc. SPIE　Vol. 8139　2011年8月　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Development of hard x-ray imaging optics with four aspherical mirrors

S. Matsuyama, N. Kidani, H. Mimura, Y. Sano, K. Tamasaku, Y. Kohmura, M. Yabashi, T. Ishikawa, K. Yamauchi

SPIE Optics+Photonics, Technical Program　Vol. 2011　p. 469-470　2011年8月　研究論文（国際会議プロシーディングス）
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
Influence of gallium additives on surface roughness for photoelectrochemical planarization of GaN

S. Sadakuni, J. Murata, K. Yagi, Y. Sano, K. Arima, T. Okamoto, K. Tachibana, K. Yamauchi

Physica Status Solidi C　Vol. 8　No. 7-8　p. 2223-2225　2011年7月　研究論文（学術雑誌）
Electroforming for Replicating Nanometer-Level Smooth Surface

Hidekazu Mimura, Hiroyuki Ishikura, Satoshi Matsuyama, Yasuhisa Sano, Kazuto Yamauchi

Journal of Nanoscience and Nanotechnology　Vol. 11　No. 4　p. 2886-2889　2011年4月　研究論文（学術雑誌）
Efficient Wet Etching of GaN (0001) Substrate with Subsurface Damage Layer

Shun Sadakuni, Junji Murata, Keita Yagi, Yasuhisa Sano, Takeshi Okamoto, Arima Kenta, Azusa N. Hattori, Kazuto Yamauchi

Journal of Nanoscience and Nanotechnology　Vol. 11　No. 4　p. 2979-2982　2011年4月　研究論文（学術雑誌）
Improved Optical and Electrical Characteristics of Free-Standing GaN Substrates by Chemical Polishing Utilizing Photo-Electrochemical Method

Junji Murata, Yuki Shirasawa, Yasuhisa Sano, Shun Sadakuni, Keita Yagi, Takeshi Okamoto, Azusa N. Hattori, Kenta Arima, Kazuto Yamauchi

Journal of Nanoscience and Nanotechnology　Vol. 11　No. 4　p. 2882-2885　2011年4月　研究論文（学術雑誌）
Structure and Magnetic Properties of Mono- and Bi-Layer Graphene Films on Ultraprecision Figured 4H-SiC(0001) Surfaces

Azusa N. Hattori, Takeshi Okamoto, Shun Sadakuni, Junji Murata, Hideo Oi, Kenta Arima, Yasuhisa Sano, Ken Hattori, Hiroshi Daimon, Katsuyoshi Endo, Kazuto Yamauchi

JOURNAL OF NANOSCIENCE AND NANOTECHNOLOGY　Vol. 11　No. 4　p. 2897-2902　2011年4月　研究論文（学術雑誌）
Simulation Study of Adaptive Mirror for Hard X-ray Focusing

Hiroki Nakamori, Satoshi Matsuyama, Takashi Kimura, Shouta Imai, Hidekazu Mimura, Yasuhisa Sano, Kazuto Yamauchi

Programme of ACTOP11　2011年4月
Dependence of Process Characteristics on Atomic-Step Density in Catalyst-Referred Etching of 4H-SiC(0001) Surface

Takeshi Okamoto, Yasuhisa Sano, Kazuma Tachibana, Kenta Arima, Azusa N. Hattori, Keita Yagi, Junji Murata, Shun Sadakuni, Kazuto Yamauchi

Journal of Nanoscience and Nanotechnology　Vol. 11　p. 2928-2930　2011年4月　研究論文（学術雑誌）
Evaluation of Schottky Barrier Diodes Fabricated Directly on Processed 4H-SiC(0001) Surfaces

Yasuhisa Sano, Yuki Shirasawa, Takeshi Okamoto, Kazuto Yamauchi

Journal of Nanoscience and Nanotechnology　2011年4月　研究論文（学術雑誌）
Formation of wide and atomically flat graphene layers on ultraprecision-figured 4H-Si(0001) surfaces

A. N. Hattori, T. Okamoto, S. Sadakuni, J. Murata, K. Arima, Y. Sano, K. Hattori, H. Daimon, K. Endo, K. Yamauchi

Surface Science　Vol. 605　No. 5-6　p. 597-605　2011年3月　研究論文（学術雑誌）
TEM Observation of 8 Deg Off-Axis 4H-SiC (0001) Surfaces Planarized by Catalyst-Referred Etching

S. Sadakuni, N. X. Dai, Y. Sano, K. Arima, K. Yagi, J. Murata, T. Okamoto, K. Tachibana, K. Yamauchi

Materials Science Forum　Vol. 679-680　p. 489-492　2011年3月　研究論文（学術雑誌）
高能率高精度Ｘ線ミラー加工のためのIBF(Ion Beam Figuring)システムの開発

北村真一, 松山智至, 三村秀和, 佐野泰久, 山内和人

2011年度精密工学会春季大会学術講演会講演論文集　2011年3月　研究論文（その他学術会議資料等）
シミュレーションを用いた硬X線用形状可変ミラー設計に関する研究

中森紘基, 松山智至, 今井将太, 木村隆志, 三村秀和, 佐野泰久, 山内和人

2011年度精密工学会春季大会学術講演会講演論文集　2011年3月　研究論文（その他学術会議資料等）
Ultra precision machining using plasma chemical vaporization machining (CVM)

Kazuya Yamamura, Yasuhisa Sano, Yuzo Mori

Generation and Applications of Atmospheric Pressure Plasmas　p. 237-254　2011年　論文集(書籍)内論文
出版者・発行元：Nova Science Publishers, Inc.
Temperature measurements of Electrostatic Shocks in laser-produced counter-streaming plasmas

T. Morita, Y. Sakawa, Y. Kuramitsu, H. Tanji, H. Aoki, T. Ide, S. Shibata, N. Onishi, C. Gregory, A. Diziere, J. Waugh, N. Woolsey, Y. Sano, A. Shiroshita, K. Shigemori, N. Ozaki, T. Kimura, K. Miyanishi, R. Kodama, M. Koenig, H. Takabe

Astrophysics and Space Science　Vol. 336　No. 1　p. 283-286　2010年11月　研究論文（学術雑誌）
One-dimensional Wolter optics with a sub-50-nm spatial resolution

S. Matsuyama, T. Wakioka, N. Kidani, T. Kimura, H. Mimura, Y. Sano, Y. Nishino, M. Yabashi, K. Tamasaku, T. Ishikawa, K. Yamauchi

Optics Letters　Vol. 35　No. 21　p. 3583-3585　2010年11月　研究論文（学術雑誌）
Stitching-angle measurable microscopic-interferometer: surface-figure metrology tool for hard X-ray nanofocusing mirrors with large curvature

H. Yumoto, H. Mimura, S. Handa, T. Kimura, S. Matsuyama, Y. Sano, H. Ohashi, K. Yamauchi, T. Ishikawa

Nuclear Instruments and Methods in Physics Research A　Vol. 616　No. 2-3　p. 203-206　2010年4月　研究論文（学術雑誌）
Extended knife-edge method for characterizing Sub-10-nm X-ray beams

Handa, H. Mimura, H. Yumoto, T. Kimura, S. Matsuyama, Y. Sano, K. Tamasaku, Y. Nishino, M. Yabashi, T. Ishikawa, K. Yamauchi

Nuclear Instruments and Methods in Physics Reserch A　Vol. 616　No. 2月3日　p. 246-250　2010年4月　研究論文（学術雑誌）
Ｘ線ミラー用ナノ精度表面創成法の開発-形状修正加工の高分解能化とＸ線集光ミラーへの適応

三村秀和, 湯本博勝, 松山智至, 佐野泰久, 山内和人

精密工学会誌　Vol. 76　No. 3　p. 338-342　2010年3月　研究論文（学術雑誌）
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
Elemental mapping of frozen hydrated cells with cryo-scanning X-ray fluorescence microscopy

S. Matsuyama, M. Shimura, M. Fujii, K. Maeshima, H. Yumoto, H. Mimura, Y. Sano, M. Yabashi, Y. Nishino, K. Tamasaku, Y. Ishizaka, T. Ishikawa, K. Yamauchi

X-Ray Spectrometry　Vol. 39　No. 4　p. 260-266　2010年3月　研究論文（学術雑誌）
Numerically Controlled Sacrificial Plasma Oxidation Using Array of Electrodes for Improving Thickness Uniformity of SOI

Y. Sano, S. Kamisaka, K. Yoshinaga, H. Mimura, S. Matsuyama, K. Yamauchi

2010 IEEE INTERNATIONAL SOI CONFERENCE　2010年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Planarization of GaN(0001) Surface by Photo-Electrochemical Method with Solid Acidic or Basic Catalyst

J. Murata, S. Sadakuni, K. Yagi, Y. Sano, T. Okamoto, K. Arima, A. N. Hattori, H. Mimura, K. Yamauchi

Japanese Journal of Applied Physics　Vol. 48　No. 12　p. 121001-121001-4　2009年12月　研究論文（学術雑誌）
4枚の非球面ミラーを用いた硬X線結像光学系の開発

藤井正輝, 松山智至, 脇岡敏之, 三村秀和, 佐野泰久, 山内和人

2009年秋季第70回応用物理学会学術講演会予稿集　2009年9月　研究論文（その他学術会議資料等）
Wavefront Control System for Phase Compensation in Hard X-ray Optics

Kimura, Takashi, Handa, Soichiro, Mimura, Hidekazu, Yumoto, Hirokatsu, Yamakawa, Daisuke, Matsuyama, Satoshi, Inagaki, Kouji, Sano, Yasuhisa, Tamasaku, Kenji, Nishino, Yoshinori, Yabashi, Makina, Ishikawa, Tetsuya, Yamauchi, Kazuto

Japanese Journal of Applied Physics　Vol. 48　No. 7　p. 72503-072503　2009年7月　研究論文（学術雑誌）
出版者・発行元：
Stitching interferometric measurement system for hard x-ray nanofocusing mirrors

Yumoto Hirokatsu, Mimura Hidekazu, Handa Soichiro, Kimura Takashi, Matsuyama Satoshi, Sano Yasuhisa, Yabashi Makina, Nishino Yoshinori, Tamasaku Kenji, Ishikawa Tetsuya, Yamauchi Kazuto

9TH INTERNATIONAL CONFERENCE ON X-RAY MICROSCOPY　Vol. 186　2009年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Catalyst-referred etching of 4H-SiC substrate utilizing hydroxyl radicals generated from hydrogen peroxide molecules

Yagi Keita, Murata Junji, Kubota Akihisa, Sano Yasuhisa, Hara Hideyuki, Okamoto Takeshi, Arima Kenta, Mimura Hidekazu, Yamauchi Kazuto

SURFACE AND INTERFACE ANALYSIS　Vol. 40　No. 6-7　p. 998-1001　2008年6月
Trace element mapping using hard X-ray nanobeam focused by a Kirkpatrick Baez mirror system

S. Matsuyama, M. Shimura, H. Mimura, M. Fujii, H. Yumoto, S. Handa, T. Kimura, Y. Sano, M. Yabashi, Y. Nishino, K. Tamasaku, T. Ishikawa, K. Yamauchi

European Conference on X-ray Spectrometry, Book of Abstract　Vol. 38　No. 2　p. 89-94　2008年6月　研究論文（学術雑誌）
Stitching interferometric metrology for steeply curved x-ray mirrors

H.Yumoto, H.Mimura, T.Kimura, S.Handa, S.Matsuyama, Y.Sano, K.Yamauchi

Surface and Interface Analysis　Vol. 40　No. 6-7　p. 1023-1027　2008年3月　研究論文（学術雑誌）
Highly accurate differential deposition for X-ray reflective optics

S.Handa, H.Mimura, H.Yumoto, T.Kimura, S.Matsuyama, Y.Sano, Kazuto Yamauchi

Surface and Interface Analysis　Vol. 40　No. 6-7　p. 1019-1022　2008年3月　研究論文（学術雑誌）
Direct Determination of the Wave Field of an X-ray Nanobeam

H.Mimura, H. Yumoto, S. Matsuyama, S. Handa, T. Kimura, Y. Sano, M. Yabashi, Y. Nishino, K. Tamasaku, T. Ishikawa, K. Yamauchi

Physical Review A　Vol. 77　No. 1　2008年2月　研究論文（学術雑誌）
Development of adaptive mirror for wavefront correction of hard X-ray nanobeam

Takashi Kimura, Soichiro Handa, Hidekazu Mimura, Hirokatsu Yumoto, Daisuke Yamakawa, Satoshi Matsuyama, Yasuhisa Sano, Kenji Tamasaku, Yoshinori Nishino, Makina Yabashi, Tetsuya Ishikawa, Kazuto Yamauchi

ADVANCES IN X-RAY/EUV OPTICS AND COMPONENTS III　Vol. 7077　2008年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Defect-free planarization of 4H-SiC(0001) substrate using reference plate

Yagi Keita, Murata Junji, Kubota Akihisa, Sano Yasuhisa, Hara Hideyuki, Arima Kenta, Okamoto Takeshi, Mimura Hidekazu, Yamauchi Kazuto

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS　Vol. 47　No. 1　p. 104-107　2008年1月
走査型蛍光X線顕微鏡による細胞内元素分布の測定

藤井正輝, 松山智至, 志村まり, 三村秀和, 前島一博, 片岸恵子, 湯本博勝, 半田宗一郎, 木村隆志, 佐野泰久, 西野吉則, 玉作賢治, 矢橋牧名, 石川哲也, 山内和人

第9回Ｘ線結像光学シンポジウム要旨集　2007年11月
Experimental determination of the wave field of X-ray nanobeam

Hidekazu Mimura, Hirokatsu Yumoto, Soichiro Handa, Takashi Kimura, Satoshi Matsuyama, Yasuhisa Sano, Yoshinori Nishino, Kenji Tamasaku, Yabashi Makina, Tetsuya Ishikawa, Kazuto Yamauchi

2007年10月
Reflective optics for sub-10nm hard X-ray focusing

H. Mimura, S. Matsuyama, H. Yumoto, S. Handa, T. Kimura, Y. Sano, K. Tamasaku, Y. Nishino, M. Yabashi, T. Ishikawa, K. Yamauchi

ADVANCES IN X-RAY/EUV OPTICS AND COMPONENTS II　Vol. 6705　2007年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Novel abrasive-free planarization of Si and SiC using catalyst

Hideyuki Hara, Yasuhisa Sano, Hidekazu Mimura, Kenta Arima, Akihisa Kubota, Keita Yagi, Junji Murata, Kazuto Yamauchi

TOWARDS SYNTHESIS OF MICRO - /NANO - SYSTEMS　No. 5　p. 267-+　2007年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Hard x-ray wavefront measurement and control for hard x-ray nanofocusing

Handa Soichiro, Mimura Hidekazu, Matsuyama Satoshi, Yumoto Hirokatsu, Kimura Takashi, Sano Yasuhisa, Tamasaku Kenji, Nishino Yoshinori, Yabashi Makina, Ishikawa Tetsuya, Yamauchi Kazuto

ADVANCES IN METROLOGY FOR X-RAY AND EUV OPTICS II　Vol. 6704　2007年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Waveoptical simulation for designing and evaluating hard X-ray nanofocusing mirror

H. Mimura, S. Matsuyama, H. Yumoto, S. Handa, A. Shibatani, K. Katagishi, Y. Sano, M. Yabashi, Y. Nishino, K. Tamasaku, T. Ishikawa, K. Yamauchi

2006年8月
Surface Gradient Integrated Profiler for X-ray and EUV Optics-Calibration of the rotational angle error of the rotary encoders-

Yasuo Higashi, Yuichi Takaie, Katsuyoshi Endo, Tatsuya Kume, Kazuhiro Enami, Kazuto Ymauchi, Kazuya Ymamura, Yasuhisa Sano, Kenji Ueno, Yuzo Mori

Ninth International Conference on Synchrotron Radiation Instrumentation　Vol. 879　p. 726-+　2006年6月　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Development of Surface Measurement Technologies for Hard X-ray Nanofocusing Mirror at Osaka University and SPring-8

H. Mimura, H. Yumoto, S. Matsuyama, K. Yamamura, Y. Sano, K. Endo, Y. Mori, M. Yabashi, Y. Nishino, K. Tamasaku, T. Ishikawa, K. Yamauchi

The 3rd International Workshop on Metrology for X-ray Optics　2006年5月
Development of K-B Mirror Manipulator for Hard X-ray Sub-50nm Focusing

Satoshi Matsuyama, Hidekazu Mimura, Hirokatsu Yumoto, Soichiro Handa, Keiko Katagishi, Akihiko Shibatani, Kazuya Yamamura, Yasuhisa Sano, Yoshinori Nishino, Kenji Tamasaku, Makina Yabashi, Tetsuya Ishikawa, Kazuto Yamauchi

International Workshop on Mechanical Engineering Design of Synchrotron Radiation Equipment and Instrumentation 2006　2006年5月
Polishing characteristics of silicon carbide by plasma chemical vaporization machining

Y. Sano, M. Watanabe, K. Yamamura, K. Yamauchi, T. Ishida, K. Arima, A. Kubota, Y. Mori

Proc. ICRP-6/SPP-23　Vol. 45　No. 10　p. 8277-8280　2006年1月　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Ultraprecision finishing process for improving thickness distribution of quartz crystal wafer by utilizing atmospheric pressure plasma

Kazuya Yamamura, Yasuhisa Sano, Yuzo Mori, Masafumi Shibahara

PROCEEDINGS OF THE 2006 IEEE INTERNATIONAL FREQUENCY CONTROL SYMPOSIUM AND EXPOSITION, VOLS 1 AND 2　p. 848-+　2006年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Wave-optical evaluation of interference fringes and wavefront phase in a hard-x-ray beam totally reflected by mirror optics

Kazuto Yamauchi, Kazuya Yamamura, Hidekazu Mimura, Yasuhisa Sano, Akira Saito, Katsuyoshi Endo, Alexei Souvorov, Makina Yabashi, Kenji Tamasaku, Tetsuya Ishikawa, Yuzo Mori

Applied Optics　Vol. 44　No. 32　p. 6927-6932　2005年11月　研究論文（学術雑誌）
Diffraction-limited two-dimensional hard-X-rays focusing in 100nm level using K-B mirror arrangement

S. Matsuyama, H. Mimura, H. Yumoto, K. Yamamura, Y. Sano, K. Endo, Y. Mori, M. Yabashi, K. Tamasaku, Y. Nishino, T. Ishikawa, K. Yamauchi

Review of Scientific Instruments　Vol. 76　No. 8　p. 83114-5　2005年8月　研究論文（学術雑誌）
Development of elliptical kirkpatrick-baez mirrors for hard X-ray nanofocusing

K. Yamauchi, H. Mimura, K. Yamamura, Y. Sano, H. Yumoto, S. Matsuyama, K. Endo, Y. Nishino, K. Tamasaku, M. Yabashi, T. Ishikawa, Y. Mori

Optics InfoBase Conference Papers　2005年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Focusing hard X-rays to sub-50 nm size by elliptically figured: Mirror

Hirokatsu Yumoto, Hidekazu Mimura, Satoshi Matsuyama, Hideyuki Hara, Kazuya Yamamura, Yasuhisa Sano, Kazumasa Ueno, Katsuyoshi Endo, Yuzo Mori, Makina Yabashi, Yoshinori Nishino, Kenji Tamasaku, Tetsuya Ishikawa, Kazuto Yamauchi

Optics InfoBase Conference Papers　2005年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Stitching interferometry for surface figure measurement of X-ray reflective optics

Hidekazu Mimura, Hirokatsu Yumoto, Satoshi Matsuyama, Hideyuki Hara, Kazuya Yamamura, Yasuhisa Sano, Kazumasa Ueno, Katsuyoshi Endo, Yuzo Mori, Makina Yabashi, Yoshinori Nishino, Kenji Tamasaku, Tetsuya Ishikawa, Kazuto Yamauchi

Optics InfoBase Conference Papers　2005年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Hard X-ray nano-focusing at 40nm level using K-B mirror optics for nanoscopy/spectroscopy

Satoshi Matsuyama, Hidekazu Mimura, Hirokatsu Yumoto, Hideyuki Hara, Kazuya Yamamura, Yasuhisa Sano, Katsuyoshi Endo, Yuzo Mori, Yoshinori Nishino, Kenji Tamasaku, Makina Yabashi, Tetsuya Ishikawa, Kazuto Yamauchia

Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering　Vol. 5918　p. 1-8　2005年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Aspheric surface fabrication in nm-level accuracy by numerically controlled plasma chemical vaporization machining (CVM) and elastic emission machining (EEM)

K Yamamura, H Mimura, K Yamauchi, Y Sano, A Saito, T Kinoshita, K Endo, Y Mori, A Souvorov, M Yabashi, K Tamasaku, D Ishikawa

X-RAY MIRRORS, CRYSTALS, AND MULTILAYERS II　Vol. 4782　p. 265-270　2002年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Sub-micron focusing of hard X-ray beam by elliptically figured mirrors for scanning X-ray microscopy

Y Mori, K Yamauchi, K Yamamura, H Mimura, Y Sano, A Saito, K Ueno, K Endo, A Souvorov, M Yabashi, K Tamasaku, T Ishikawa

X-RAY MIRRORS, CRYSTALS, AND MULTILAYERS II　Vol. 4782　p. 58-64　2002年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Computer numerically controlled plasma chemical vaporization machining with a pipe electrode for optical fabrication

Hideo Takino, Norio Shibata, Hiroshi Itoh, Teruki Kobayashi, Hiroaki Tanaka, Masami Ebi, Kazuya Yamamura, Yasuhisa Sano, Yuzo Mori

Applied Optics　Vol. 37　No. 22　p. 5198-5210　1998年8月1日　研究論文（学術雑誌）

MISC 559

大気圧プラズマによる表面処理を利用した常温接合技術の開発

櫛川新太, 西岡柚香, 藤大雪, 山内和人, 佐野泰久

精密工学会関西地方定期学術講演会講演論文集　Vol. 2022　2022年
水素ガスを用いた大気圧プラズマによる窒化ガリウム基板の高能率エッチング

中上元太, 崔泰樹, 藤大雪, 山内和人, 佐野泰久

精密工学会関西地方定期学術講演会講演論文集　Vol. 2022　2022年
紫外光照射を援用した触媒表面基準エッチング法を用いた窒化ガリウム基板の高能率平滑化

萱尾澄人, 藤大雪, 山田純平, 山内和人, 佐野泰久

精密工学会関西地方定期学術講演会講演論文集　Vol. 2022　2022年
触媒表面基準エッチング法を用いた高分子材料表面の高精度平坦化手法-ポリカーボネートの加工特性評価-

竹田広大, 藤大雪, 佐野泰久, 山内和人

精密工学会関西地方定期学術講演会講演論文集　Vol. 2021　2021年
SF₆ガスを用いたサブ大気圧プラズマによるSiC-MOSFETの裏面薄化におけるデバイス性能への影響の調査

大島政明, 中西悠真, 藤大雪, 松山智至, 山内和人, 佐野泰久

精密工学会関西地方定期学術講演会講演論文集　Vol. 2021　2021年
触媒表面基準エッチング法におけるシリコンの除去機構の解明

板垣果歩, 萩原拓, 萱尾清人, VAN PHO Bui, 藤大雪, 佐野泰久, 山内和人

精密工学会関西地方定期学術講演会講演論文集　Vol. 2021　2021年
触媒表面基準エッチング法を用いた粒界段差フリーな超平滑多結晶表面の作製

藤大雪, VAN BUI Pho, 松山智至, 佐野泰久, 山内和人

精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 2021　2021年
完全結晶基板上に成長したFe₃O₄極薄膜金属-絶縁体相転移特性

大坂藍, 服部梓, 田中秀和, 藤大雪, 山内和人, 佐野泰久

日本表面真空学会学術講演会要旨集(Web)　Vol. 2020　2020年
A micro channel-cut crystal X-ray monochromator for a self-seeded hard X-ray free-electron laser

T. Osaka, I. Inoue, R. Kinjo, T. Hirano, Y. Morioka, Y. Sano, K. Yamauchi, M. Yabashi

Journal of Synchrotron Radiation　Vol. 26　No. 5　p. 1496-1502　2019年9月　機関テクニカルレポート，技術報告書，プレプリント等
触媒表面を基準面とする化学研磨法の開発 (特集 SiC研磨技術の現状と新加工法)

佐野泰久, 有馬健太, 山内和人

Abrasive technology : 砥粒加工学会誌 : journal of the Japan Society for Abrasive Technology　Vol. 61　No. 8　p. 426-429　2017年8月
出版者・発行元：砥粒加工学会
触媒表面基準エッチング法における水素水を用いた被毒除去法の提案

中平雄太, 礒橋藍, PHO Bui Van, 稻田辰昭, 藤大雪, 木田英香, 松山智至, 佐野泰久, 山内和人

精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 2017　2017年
光電気化学酸化を利用した触媒表面基準エッチング法による窒化ガリウムの高能率平坦化

木田英香, 藤大雪, 中平雄太, 松山智至, 佐野泰久, 山内和人

精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 2017　2017年
ニッケル触媒を利用した純水ベースの触媒表面基準エッチング法の開発

藤大雪, 礒橋藍, 稻田辰昭, 中平雄太, 木田英香, 松山智至, 佐野泰久, 山内和人

精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 2017　2017年
Pit Formation, Patterning and Flattening of Ge Surfaces in O2-Containing Water by Metal-Assisted Chemical Etching

Tatsuya Kawase, Atsushi Mura, Yusuke Saito, Takeshi Okamoto, Kentaro Kawai, Yasuhisa Sano, Kazuto Yamauchi, Mizuho Morita, Kenta Arima

ECS Transactions　Vol. 75　No. 1　p. 107-112　2016年9月
形状可変ミラーによる二段KBミラー集光光学系を用いた任意サイズ硬X線集光ビームの形成

後藤拓実, 中森紘基, 中森紘基, 松山智至, 木村隆志, KHAKUREL Krishna Prasad, 佐野泰久, 香村芳樹, 西野吉則, 石川哲也, 山内和人

日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム予稿集　Vol. 29th　2016年1月9日
触媒表面基準エッチング法における被毒物除去による加工速度安定化手法の開発

中平雄太, 礒橋藍, VAN Pho Bui, 稻田辰昭, 藤大雪, 松山智至, 佐野泰久, 山内和人

精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 2016　2016年
大気圧プラズマを用いた超精密加工

佐野泰久

機械の研究　Vol. 67　No. 10　p. 832-838　2015年10月
出版者・発行元：養賢堂
WeC-2-5 HIGH-EFFICIENCY PLANARIZATION METHOD FOR HARD-TO-MACHINE SEMICONDUCTOR SUBSTRATES COMBINING MECHANICAL POLISHING AND ATMOSPHERIC-PRESSURE PLASMA ETCHING

Sano Yasuhisa, Shiozawa Kousuke, Doi Toshiro, Kurokawa Syuhei, Aida Hideo, Miyashita Tadakazu, Yamauchi Kazuto

Proceedings of ... JSME-IIP/ASME-ISPS Joint Conference on Micromechatronics for Information and Precision Equipment : IIP/ISPS joint MIPE　Vol. 2015　p. "WeC-2-5-1"-"WeC-2-5-3"　2015年6月14日
出版者・発行元：一般社団法人日本機械学会
硬X線集光用形状可変ミラーによる二段KBミラー集光光学系の開発

後藤拓実, 中森紘基, 松山智至, 木村隆志, Khakurel Krishna, 佐野泰久, 香村芳樹, 石川哲也, 西野吉則, 山内和人

アブストラクト集　Vol. 2015　No. 0　p. 1047-1048　2015年3月
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
形状可変ミラーを用いた二段Kirkpatrick-Baezミラー集光光学系による硬X線集光ビームの形成

後藤拓実, 中森紘基, 松山智至, 木村隆志, Khakurel Krishna, 佐野泰久, 香村芳樹, 西野吉則, 石川哲也, 山内和人

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2015　No. 0　p. 703-704　2015年
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
Behaviors of Carbon Atoms during Plasma Oxidation of 4H-SiC(0001) Surfaces near Room Temperature

Naoki Saito, Daichi Mori, Akito Imafuku, Kentaro Kawai, Yasuhisa Sano, Mizuho Morita, Kenta Arima

ECS Transactions　Vol. 64　No. 17　p. 23-28　2014年10月　記事・総説・解説・論説等（国際会議プロシーディングズ）
硬X線自由電子レーザーシングルナノ集光用Pt/C多層膜の破壊特性評価

金章雨, 長平良綾香, 松山智至, 福井亮介, 西原明彦, 小山貴久, 湯本博勝, 佐野泰久, 大橋治彦, 後藤俊治, 矢橋牧名, 石川哲也, 山内和人

日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム予稿集　Vol. 27th　2014年
二次元位相回折格子を用いたXFELナノビームのシングルショット波面計測

西原明彦, 福井亮介, 松山智至, KIM Jangwoo, 長平良綾香, 湯本博勝, 三村秀和, 小山貴久, 登野健介, 犬伏雄一, 佐藤尭洋, 片山拓也, 富樫格, 矢代航, 佐野泰久, 大橋治彦, 百生敦, 後藤俊治, 矢橋牧名, 石川哲也, 山内和人

精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 2014　2014年
位相回折格子を用いたX線レーザナノビームの波面計測法の研究-フーリエ変換法と縞走査法の2つの解析法の検討-

西原明彦, 松山智至, 金章雨, 長平良綾香, 湯本博勝, 三村秀和, 小山貴久, 登野健介, 犬伏雄一, 佐藤尭洋, 片山拓也, 富樫格, 矢代航, 佐野泰久, 大橋治彦, 百生敦, 後藤俊治, 矢橋牧名, 石川哲也, 山内和人

精密工学会関西地方定期学術講演会講演論文集　Vol. 2014　2014年
チェス盤回折格子を用いたXFELナノビームのシングルショット波面計測

西原明彦, 福井亮介, 松山智至, 金章雨, 長平良綾香, 湯本博勝, 三村秀和, 小山貴久, 登野健介, 犬伏雄一, 佐藤尭洋, 片山拓也, 富樫格, 矢代航, 佐野泰久, 大橋治彦, 百生敦, 後藤俊治, 矢橋牧名, 石川哲也, 山内和人

日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム予稿集　Vol. 27th　2014年
Abrasive-Free Polishing of SiC Wafer Utilizing Catalyst Surface Reaction

Y. Sano, K. Arima, K. Yamauchi

ECS Transactions　Vol. 58　No. 4　p. 447-453　2013年10月
ウエットエッチングによる原子スケール平坦化触媒表面基準エッチング法の開発

山内和人, 佐野泰久, 有馬健太

応用物理学会誌　Vol. 82　No. 5　p. 403-406　2013年5月
出版者・発行元：応用物理学会
Study of Terminated Species on 4H-SiC (0001) Surface Planarized by Catalyst-Referred Etching

P. V. Bui, S. Sadakuni, T. Okamoto, K. Arima, Y. Sano, K. Yamauchi

Materials Science Forum　Vol. 740-724　p. 510-513　2013年1月
半導体SiC基板の新しい研磨技術 : 触媒表面反応を利用した研磨技術の開発(<小特集>話題の材料を活かす加工技術)

八木圭太, 辻村学, 佐野泰久, 山内和人

日本機械学會誌　Vol. 115　No. 1128　p. 767-771　2012年11月5日
出版者・発行元：一般社団法人日本機械学会
触媒表面基準エッチングによる単結晶SiC, GaN表面の平滑化

山内和人, 佐野泰久, 有馬健太

精密工学会誌　Vol. 78　No. 11　p. 947-951　2012年11月
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
Study on Reactive Species in Catalyst-Referred Etching of 4H-SiC using Platinum and Hydrofluoric Acid

Ai Isohashi, Yasuhisa Sano, Takeshi Okamoto, Kazuma Tachibana, Kenta Arima, Koji Inagaki, Keita Yagi, Shun Sadakuni, Yoshitada Morikawa, Kazuto Yamauchi

Materials Science Forum　Vol. 740-742　p. 847-850　2012年9月
触媒表面基準エッチングによる単結晶SiC, GaN, ZnO表面の平滑化

山内和人, 佐野泰久, 有馬健太

表面科学 : hyomen kagaku = Journal of the Surface Science Society of Japan　Vol. 33　No. 6　p. 334-338　2012年6月10日
出版者・発行元：日本表面科学会
触媒表面基準エッチングによる単結晶SiC、GaN表面の平滑化 (特集先端部品のための高付価値研磨・切断加工技術)

山内和人, 佐野泰久, 有馬健太

機械技術　Vol. 60　No. 5　p. 37-41　2012年5月
出版者・発行元：日刊工業出版プロダクション
SACLA硬X線自由電子レーザービームラインにおける1μm集光用KBミラー光学系の開発

湯本博勝, 小山貴久, 三村秀和, 八須洋輔, 木村隆志, 横山光, 金章雨, 松山智至, 佐野泰久, 登野健介, 富樫格, 犬伏雄一, 佐藤尭洋, 矢橋牧名, 大橋治彦, 大橋治彦, 大森整, 山内和人, 石川哲也

日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム予稿集　Vol. 25th　2012年
SiC基板表面の原子レベル平坦化

佐野泰久, 有馬健太, 山内和人

光技術コンタクト　Vol. 49　No. 12　p. 22-27　2011年12月
出版者・発行元：日本オプトメカトロニクス協会
Graphene Formation on 4H-SiC(0001) Surface Flattened by Catalyst-Assisted Chemical Etching in HF Solution

Keisuke Nishitani, Hiroki Sakane, Azusa N. Hattori, Takeshi Okamoto, Kentaro Kawai, Junichi Uchikoshi, Yasuhisa Sano, Kazuto Yamauchi, Mizuho Morita, Kenta Arima

ECS Transactions, State-of-the-Art Program on Compound Semiconductors 53 (SOTAPOCS 53)　Vol. 41　No. 6　p. 241-248　2011年10月
Single-nanometer focusing of hard x-rays by Kirkpatrick-Baez mirrors

Kazuto Yamauchi, Hidekazu Mimura, Takashi Kimura, Hirokatsu Yumoto, Soichiro Handa, Satoshi Matsuyama, Kenta Arima, Yasuhisa Sano, Kazuya Yamamura, Koji Inagaki, Hiroki Nakamori, Jangwoo Kim, Kenji Tamasaku, Yoshinori Nishino, Makina Yabashi, Tetsuya Ishikawa

JOURNAL OF PHYSICS: CONDENSED MATTER　Vol. 23　No. 39　p. 394206 1-394206 2　2011年10月
Thinning of 2-inch SiC wafer by plasma chemical vaporization machining using cylindrical rotary electrode

Yasuhisa Sano, Takehiro Kato, Kohei Aida, Kazuya Yamamura, Hidekazu Mimura, Satoshi Matsuyama, Kazuto Yamauchi

Materials Science Forum　Vol. 679-680　p. 481-+　2011年4月
Surface replication with one-nanometer-level smoothness by a nickel electroforming process

MIMURA Hidekazu, MATSUYAMA Satoshi, SANO Yasuhisa, YAMAUCHI Kazuto

International journal of electrical machining　No. 16　p. 21-25　2011年1月1日
硬X線自由電子レーザー用オートコリレータに用いるSi ビームスプリッタの作製・評価

大坂泰斗, 矢橋牧名, 佐野泰久, 登野健介, 犬伏雄一, 佐藤尭洋, 三村秀和, 松山智至, 石川哲也, 山内和人

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2011　No. 0　p. 511-512　2011年
出版者・発行元：The Japan Society for Precision Engineering
シャドウマスクを用いたPCVM(Plasma Chemical Vaporization Machining)によるSiC 基板の切断加工の検討

西川央明, 佐野泰久, 会田浩平, 山村和也, 松山智至, 山内和人

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2011　No. 0　p. 509-510　2011年
出版者・発行元：The Japan Society for Precision Engineering
多層膜ミラーによる硬X線Sub-10nm集光と顕微鏡への応用

三村秀和, 木村隆志, 横山光, 今井将太, 湯本博勝, 松山智至, 佐野泰久, 石川哲也, 山内和人

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2011　No. 0　p. 491-492　2011年
SiC 基板表面の原子レベル平坦化技術（キーノートスピーチ）

佐野泰久, 有馬健太, 山内和人

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2011　No. 0　p. 373-374　2011年
色収差のない結像型硬X線顕微鏡構築のためのAdvanced Kirkpatrick-Baez ミラー光学系の開発

木谷直隆, 松山智至, 脇岡敏之, 中森紘基, 三村秀和, 木村隆志, 佐野泰久, 西野吉則, 玉作賢治, 香村芳樹, 矢橋牧名, 石川哲也, 山内和人

第24回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム　Vol. 24th　2011年1月
波動光学シミュレーションを用いたAdvanced Kirkpatrick-Baez ミラー光学系の検討

中森紘基, 松山智至, 脇岡敏之, 木谷直隆, 三村秀和, 佐野泰久, 西野吉則, 香村芳樹, 玉作賢治, 矢橋牧名, 石川哲也, 山内和人

第24回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム　Vol. 24th　2011年1月
Thinning of 2-inch SiC Wafer by Plasma Chemical Vaporization Machining Using Cylindrical Rotary Electrode

Yasuhisa Sano, Takehiro Kato, Kohei Aida, Kazuya Yamamura, Hidekazu Mimura, Satoshi Matsuyama, Kazuto Yamauchi

SILICON CARBIDE AND RELATED MATERIALS 2010　Vol. 679-680　p. 481-+　2011年
Wavefield characterization of nearly diffraction-limited focused hard x-ray beam with size less than 10 nm

Takashi Kimura, Hidekazu Mimura, Soichiro Handa, Hirokatsu Yumoto, Hikaru Yokoyama, Shota Imai, Satoshi Matsuyama, Yasuhisa Sano, Kenji Tamasaku, Yoshiki Komura, Yoshinori Nishino, Makina Yabashi, Tetsuya Ishikawa, Kazuto Yamauchi

Review of Science Instruments　Vol. 81　No. 12　2010年12月
Wavefield characterization of nearly diffraction-limited focused hard x-ray beam with size less than 10 nm

Takashi Kimura, Hidekazu Mimura, Soichiro Handa, Hirokatsu Yumoto, Hikaru Yokoyama, Shota Imai, Satoshi Matsuyama, Yasuhisa Sano, Kenji Tamasaku, Yoshiki Komura, Yoshinori Nishino, Makina Yabashi, Tetsuya Ishikawa, Kazuto Yamauchi

REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS　Vol. 81　No. 12　2010年12月
Development of Side-By-Side Kirkpatrick-Baez mirror for high-density X-ray nanobeam

T. Wakioka, S. Matsuyama, N. Kidani, H. Mimura, Y. Sano, K. Yamauchi

Extended Abstracts of Third International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology　Vol. pp70-71 (P-06)　2010年11月
Thinning of SiC Wafer by Plasma Chemical Vaporization Machining

K. Aida, Y. Sano, H. Nishikawa, K. Yamamura, H. Mimura, S. Matsuyama, K. Yamauchi

Extended Abstracts of Third International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology, P-66, 190-191.　Vol. P-66, 190-191.　2010年11月
Development of Chemical Processing Methods for Silicon Carbide Wafering and Device Processing

Y. Sano, K. Yamamura, K. Arima, K. Yamauchi

Extended Abstracts of Third International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology, 6.2, 54-55.　Vol. 6.2, 54-55.　2010年11月
超平坦化加工を施した4H-SiC(0001)表面 : 高品質グラフェン作製への応用

服部梓, 岡本武志, 定國峻, 村田順二, 有馬健太, 佐野泰久, 遠藤勝義, 山内和人

表面科学 : hyomen kagaku = Journal of the Surface Science Society of Japan　Vol. 31　No. 9　p. 466-473　2010年9月10日
出版者・発行元：The Surface Science Society of Japan
Numerically Controlled Sacrificial Plasma Oxidation Using Array-Type Electrode toward High-Throughput Deterministic Machining

Yasuhisa Sano, Keinosuke Yoshinaga, Shohei Kamisaka, Hidekazu Mimura, Satoshi Matsuyama, Kazuto Yamauchi

Proceedings of the 2nd International Conference on Nanomanufacturing　Vol. 169　2010年9月
Development of a one-dimensional Wolter mirror for an advanced Kirkpatrick-Baez mirror

S. Matsuyama, T. Wakioka, H. Mimura, T. Kimura, N. Kidani, Y. Sano, Y. Nishino, K. Tamasaku, M. Yabashi, T. Ishikawa, K. Yamauchi

Proc. SPIE　Vol. 7802　2010年9月
24aPS-73 4H-SiC(0001)上のグラフェン形成過程の追跡と層分解構造解析(24aPS 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))

松井公佑, 松井文彦, 橋本美絵, 後藤謙太郎, 西嘉山徳之, 前島尚行, 田中攻, 松下智裕, 加藤有香子, 岡本武志, 服部梓, 佐野泰久, 山内和人, 大門寛

日本物理学会講演概要集　Vol. 65　No. 2　p. 855-855　2010年8月18日
出版者・発行元：The Physical Society of Japan (JPS)
Improvement of Thickness Uniformity of Silicon on Insulator Layer by Numerically Controlled Sacrificial Oxidation Using Atmospheric-Pressure Plasma with Electrode Array System

Shohei Kamisaka, Keinosuke Yoshinaga, Yasuhisa Sano, Hidekazu Mimura, Satoshi Matsuyama, Kazuto Yamauchi

Japanese Journal of Applied Physics　Vol. 49　No. 8　2010年8月
Beveling of Silicon Carbide Wafer by Plasma Etching Using Atmospheric-Pressure Plasma

Yasuhisa Sano, Takehiro Kato, Kazuya Yamamura, Hidekazu Mimura, Satoshi Matsuyama, Kazuto Yamauchi

Japanese Journal of Applied Physics　Vol. 49　No. 8　2010年8月
Dicing of SiC wafer by atmospheric-pressure plasma etching process with wire electrode

Yasuhisa Sano, Kohei Aida, Kazuya Yamamura, Hidekazu Mimura, Satoshi Matsuyama, Kazuto Yamauchi

2010年8月
Hard X-ray Imaging Optics with Elliptical mirrors and Hyperbolic Mirrors

S. Matsuyama, T. Wakioka, H. Mimura, T. Kimura, N. Kidani, Y. Sano, Y. Nishino, K. Tamasaku, M. Yabashi, T. Ishikawa, K. Yamauchi

SPIE Optics+Photonics, Technical Program　Vol. p191, 7802-01　2010年8月
Removal characteristics of plasma chemical vaporization machining with a pipe electrode for optical fabrication

Hideo Takino, Kazuya Yamamura, Yasuhisa Sano, Yuzo Mori

APPLIED OPTICS　Vol. 49　No. 23　p. 4434-4440　2010年8月
High-resolution TEM observation of SiC surface flattened by catalyst referred etching

S. Sadakuni, N. X. Dai, Y. Sano, K. Arima, A. N. Hattori, K. Yagi, J. Murata, T. Okamoto, K. Tachibana, K. Yamauchi

Abstract Booklet of the 8th European Conference on Silicon Carbide and Related Materials　Vol. TP-158　2010年8月
Abrasive-free planarization of 3-inch 4H-SiC substrate by catalyst-referred etching

T. Okamoto, Y. Sano, K. Tachibana, K. Arima, A. N. Hattori, K. Yagi, J. Murata, S. Sadakuni, K. Yamauchi

Abstract Booklet of the 8th European Conference on Silicon Carbide and Related Materials　Vol. TP-160　2010年8月
Thinning of 2-inch SiC wafer by plasma chemical vaporization machining

Y. Sano, T. Kato, K. Yamamura, H. Mimura, S. Matsuyama, K. Yamauchi

Abstract Booklet of the 8th European Conference on Silicon Carbide and Related Materials　Vol. TP-155　2010年8月
Improvement of Thickness Uniformity of Silicon on Insulator Layer by Numerically Controlled Sacrificial Oxidation Using Atmospheric-Pressure Plasma with Electrode Array System

Shohei Kamisaka, Keinosuke Yoshinaga, Yasuhisa Sano, Hidekazu Mimura, Satoshi Matsuyama, Kazuto Yamauchi

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS　Vol. 49　No. 8　2010年8月
Removal characteristics of plasma chemical vaporization machining with a pipe electrode for optical fabrication

Hideo Takino, Kazuya Yamamura, Yasuhisa Sano, Yuzo Mori

Appl. Opt. 49 (2010) 4434-4440.　Vol. 49　No. 23　p. 4434-4440　2010年8月
Beveling of Silicon Carbide Wafer by Plasma Etching Using Atmospheric-Pressure Plasma

Yasuhisa Sano, Takehiro Kato, Kazuya Yamamura, Hidekazu Mimura, Satoshi Matsuyama, Kazuto Yamauchi

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS　Vol. 49　No. 8　2010年8月
大気圧プラズマによるエッチングを応用した種々の加工法とその特性

佐野泰久, 山村和也, 山内和人

光技術コンタクト　Vol. 第48巻第6号　2010年6月
触媒表面を基準面とする化学研磨法の開発

佐野泰久, 有馬健太, 山内和人, サノヤスヒサ, アリマケンタ, ヤマウチカズト

大阪大学低温センターだより　Vol. 150　p. 22-27　2010年4月
出版者・発行元：大阪大学低温センター
硬X線ナノ集光ビーム用波面誤差算出法の開発

木村隆志, 三村秀和, 半田宗一郎, 湯本博勝, 山川大輔, 松山智至, 佐野泰久, 玉作賢治, 西野吉則, 矢橋牧名, 石川哲也, 山内和人

放射光　Vol. 23　No. 2　p. 119-121　2010年3月31日
出版者・発行元：日本放射光学会
22pGQ-6 超平坦化加工した4H-SiC(0001)表面上のグラフェン(22pGQ 表面界面構造,領域9(表面・界面,結晶成長))

服部梓, 岡本武志, 定国峻, 村田順二, 有馬健太, 佐野泰久, 遠藤勝義, 山内和人

日本物理学会講演概要集　Vol. 65　No. 1　p. 957-957　2010年3月1日
出版者・発行元：The Physical Society of Japan (JPS)
21pPSA-27 4H-SiC(0001)表面上のグラフェン形成過程の組成・構造解析(21pPSA 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))

松井公佑, 松井文彦, 橋本美絵, 後藤謙太郎, 西嘉山徳之, 前島尚行, 田中攻, 松下智裕, 加藤有香子, 岡本武志, 服部梓, 佐野泰久, 山内和人, 大門寛

日本物理学会講演概要集　Vol. 65　No. 1　p. 949-949　2010年3月1日
出版者・発行元：The Physical Society of Japan (JPS)
Influence of the UV Light Intensity on the Photoelectrochemical Planarization Technique for Gallium Nitride

Shun Sadakuni, Junji Murata, Keita Yagi, Yasuhisa Sano, Kenta Arima, Azusa Hattori, Takeshi Okamoto, Kazuto Yamauchi

Materials Science Forum　Vol. 645-648　p. 795-+　2010年3月
原子レベルで平坦な表面の創成技術

佐野泰久, 原英之, 有馬健太, 山内和人

トライボロジスト　Vol. 55　No. 3　p. 148-153　2010年3月
Reduction of surface roughness of 4H-SiC by catalyst-referred etching

T. Okamoto, Y. Sano, H. Hara, T. Hatayama, K. Arima, K. Yagi, J. Murata, S. Sadakuni, K. Tachibana, Y. Shirasawa, H. Mimura, T. Fuyuki, K. Yamauchi

Materials Science Forum　Vol. 645-648　p. 775-+　2010年3月
Breaking the 10nm barrier in hard-X-ray focusing

H. Mimura, S. Handa, T. Kimura, H. Yumoto, D. Yamakawa, H. Yokoyama, S. Matsuyama, K. Inagaki, K. Yamamura, Y. Sano, K. Tamasaku, Y. Nishino, M. Yabashi, T. Ishikawa, K. Yamauchi

Nature Physics　Vol. 6　No. 2　p. 122-125　2010年2月
X線ミラー用ナノ精度表面創成法の開発-形状修正加工の高分解能化とX線集光ミラーへの適応-

三村秀和, 三村秀和, 湯本博勝, 松山智至, 佐野泰久, 山内和人, 山内和人

精密工学会誌(CD-ROM)　Vol. 76　No. 3　2010年
PCVM (Plasma Chemical Vaporization Machining)を用いた2インチSiC基板の全面加工

会田浩平, 佐野泰久, 西川央明, 山村和也, 三村秀和, 松山智至, 山内和人

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2010　No. 0　p. 735-736　2010年
多層膜ミラーによるSub-10nm硬Ｘ線集光システムの開発

三村秀和, 木村隆志, 横山光, 今井将太, 湯本博勝, 松山智至, 佐野泰久, 石川哲也, 山内和人

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2010　No. 0　p. 715-716　2010年
出版者・発行元：The Japan Society for Precision Engineering
数値制御大気圧プラズマ犠牲酸化法の開発:多電極型プラズマ発生装置の試作と評価

吉永圭之介, 上坂翔平, 佐野泰久, 三村秀和, 松山智至, 山内和人

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2010　No. 0　p. 309-310　2010年
出版者・発行元：The Japan Society for Precision Engineering
多孔質裏打ち電鋳法によるナノ精度表面形状転写プロセスの構築

三村秀和, 石倉寛之, 松山智至, 佐野泰久, 山内和人

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2010　No. 0　p. 305-306　2010年
出版者・発行元：The Japan Society for Precision Engineering
硬Ｘ線ミラー用多層膜の作製と評価

横山光, 半田宗一郎, 三村秀和, 木村隆志, 松山智至, 佐野泰久, 山内和人

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2010　No. 0　p. 287-288　2010年
出版者・発行元：The Japan Society for Precision Engineering
結像型X線顕微鏡のための4枚ミラー反射型結像光学系の開発

松山智至, 藤井正輝, 脇岡敏之, 木谷直隆, 三村秀和, 佐野泰久, 西野吉則, 玉作賢治, 矢橋牧名, 石川哲也, 山内和人

第23回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム　Vol. 23rd　2010年1月
Development of a one-dimensional Wolter mirror for an advanced Kirkpatrick-Baez mirror

S. Matsuyama, T. Wakioka, H. Mimura, T. Kimura, N. Kidani, Y. Sano, Y. Nishino, K. Tamasaku, M. Yabashi, T. Ishikawa, K. Yamauchi

ADVANCES IN X-RAY/EUV OPTICS AND COMPONENTS V　Vol. 7802　2010年
Crystal Growth Technology (Chapter 18; Crystal Machining Using Atmospheric Pressure Plasma)

WILEY-VCH　2010年
Thinning of SiC wafer by plasma chemical vaporization machining

Yasuhisa Sano, Takehiro Kato, Tsutomu Hori, Kazuya Yamamura, Hidekazu Mimura, Yoshiaki Katsuyama, Kazuto Yamauchi

Material Science Forum, 645-648 (2010) 857-860.　Vol. 645-648　p. 857-860　2010年1月
出版者・発行元：Trans Tech Publications Ltd
原子レベルで平坦な表面の創成技術

トライボロジスト　Vol. Vol. 55, No.3, pp. 148-153　2010年
Reduction of surface roughness of 4H-SiC by catalyst-referred etching

T. Okamoto, Y. Sano, H. Hara, T. Hatayama, K. Arima, K. Yagi, J. Murata, S. Sadakuni, K. Tachibana, Y. Shirasawa, H. Mimura, T. Fuyuki, K. Yamauchi

SILICON CARBIDE AND RELATED MATERIALS 2009, PTS 1 AND 2　Vol. 645-648　p. 775-+　2010年
大気圧プラズマによるエッチングを応用した種々の加工法とその特性

佐野泰久, 山村和也, 山内和人

光技術コンタクト　Vol. 第48巻第6号　No. 6　p. 260-265　2010年
出版者・発行元：日本オプトメカトロニクス協会
High-resolution TEM observation of SiC surface flattened by catalyst referred etching

Abstract Booklet of the 8th European Conference on Silicon Carbide and Related Materials　Vol. TP-158　2010年
Dicing of SiC wafer by atmospheric-pressure plasma etching process with wire electrode

2010年
Abrasive-free planarization of 3-inch 4H-SiC substrate by catalyst-referred etching

Abstract Booklet of the 8th European Conference on Silicon Carbide and Related Materials　Vol. TP-160　2010年
Hard X-ray Imaging Optics with Elliptical mirrors and Hyperbolic Mirrors

SPIE Optics+Photonics, Technical Program　Vol. p191, 7802-01　2010年
Thinning of 2-inch SiC wafer by plasma chemical vaporization machining

Abstract Booklet of the 8th European Conference on Silicon Carbide and Related Materials　Vol. TP-155　2010年
Numerically Controlled Sacrificial Plasma Oxidation Using Array-Type Electrode toward High-Throughput Deterministic Machining

Proceedings of the 2nd International Conference on Nanomanufacturing　Vol. 169　2010年
Crystal Growth Technology (Chapter 18; Crystal Machining Using Atmospheric Pressure Plasma)

WILEY-VCH　2010年
Development of Side-By-Side Kirkpatrick-Baez mirror for high-density X-ray nanobeam

Extended Abstracts of Third International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology　Vol. pp70-71 (P-06)　2010年
Thinning of SiC Wafer by Plasma Chemical Vaporization Machining

Extended Abstracts of Third International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology, P-66, 190-191.　Vol. P-66, 190-191.　2010年
Development of Chemical Processing Methods for Silicon Carbide Wafering and Device Processing

Extended Abstracts of Third International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology, 6.2, 54-55.　Vol. 6.2, 54-55.　2010年
Thinning of SiC wafer by plasma chemical vaporization machining

Yasuhisa Sano, Takehiro Kato, Tsutomu Hori, Kazuya Yamamura, Hidekazu Mimura, Yoshiaki Katsuyama, Kazuto Yamauchi

SILICON CARBIDE AND RELATED MATERIALS 2009, PTS 1 AND 2　Vol. 645-648　p. 857-+　2010年
Influence of the UV Light Intensity on the Photoelectrochemical Planarization Technique for Gallium Nitride

Shun Sadakuni, Junji Murata, Keita Yagi, Yasuhisa Sano, Kenta Arima, Azusa Hattori, Takeshi Okamoto, Kazuto Yamauchi

SILICON CARBIDE AND RELATED MATERIALS 2009, PTS 1 AND 2　Vol. 645-648　p. 795-+　2010年
Dicing of SiC Wafer by Plasma Chemical Vaporization Machining with Wire Electrode

K. Aida, Y. Sano, K. Yamamura, H. Mimura, S. Matsuyama, K. Yamauchi

Second International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology　Vol. pp. 188-189.　2009年11月
Development of Achromatic X-ray Imaging System with 4 Aspherical Mirrors

S. Matsuyama, M. Fujii, T. Wakioka, H. Mimura, Y. Sano, Y. Nishino, M. Yabashi, K. Tamasaku, T. Ishikawa, K. Yamauchi

Extended Abstracts of Second International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology　Vol. p166-167　2009年11月
Development of a Mirror Manipulator for Advanced Kirkpatrick-Baez Optics

M. Fujii, S. Matsuyama, T. Wakioka, H. Mimura, Y. Sano, Y. Nishino, M. Yabashi, K. Tamasaku, T. Ishikawa, K. Yamauchi

Extended Abstracts of Second International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology　Vol. p162-163　2009年11月
Planarization of GaN using photoelectrochemical process and solid catalyst

S. Sadakuni, J. Murata, K. Yagi, Y. Sano, T. Okamoto, K. Arima, H. Mimura, K. Yamauchi

Technical Digest of International Conference on Silicon Carbide and Related Materials 2009　Vol. I-160　2009年10月
Thinning of SiC wafer by plasma chemical vaporization machining

Y. Sano, T. Kato, T. Hori, K. Yamamura, H. Mimura, Y. Katsuyama, K. Yamauchi

Technical Digest of International Conference on Silicon Carbide and Related Materials 2009　Vol. II-108　2009年10月
Reduction of surface roughness by catalyst-referred etching

T. Okamoto, Y. Sano, H. Hara, T. Hatayama, K. Arima, K. Yagi, J. Murata, H. Mimura, T. Fuyuki, K. Yamauchi

Technical Digest of International Conference on Silicon Carbide and Related Materials 2009　Vol. I-156　2009年10月
高密度X線ナノビーム形成のための並列型Kirkpatrick-Baezミラー光学系の開発

脇岡敏之, 松山智至, 藤井正輝, 三村秀和, 佐野泰久, 山内和人

精密工学会秋季大会プログラム＆アブストラクト集　Vol. p51, D33　2009年9月
Improvement of Thickness Uniformity of SOI Layer by Numerically Controlled Sacrificial Oxidation using Atmospheric-Pressure Plasma with Electrode Array System

S. Kamisaka, Y. Sano, H. Mimura, S. Matsuyama, K. Yamauchi

Proceedings of 31st International Symposium on Dry Process　Vol. 217-218　2009年9月
Beveling of Silicon Carbide Wafer by Plasma Etching Using Atmospheric-Pressure Plasma

Y. Sano, T. Kato, K. Yamamura, H. Mimura, S. Matsuyama, K. Yamauchi

Proceedings of 31st International Symposium on Dry Process　Vol. 215-216　2009年9月
Novel Scheme of Figure-Error Correction for X-ray Nanofocusing Mirror

Soichiro Handa, Hidekazu Mimura, Hirokatsu Yumoto, Takashi Kimura, Satoshi Matsuyama, Yasuhisa Sano, Kazuya Yamamura, Kenji Tamasaku, Yoshinori Nishino, Makina Yabashi, Tetsuya Ishikawa, Kazuto Yamauchi

Japanese Journal of Applied Physics, 48 (2009) 096507-1_4.　Vol. 48　No. 9　2009年9月
触媒基準エッチング法(CAtalyst Referred Ething: CARE)の開発--SiC, GaN基板加工への応用 (特集グリーンエネルギー時代を支える先進加工技術とその課題)

山内和人, 佐野泰久, 有馬健太

機械と工具　Vol. 53　No. 8　p. 20-24　2009年8月
出版者・発行元：工業調査会
Termination dependence of surface stacking at 4H-SiC(0001)-1×1: Density functional theory calculations

Hideyuki Hara, Yoshitada Morikawa, Yasuhisa Sano, Kazuto Yamauchi

Physical Review B　Vol. 79　No. 15　2009年4月
Etching of GaN by plasma chemical vaporization machining

Yasuji Nakahama, Norio Kanetsuki, Takeshi Funaki, Masaru Kadono, Yasuhisa Sano, Kazuya Yamamura, Katsuyoshi Endo, Yuzo Mori

2009年3月
Development of Advanced Kirkpatrick -Baez System for X- ray Nano- Imaging

M. Fujii, S. Matsuyama, T. Wakioka, H. Mimura, Y. Sano, K. Yamauchi

Extended Abstracts of First International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology -Surface and Thin Film Processing　Vol. p78-79　2009年2月
A Study on a Surface Preparation Method for Single-Crystal SiC Using an Fe Catalyst

AKIHIASA KUBOTA, KEITA YAGI, JUNJI MURATA, HEIJI YASUI, SHIRO MIYAMOTO, HIDEYUKI HARA, YASUHISA SANO, KAZUTO YAMAUCHI

Journal of ELECTRONIC MATERIALS　Vol. 38　No. 1　p. 159-163　2009年2月
Beveling of Silison Carbide Wafer by Plasma Chemical Vaporization Machining

Takehiro Kato, Yasuhisa Sano, Hideyuki Hara, Hidekazu Mimura, Kazuya Yamamura, Kazuto Yamauchi

Materials Science Forum　Vol. Vols. 600-603, pp 843-846　2009年2月
Temperature Dependence of Plasma Chemical Vaporization Machining of Silicon and Silicon Carbide

Yasuhisa Sano, Masayo Watanabe, Takehiro Kato, Kazuya Yamamura, Hidekazu Mimura, Kazuto Yamauchi

Materials Science Forum　Vol. Vols. 600-603, pp 847-850　2009年2月
Damage-free Planarization of 2-inch 4H-SiC Wafer Using Pt Catalyst Plate and HF Solution

Takeshi Okamoto, Yasuhisa Sano, Hideyuki Hara, Kenta Arima, Keita Yagi, Junji Murata, Hedekazu Mimura, Kazuto Yamauchi

Materials Science Forum　Vol. 600-603　p. 835-+　2009年2月
多孔質裏打ち電鋳法によるナノ精度表面形状転写プロセスの構築

三村秀和, 石倉寛之, 松山智至, 佐野泰久, 山内和人

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2009　No. 0　p. 263-264　2009年
出版者・発行元：The Japan Society for Precision Engineering
触媒基準エッチング法による4H-SiCの加工（第5報）:加工原理の考察

原英之, 佐野泰久, 森川良忠, 岡本武志, 八木圭太, 村田順二, 定国峻, 有馬健太, 山内和人

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2009　No. 0　p. 1011-1012　2009年
出版者・発行元：The Japan Society for Precision Engineering
多孔質裏打ち電鋳法によるナノ精度表面転写法の開発:減圧電析法の検討とミラーへの応用

石倉寛之, 三村秀和, 松山智至, 佐野泰久, 山内和人

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2009　No. 0　p. 181-182　2009年
出版者・発行元：The Japan Society for Precision Engineering
ショットキーバリアダイオードの特性評価によるGaN基板表面の評価

白沢佑樹, 佐野泰久, 村田順二, 山内和人

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2009　No. 0　p. 175-176　2009年
出版者・発行元：The Japan Society for Precision Engineering
Pt/C多層膜集光ミラーによる硬X線Sub-10nm集光

半田宗一郎, 木村隆志, 山川大輔, 湯本博勝, 三村秀和, 松山智至, 佐野泰久, 石川哲也, 山内和人

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2009　No. 0　p. 149-150　2009年
出版者・発行元：The Japan Society for Precision Engineering
硬X線用高精度波面制御システムの開発

木村隆志, 半田宗一郎, 山川大輔, 湯本博勝, 三村秀和, 松山智至, 佐野泰久, 石川哲也, 山内和人

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2009　No. 0　p. 147-148　2009年
硬X線ナノ集光楕円筒面ミラーのための相対角度決定型スティッチング干渉法に基づく表面形状計測法の開発

湯本博勝, 三村秀和, 半田宗一郎, 木村隆志, 松山智至, 佐野泰久, 大橋治彦, 石川哲也, 山内和人

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2009　No. 0　p. 143-144　2009年
出版者・発行元：The Japan Society for Precision Engineering
硬X線微小集光用多層膜ミラーの開発

半田宗一郎, 木村隆志, 三村秀和, 湯本博勝, 松山智至, 佐野泰久, 玉作賢治, 西野吉則, 矢橋牧名, 石川哲也, 山内和人

日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム予稿集　Vol. 22nd　2009年
硬X線ナノビーム用波面補正ミラーの開発

木村隆志, 半田宗一郎, 三村秀和, 湯本秀和, 山川大輔, 松山智至, 佐野泰久, 玉作賢治, 西野吉則, 矢橋牧名, 石川哲也, 山内和人

日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム予稿集　Vol. 22nd　2009年
フレネルミラーを用いたX線の可干渉性の評価

山川大輔, 三村秀和, 木村隆志, 松山智至, 佐野泰久, 玉作賢治, 西野吉則, 矢橋牧名, 石川哲也, 山内和人

日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム予稿集　Vol. 22nd　2009年
高度好熱菌丸ごと一匹プロジェクト走査型X線顕微鏡を用いた細胞イメージング

松山智至, 志村まり, 藤井正輝, 脇岡敏之, 三村秀和, 佐野泰久, 矢橋牧名, 西野吉則, 玉作賢治, 石川哲也, 山内和人

高度好熱菌丸ごと一匹プロジェクト第8回連携研究会理研シンポジウム平成21年　p. 9-10　2009年
Advanced Kirkpatrick-Baez ミラー光学系の開発

藤井正輝, 松山智至, 三村秀和, 脇岡敏之, 半田宗一郎, 木村隆志, 佐野泰久, 西野吉則, 玉作賢治, 矢橋牧名, 石川哲也, 山内和人

第22回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム　Vol. 23　No. 2　p. 118-119　2009年1月
Novel scheme of figure-error correction for X-ray nanofocusing mirror

Soichiro Handa, Hidekazu Mimura, Hirokatsu Yumoto, Takashi Kimura, Satoshi Matsuyama, Yasuhisa Sano, Kazuya Yamamura, Kenji Tamasaku, Yoshinori Nishino, Makina Yabashi, Tetsuya Ishikawa, Kazuto Yamauchi

Japanese Journal of Applied Physics　Vol. 48　No. 9　p. 0965071-0965074　2009年
次世代パワー半導体－省エネルギー社会に向けたデバイス開発の最前線－第1章第1節2 PCVMを用いたSiC基板の薄化

(株)エヌ・ティー・エス　2009年
大気圧プラズマ基礎と応用 6.7.5 マイクロ／ナノ加工日本学術振興会プラズマ材料科学第153委員会

オーム社　2009年
Temperature Dependence of Plasma Chemical Vaporization Machining of Silicon and Silicon Carbide

Yasuhisa Sano, Masayo Watanabe, Takehiro Kato, Kazuya Yamamura, Hidekazu Mimura, Kazuto Yamauchi

SILICON CARBIDE AND RELATED MATERIALS 2007, PTS 1 AND 2　Vol. 600-603　p. 847-+　2009年
Beveling of Silison Carbide Wafer by Plasma Chemical Vaporization Machining

Materials Science Forum　Vol. Vols. 600-603, pp 843-846　2009年
Damage-free Planarization of 2-inch 4H-SiC Wafer Using Pt Catalyst Plate and HF Solution

Takeshi Okamoto, Yasuhisa Sano, Hideyuki Hara, Kenta Arima, Keita Yagi, Junji Murata, Hidekazu Mimura, Kazuto Yamauchi

SILICON CARBIDE AND RELATED MATERIALS 2007, PTS 1 AND 2　Vol. 600-603　p. 835-+　2009年
Development of Advanced Kirkpatrick-Baez System for Hard X-ray Nano-Imaging

Extended abstracts of international workshop on X-ray mirror design, fabrication and metrology　Vol. p78-79　2009年
Improvement of Thickness Uniformity of SOI Layer by Numerically Controlled Sacrificial Oxidation using Atmospheric-Pressure Plasma with Electrode Array System

Proceedings of 31st International Symposium on Dry Process　Vol. 217-218　2009年
Beveling of Silicon Carbide Wafer by Plasma Etching Using Atmospheric-Pressure Plasma

Proceedings of 31st International Symposium on Dry Process　Vol. 215-216　2009年
Planarization of GaN using photoelectrochemical process and solid catalyst

Technical Digest of International Conference on Silicon Carbide and Related Materials 2009　Vol. I-160　2009年
Thinning of SiC wafer by plasma chemical vaporization machining

Technical Digest of International Conference on Silicon Carbide and Related Materials 2009　Vol. II-108　2009年
Reduction of surface roughness by catalyst-referred etching

Technical Digest of International Conference on Silicon Carbide and Related Materials 2009　Vol. I-156　2009年
Dicing of SiC Wafer by Plasma Chemical Vaporization Machining with Wire Electrode

Second International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology　Vol. pp. 188-189.　2009年
Development of Achromatic X-ray Imaging System with 4 Aspherical Mirrors

Extended Abstracts of Second International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology　Vol. p166-167　2009年
Development of a Mirror Manipulator for Advanced Kirkpatrick-Baez Optics

Extended Abstracts of Second International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology　Vol. p162-163　2009年
New chemical planarization of SiC and GaN using an Fe plate in H2O2 solution

J. Murata, A. Kubota, K. Yagi, Y. Sano, H. Hara, K. Arima, T. Okamoto, H. Mimura, K. Yamauchi

SILICON CARBIDE AND RELATED MATERIALS 2007, PTS 1 AND 2　Vol. 600-603　p. 815-+　2009年
Etching of GaN by plasma chemical vaporization machining

2009年
Etching characteristics of GaN by plasma chemical vaporization machining

Yasuji Nakahama, Norio Kanetsuki, Takeshi Funaki, Masaru Kadono, Yasuhisa Sano, Kazuya Yamamura, Katsuyoshi Endo

Surf. Interface Anal.　Vol. 40　No. 12　p. 1566-1570　2008年12月
Etching characteristics of GaN by plasma chemical vaporization machining

Yasuji Nakahama, Norio Kanetsuki, Takeshi Funaki, Masaru Kadono, Yasuhisa Sano, Kazuya Yamamura, Katsuyoshi Endo, Yuzo Mori

SURFACE AND INTERFACE ANALYSIS　Vol. 40　No. 12　p. 1566-1570　2008年12月
Plasma Chemical Vaporization Machining and Elastic Emission Machining

Yasuhisa Sano, Kazuya Yamamura, Hidekazu Mimura, Kazuto Yamauchi, Yuzo Mori

Crystal Growth Technology: From Fundamentals and Simulation to Large-scale Production　Vol. Chapter 19, Plasma Chemical Vaporization Machining and Elastic Emission Machining　p. 475-495　2008年11月25日
出版者・発行元：Wiley-VCH Verlag GmbH & Co. KGaA
Improvement of Thickness Uniformity of SOI by Numerically Controlled Sacrificial Oxidation Using Atmospheric-Pressure Plasma

Y. Sano, T. Masuda, S. Kamisaka, H. Mimura, S. Matsuyama, K. Yamauchi

2008 IEEE International SOI Conference Proceedings　Vol. 165-166　p. 165-166　2008年10月
Trace element mapping using a high-resolution scanning X-ray fluorescence microscope equipped with a Kirkpatrick-Baez mirror system

S. Matsuyama, H. Mimura, K. Katagishi, H. Yumoto, S. Handa, M. Fujii, Y. Sano, M. Shimura, M. Yabashi, Y. Nishino, K. Tamasaku, T. Ishikawa, K. Yamauchi

SURFACE AND INTERFACE ANALYSIS　Vol. 40　No. 6-7　p. 1042-1045　2008年6月
Catalyst-referred etching

K. Yamauchi, Y. Sano, K. Arima, H. Hara

Book of Lecture Notes, 4th International Workshop on Crystal Growth Technology　Vol. 87　2008年5月
Crystal machining using atmospheric pressure plasma

Y. Sano, K. Yamamura, K. Yamauchi, Y. Mori

Book of Lecture Notes, 4th International Workshop on Crystal Growth Technology　Vol. 47　2008年5月
Ultraprecision finishing technique by numerically controlled sacrificial oxidation

Yasuhisa Sano, Takaya Masuda, Hidekazu Mimura, Kazuto Yamauchi

Journal of Crystal Growth　Vol. 310　No. 7-9　p. 2173-2177　2008年4月
Chemical planarization of GaN using hydroxyl radicals generated on a catalyst plate in H2O2 solution

J. Murata, A. Kubota, K. Yagi, Y. Sano, H. Hara, K. Arima, T. Okamoto, H. Mimura, K. Yamauchi

Journal of Crstal Growth　Vol. 310　No. 7-9　p. 1637-1641　2008年4月
Chemical planarization of GaN using hydroxyl radicals generated on a catalyst plate in H2O2 solution

J. Murata, A. Kubota, K. Yagi, Y. Sano, H. Hara, K. Arima, T. Okamoto, H. Mimura, K. Yamauchi

JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH　Vol. 310　No. 7-9　p. 1637-1641　2008年4月
Ultraprecision finishing technique by numerically controlled sacrificial oxidation

Yasuhisa Sano, Takaya Masuda, Hidekazu Mimura, Kazuto Yamauchi

JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH　Vol. 310　No. 7-9　p. 2173-2177　2008年4月
Trace element mapping using a high-resolution scanning X-ray fluorescence microscope equipped with a Kirkpatrick-Baez mirror system

S. Matsuyama, H. Mimura, K. Katagishi, H. Yumoto, S. Handa, M. Fujii, Y. Sano, M. Shimura, M. Yabashi, Y. Nishino, K. Tamasaku, T. Ishikawad, K. Yamauchi

Surface and interface analysis　Vol. 40　No. 6-7　p. 1042-1045　2008年3月
触媒基準エッチング法

原英之, 佐野泰久, 有馬健太, 山内和人

応用物理　Vol. 53　No. 8　p. 20-24　2008年2月
Kirkpatrick-Baez ミラー光学系を搭載した走査型蛍光X 線顕微鏡による細胞内元素分布の観察

藤井正輝, 松山智至, 志村まり, 三村秀和, 前島一博, 片岸恵子, 湯本博勝, 半田宗一郎, 佐野泰久, 西野吉則, 玉作賢治, 矢橋牧名, 石川哲也, 山内和人

第21回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム要旨集　Vol. 21st　2008年1月
触媒基準エッチング法

応用物理　Vol. Vol. 77, No 2, pp 168-171　2008年
Crystal Growth Technology (Plasma Chemical Vaporization Machining and Elastic Emission Machining)

Wiley-VCH　Vol. Chapter 19, Plasma Chemical Vaporization Machining and Elastic Emission Machining　2008年
Improvement of thickness uniformity of SOI by numerically controlled sacrificial oxidation using atmospheric-pressure plasma

Y. Sano, T. Masuda, S. Kamisaka, H. Mimura, S. Matsuyama, K. Yamauchi

Proceedings - IEEE International SOI Conference　Vol. 165-166　p. 165-166　2008年
Crystal machining using atmospheric pressure plasma

Book of Lecture Notes, 4th International Workshop on Crystal Growth Technology　Vol. 47　2008年
Catalyst-referred etching

Book of Lecture Notes, 4th International Workshop on Crystal Growth Technology　Vol. 87　2008年
硬X線反射用多層膜ミラーの開発

半田宗一郎, 玉作賢治, 三村秀和, 湯本博勝, 木村隆志, 松山智至, 佐野泰久, 西野吉則, 矢橋牧名, 石川哲也, 山内和人

日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム予稿集　Vol. 21st　2007年12月20日
硬X線集光ミラーのためのスティッチング干渉法に基づく高精度表面形状計測法の開発

湯本博勝, 三村秀和, 木村隆志, 半田宗一郎, 松山智至, 佐野泰久, 西野吉則, 玉作賢治, 矢橋牧名, 石川哲也, 山内和人

日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム予稿集　Vol. 21st　2007年12月20日
KBミラー光光学系におけるX線集光状態維持システム

山川大輔, 三村秀和, 木村隆志, 湯本博勝, 松山智至, 佐野泰久, 玉作賢治, 西野吉則, 矢橋牧名, 石川哲也, 山内和人

日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム予稿集　Vol. 21st　2007年12月20日
Atomic-scale characterization of hf-treated 4H-SiC(0001)l×l surfaces by scanning tunneling microscopy

Kenta Arima, Hideyuki Hara, Yasuhisa Sano, Keita Yagi, Ryota Okamoto, Junji Murata, Hidekazu Mimura, Kazuto Yamauchi

Materials Research Society Symposium Proceedings　Vol. 996　p. 157-162　2007年12月1日
Machining of GaN by Plasma CVM (Chemical Vaporization Machining)

Y. Nakahama, N. Kanetsuki, T. Funaki, M. Kadono, Y. Sano, K. Yamamura, K. Endo, Y. Mori

International 21st Century COE Symposium on Atomistic Fabrication Technology 2007　Vol. International 21st Century COE Symposium on Atomistic Fabrication Technology 2007, pp 18.　2007年10月
Atomically Resolved STM Study of 4H-SiC(0001) Surfaces Flattened by Chemical Etching in HF solutions with Pt Catalyst

Kenta Arima, Ryosuke Suga, Hideyuki Hara, Junji Murata, Keita Yagi, Hidekazu Mimura, Yasuhisa Sano, Kazuto Yamauchi

Technical Digest of International Conference on Silicon Carbide and Related Materials 2007, Ohtsu, pp. We 28-29　Vol. We 28-29　2007年10月
出版者・発行元：The Japan Society of Applied Physics
High-resolution and Highly Sensitive Scanning X-ray Fluorescence Microscopy Using Kirkpatrick-Baez Mirror Optics

Satoshi Matsuyama, Hidekazu Mimura, Keiko Katagishi, Mari Shimura, Masaki Fujii, Hirokatsu Yumoto, Soichiro Handa, Takashi Kimura, Yasuhisa Sano, Kenji Tamasaku, Yoshinori Nishino, Makina Yabashi, Tetsuya Ishikawa, Kazuto Yamauchi

2007年10月
Temperature Dependence of Plasma Chemical Vaporization Machining of Silicon and Silicon Carbide

Y. Sano, M. Watanabe, T. Kato, K. Yamamura, H. Mimura, K. Yamauchi

International Conference on Silicon Carbide and Related Materials 2007 Technical Digest　Vol. Mo-P-55　2007年10月
Development of Cryo Scanning X-ray Fluorescent Microscopy to Observe Frozen Hydrated Cells and Tissues

Masaki Fujii, Satoshi Matsuyama, Mari Shimura, Keiko Katagishi, Hidekazu Mimura, Hirokatsu Yumoto, Soichiro Handa, Takashi Kimura, Yasuhisa Sano, Kenji Tamasaku, Yoshinori Nishin, Makina Yabashi, Tetsuya Ishikawa, Kazuto Yamauchi

2007年10月
New Chemical Planarization of SiC and GaN Using Fe Plate in H2O2 solution

Junji Murata, Akihisa Kubota, Keita Yagi, Yasuhisa Sano, Hideyuki Hara, Kenta Arima, Takeshi Okamoto, Hidekazu Mimura, Kazuto Yamauchi

International Conference on Silicon Carbide and Related Materials 2007 Technical Digest　Vol. Th-0B-3　2007年10月
Damage-free Planarization of 2-inch 4H-SiC Wafer Using Pt Catalyst Plate and HF Solution

T. Okamoto, Y. Sano, H. Hara, K. Arima, K. Yagi, J. Murata, H. Mimura, K. Yamauchi

International Conference on Silicon Carbide and Related Materials 2007 Technical Digest　Vol. We-94　2007年10月
Beveling of Silicon Carbide Wafer by Plasma Chemical Vaporization Machining

Takehiro Kato, Yasuhisa Sano, Hideyuki Hara, Hidekazu Mimura, Kazuya Yamamura, Kazuto Yamauchi

International Conference on Silicon Carbide and Related Materials 2007 Technical Digest　Vol. We-98　2007年10月
クライオ走査型蛍光X線顕微鏡による急速凍結された細胞の元素分布測定

片岸恵子, 松山智至, 志村まり, 三村秀和, 湯本博勝, 半田宗一郎, 木村隆志, 佐野泰久, 西野吉則, 玉作賢治, 矢橋牧名, 石川哲也, 山内和人

2007年秋季第68回応用物理学会学術講演会要旨集　Vol. 68th　No. 3　2007年9月
超高精度ミラーによる硬X線ナノビーム形成とその応用

三村秀和, 松山智至, 湯本博勝, 半田宗一郎, 片岸恵子, 木村隆志, 佐野泰久, 山村和也, 稲垣耕司, 玉作賢治, 西野吉則, 矢橋牧名, 石川哲也, 山内和人

日本物理学会講演概要集　Vol. 62　No. 2　2007年8月21日
Damage-free Planarization of 4H-SiC (0001) by Catalyst-Referred Etching

Hideyuki Hara, Yasuhisa Sano, Hidekazu Mimura, Kenta Arima, Akihisa Kubota, Keita Yagi, Junji Murata, Kazuto Yamauchi

Materials Science Forum　2007年8月
Damage-free planarization of GaN using a catalyst plate

Junji Murata, Akihisa Kubota, Keita Yagi, Yasuhisa Sano, Hideyuki Hara, Kenta Arima, Takeshi Okamoto, Hidekazu Mimura, Kazuto Yamauchi

Proceedings of 15th International Conference on Crystal Growth　Vol. #789　2007年8月
Polishing Characteristics of 4H-SiC Si-Face and C-Face by Plasma Chemical Vaporization Machining

Yasuhisa Sano, Masayo Watanabe, Kazuya Yamamura, Kazuto Yamauchi, Takeshi Ishida, Kenta Arima, Akihisa Kubota, Yuzo Mori

Materials Science Forum　Vol. 556-557　p. 757-+　2007年8月
Measurement of rotational and vibrational temperature of gas molecules in the CVM plasma by using spatial resolved optical emission spectrometry

Kohji Ueno, Yasushi Oshikane, Yasuhisa Sano, Kazuya Yamamura

18th International Symposium on Plasma Chemistry　Vol. pp. 166.　2007年8月
Fabrication of ultrathin and highly uniform silicon on insulator by numerically controlled plasma chemical vaporization machining

Yasuhisa Sano, Kazuya Yamamura, Hidekazu Mimura, Kazuto Yamauchi, Yuzo Mori

Rev. Sci. Instrum　Vol. 78　No. 8　2007年8月
New Crystal Planarization Technique using a catalyst plate

Hideyuki Hara, Yasuhisa Sano, Kenta Arima, Keita Yagi, Junji Murata, Takeshi Okamoto, Hidekazu Mimura, Kazuto Yamauchi

Proceedings of 15th International Conference on Crystal Growth　Vol. #769　2007年8月
Ultraprecision Finishing Technique by Numerically Controlled Sacrificial Oxidation

Yasuhisa Sano, Takaya Masuda, Hidekazu Mimura, Kazuto Yamauchi

Proceedings of 15th International Conference on Crystal Growth　Vol. #586　2007年8月
Atomic-scale flattening of SiC surfaces by electroless chemical etching in HF solution with Pt catalyst

Kenta Arima, Hideyuki Hara, Junji Murata, Takeshi Ishida, Ryota Okamoto, Keita Yagi, Yasuhisa Sano, Hidekazu Mimura, Kazuto Yamauchi

Applied Physics Letters　Vol. 90　No. 20　p. 202106 1-202106 3　2007年5月
Atomic-scale flattening of SiC surfaces by electroless chemical etching in HF solution with Pt catalyst

Kenta Arima, Hideyuki Hara, Junji Murata, Takeshi Ishida, Ryota Okamoto, Keita Yagi, Yasuhisa Sano, Hidekazu Mimura, Kazuto Yamauchi

APPLIED PHYSICS LETTERS　Vol. 90　No. 20　2007年5月
Surface gragient integrated profiler for X-ray and EUV optics

Yasuo Higashi, Yuichi Takaie, Katsuyoshi Endo, Tatsuya Kume, Kazuhiro Enami, Kazuto Yamauchi, Kazuya Yamamura, Yasuhisa Sano, Kenji Ueno, Yuzo Mori

SCIENCE AND TECHNOLOGY OF ADVANCED MATERIALS　Vol. 8　No. 3　p. 177-180　2007年4月
Catalyst-referred etching of silicon

Hideyuki Hara, Yasuhisa Sano, Kenta Arima, Keita Yagi, Junji Murata, Akihisa Kubota, Hidekazu Mimura, Kazuto Yamauchi

SCIENCE AND TECHNOLOGY OF ADVANCED MATERIALS　Vol. 8　No. 3　p. 162-165　2007年4月
Fabrication of damascene Cu wirings using solid acidic catalyst

K. Yagi, J. Murata, H. Hara, Y. Sano, K. Yamauchi, H. Goto

Science and Technology of Advanced Materials　Vol. 8　No. 3　p. 166-169　2007年4月
CAtalyst-Referred Etching of Silicon

H. Hara, Y. Sano, K. Arima, K. Yagi, J. Murata, A. Kubota, H. Mimura, K. Yamauchi

Science and Technology of Advanced Materials　Vol. 8　No. 3　p. 162-165　2007年4月
Fabrication of damascene Cu wirings using solid acidic catalyst

Keita Yagi, Junji Murata, Hideyuki Hara, Yasuhisa Sano, Kazuto Yamauchi, Hidekazu Goto

SCIENCE AND TECHNOLOGY OF ADVANCED MATERIALS　Vol. 8　No. 3　p. 166-169　2007年4月
高精度非球面ミラーの加工技術

佐野泰久, 三村秀和, 山村和也, 山内和人, 森勇藏

レーザー学会誌　Vol. 35　No. 3　p. 162-167　2007年3月
Improvement of the thickness distribution of at cut quartz crystal wafer by open-air type plasma chemical vaporization machining

Kazuya Yamamura, Masafumi Shibahara, Yasuhisa Sano, Yusuke Yamamoto, Tetsuya Morikawa, Yuzo Mori

e-Journal of Surface Science and Nanotechnology　Vol. 5　p. 41-44　2007年2月6日
Efficient focusing of hard x-rays to 25nm by a total reflection mirror

H. Mimura, H. Yumoto, S. Matsuyama, Y. Sano, K. Yamamura, Y. Mori, M. Yabashi, Y. Nishino, K. Tamasaku, T. Ishikawa, K. Yamauchi

Applied Physcics Letters　Vol. 90　No. 5　2007年2月
Investigation of Surface Roughness of Silicon Carbide in Elastic Emission Machining

A. Kubota, Y. Shinbayashi, H. Mimura, Y.Sano, K.Inagaki, Y.Mori, K.Yamauchi

Journal of Electronic Materials　Vol. 36　No. 1　p. 92-97　2007年2月
Improvement of the Thickness Distribution of AT Cut Quartz Crystal Wafer by Open-air Type Plasma Chemical Vaporization Machining

Kazuya Yamamura, Masafumi Shibahara, Yasuhisa Sano, Yusuke Yamamoto, Tetsuya Morikawa, Yuzo Mori

e-Journal of Surface Science and Nanotechnology　Vol. 5　p. 41-44　2007年2月
硬X線集光光学系における波面補正法の開発

木村隆志, 三村秀和, 松山智至, 湯本博勝, 半田宗一郎, 佐野泰久, 山内和人

精密工学会関西地方定期学術講演会講演論文集　Vol. 2007　2007年
触媒作用を援用したSiCの超精密研磨に関する研究:単結晶SiC表面研磨の試み

久保田章亀, 八木圭太, 村田順二, 原英之, 宮本士郎, 三村秀和, 佐野泰久, 山内和人

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2007　No. 0　p. 81-82　2007年
出版者・発行元：The Japan Society for Precision Engineering
触媒基準エッチング法による4H-SiCの加工（第4報）:2インチウエハの平坦化

原英之, 佐野泰久, 岡本武志, 有馬健太, 八木圭太, 村田順二, 三村秀和, 山内和人

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2007　No. 0　p. 1001-1002　2007年
出版者・発行元：The Japan Society for Precision Engineering
Fabrication of X‐ray Mirror for Hard X‐ray Diffraction Limited Nanofocusing

YUMOTO Hirokatsu, MIMURA Hidekazu, MATSUYAMA Satoshi, HANDA Soichiro, SHIBATANI Akihiko, KATAGISHI Keiko, YAMAMURA Kazuya, SANO Yasuhisa, ENDO Katsuyoshi, MORI Yuzo, YABASHI Makina, NISHINO Yoshinori, TAMASAKU Kenji, ISHIKAWA Tetsuya, YAMAUCHI Kazuto

AIP Conference Proceedings　Vol. 879　No. Pt.1　p. 967-970　2007年
Development of a Scanning X‐ray Fluorescence Microscope Using Size‐Controllable Focused X‐ray Beam from 50 to 1500nm

MATSUYAMA Satoshi, MIMURA Hidekazu, YUMOTO Hirokatsu, KATAGISHI Keiko, HANDA Soichiro, SHIBATANI Akihiko, SANO Yasuhisa, YAMAMURA Kazuya, ENDO Katsuyoshi, MORI Yuzo, NISHINO Yoshinori, TAMASAKU Kenji, YABASHI Makina, ISHIKAWA Tetsuya, YAMAUCHI Kazuto

AIP Conference Proceedings　Vol. 879　No. Pt.2　p. 1325-1328　2007年
22pTC-3 超高精度ミラーによる硬X線ナノビーム形成とその応用(領域10シンポジウム主題:X線・電子線による回折イメージングの最前線,領域10,誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性)

三村秀和, 松山智至, 湯本博勝, 半田宗一郎, 片岸恵子, 木村隆志, 佐野泰久, 山村和也, 稲垣耕司, 玉作賢治, 西野吉則, 矢橋牧名, 石川哲也, 山内和人

日本物理学会講演概要集　Vol. 62　No. 0　p. 989-989　2007年
出版者・発行元：一般社団法人日本物理学会
Investigation of the surface removal process of silicon carbide in elastic emission machining

Akihisa Kubota, Yohsuke Shinbayashi, Hidekazu Mimura, Yasuhisa Sano, Kouji Inagaki, Yuzo Mori, Kazuto Yamauchi

JOURNAL OF ELECTRONIC MATERIALS　Vol. 36　No. 1　p. 92-97　2007年1月
Beveling of Silicon Carbide Wafer by Plasma Chemical Vaporization Machining

International Conference on Silicon Carbide and Related Materials 2007 Technical Digest　Vol. We-98　2007年
高精度非球面ミラーの加工技術

レーザー学会誌　Vol. Vol. 35, pp.162-167　2007年
Machining of GaN by Plasma CVM (Chemical Vaporization Machining)

International 21st Century COE Symposium on Atomistic Fabrication Technology 2007　Vol. International 21st Century COE Symposium on Atomistic Fabrication Technology 2007, pp 18.　2007年
Efficient focusing of hard x rays to 25 nm by a total reflection mirror

Hidekazu Mimura, Hirokatsu Yumoto, Satoshi Matsuyama, Yasuhisa Sano, Kazuya Yamamura, Yuzo Mori, Makina Yabashi, Yoshinori Nishino, Kenji Tamasaku, Tetsuya Ishikawa, Kazuto Yamauchi

APPLIED PHYSICS LETTERS　Vol. 90　No. 5　2007年1月
Measurement of rotational and vibrational temperature of gas molecules in the CVM plasma by using spatial resolved optical emission spectrometry

18th International Symposium on Plasma Chemistry　Vol. pp. 166.　2007年
Damage-free planarization of 4H-SiC(0001) by catalyst-referred etching

Hideyuki Hara, Yasuhisa Sano, Hidekazu Mimura, Kenta Arima, Akihisa Kubota, Keita Yagi, Junji Murata, Kazuto Yamauchi

SILICON CARBIDE AND RELATED MATERIALS 2006　Vol. 556-557　p. 749-+　2007年
Ultraprecision Finishing Technique by Numerically Controlled Sacrificial Oxidation

Proceedings of 15th International Conference on Crystal Growth　Vol. #586　2007年
New Crystal Planarization Technique using a catalyst plate

Proceedings of 15th International Conference on Crystal Growth　Vol. #769　2007年
Damage-free planarization of GaN using a catalyst plate

Proceedings of 15th International Conference on Crystal Growth　Vol. #789　2007年
Atomically Resolved STM Study of 4H-SiC(0001) Surfaces Flattened by Chemical Etching in HF solutions with Pt Catalyst

Technical Digest of International Conference on Silicon Carbide and Related Materials 2007, Ohtsu, pp. We 28-29　Vol. We 28-29　2007年
Temperature Dependence of Plasma Chemical Vaporization Machining of Silicon and Silicon Carbide

International Conference on Silicon Carbide and Related Materials 2007 Technical Digest　Vol. Mo-P-55　2007年
Development of Cryo Scanning X-ray Fluorescent Microscopy to Observe Frozen Hydrated Cells and Tissues

2007年
Damage-free Planarization of 2-inch 4H-SiC Wafer Using Pt Catalyst Plate and HF Solution

International Conference on Silicon Carbide and Related Materials 2007 Technical Digest　Vol. We-94　2007年
New Chemical Planarization of SiC and GaN Using Fe Plate in H2O2 solution

International Conference on Silicon Carbide and Related Materials 2007 Technical Digest　Vol. Th-0B-3　2007年
High-resolution and Highly Sensitive Scanning X-ray Fluorescence Microscopy Using Kirkpatrick-Baez Mirror Optics

2007年
Measurement of rotational and vibrational temperature of gas molecule in the open-air type PCVM plasma by using spatial resolved emission spectra

Kazuya Yamamura, Koji Ueno, Yasushi Oshikane, Yasuhisa Sano, Masafumi Shibahara, Yuzo Mori

Proceedings of 28th International Symposium on Dry Process　Vol. pp. 49-50　2006年11月
Improvement of the Thickness Distribution of AT Cut Quartz Crystal Wafer by Open-air Type Plasma Chemical Vaporization Machining

Kazuya Yamamura, Masafumi Shibahara, Yasuhisa Sano, Yusuke Yamamoto, Tetsuya Morikawa, Yuzo Mori

Proceedings of Handai Nanoscience and Nanotechnology International Symposium　Vol. pp. 74　2006年11月
High spatial resolution machining utilizing atmospheric pressure plasma machining

Kazuya Yamamura, Kunihito Kato, Yasuhisa Sano, Masafumi Shibahara, Katsuyoshi Endo, Yuzo Mori

Proceedings of 8th International Conference on Progress of Machining Technology　Vol. pp. 257-260　2006年11月
Machining characteristics of ultraprecision atmospheric pressure plasma process

Kazuya Yamamura, Koji Ueno, Akihiro Fujiwara, Yasuhisa Sano, Yasusi Oshikane, Masafumi Shibahara, Katsuyoshi Endo, Yuzo Mori

Proceedings of 8th International Conference on Progress of Machining Technology　Vol. pp. 265-268　2006年11月
Development of ultraprecision numerically controlled finishing machine utilizing atmospheric pressure plasma

Kazuya Yamamura, Akihiro Fujiwara, Koji Ueno, Yasuhisa Sano, Masafumi Shibahara, Katsuyoshi Endo, Yuzo Mori

Proceedings of 8th International Conference on Progress of Machining Technology　Vol. pp. 253-256　2006年11月
Ultraprecision machining utilizing numerically controlled scanning of localized atmospheric pressure plasma

Kazuya Yamamura, Yasuhisa Sano, Masafumi Shibahara, Kazuto Yamauchi, Hidekazu Mimura, Katsuyoshi Endo, Yuzo Mori

Japanese Journal of Applied Physics, Part 1: Regular Papers and Short Notes and Review Papers　Vol. 45　No. 10 B　p. 8270-8276　2006年10月21日
Polishing characteristics of silicon carbide by plasma chemical vaporization machining

Yasuhisa Sano, Masayo Watanabe, Kazuya Yamamura, Kazuto Yamauchi, Takeshi Ishida, Kenta Arima, Akihisa Kubota, Yuzo Mori

Jpn. J. Appl. Phys. 45 No.10B　Vol. 45　No. 10　p. 8277-8280　2006年10月
Development of scanning x-ray fluorescence microscope with spatial resolution of 30 nm using Kirkpatrick-Baez mirror optics

S. Matsuyama, H. Mimura, H. Yumoto, Y. Sano, K. Yamamura, M. Yabashi, Y. Nishino, K. Tamasaku, T. Ishikawa, K. Yamauchi

REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS　Vol. 77　No. 10　2006年10月
Development of mirror manipulator for hard x-ray nanofocusing at sub-50nm level

S. Matsuyama, H. Mimura, H. Yumoto, H. Hara, S. Handa, K. Yamamura, Y. Sano, K. Endo, Y. Mori, M. Yabashi, Y. Nishino, K. Tamasaku, T. Ishikawa, K. Yamauchi

Review of Scientific Instruments　Vol. 77　No. 9　2006年10月
High Spatial Resolution Machining Utilizing Atmospheric Pressure Plasma -Machining Characteristics of Silicon-

Kazuya Yamamura, Kunihito Kato, Yasuhisa Sano, Masafumi Shibahara, Katsuyoshi Endo, Yuzo Mori

Jpn. J. Appl. Phys. 45 No.10B　Vol. Vol. 45 8281-8285　p. 257-260　2006年10月
Polishing characteristics of silicon carbide by plasma chemical vaporization machining

Yasuhisa Sano, Masayo Watanabe, Kazuya Yamamura, Kazuto Yamauchi, Takeshi Ishida, Kenta Arima, Akihisa Kubota, Yuzo Mori

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS BRIEF COMMUNICATIONS & REVIEW PAPERS　Vol. 45　No. 10B　p. 8277-8280　2006年10月
Surface Gradient Integrated Profiler for X-ray and EUV Optics

Y. Higashi, Y. Takaie, K. Endo, Y. Mori, K. Yamauchi, T. Kume, K. Enami, K. Yamamura, Y. Sano, K. Ueno

Proceedings of International 21st Century COE Symposium on Atomistic Fabrication Technology　Vol. 8　No. 3　p. 177-180　2006年10月
High-spatial-resolution machining utilizing atmospheric pressure plasma: Machining characteristics of silicon

Kazuya Yamamura, Kunihito Kato, Yasuhisa Sano, Masafumi Shibahara, Katsuyoshi Endo, Yuzo Mori

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS BRIEF COMMUNICATIONS & REVIEW PAPERS　Vol. 45　No. 10B　p. 8281-8285　2006年10月
At-wavelength形状計測法による硬X線ナノ集光鏡の開発

三村秀和, 湯本博勝, 半田宗一郎, 松山智至, 佐野泰久, 西野吉則, 玉作賢治, 矢橋牧名, 石川哲也, 山内和人

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2006　No. 0　p. 207-208　2006年9月4日
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
Polishing characteristics of 4H-SiC Si-face and C-face by plasma chemical vaporization machining

Yasuhisa Sano, Masayo Watanabe, Kazuya Yamamura, Kazuto Yamauchi, Takeshi Ishida, Kenta Arima, Akihisa Kubota, Yuzo Mori

2006年9月
Observation of Intracellular Elements by Scanning X-ray Fluorescence Microscopy with Spatial Resolution of 50nm

Keiko Katagishi, Satoshi Matsuyama, Hidekazu Mimura, Mari Shimura, Hirokatsu Yumoto, Soichiro Handa, Akihiko Shibatani, Yasuhisa Sano, Kazuya Yamamura, Yoshinori Nishino, Kenji Tamasaku, Makina Yabashi, Tetsuya Ishikawa, Kazuto Yamauchi

2006年9月
Scanning X-ray Fluorescence Microscope Using Kirkpatrick-Baez Optics with Spatial Resolution Better than 50nm

Satoshi Matsuyama, Hidekazu Mimura, Mari Shimura, Hirokatsu Yumoto, Keiko Katagishi, Soichiro Handa, Akihiko Shibatani, Yasuhisa Sano, Kazuya Yamamura, Katsuyoshi Endo, Yuzo Mori, Yoshinori Nishino, Kenji Tamasaku, Makina Yabashi, Tetsuya Ishikawa, Kazuto Yamauchi

The 16th International Microscopy Congress (IMC16)　Vol. Vol2, 1030　2006年9月
Development of scanning X-ray fluorescence microscope with spatial resolution of 30nm using K-B mirrors optics

S.Matsuyama, H.Mimura, H.Yumoto, K.Yamamura, Y.Sano, M.Yabashi, Y.Nishino, K.Tamasaku, T. Ishikawa, K.Yamauchi

Review of Scientific Instruments　Vol. 77,093107　2006年9月
Development of mirror manipulator for hard-x-ray nanofocusing at sub-50-nm level

S. Matsuyama, H. Mimura, H. Yumoto, H. Hara, K. Yamamura, Y. Sano, K. Endo, Y. Mori, M. Yabashi, Y. Nishino, K. Tamasaku, T. Ishikawa, K. Yamauchi

REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS　Vol. 77　No. 9　2006年9月
走査型蛍光X線顕微鏡を用いた細胞内元素分布の測定

片岸恵子, 松山智至, 志村まり, 三村秀和, 湯本博勝, 半田宗一郎, 芝谷昭彦, 佐野泰久, 西野吉則, 玉作賢治, 矢橋牧名, 石川哲也, 山内和人

応用物理学会学術講演会講演予稿集　Vol. 67th　No. 3　2006年8月29日
At-wavelength figure metrology of total reflection mirrors in hard x-ray region

Hirokatsu Yumoto, Hidekazu Mimura, Satoshi Matsuyama, Soichiro Handa, Akihiko Shibatani, Keiko Katagishi, Yasuhisa Sano, Makina Yabashi, Yoshinori Nishino, Kenji Tamasaku, Tetsuya Ishikawa, Kazuto Yamauchi

Proceedings of SPIE　Vol. 6317　2006年8月
Scanning X-ray Fluorescence Microscope Using Kirkpatrick-Baez Optics with Spatial Resolution Better than 50nm

Satoshi Matsuyama, Hidekazu Mimura, Mari Shimura, Hirokatsu Yumoto, Keiko Katagishi, Soichiro Handa, Akihiko Shibatani, Yasuhisa Sano, Kazuya Yamamura, Yoshinori Nishino, Kenji Tamasaku, Makina Yabashi, Tetsuya Ishikawa, Kazuto Yamauchi

Proc. SPIE　Vol. 6317, 631719　2006年8月
Novel Abrasive-Free Planarization of 4H-SiC(0001) Using Catalyst

Hideyuki Hara, Yasuhisa Sano, Hidekazu Mimura, Kenta Arima, Akihisa Kubota, Keita Yagi, Junji Murata, Kazuto Yamauchi

Journal of Electronic Materials　Vol. 35　No. 8　p. L11-L14　2006年8月　速報，短報，研究ノート等（学術雑誌）
Development of ultraprecision finishing method for quartz crystal wafer utilizing atmospheric pressure plasma

Masafumi Shibahara, Yusuke Yamamoto, Kazuya Yamamura, Yasuhisa Sano, Katsuyoshi Endo, Yuzo Mori

Towards Synthesis of Micro-/Nano-systems,　Vol. pp. 233-237　2006年8月
Fabrication of small complex-shaped optics by plasma chemical vaporization machining with a microelectrode

Hideo Takino, Norio Shibata, Hiroshi Itoh, Teruki Kobayashi, Koshichi Nemoto, Takashi Fujii, Naohiko Goto, Kazuya Yamamura, Yasuhisa Sano, Yuzo Mori

APPLIED OPTICS　Vol. 45　No. 23　p. 5897-5902　2006年8月
Fabrication of ultraprecisely figured mirror for nano focusing hard-x-ray

Hirokatsu Yumoto, Hidekazu Mimura, Satoshi Matsuyama, Souichiro Handa, Kazuya Yamamura, Yasuhisa Sano, Katsuyoshi Endo, Yuzo Mori, Makina Yabashi, Yoshinori Nishino, Kenji Tamasaku, Tetsuya Ishikawa, Kazuto Yamauchi

Towards Synthesis of Micro-/Nano-systems　Vol. pp. 295-300　2006年8月
Ultraprecision finishing of photomask substrate by utilizing atmospheric pressure plasma

Kazuya Yamamura, Akihiro Fujiwara, Koji Ueno, Yasuhisa Sano, Masafumi Shibahara, Katsuyoshi Endo, Yuzo Mori

Towards Synthesis of Micro-/Nano-systems　Vol. pp. 227-231　2006年8月
Fabrication of small complex-shaped optics by plasmachemical vaporization machining with a microelectrode

Hideo Takino, Norio Shibata, Hiroshi Itoh, Teruki Kobayashi, Koshichi Nemoto, Takashi Fujii, Naohiko Goto, Kazuya Yamamura, Yasuhisa Sano, Yuzo Mori

Applied Optics　Vol. 45　No. 23　p. 5897-5902　2006年8月
高分解能硬X線顕微鏡のためのミラーマニピュレータの開発 : 硬X線領域における50nm以下の回折限界集光の実現

松山智至, 三村秀和, 湯本博勝, 原英之, 山村和也, 佐野泰久, 西野吉則, 玉作賢治, 矢橋牧名, 石川哲也, 山内和人

精密工学会誌論文集　Vol. 72　No. 7　p. 884-888　2006年7月5日
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
Machining characteristics of AT cut quartz crystal wafer by open-air type atmospheric pressure plasma machining system, Abstractbook of the 8th Asia-Pacific Conference on Plasma Science and Technology

Kazuya Yamamura, Koji Ueno, Yasuhisa Sano, Yasushi Oshikane, Masafumi Shibahara, Yuzo Mori

Abstractbook of the 8th Asia-Pacific Conference on Plasma Science and Technology　Vol. p.133　2006年7月
Hard X-ray focusing with a beam size less than 30 nm by total reflection mirror

H. Mimura, H. Yumoto, S. Matsuyama, S. Handa, Y. Sano, K. Yamamura, K. Tamasaku, Y. Nishino, M. Yabashi, T. Ishikawa, K. Yamauchi

2006年7月
Diffraction-limited X-ray nanobeam with KB mirrors

K. Yamauchi, H. Mimura, S. Matsuyama, H. Yumoto, S. Handa, Y. Sano, K. Yamamura, K. Tamasaku, Y. Nishino, M. Yabashi, T. Ishikawa

2006年7月
数値制御プラズマCVMによる水晶ウエハの高精度加工に関する研究－回転電極とパイプ電極を併用した数値制御加工による水晶ウエハ厚さの均一化－

柴原正文, 山村和也, 佐野泰久, 杉山剛, 山本雄介, 遠藤勝義, 森勇藏

精密工学会誌, Vol. 72, No. 7　Vol. Vol. 72, No.7, 934-938　2006年7月
At-wavelength figure metrology fo hard x-ray focusing mirrors

H. Yumoto, H. Mimura, S. Matsuyama, S. Handa, Y. Sano, M. Yabashi, Y. Nishino, K. Tamasaku, T. Ishikawa, K. Yamauchi

Review of Scientific Instruments　Vol. 77　No. 6　2006年6月
At-wavelength figure metrology of hard x-ray focusing mirrors

Hirokatsu Yumoto, Hidekazu Mimura, Satoshi Matsuyama, Soichiro Handa, Yasuhisa Sano, Makina Yabashi, Yoshinori Nishino, Kenji Tamasaku, Tetsuya Ishikawa, Kazuto Yamauchi

REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS　Vol. 77　No. 6　2006年6月
走査型蛍光X線顕微鏡を用いた細胞内元素分布の測定

片岸恵子, 松山智至, 三村秀和, 湯本博勝, 山村和也, 佐野泰久, 遠藤勝義, 森勇蔵, 西野吉則, 玉作賢治, 矢橋牧名, 石川哲也, 山内和人

応用物理学関係連合講演会講演予稿集　Vol. 53rd　No. 2　2006年3月22日
超高精度X線ミラーの作製とコヒーレントX線による評価

三村秀和, 湯本博勝, 松山智至, 山村和也, 佐野泰久, 遠藤勝義, 森勇藏, 玉作賢治, 矢橋牧名, 西野吉則

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2006　No. 0　p. 233-234　2006年3月1日
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
高分解能硬X線顕微鏡のためのミラーマニピュレータの開発-硬X線領域における50nm以下の回折限界集光の実現-

松山智至, 三村秀和, 湯本博勝, 原英之, 山村和也, 佐野泰久, 西野吉則, 玉作賢治, 矢橋牧名, 石川哲也, 山内和人

精密工学会誌(CD-ROM)　Vol. 72　No. 7　2006年
触媒基準エッチング法によるGaNの加工

村田順二, 久保田章亀, 八木圭太, 佐野泰久, 原英之, 有馬健太, 三村秀和, 山内和人

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2006　No. 0　p. 533-534　2006年
出版者・発行元：The Japan Society for Precision Engineering
触媒を援用した化学ポリシング法による4H–SiCの加工(第2報):加工速度の検討

原英之, 佐野泰久, 三村秀和, 竹川雄也, 山内和人

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2006　No. 0　p. 557-558　2006年
出版者・発行元：The Japan Society for Precision Engineering
EEM（Elastic Emission Machining)によるSiC表面凹凸の改善

久保田章亀, 三村秀和, 稲垣耕司, 佐野泰久, 森勇藏, 山内和人

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2006　No. 0　p. 967-968　2006年
出版者・発行元：The Japan Society for Precision Engineering
湿式プロセスにより得られた超平坦4H-SiC(0001)実用表面の原子構造解析

岡本亮太, 有馬健太, 佐野泰久, 原英之, 石田剛志, 八木圭太, 山内和人, 遠藤勝義

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2006　No. 0　p. 539-540　2006年
出版者・発行元：The Japan Society for Precision Engineering
触媒基準エッチング法による4H-SiCの加工（第3報):モリブデン触媒の検討

原英之, 佐野泰久, 有馬健太, 八木圭太, 村田順二, 久保田章亀, 三村秀和, 山内和人

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2006　No. 0　p. 531-532　2006年
出版者・発行元：The Japan Society for Precision Engineering
Cutting of functional materials by plasma chemical vaporization machining with inner-diameter blade electrode

Y. Sano, K. Yamamura, H. Mimura, K. Yamauchi, A. Kubota, Y. Mori

Proc. ICRP-6/SPP-23　Vol. 305-306　2006年1月
Wave-optical simulations for designing and evaluating hard x-ray reflective optics

H. Mimura, S. Matsuyama, H. Yumoto, S. Handa, A. Shibatani, K. Katagishi, Y. Sano, Y. Nishino, M. Yabashi, K. Tamasaku, T. Ishikawa, K. Yamauchi

ADVANCES IN X-RAY/EUV OPTICS, COMPONENTS, AND APPLICATIONS　Vol. 6317　2006年
Fabrication of ultraprecisely figured mirror for nano focusing hard-x-ray

2006年
Ultra precision machining utilizing numerically controlled scanning of localized atmospheric pressure plasma

K. Yamamura, Y. Sano, M. Shibahara, K. Yamauchi, H. Mimura, K. Endo, Y. Mori

Proceedings of ICRP6/SPP23　Vol. 81-82　2006年1月
数値制御プラズマCVMによる水晶ウエハの高精度加工に関する研究－回転電極とパイプ電極を併用した数値制御加工による水晶ウエハ厚さの均一化－

柴原正文, 山村和也, 佐野泰久, 杉山剛, 山本雄介, 遠藤勝義, 森勇藏

精密工学会誌, Vol. 72, No. 7　Vol. Vol. 72, No.7, 934-938　No. 7　p. 934-938　2006年
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
Ultraprecision finishing of photomask substrate by utilizing atmospheric pressure plasma

Towards Synthesis of Micro-/Nano-systems　Vol. pp. 227-231　2006年
Fabrication of ultraprecisely figured mirror for nano focusing hard-x-ray

Towards Synthesis of Micro-/Nano-systems　Vol. pp. 295-300　2006年
大気圧プラズマの生成制御と応用技術, 第13節プラズマCVMによる超精密加工

サイエンス＆テクノロジー　2006年
Machining characteristics of ultraprecision atmospheric pressure plasma process

Kazuya Yamamura, Koji Ueno, Akihiro Fujiwara, Yasuhisa Sano, Yasusi Osikane, Masafumi Shibahara, Katsuyoshi Endo, Yuzo Mori

Progress of Machining Technology, Proceedings　Vol. pp. 265-268　p. 265-268　2006年
Development of ultraprecison numerically controlled finishing machine utilizing atmospheric pressure plasma

Kazuya Yamamura, Akihiro Fujiwara, Koji Ueno, Yasuhisa Sano, Masafumi Shibahara, Katsuyoshi Endo, Yuzo Mori

Progress of Machining Technology, Proceedings　Vol. pp. 253-256　p. 253-256　2006年
High spatial resolution machning utilizing atmospheric pressure plasma - Machining characteristics of silicon

Kazuya Yamamura, Kunihito Kato, Yasuhisa Sano, Masafumi Shibahara, Katsuyoshi Endo, Yuzo Mori

Progress of Machining Technology, Proceedings　Vol. 363-364　p. 257-260　2006年
Ultra precision machining utilizing numerically controlled scanning of localized atmospheric pressure plasma

Proceedings of ICRP6/SPP23　Vol. 81-82　2006年
Machining characteristics of AT cut quartz crystal wafer by open-air type atmospheric pressure plasma machining system, Abstractbook of the 8th Asia-Pacific Conference on Plasma Science and Technology

Abstractbook of the 8th Asia-Pacific Conference on Plasma Science and Technology　Vol. p.133　2006年
Diffraction-limited X-ray nanobeam with KB mirrors

2006年
Polishing characteristics of 4H-SiC Si-face and C-face by plasma chemical vaporization machining

2006年
Damage-free Planarization of 4H-SiC (0001) by Catalyst-Referred Etching

2006年
High spatial resolution machining utilizing atmospheric pressure plasma - machining characteristics of silicon -

K. Kato, K. Yamamura, Y. Sano, M. Shibahara, K. Endo, Y. Mori

Proceedings of ICRP6/SPP23　Vol. 363-364　2006年1月
Development of ultraprecision finishing method for quartz crystal wafer utilizing atmospheric pressure plasma

Towards Synthesis of Micro-/Nano-systems,　Vol. pp. 233-237　2006年
Surface gradient integrated profiler for X-ray and EUV optics - 3D mapping of 1m-long flat mirror and off-axis parabolic mirror

Y. Higashi, Y. Takaie, K. Endo, T. Kume, K. Enami, K. Yamauchi, K. Yamamura, Y. Sano, J. Uchikoshi, K. Ueno, Y. Mori

Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering　Vol. 6317　2006年
Polishing characteristics of silicon carbide by plasma chemical vaporization machining

Jpn. J. Appl. Phys. 45 No.10B　Vol. Vol.45 8277-8280.　2006年
Ultraprecision Machining Utilizing Numerically Controlled Scanning of Localized Atmospheric Pressure Plasma

Jpn. J. Appl. Phys. 45 No.10B　Vol. Vol. 45 8270-8276　2006年
Measurement of rotational and vibrational temperature of gas molecule in the open-air type PCVM plasma by using spatial resolved emission spectra

Proceedings of 28th International Symposium on Dry Process　Vol. pp. 49-50　2006年
Improvement of the Thickness Distribution of AT Cut Quartz Crystal Wafer by Open-air Type Plasma Chemical Vaporization Machining

Proceedings of Handai Nanoscience and Nanotechnology International Symposium　Vol. pp. 74　2006年
High spatial resolution machining utilizing atmospheric pressure plasma machining

Proceedings of 8th International Conference on Progress of Machining Technology　Vol. pp. 257-260　2006年
High spatial resolution machining utilizing atmospheric pressure plasma - machining characteristics of silicon -

Proceedings of ICRP6/SPP23　Vol. 363-364　2006年
Ultra precision machining utilizing numerically controlled scanning of localized atmospheric pressure plasma

Proceedings of ICRP6/SPP23　Vol. 81-82　2006年
Improvement of thickness uniformity of quartz crystal wafer by numerically controlled plasma CVM.

M. Shibahara, K. Yamamura, Y. Sano, T. Sugiyama, K. Endo, Y. Mori

Proc. SPIE 5918(2005) 591804　Vol. 5918, 591804　2005年10月
A new designed ultra-high precision profiler

Y. Higashi, Y. Takaie, K. Endo, T. Kume, K. Enami, K. Yamauchi, K. Yamamura, Y. Sano, K. Ueno, Y. Mori

Proccedings of SPIE 5921　Vol. Vol. 5921, 592107　2005年10月
Plasma Chemical Vaporization Machining (PCVM)

Y. Sano, K. Yamamura, K. Endo, Y. Mori

Book of Lecture Note, IWCGT-3, (2005) pp. 305-316.　2005年9月
Improvement of Thickness Distribution of Quartz Crystal Wafer by Numerically Controlled Plasma Chemical Vaporization Machining

Masafumi Shibahara, Kazuya Yamamura, Yasuhisa Sano, Tsuyoshi Sugiyama, Katsuyoshi Endo, Yuzo Mori

Review of Scientific Instruments, Vol.76, 096103　Vol. 76　No. 9　2005年9月
硬X線ナノ集光用超高精度楕円ミラーの作製と1次元集光性能の評価

湯本博勝, 三村秀和, 松山智至, 原英之, 山村和也, 佐野泰久, 上野一匡, 遠藤勝義, 森勇藏, 西野吉則, 玉作賢治, 矢橋牧名, 石川哲也, 山内和人

精密工学会誌　Vol. 71　No. 9　p. 1137-1140　2005年9月
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
Improvement of the thickness distribution of a quartz crystal wafer by numerically controlled plasma chemical vaporization machining

Masafumi Shibahara, Kazuya Yamamura, Yasuhisa Sano, Tsuyoshi Sugiyama, Katsuyoshi Endo, Yuzo Mori

Review of Scientific Instruments　Vol. 76　No. 9　2005年9月
Surface figuring and measurement methods with spatial resolution close to 0.1 mm for x-ray mirror fabrication

H. Mimura, H. Yumoto, S. Matsuyama, K. Yamamura, Y. Sano, K.Endo, Y. Mori, Y. Nishino, M. Yabashi, K. Tamasaku, T. Ishikawa, K.Yamauchi

Vol. 5921　p. 1-8　2005年8月
Hard X-ray Diffraction-Limited Nanofocusing with unprecidently accurate mirrors

H. Mimura, S. Matsuyama, H. Yumoto, H. Hara, K. Yamamura, Y. Sano, M. Shibahara, K. Endo, Y. Mori, Y. Nishino, K. Tamasaku, M. Yabashi, T. Ishikawa, K. Yamauchi

2005年7月
Scanning hard-X-ray microscope with spatial resolution better than 50nm

S. Matsuyama, H. Mimura, H. Yumoto, H. Hara, K. Yamamura, Y. Sano, K.Endo, Y. Mori, M. Yabashi, Y. Nishino, K. Tamasaku, T. Ishikawa, K.Yamauchi

2005年7月
Fabrication of elliptically figured mirror for focusing hard X-rays to size less than 50 nm

H. Yumoto, H. Mimura, S. Matsuyama, K. Yamamura, Y. Sano, K. Ueno, K. Endo, Y. Mori, Y. Nishino, M. Yabashi, K. Tamasaku, T. Ishikawa, K. Yamauchi

Review of Scientific Instruments, 76, 063708 (2005).　Vol. 76　No. 6　2005年7月
Element Array by Scanning X-ray Fluorescence Microscopy after Cis-Diamminedichloro-Platinum(II) Treatment

M. Shimura, A. Saito, S. Matsuyama, T. Sakuma, Y. Terui, K. Ueno, H. Yumoto, K. Yamauchi, K. Yamamura, H. Mimura, Y. Sano, M. Yabashi, K. Tamasaku, K. Nishio, Y. Nishino, K. Endo, K. Hatake, Y. Mori, Y. Ishizaka, T. Ishikawa

Cancer Research, 65 (12), 4998-5002, (2005).　Vol. 65　No. 12　p. 4998-5002　2005年7月
Fabrication of elliptically figured mirror for focusing hard x rays to size less than 50 nm

H Yumoto, H Mimura, S Matsuyama, H Hara, K Yamamura, Y Sano, K Ueno, K Endo, Y Mori, M Yabashi, Y Nishino, K Tamasaku, T Ishikawa, K Yamauchi

REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS　Vol. 76　No. 6　2005年6月
Element array by scanning X-ray fluorescence microscopy after Cis-diamminedichloro-platinum(II) treatment

M Shimura, A Saito, S Matsuyama, T Sakuma, Y Terui, K Ueno, H Yumoto, K Yamauchi, K Yamamura, H Mimura, Y Sano, M Yabashi, K Tamasaku, K Nishio, Y Nishino, K Endo, K Hatake, Y Mori, Y Ishizaka, T Ishikawa

CANCER RESEARCH　Vol. 65　No. 12　p. 4998-5002　2005年6月
Hard X-ray Focusing less than 50nm for Nanoscopy/spectroscopy

K. Yamauchi, H. Mimura, S. Matsuyama, H. Yumoto, S. Handa, K. Yamamura, Y. Sano, K. Endo, Y. Mori, Y. Nishino, K. Tamasaku, M. Yabashi, T. Ishikawa

AIP Conference Proceedings　Vol. 879　No. Pt.1　p. 786-791　2005年5月
数値制御プラズマＣＶＭによる水晶ウエハの高精度加工に関する研究－円筒型回転電極を用いた数値制御加工による水晶ウエハ厚さの均一化－

柴原正文, 山村和也, 佐野泰久, 杉山剛, 遠藤勝義, 森勇藏

精密工学会誌, Vol.71, No.5, pp.655-659.　Vol. Vol.71, No.5, pp.655-659./,　No. 5　p. 655-659　2005年5月
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
Relative angle determinable stitching interferometry for hard x-ray reflective optics

H Mimura, H Yumoto, S Matsuyama, K Yamamura, Y Sano, K Ueno, K Endo, Y Mori, M Yabashi, K Tamasaku, Y Nishino, T Ishikawa, K Yamauchi

REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS　Vol. 76　No. 4　2005年4月
EEM (Elastic Emission Machining)による4H-SiC(0001)表面の平滑化

久保田章亀, 三村秀和, 佐野泰久, 山村和也, 山内和人, 森勇藏

精密工学会誌論文集　Vol. 71　No. 4　p. 477-480　2005年4月
Creation of Perfect Surfaces

Yuzu Mori, Kazuya Yamamura, Katsuyoshi Endo, Kazuto Yamauchi, Kiyoshi Yasutake, Hidekazu Goto, Hiroaki Kakiuchi, Yasuhisa Sano, Hidekazu Mimura

Journal of Crystal Growth　Vol. 275　No. 1-2　p. 39-50　2005年4月
EEM（Elastic Emission Machining）による4H-SiC(0001)表面の平滑化

久保円章亀, 三村秀和, 佐野泰久, 山村和也, 山内和人, 森勇藏

精密工学会誌論文集　Vol. 71　No. 4　p. 477-480　2005年4月
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
数値制御プラズマＣＶＭによる水晶ウエハの高精度加工に関する研究－加工装置の開発と基本的加工特性の取得－

山村和也, 柴原正文, 佐野泰久, 杉山剛, 遠藤勝義, 森勇藏

精密工学会誌, Vol.71 No.4, pp.455-459.　2005年4月
Hard X-ray Diffraction-Limited Nanofocusing with Kirkpatrick-Baez Mirrors

H. Mimura, S. Matsuyama, H. Yumoto, H. Hara, K. Yamamura, Y. Sano, M. Shibahara, K. Endo, Y. Mori, Y. Nishino, K. Tamasaku, M. Yabashi, T. Ishikawa, K. Yamauchi

Japanese Journal of Applied Physics Part 2　Vol. 44　No. 16-19　p. L539-L542　2005年4月
Creation of perfect surfaces

Yuzo Mori, Kazuya Yamamura, Katsuyoshi Endo, Kazuto Yamauchi, Kiyoshi Yasutake, Hidekazu Goto, Hiroaki Kakiuchi, Yasuhisa Sano, Hidekazu Mimura

Journal of Crystal Growth　Vol. 275　No. 1-2　p. 39-50　2005年2月15日
Development of surface figuring and smoothing technologies for ultraprecise X-ray mirror Fabrication

H. Mimura, H. Yumoto, S. Matsuyama, K. Yamamura, Y. Sano, K. Endo, Y. Mori, Y. Nishino, K. Tamasaku, M. Yabashi, T. Ishikawa, K. Yamauchi

2005年2月
Fabrication of ultraprecisely figured and ultrasmooth elliptical mirrors for hard X-ray nanofocusing

K. Yamuchi, H. Mimura, K. Yamamura, Y. Sano, K. Ueno, S. Matsuyama, K. Endo, Y. Nishino, K. Tamasaku, M. Yabashi, T. Ishikawa

2005年2月
Relative angle determinable stitching interferometry for hard X-ray reflective optics

H. Mimura, H. Yumoto, S. Matsuyama, K. Yamamura, Y. Sano, K. Ueno, K. Endo, Y. Mori, Y. Nishino, K. Tamasaku, M. Yabashi, T. Ishikawa, K. Yamauchi

Review of Scientfic Instruments　Vol. 76　No. 4　2005年2月
超高精度X線集光ミラーの作製と集光特性の評価

三村秀和, 松山智至, 湯本博勝, 原英之, 山村和也, 佐野泰久, 遠藤勝義, 森勇藏, 石川哲也, 山内和人

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2005　No. 0　p. 788-788　2005年
出版者・発行元：The Japan Society for Precision Engineering
EEMによるSiC表面の平坦化

久保田章亀, 三村秀和, 稲垣耕司, 佐野泰久, 山村和也, 山内和人, 森勇藏

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2005　No. 0　p. 785-785　2005年
出版者・発行元：The Japan Society for Precision Engineering
プラズマCVMによるSiCの加工特性

渡辺容代, 佐野泰久, 山村和也, 山内和人, 石田剛志, 有馬健太, 遠藤勝義, 森勇藏

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2005　No. 0　p. 529-530　2005年
出版者・発行元：The Japan Society for Precision Engineering
硬X線ナノ集光ミラーの形状計測:高精度スティッチング法の開発

湯本博勝, 三村秀和, 松山智至, 山村和也, 佐野泰久, 遠藤勝義, 森勇藏, 石川哲也, 山内和人

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2005　No. 0　p. 453-454　2005年
出版者・発行元：The Japan Society for Precision Engineering
触媒を援用した化学ポリシング法によるSiCの加工

原英之, 佐野泰久, 三村秀和, 山内和人

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2005　No. 0　p. 337-338　2005年
出版者・発行元：The Japan Society for Precision Engineering
硬X線ナノ集光用超高精度楕円ミラーの作製と1次元集光性能の評価

湯本博勝, 三村秀和, 松山智至, 原英之, 山村和也, 佐野泰久, 上野一匡, 遠藤勝義, 森勇藏, 西野吉則, 玉作賢治, 矢橋牧名, 石川哲也, 山内和人

精密工学会誌　Vol. 精密工学会誌 Vol. 71 No. 9 pp.1137-1140　No. 9　p. 1137-1140　2005年
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
Development of surface figuring and smoothing technologies for ultraprecise X-ray mirror Fabrication

2005年
Fabrication of ultraprecisely figured and ultrasmooth elliptical mirrors for hard X-ray nanofocusing

2005年
数値制御プラズマＣＶＭによる水晶ウエハの高精度加工に関する研究－円筒型回転電極を用いた数値制御加工による水晶ウエハ厚さの均一化－

精密工学会誌, Vol.71, No.5, pp.655-659.　Vol. Vol.71, No.5, pp.655-659.　2005年
Plasma Chemical Vaporization Machining (PCVM)

Book of Lecture Note, IWCGT-3, (2005) pp. 305-316.　2005年
Improvement of Thickness Distribution of Quartz Crystal Wafer by Numerically Controlled Plasma Chemical Vaporization Machining

Review of Scientific Instruments, Vol.76, 096103　Vol. Vol. 76, 096103　2005年
Relative angle determinable stitching interferometry for hard X-ray reflective optics

Review of Scientfic Instruments　Vol. 76, 045102 (2005)/,　2005年
Hard X-ray diffraction-limited nanofocusing with Kirkpatrick-Baez mirrors

H Mimura, S Matsuyama, H Yumoto, H Hara, K Yamamura, Y Sano, M Shibahara, K End, Y Mori, Y Nishino, K Tamasaku, M Yabashi, T Ishikawa, K Yamauchi

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS & EXPRESS LETTERS　Vol. 44　No. 16-19　p. L539-L542　2005年
数値制御プラズマＣＶＭによる水晶ウエハの高精度加工に関する研究－加工装置の開発と基本的加工特性の取得－

精密工学会誌, Vol.71 No.4, pp.455-459.　2005年
Creation of Perfect Surfaces

Journal of Crystal Growth　Vol. 275 39-50.　2005年
数値制御プラズマＣＶＭによる水晶ウエハの高精度加工に関する研究－円筒型回転電極を用いた数値制御加工による水晶ウエハ厚さの均一化－

精密工学会誌, Vol.71, No.5, pp.655-659.　Vol. Vol.71, No.5, pp.655-659./,　2005年
Improvement of thickness uniformity of quartz crystal wafer by numerically controlled plasma CVM

Masafumi Shibahara, Kazuya Yamamura, Yasuhisa Sano, Tsuyoshi Sugiyama, Katsuyoshi Endo, Yuzo Mori

Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering　Vol. 5869　p. 1-8　2005年
Hard X-ray diffraction-limited nanofocusing with kirkpatrick-baez mirrors

Hidekazu Mimura, Satoshi Matsuyama, Hirokatsu Yumoto, Hideyuki Hara, Kazuya Yamamura, Yasuhisa Sano, Masafumi Shibahara, Katsuyoshi Endo, Yuzo Mori, Yoshinori Nishlno, Kenji Tamasaku, Makina Yabashi, Tetsuya Ishikawa, Kazuto Yamauchi

Japanese Journal of Applied Physics, Part 2: Letters　Vol. 44　No. 16-19　p. L539-L542　2005年
数値制御プラズマCVMによる水晶ウエハの高精度加工に関する研究 : 加工装置の開発と基本的加工特性の取得

山村和也, 柴原正文, 佐野泰久, 杉山剛, 遠藤勝義, 森勇藏

精密工学会誌論文集　Vol. 71　No. 4　p. 455-459　2005年
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
Creation of Perfect Surfaces

Journal of Crystal Growth　Vol. 275 39-50.　2005年
数値制御プラズマCVMによる水晶ウエハの高精度加工に関する研究 : 円筒型回転電極を用いた数値制御加工による水晶ウエハ厚さの均一化

柴原正文, 山村和也, 佐野泰久, 杉山剛, 遠藤勝義, 森勇藏

精密工学会誌論文集　Vol. Vol.71, No.5, pp.655-659.　No. 5　p. 655-659　2005年
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
Fabrication of elliptically figured mirror for focusing hard x rays to size less than 50 nm

Hirokatsu Yumoto, Hidekazu Mimura, Satoshi Matsuyama, Hideyuki Hara, Kazuya Yamamura, Yasuhisa Sano, Kazumasa Ueno, Katsuyoshi Endo, Yuzo Mori, Makina Yabashi, Yoshinori Nishino, Kenji Tamasaku, Tetsuya Ishikawa, Kazuto Yamauchi

Review of Scientific Instruments　Vol. 76　No. 6　2005年
Improvement of thickness uniformity of quartz crystal wafer by numerically controlled plasma CVM.

Proc. SPIE 5918(2005) 591804　Vol. 5918, 591804　2005年
Development of surface figuring and smoothing technologies for ultraprecise X-ray mirror Fabrication

2005年
Relative angle determinable stitching interferometry for hard X-ray reflective optics

Review of Scientfic Instruments　Vol. 76, 045102 (2005)/,　2005年
Fabrication of elliptically figured mirror for focusing hard X-rays to size less than 50 nm

Review of Scientific Instruments, 76, 063708 (2005).　2005年
Plasma Chemical Vaporization Machining (PCVM)

Book of Lecture Note, IWCGT-3, (2005) pp. 305-316.　2005年
Improvement of Thickness Distribution of Quartz Crystal Wafer by Numerically Controlled Plasma Chemical Vaporization Machining

Review of Scientific Instruments　Vol. Vol. 76, 096103/,　2005年
A new designed ultra-high precision profiler

Y. Higashi, Y. Takaie, K. Endo, T. Kume, K. Enami, K. Yamauchi, K. Yamamura, Y. Sano, K. Ueno, Y. Mori

Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering　Vol. 5921　p. 1-9　2005年
Improvement of thickness uniformity of quartz crystal wafer by numerically controlled plasma CVM.

Proc. SPIE 5918(2005) 591804　Vol. 5918, 591804/,　2005年
硬X線ナノ集光のための高精度楕円体ミラーの作製と集光特性の評価

湯本博勝, 山内和人, 三村秀和, 松山智至, 山村和也, 佐野泰久, 西野吉則, 玉作賢治, 矢橋牧名

応用物理学会学術講演会講演予稿集　Vol. 65th　No. 2　2004年9月1日
Surface Figure Metrology of x-ray mirrors using optical interferometry

K. Yamauchi, K. Yamamura, H. Mimura, Y. Sano, S. Matsuyama, H. Yumoto, K. Ueno, K. Endo, M. Yabashi, K. Tamasaku, Y. Nishino, T. Ishikawa, Y. Mori

2004年9月
Machining of next generation semiconductor materials by plasma chemical vaporization machining

Kazuya Yamamura, Yuzo Mori, Yasuhisa Sano

Abstracts of the 14th international conference on crystal growth, pp.606　Vol. pp.606　2004年8月
Wave-optical and ray-tracing analysis to establish a two dimensional focusing unit using K-B arrangement

S. Matsuyama, H. Mimura, K. Yamamura, H. Yumoto, Y. Sano, K. Endo, Y. Mori, M. Yabashi, K. Tamasaku, Y. Nishino, T. Ishikawa, K. Yamauchi

Proceedings of SPIE　Vol. 5533　p. 181-191　2004年8月
Fabrication technology of ultraprecise mirror optics to realize hard X-ray nanobeam, SPIE International Symposium, Optical Science and Technology

K. Yamauchi, K. Yamamura, H. Mimura, Y. Sano, S. Matsuyama, H. Yumoto, K. Ueno, M. Shibahara, K. Endo, M. Yabashi, K. Tamasaku, Y. Nishino, T. Ishikawa, Y. Mori

Proceedings of SPIE,　Vol. 5533　p. 116-123　2004年8月
Microstitching Interferometry for hard X-ray nanofocusing mirrors

H. Mimura, H. Yumoto, K. Yamamura, Y. Sano, S. Matsuyama, K. Ueno, K. Endo, Y. Mori, M. Yabashi, K. Tamasaku, Y. Nishino, T. Ishikawa, K. Yamauchi

Proceedings of SPIE　Vol. 5533, 171-180　2004年8月
Creation of perfect surfaces

Yuzo Mori, Kazuya Yamamura, Katsuyoshi Endo, Kazuto Yamauchi, Kiyoshi Yasutake, Hidekazu Goto, Hiroaki Kakiuchi, Yasuhisa Sano, Hidekazu Mimura

The 14th international conference on crystal growth　2004年8月
数値制御プラズマCVMによる超薄膜SOIウエハの製作

佐野泰久

生産と技術　Vol. 56　No. 3　p. 49-51　2004年7月
出版者・発行元：生産技術振興協会
Image quality improvement in hard X-ray projection microscope using total reflection mirror optics

H. Mimura, K. Yamauchi, K. Yamamura, A. Kubota, S. Matsuyama, Y. Sano, K. Ueno, K. Endo, Y. Nishino, K. Tamasaku, M. Yabashi, T. Ishikawa, Y. Mori

Journal of Synchrotoron Radiation, 11, pp. 343-346.　Vol. 11, pp. 343-346　2004年7月
Image quality improvement in a hard X-ray projection microscope using total reflection mirror optics

Hidekazu Mimura, Kazuto Yamauchi, Kazuya Yamamura, Akihisa Kubota, Satoshi Matsuyama, Yasuhisa Sano, Kazumasa Ueno, Katsuyoshi Endo, Yoshinori Nishino, Kenji Tamasaku, Makina Yabashi, Tetsuya Ishikawa, Yuzo Mori

Journal of Synchrotron Radiation　Vol. 11　No. 4　p. 343-346　2004年7月1日
Surface figure metrology of total reflection X-ray mirror using optical interferometry at Osaka Univ. and SPring-8

K.Yamuchi, H.Mimura, K.Yamamura, Y.Sano, K.Ueno, S.Matsuyama, K.Endo, Y.Nishino, K.Tamasaku, M.Yabashi, T.Ishikawa

Proceedings of Second International Workshop on Metrology for X-ray Optics　2004年4月
Thinning of silicon-on-insulator wafers by numerically controlled plasma chemical vaporization machining

Y Mori, K Yamamura, Y Sano

REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS　Vol. 75　No. 4　p. 942-946　2004年4月
Thinning of silicon-on-insulator wafers by numerically controlled plasma chemical vaporization machining

Yuzo Mori, Kazuya Yamamura, Yasuhisa Sano

Review of Scientific Instruments, Vol. 75, No. 4, pp.942-946　Vol. 75　No. 4　p. 942-946　2004年4月
走査型X線顕微鏡のための楕円体ミラーを用いた二次元集光ユニットの開発

松山智至, 山内和人, 山村和也, 三村秀和, 佐野泰久, 玉作賢治, 矢橋牧名, 西野吉則, 石川哲也

応用物理学関係連合講演会講演予稿集　Vol. 51st　No. 2　2004年3月28日
Fabrication technology for hard X-ray reflective optics

Y. Mori, K. Yamuchi, K. Yamamura, H. Mimura, Y.Sano, S. Matsuyama, K. Endo, Y. Nishino, K. Tamasaku, M. Yabashi, T. Ishikawa

Proceedings of Second International Workshop on Metrology for X-ray Optics　2004年3月
干渉計を用いた楕円体ミラーの形状計測:高精度スティッチング法の開発

湯本博勝, 山内和人, 三村秀和, 松山智至, 山村和也, 佐野泰久, 遠藤勝義, 石川哲也, 森勇藏

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2004　No. 0　p. 116-116　2004年
出版者・発行元：The Japan Society for Precision Engineering
超高精度硬Ｘ線集光ミラーの製作とナノスペクトロスコピーへの応用

山村和也, 山内和人, 佐野泰久, 三村秀和, 遠藤勝義, 森勇藏

大阪大学低温センターだより，125, 4-10　Vol. 125, 4-10　p. 4-10　2004年1月
出版者・発行元：大阪大学低温センター
Fabrication technology for hard X-ray reflective optics

Proceedings of Second International Workshop on Metrology for X-ray Optics　2004年
数値制御プラズマCVMによる超薄膜SOIウエハの製作

生産と技術　Vol. Vol.56 No.3　2004年
Image quality improvement in hard X-ray projection microscope using total reflection mirror optics

Journal of Synchrotoron Radiation, 11, pp. 343-346.　Vol. 11, pp. 343-346　2004年
Microstitching interferometry for nano focusing mirror optics

H Mimura, H Yumoto, S Matsuyama, K Yamamura, Y Sano, K Ueno, K Endo, Y Mori, M Yabashi, K Tamasaku, Y Nishino, T Ishikawa, K Yamauchi

ADVANCES IN MIRROR TECHNOLOGY FOR X-RAY, EUV LITHOGRAPHY, LASER, AND OTHER APPLICATIONS II　Vol. 5533　p. 171-180　2004年
数値制御プラズマＣＶＭによる次世代超薄膜ＳＯＩウエハの製作

佐野泰久, 山村和也, 遠藤勝義, 森勇藏

大阪大学低温センターだより，125,11-15　Vol. 125,11-15　2004年1月
原子の滑らかさの加工技術

O plus E, Vol. 26, No.1, pp.36-42　Vol. Vol. 26, No.1, pp.36-42　2004年
超高精度硬Ｘ線集光ミラーの製作とナノスペクトロスコピーへの応用

大阪大学低温センターだより，125, 4-10　Vol. 125, 4-10/,　2004年
Image quality improvement in hard X-ray projection microscope using total reflection mirror optics

Journal of Synchrotoron Radiation, 11, pp. 343-346.　Vol. 11, pp. 343-346/,　2004年
Microstitching Interferometry for hard X-ray nanofocusing mirrors

Proceedings of SPIE　Vol. 5533, 171-180/,　2004年
Creation of perfect surfaces

2004年
数値制御プラズマＣＶＭによる次世代超薄膜ＳＯＩウエハの製作

森勇蔵, 佐野泰久, 山村和也, 遠藤勝義, ヤマムラカズヤ, モリユウゾウ, エンドウカツヨシ, サノヤスヒサ

大阪大学低温センターだより，125,11-15　Vol. 125,11-15/,　p. 11-15　2004年
出版者・発行元：大阪大学低温センター
原子の滑らかさの加工技術

O plus E, Vol. 26, No.1, pp.36-42　Vol. Vol. 26, No.1, pp.36-42/,　2004年
Machining of next generation semiconductor materials by plasma chemical vaporization machining

Abstracts of the 14th international conference on crystal growth, pp.606　Vol. pp.606　2004年
Development of a figure correction method having spatial resolution close to 0.1mm

Y Mori, K Yamauchi, K Yamamura, H Mimura, Y Sano, A Saito, K Endo, A Souvorov, M Yabashi, K Tamasaku, T Ishikawa

ADVANCES IN MIRROR TECHNOLOGY FOR X-RAY, EUV LITHOGRAPHY, LASER, AND OTHER APPLICATIONS　Vol. 5193　p. 105-111　2004年
Surface figure metrology of total reflection X-ray mirror using optical interferometry at Osaka Univ. and SPring-8

Proceedings of Second International Workshop on Metrology for X-ray Optics　2004年
Ultra-precision machining technology of realizing atomically smooth surface

O plus E, Vol. 26, No.1, pp.36-42　Vol. Vol. 26, No.1, pp.36-42　2004年
Ultra-precision machining technology of realizing atomically smooth surface

O plus E, Vol. 26, No.1, pp.36-42　Vol. Vol. 26, No.1, pp.36-42/,　2004年
Fabrication technology for hard X-ray reflective optics

Proceedings of Second International Workshop on Metrology for X-ray Optics　2004年
Fabrication technology of ultraprecise mirror optics to realize hard X-ray nanobeam

K Yamauchi, K Yamamura, H Mimura, Y Sano, S Matsuyama, H Yumoto, K Ueno, M Shibahara, K Endo, M Yabashi, K Tamasaku, Y Nishino, T Ishikawa, Y Mori

ADVANCES IN MIRROR TECHNOLOGY FOR X-RAY, EUV LITHOGRAPHY, LASER, AND OTHER APPLICATIONS II　Vol. 5533　p. 116-123　2004年
Microstitching Interferometry for hard X-ray nanofocusing mirrors

Proceedings of SPIE　Vol. 5533, 171-180/,　2004年
Wave-optical and ray-tracing analysis to establish a compact two-dimensional focusing unit using K-B mirror arrangement

S Matsuyama, H Mimura, K Yamamura, H Yumoto, Y Sano, K Endo, Y Mori, M Yabashi, K Tamasaku, Y Nishino, T Ishikawa, K Yamauchi

ADVANCES IN MIRROR TECHNOLOGY FOR X-RAY, EUV LITHOGRAPHY, LASER, AND OTHER APPLICATIONS II　Vol. 5533　p. 181-191　2004年
Creation of perfect surfaces

Abstracts the 14th international conference on crystal growth, pp.211　2004年
原子の滑らかさの加工技術

森勇藏, 山村和也, 山内和人, 佐野泰久, 三村秀和

O plus E, Vol. 26, No.1, pp.36-42　Vol. Vol. 26, No.1, pp.36-42/,　2004年1月
出版者・発行元：(株)新技術コミュニケーションズ
Machining of next generation semiconductor materials by plasma chemical vaporization machining

Abstracts of the 14th international conference on crystal growth, pp.606　Vol. pp.606　2004年
Two-dimensional Submicron Focusing of Hard X-rays by Two Elliptical Mirrors Fabricated by Plasma Chemical Vaporization Machining and Elastic Emission Machining

Kazuto Yamauchi, Kazuya Yamamura, Hidekazu Mimura, Yasuhisa Sano, Akira Saito, Katsuyoshi Endo, Alexei Souvorov, Makina Yabashi, Kenji Tamasaku, Tetsuya Ishikawa, Yuzo Mori

Jpn. J. Appl. Phys., Vol.42, No.11, pp.7129-7134　Vol. 42　No. 11　p. 7129-7134　2003年11月
Two-dimensional submicron focusing of hard X-rays by two elliptical mirrors fabricated by plasma chemical vaporization machining and elastic emission machining

K Yamauchi, K Yamamura, H Mimura, Y Sano, A Saito, K Endo, A Souvorov, M Yabashi, K Tamasaku, T Ishikawa, Y Mori

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS　Vol. 42　No. 11　p. 7129-7134　2003年11月
Fabrication of elliptical mirror at nanometer-level accuracy for hard x-ray focusing by numerically controlled plasma chemical vaporization machining

K Yamamura, K Yamauchi, H Mimura, Y Sano, A Saito, K Endo, A Souvorov, M Yabashi, K Tamasaku, T Ishikawa, Y Mori

REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS　Vol. 74　No. 10　p. 4549-4553　2003年10月
Fabrication of elliptical mirror at nanometer-level accuracy for hard x-ray focusing by numerically controlled plasma chemical vaporization machining.

K. Yamamura, K. Yamauchi, H. Mimura, Y. Sano, A. Saito, K. Endo, A. Souvorov, M. Yabashi, K. Tamasaku, T. Ishikawa, Y. Mori

Review of Sceintific Instruments, 74, (10), pp.4549-4553　Vol. 74　No. 10　p. 4549-4553　2003年10月
Fabrication technology of hard X-ray aspherical mirror optics and application to nanospectroscopy

Y. Mori, K. Yamauchi, K. Yamamura, H. Mimura, Y. Sano, A. Saito, K. Endo, A. Souvorov, M. Yabashi, K. Tamasaku, T. Ishikawa, M. Shimura, Y. Ishizaka

Proc. SPIE 5193, pp.11-17　Vol. 5193, pp.11-17　2003年8月
Development of a figure correction method having spatial resolution close to 0.1mm

Y. Mori, K. Yamauchi, K. Yamamura, H. Mimura, Y. Sano, A. Saito, K. Endo, A. Souvorov, M. Yabashi, K. Tamasaku, T. Ishikawa

Proc. SPIE 5193, pp.105-111　Vol. 5193　p. 105-111　2003年8月
硬Ｘ線用斜入射平面ミラーの形状誤差が反射Ｘ線強度・位相分布に及ぼす影響の波動光学的評価

山内和人, 山村和也, 三村秀和, 佐野泰久, 齋藤彰, 久保田章亀, 金岡政彦, Alexei Souvorov, 玉作賢治, 矢橋牧名, 石川哲也, 森勇藏

精密工学会誌, 69, 2003, 997-1001　Vol. 69, 997-1001/,　2003年7月
高精度X線ミラーのための干渉計を利用した形状計測システムの開発

山内和人, 山村和也, 三村秀和, 佐野泰久, 久保田章亀, 関戸康裕, 上野一匡, Alexei Souvorov, 玉作賢治, 矢橋牧名, 石川哲也, 森勇藏

精密工学会誌, 69, 6, 856-860　Vol. 69　No. 6　p. 856-860　2003年6月
Microstitching interferometry for x-ray reflective optics

K Yamauchi, K Yamamura, H Mimura, Y Sano, A Saito, K Ueno, K Endo, A Souvorov, M Yabashi, K Tamasaku, T Ishikawa, Y Mori

REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS　Vol. 74　No. 5　p. 2894-2898　2003年5月
Microstitching interferometry for x-ray reflective optics

K. Yamauchi, K. Yamamura, H. Mimura, Y. Sano, A. Saito, K. Ueno, K. Endo, A. Souvorov, M. Yabashi, K. Tamasaku, T. Ishikawa, Y. Mori

Review of Scientific Instruments 74 (2003) 2894-2898.　Vol. 74　No. 5　p. 2894-2898　2003年5月
数値制御プラズマCVM(Chemical Vaporization Machining)によるSOIの薄膜化－デバイス用基板としての加工面の評価－

森勇藏, 佐野泰久, 山村和也, 森田諭, 森田瑞穂, 大嶋一郎, 斉藤祐司, 須川成利, 大見忠弘

精密工学会誌 69 (2003) 721-725.　Vol. 69 721-725　No. 5　p. 721-725　2003年5月
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
プラズマCVMおよびEEMによる超高精度X線ミラーの作製とその応用

森勇藏, 山内和人, 山村和也, 三村秀和, 佐野泰久, 久保田章亀, 遠藤勝義, Alexei Souvorov, 玉作賢治, 矢橋牧名, 石川哲也

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2003　No. 0　p. 388-388　2003年
出版者・発行元：The Japan Society for Precision Engineering
Ultraprecision Machining based on Physics and Chemistry

2003年
高精度X線ミラーのための干渉計を利用した形状計測システムの開発

精密工学会誌, 69, 6, 856-860　Vol. 69, 6, 856-860　2003年
硬Ｘ線用斜入射平面ミラーの形状誤差が反射Ｘ線強度・位相分布に及ぼす影響の波動光学的評価

精密工学会誌, 69, 2003, 997-1001　Vol. 69, 997-1001　2003年
数値制御プラズマCVM(Chemical Vaporization Machining)によるSOIの薄膜化－デバイス用基板としての加工面の評価－

森勇藏, 佐野泰久, 山村和也, 森田諭, 森田瑞穂, 大嶋一郎, 斉藤祐司, 須川成利, 大見忠弘

精密工学会誌 69 (2003) 721-725.　Vol. 69 721-725　No. 5　p. 721-725　2003年
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
加工技術データファイル基礎編（特殊加工）、5.7プラズマＣＶＭ

（財）機械振興協会技術研究所　2003年
高精度X線ミラーのための干渉計を利用した形状計測システムの開発

山内和人, 山村和也, 三村秀和, 佐野泰久, 久保田章亀, 関戸康裕, 上野一匡, SOUVOROV Alexei, 玉作賢治, 矢橋牧名, 石川哲也, 森勇藏

精密工学会誌, 69, 6, 856-860　Vol. 69, 6, 856-860/,　No. 6　p. 856-860　2003年
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
硬Ｘ線用斜入射平面ミラーの形状誤差が反射Ｘ線強度・位相分布に及ぼす影響の波動光学的評価

山内和人, 山村和也, 三村秀和, 佐野泰久, 齋藤彰, 久保田章亀, 金岡政彦, SOUVOROV Alexei, 玉作賢治, 矢橋牧名, 石川哲也, 森勇蔵

精密工学会誌, 69, 2003, 997-1001　Vol. 69, 997-1001/,　No. 7　p. 997-1001　2003年
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
Crystal Growth Technology(Plasma-CVM(Chemical Vaporization Machining))

John Wiley & Sons　2003年
Fabrication of elliptical mirror at nanometer-level accuracy for hard x-ray focusing by numerically controlled plasma chemical vaporization machining.

Review of Sceintific Instruments, 74, (10), pp.4549-4553　Vol. 74, (10), pp.4549-4553/,　2003年
数値制御プラズマCVM(Chemical Vaporization Machining)によるSOIの薄膜化－デバイス用基板としての加工面の評価－

精密工学会誌 69 (2003) 721-725.　Vol. 69 721-725　2003年
高精度X線ミラーのための干渉計を利用した形状計測システムの開発

精密工学会誌, 69, 6, 856-860　Vol. 69, 6, 856-860/,　2003年
硬Ｘ線用斜入射平面ミラーの形状誤差が反射Ｘ線強度・位相分布に及ぼす影響の波動光学的評価

精密工学会誌, 69, 2003, 997-1001　Vol. 69, 997-1001/,　2003年
Fabrication technology of hard X-ray aspherical mirror optics and application to nanospectroscopy

Proc. SPIE 5193, pp.11-17　Vol. 5193, pp.11-17/,　2003年
Ultraprecision Machining based on Physics and Chemistry

Yuzo Mori, Kikuji Hirose, Kazuto Yamauchi, Hidekazu Goto, Kazuya Yamamura, Yasuhisa Sano

2003年1月
Two-dimensional Submicron Focusing of Hard X-rays by Two Elliptical Mirrors Fabricated by Plasma Chemical Vaporization Machining and Elastic Emission Machining

Vol. Vol.42, No.11, pp.7129-7134　2003年
数値制御プラズマCVM (Chemical Vaporization Machining)によるSOIの薄膜化 : デバイス用基板としての加工面の評価

森勇藏, 佐野泰久, 山村和也, 森田諭, 森田瑞穂, 大嶋一郎, 斉藤祐司, 須川成利, 大見忠弘

精密工学会誌　Vol. 69 721-725　No. 5　p. 721-725　2003年
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
Development of the Measurement System with Interferometers for Ultraprecise X-ray mirror

Vol. 69, 6, 856-860　2003年
Wave-optical evaluation of reflected X-ray intensity and wavefront distribution in total reflection hard X-ray mirror optics

Vol. 69, 997-1001　2003年
Fabrication technology of hard X-ray aspherical mirror optics and application to nanospectroscopy

Proc. SPIE 5193, pp.11-17　Vol. 5193, pp.11-17　2003年
Thinning of SOI by numerically controlled Plasma CVM(Chemical Vaporization Machining) -Evalation of Machined Surface for Electron Devices-

Vol. 69 721-725　2003年
Wave-optical evaluation of reflected X-ray intensity and wavefront distribution in total reflection hard X-ray mirror optics

Vol. 69, 997-1001/,　2003年
Ultraprecision Machining based on Physics and Chemistry

Sensors and Materials, Vol. 15, No. 1 (2003), pp.1-19.　2003年
Crystal Growth Technology(Plasma-CVM(Chemical Vaporization Machining))

John Wiley & Sons　2003年
Fabrication of elliptical mirror at nanometer-level accuracy for hard x-ray focusing by numerically controlled plasma chemical vaporization machining.

Vol. 74, (10), pp.4549-4553/,　2003年
Two-dimensional Submicron Focusing of Hard X-rays by Two Elliptical Mirrors Fabricated by Plasma Chemical Vaporization Machining and Elastic Emission Machining

Vol. Vol.42, No.11, pp.7129-7134/,　2003年
Microstitching interferometry for x-ray reflective optics

Vol. 74 2894-2898　2003年
Development of the Measurement System with Interferometers for Ultraprecise X-ray mirror

Vol. 69, 6, 856-860/,　2003年
Fabrication technology of hard X-ray aspherical mirror optics and application to nanospectroscopy

Proc. SPIE 5193, pp.11-17　Vol. 5193, pp.11-17/,　2003年
数値制御プラズマCVM(Chemical Vaporization Machining)によるSOIの薄膜化

森勇藏, 山村和也, 佐野泰久

精密工学会誌, Vol.68, No.12, p.1590-1594　Vol. Vol.68, No.12, p.1590-1594　No. 12　p. 1590-1594　2002年12月
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
プラズマCVMおよびEEMによる放射光用X線ミラーの作製とその応用 : 二枚の平面ミラーを用いたX線干渉計の開発

森勇藏, 山内和人, 山村和也, 三村秀和, 佐野泰久, 齋藤彰, SOUVOROV A, 矢橋牧名, 玉作賢治, 石川哲也

精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 2002　No. 2　p. 459-459　2002年10月1日
プラズマCVMおよびEEMによる放射光用X線ミラーの作製とその応用 : 硬X線顕微鏡の開発

森勇蔵, 山内和人, 山村和也, 三村秀和, 佐野泰久, 斉藤彰, SOUVOROV Alexei, 矢橋牧名, 玉作賢治, 石川哲也

精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 2002　No. 2　p. 458-458　2002年10月1日
プラズマCVMおよびEEMによるシンクロトロン放射X線用楕円ミラーの作製と集光特性の評価

森勇藏, 山内和人, 山村和也, 三村秀和, 佐野泰久, 齋藤彰, Alexei Souvorov, 玉作賢治, 矢橋牧名, 石川哲也

精密工学会誌, Vol.68, p.1347-1350　Vol. 68　No. 10　p. 1347-1350　2002年10月
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
Nearly diffraction-limited line focusing of a hard-X-ray beam with an elliptically figured mirror

K. Yamauchi, K. Yamamura, H. Mimura, Y. Sano, A. Saito, A. Souvorov, M. Yabashi, K. Tamasaku, T. Ishikawa, Y. Mori

J. Synchrotron Rad., vol.9, p.313-316　Vol. 9　p. 313-316　2002年9月
Nearly diffraction-limited line focusing of a hard-X-ray beam with an elliptically figured mirror

K Yamauchi, K Yamamura, H Mimura, Y Sano, A Saito, A Souvorov, M Yabashi, K Tamasaku, T Ishikawa, Y Mori

JOURNAL OF SYNCHROTRON RADIATION　Vol. 9　p. 313-316　2002年9月
Nearly diffraction-limited line focusing of a hard-X-ray beam with an elliptically figured mirror

Kazuto Yamauchi, Kazuya Yamamura, Hidekazu Mimura, Yasuhisa Sano, Akira Saito, Alexei Souvorov, Makina Yabashi, Kenji Tamasaku, Tetsuya Ishikawa, Yuzo Mori

Journal of Synchrotron Radiation　Vol. 9　No. 5　p. 313-316　2002年9月1日
Aspheric surface fabrication in nm-level accuracy by numerically controlled plasma CVM and EEM

K. Yamamura, H. Mimura, K. Yamauchi, Y. Sano, A. Saito, T. Kinoshita, K. Endo, A. Souvorov, M. Yabashi, K. Tamasaku, T. Ishikawa, Y. Mori

Proc. SPIE, Vol.4782　Vol. Vol.4782　2002年7月
Sub-micron focusing of hard X-ray by reflective optics for scanning x-ray microscopy

Y. Mori, K. Yamauchi, K. Yamamura, H. Mimura, Y. Sano, A. Saito, K. Ueno, K. Endo, A. Souvorov, M. Yabashi, K. Tamasaku, T. Ishikawa

SPIE Vol.4782　Vol. Vol.4782　2002年7月
Aspheric surface fabrication in nm-level accuracy by numerically controlled plasma CVM and EEM

K. Yamamura, H. Mimura, K. Yamauchi, Y. Sano, A. Saito, T. Kinoshita, K. Endo, A. Souvorov, M. Yabashi, K. Tamasaku, T. Ishikawa, Y. Mori

Proc. SPIE, Vol.4782　Vol. Vol.4782　p. 265-265　2002年7月
Wave-optical analysis of sub-micron focusing of hard X-ray by reflective optics

K. Yamauchi, K. Yamamura, H. Mimura, Y. Sano, A. Saito, M. Kanaoka, K. Endo, A. Souvorov, M. Yabashi, K. Tamasaku, T. Ishikawa, Y. Mori

Proc. SPIE, Vol.4782　Vol. Vol.4782　2002年7月
Fabrication of optics by use of plasma chemical vaporization machining with a pipe electrode

H Takino, N Shibata, H Itoh, T Kobayashi, K Yamamura, Y Sano, Y Mori

APPLIED OPTICS　Vol. 41　No. 19　p. 3971-3977　2002年7月
Fabrication of optics by use of plasma chemical vaporization machining with a pipe electrode

Hideo Takino, Norio Shibata, Hiroshi Itoh, Teruki Kobayashi, Kazuya Yamamura, Yasuhisa Sano, Yuzo Mori

Applied Optics　Vol. 41　No. 19　p. 3971-3977　2002年7月1日
Sub-micron focusing by reflective optics for scanning x-ray microscopy

Y. Mori, K. Yamauchi, K. Yamamura, H. Mimura, Y. Sano, A. Saito, K. Ueno, K. Endo, A. Souvorov, M. Yabashi, K. Tamasaku, T. Ishikawa

Proc. SPIE　Vol. 4782　p. 58-64　2002年7月
Fabrication of optics by use of plasma chemical vaporization machining with a pipe electrode

H. Takino, N. Shibata, H. Itoh, T. Kobayashi, K. Yamamura, Y. Sano, Y. Mori

Appl. Optics, Vol.41, p.3971-3977　Vol. Vol.41, p.3971-3977/,　2002年7月
Ultra-Precision Machining based on Physics and Chemistry

Y. Mori, K. Hirose, K. Yamauchi, H. Goto, K. Yamamura, Y. Sano

Proceedings of Proceedings of 3rd Workshop on Physical Chemistry of Wet Etching of Silicon, p.10-26　2002年6月
プラズマCVMおよびEEMによるX線平面ミラーの加工と放射光による評価

森勇蔵, 山内和人, 山村和也, 三村秀和, 佐野泰久, 斉藤彰, 金岡政彦, SOUVOROV A, 矢橋牧名, 玉作賢治, 石川哲也

精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 2002　No. 1　p. 605-605　2002年3月1日
数値制御プラズマCVMおよび数値制御EEMによる硬X線集光用超精密非球面ミラーの加工

森勇蔵, 山内和人, 山村和也, 三村秀和, 佐野泰久, 斉藤彰, SOUVOROV A, 矢橋牧名, 玉作賢治, 石川哲也

精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 2002　No. 1　p. 604-604　2002年3月1日
プラズマCVMおよびEEMによるシンクロトロン放射X線用楕円ミラーの作製と集光特性の評価

精密工学会誌, Vol.68, p.1347-1350　Vol. Vol.68, p.1347-1350　2002年
数値制御プラズマCVM(Chemical Vaporization Machining)によるSOIの薄膜化

精密工学会誌, Vol.68, No.12, p.1590-1594　Vol. Vol.68, No.12, p.1590-1594　2002年
プラズマCVMおよびEEMによるシンクロトロン放射X線用楕円ミラーの作製と集光特性の評価

森勇藏, 山内和人, 山村和也, 三村秀和, 佐野泰久, 斎藤彰, Souvorov Alexei, 玉作賢治, 矢橋牧名, 石川哲也

精密工学会誌, Vol.68, p.1347-1350　Vol. Vol.68, p.1347-1350/,　No. 10　p. 1347-1350　2002年
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
数値制御プラズマCVM(Chemical Vaporization Machining)によるSOIの薄膜化

精密工学会誌, Vol.68, No.12, p.1590-1594　Vol. Vol.68, No.12, p.1590-1594/,　2002年
Ultra-Precision Machining based on Physics and Chemistry

Proceedings of Proceedings of 3rd Workshop on Physical Chemistry of Wet Etching of Silicon, p.10-26　Vol. p.10-26　2002年
Aspheric surface fabrication in nm-level accuracy by numerically controlled plasma CVM and EEM

Proc. SPIE, Vol.4782　Vol. Vol.4782　2002年
Sub-micron focusing of hard X-ray by reflective optics for scanning x-ray microscopy

SPIE Vol.4782　Vol. Vol.4782　2002年
Wave-optical analysis of sub-micron focusing of hard X-ray by reflective optics

Proc. SPIE, Vol.4782　Vol. Vol.4782　2002年
Wave-optical analysis of sub-micron focusing of hard X-ray beams by reflective optics

K. Yamauchi, K. Yamamura, H. Mimura, Y. Sano, A. Saito, M. Kanaoka, K. Endo, A. Souvorov, M. Yabashi, K. Tamasaku, T. Ishikawa, Y. Mori

Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering　Vol. 4782　p. 271-276　2002年
Fabrication of optics by use of plasma chemical vaporization machining with a pipe electrode

Vol. Vol.41, p.3971-3977/,　2002年
Nearly diffraction-limited line focusing of a hard-X-ray beam with an elliptically figured mirror

Vol. vol.9, p.313-316/,　2002年
Fabrication of the Elliptical Mirror for Synchrotron hard X-ray by Plasma Chemical Vaporization Machining and Elastic Emission Machining and the Evaluation of the Focusing Performances

Jouranal of the Japan Society for Precision Engineering, Vol.68, p.1347-1350　Vol. Vol.68, p.1347-1350/,　2002年
数値制御プラズマCVM(Chemical Vaporization Machining)によるSOIの薄膜化 : 加工装置の開発と超薄膜SOIウエハの試作

森勇藏, 山村和也, 佐野泰久

精密工学会誌　Vol. Vol.68, No.12, p.1590-1594/,　No. 12　p. 1590-1594　2002年
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
Ultra-Precision Machining based on Physics and Chemistry

Vol. p.10-26　2002年
Sub-micron focusing of hard X-ray by reflective optics for scanning x-ray microscopy

Vol. Vol.4782　2002年
Aspheric surface fabrication in nm-level accuracy by numerically controlled plasma CVM and EEM

Vol. Vol.4782　2002年
Wave-optical analysis of sub-micron focusing of hard X-ray by reflective optics

Vol. Vol.4782　2002年
Removal Characteristics of Plasma Chemical Vaporization Machining with a Pipe Electrode

Hideo Takino, Teruyuki Kobayashi, Norio Shibata, Kazuya Yamamura, Yasuhisa Sano, Yuzo Mori

Proc. 2nd International Conference of European Society for Precision Engeneering and Nanotechnology　2001年6月
プラズマCVM(Chemical Vaporization Machining)による超精密加工

山村和也, 佐野泰久, 森勇藏

表面科学, Vol.~22, No.~3, pp.~160-166　Vol. 22　No. 3　p. 160-166　2001年3月
プラズマCVMによる機能材料の切断加工 ---内周刃型切断加工装置の試作とその切断加工特性---

森勇藏, 山内和人, 山村和也, 佐野泰久

精密工学会誌, Vol.~67, No.~2, pp.~295-299　Vol. 67　No. 2　p. 295-299　2001年2月
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
プラズマCVM(Chemical Vaporization Machining)による超精密加工

表面科学, Vol.~22, No.~3, pp.~160-166　Vol. Vol.~22, No.~3, pp.~160-166　2001年
Removal Characteristics of Plasma Chemical Vaporization Machining with a Pipe Electrode

Proc. 2nd International Conference of European Society for Precision Engeneering and Nanotechnology　2001年
プラズマCVM(Chemical Vaporization Machining)による超精密加工

表面科学, Vol.~22, No.~3, pp.~160-166　Vol. Vol.~22, No.~3, pp.~160-166/,　2001年
数値制御プラズマCVMによるX線ミラーの加工に関する研究（第1報）---X線ミラー加工用装置の開発---

森勇藏, 山村和也, 佐野泰久

精密工学会誌, Vol.~67, No.~1, pp.~131-136　Vol. 67　No. 1　p. 131-136　2001年1月
Ultra-precision Machining by Plasma CVM

Vol. Vol.~22, No.~3, pp.~160-166　2001年
Ultra-precision Machining by Plasma CVM

Vol. Vol.~22, No.~3, pp.~160-166/,　2001年
Removal Characteristics of Plasma Chemical Vaporization Machining with a Pipe Electrode

2001年
Ultra-precision Machining by Plasma CVM

Vol. 22　No. 3　p. 160-166　2001年
The Study of Fabrication of the X-ray Mirror by Numerically Controlled Plasma CVM(1st Report)-Development of the Machine for the X-ray Mirror Fabrication-

Journal of the Japan Society for Precision Engineering　Vol. 67　No. 1　p. 131-136　2001年
Cutting og Functional Material by Plasma CVM-Development of the Cutting Machine with Inner Blade Electrode and Its Cutting Characteristics-

Yuzo MORI, Kazuto YAMAUCHI, Kazuya YAMAMURA, Yasuhisa SANO

Journal of the Japan Society for Precision Engineering　Vol. 67　No. 2　p. 295-299　2001年
Development of Plasma Chemical Vaporization Machining

Yuzo Mori, Kazuto Yamauchi, Kazuya Yamamura, Yasuhisa Sano

Review of Scientific Instruments, Vol.~71, No.~12, pp.~4627-4632　Vol. Vol.~71, No.~12, pp.~4627-4632　2000年12月
The Study of Fabrication of the X-ray Mirror by Numerically Controlled Plasma Chemical Vaporization Machining : Development of the Machine for the X-ray Mirror Fabrication

Yuzo Mori, Kazuya Yamamura, Yasuhisa Sano

Review of Scientific Instruments, Vol. 71, No. 12, pp. 620-4626　Vol. Vol. 71, No. 12, pp. 4620-4626　2000年12月
Development of plasma chemical vaporization machining

Y Mori, K Yamauchi, K Yamamura, Y Sano

REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS　Vol. 71　No. 12　p. 4627-4632　2000年12月
Development of New Machining Process for Ultra Precision Surface Preparation ---EEM,Plasma CVM,and Atmospheric Pressure Plasma CVD---

Yuzo Mori, Kazuto Yamauhci, Kazuya Yamamura, Hiroaki Kakiuchi, Yasuhisa Sano

The 2nd International School on Crystal Growth Technology, Book of Lecture Notes, pp.~212-232　Vol. pp.~212-232　2000年8月
プラズマCVMの開発

森勇藏, 山内和人, 山村和也, 佐野泰久

精密工学会誌, Vol.~66, No.~8, pp.~1280-1285　Vol. 66　No. 8　p. 1280-1285　2000年8月
Development of Numerically Controlled Plasma Chemical Vaporization Machining System

Yuzo Mori, Kazuya Yamamura, Yasuhisa Sano

Technology Reports of the Osaka University, Vol.~50, No.~2374, pp.~63‐69　Vol. Vol.~50, No.~2374, pp.~63‐69/,　2000年4月
SPV(Surface Photo-voltage)スペクトロスコピーによる超精密加工表面評価法の開発

山内和人, 杉山和久, 稲垣耕司, 山村和也, 佐野泰久, 森勇藏

精密工学会誌, Vol.~66, No.~4, pp.~630-634　Vol. 66　No. 4　p. 630-634　2000年4月
SPV (Surface Photo-voltage)スペクトロスコピーによる超精密加工表面評価法の開発

山内和人, 杉山和久, 稲垣耕司, 山村和也, 佐野泰久, 森勇藏

精密工学会誌　Vol. 66　No. 4　p. 630-634　2000年4月
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
Development of Numerically Controlled Plasma Chemical Vaporization Machining System

Technology Reports of the Osaka University, Vol.~50, No.~2374, pp.~63‐69　Vol. Vol.~50, No.~2374, pp.~63‐69　2000年
Development of New Machining Process for Ultra Precision Surface Preparation ---EEM,Plasma CVM,and Atmospheric Pressure Plasma CVD---

The 2nd International School on Crystal Growth Technology, Book of Lecture Notes, pp.~212-232　Vol. pp.~212-232　2000年
The Study of Fabrication of the X-ray Mirror by Numerically Controlled Plasma Chemical Vaporization Machining : Development of the Machine for the X-ray Mirror Fabrication

Review of Scientific Instruments, Vol. 71, No. 12, pp. 620-4626　Vol. Vol. 71, No. 12, pp. 4620-4626/,　2000年
Development of Plasma Chemical Vaporization Machining

Vol. Vol.~71, No.~12, pp.~4627-4632　2000年
The Study of Fabrication of the X-ray Mirror by Numerically Controlled Plasma Chemical Vaporization Machining : Development of the Machine for the X-ray Mirror Fabrication

Review of Scientific Instruments, Vol. 71, No. 12, pp. 4620-4626　Vol. Vol. 71, No. 12, pp. 4620-4626　2000年
Development of Numerically Controlled Plasma Chemical Vaporization Machining System

Vol. Vol.~50, No.~2374, pp.~63‐69　2000年
Development of Plasma Chemical Vaporization Machining

Vol. Vol.~71, No.~12, pp.~4627-4632/,　2000年
The Study of Fabrication of the X-ray Mirror by Numerically Controlled Plasma Chemical Vaporization Machining : Development of the Machine for the X-ray Mirror Fabrication

Review of Scientific Instruments, Vol. 71, No. 12, pp. 4620-4626　Vol. Vol. 71, No. 12, pp. 4620-4626/,　2000年
Development of Numerically Controlled Plasma Chemical Vaporization Machining System

Vol. Vol.~50, No.~2374, pp.~63‐69/,　2000年
Development of New Machining Process for Ultra Precision Surface Preparation ---EEM,Plasma CVM,and Atmospheric Pressure Plasma CVD---

Vol. pp.~212-232　2000年
Development of Numerically Controlled Plasma Chemical Vaporization Machining System

Technology Reports of the Osaka University　Vol. 50　No. 2374　p. 63-69　2000年
Development of New Machining Process for Ultra Precision Surface Preparation-EEM, Plasma CVM, and Atmospheric Pressure Plasma CVD-

Second International School on Crystal Growth Technology, Book of Lecture Notes　p. 212-232　2000年
Development of Plasma CVM(Chemical Vaporization Machining)

Journal of the Japan Society for Precision Engineering　Vol. 66　No. 8　p. 1280-1285　2000年
The Study of Fabrication of the X-ray Mirror by Numerically Controlled Plasma Chemical Vaporization Machining : Development of the Machine for the X-ray Mirror Fabrication

REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS　Vol. 71　No. 12　p. 4620-4626　2000年
Development of Plasma Chemical Vaporization Machining

REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS　Vol. 71　No. 12　p. 4627-4632　2000年
パイプ電極プラズマCVMによる光学平面の創成加工

瀧野日出雄(ニコン, 柴田規夫(ニコン, 伊藤博(ニコン, 小林輝紀(ニコン, 田中宏明(ニコン, 海老正美(ニコン, 山村和也, 佐野泰久, 森勇藏

精密工学会誌, Vol.~65, No.~11, pp.~1650-1651　Vol. 65　No. 11　p. 1650-1651　1999年11月
Slicing of Functional Materials by Plasma CVM (Chemical Vaporization Machining)

Yuzo Mori, Kazuya Yamamura, Yasuhisa Sano

Precision Science and Technology for Perfect Surfaces (Proceedings of the 9th International Conference on Production Engineering), pp.~225-230　Vol. pp.~225-230　1999年9月
High Speed Patterning of Integrated-Type a-Si Solar Cell Submodules by Plasma CVM

Shingo Nakano, SANYO Electric Co, Yoichi Domoto, SANYO Electric Co, Hisaki Tarui, SANYO Electric Co, Seiichi Kiyama, SANYO Electric Co, Yasuhisa Sano, Kazuya Yamamura, Yuzo Mori

Precision Science and Technology for Perfect Surfaces (Proceedings of the 9th International Conference on Production Engineering), pp.~543-548　Vol. pp.~543-548　1999年9月
Plasma Chemical Vaporization Machining with a Pipe Electrode for Large Optics

Hideo Takino, ikon, Norio Shibata, Nikon Cor, Teruki Kobayashi, Nikon Cor, Hiroshi\- Itoh, Nikon Cor, Hiroaki Tanaka, ikon, Akihiro Koike, ikon C, Katsuhiko\- Nakano, ikon C, Kazuya Yamamura, Yasuhisa Sano, Yuzo Mori

Precision Science and Technology for Perfect Surfaces (Proceedings of the 9th International Conference on Production Engineering), pp.~219-224　Vol. pp.~219-224　1999年9月
Development of Numerically Controlled Plasma CVM (Chemical Vaporization Machining) System for Fabrication of Ultra Precision Optical Devices

Yuzo Mori, Kazuya Yamamura, Yasuhisa Sano

Precision Science and Technology for Perfect Surfaces (Proceedings of the 9th International Conference on Production Engineering), pp.~213-218　Vol. pp.~213-218　1999年9月
High Rate Polishing of Silicon Surface using Plasma CVM with Rotary Drum Electrode

Hiroaki Takeuchi, Sharp Corp, Tohru Okuda, Sharp Corp, Kazuhiro Nishikawa, Sharp Corp, Yoshiyuki Hojyo, Sharp Corp, Masaru Kadono, Sharp Cor, Takashi Nukii, Sharp Corp, Kazuya Yamamura, Yasuhisa Sano, Yuzo Mori

Precision Science and Technology for Perfect Surfaces (Proceedings of the 9th International Conference on Production Engineering), pp.~405-410　Vol. pp.~405-410　1999年9月
First-Principles Simulation of Removal Process in EEM(Elastic Emission Machining)

Kazuto Yamauchi, Kikuji Hirose, Hidekazu Goto, Kazuhisa Sugiyama, Kouji Inagaki, Kazuya Yamamura, Yasuhisa Sano, Yuzo Mori

Computational Materials Science, Vol.~14, pp.~232-235　Vol. 14　No. 1-4　p. 232-235　1999年4月
First-principles simulations of removal process in EEM (Elastic Emission Machining)

K Yamauchi, K Hirose, H Goto, K Sugiyama, K Inagaki, K Yamamura, Y Sano, Y Mori

COMPUTATIONAL MATERIALS SCIENCE　Vol. 14　No. 1-4　p. 232-235　1999年2月
パイプ電極プラズマCVMによる光学平面の創成加工

瀧野日出雄, 柴田規夫, 伊藤博, 小林輝紀, 田中宏明, 海老正美, 山村和也, 佐野泰久, 森勇藏

精密工学会誌, Vol.~65, No.~11, pp.~1650-1651　Vol. Vol.~65, No.~11, pp.~1650-1651　No. 11　p. 1650-1651　1999年
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
Development of Numerically Controlled Plasma CVM (Chemical Vaporization Machining) System for Fabrication of Ultra Precision Optical Devices

Precision Science and Technology for Perfect Surfaces (Proceedings of the 9th International Conference on Production Engineering), pp.~213-218　Vol. pp.~213-218　1999年
Plasma Chemical Vaporization Machining with a Pipe Electrode for Large Optics

Precision Science and Technology for Perfect Surfaces (Proceedings of the 9th International Conference on Production Engineering), pp.~219-224　Vol. pp.~219-224　1999年
High Rate Polishing of Silicon Surface using Plasma CVM with Rotary Drum Electrode

Precision Science and Technology for Perfect Surfaces (Proceedings of the 9th International Conference on Production Engineering), pp.~405-410　Vol. pp.~405-410　1999年
High Speed Patterning of Integrated-Type a-Si Solar Cell Submodules by Plasma CVM

Precision Science and Technology for Perfect Surfaces (Proceedings of the 9th International Conference on Production Engineering), pp.~543-548　Vol. pp.~543-548　1999年
パイプ電極プラズマCVMによる光学平面の創成加工

瀧野日出雄, 柴田規夫, 伊藤博, 小林輝紀, 田中宏明, 海老正美, 山村和也, 佐野泰久, 森勇藏

精密工学会誌, Vol.~65, No.~11, pp.~1650-1651　Vol. Vol.~65, No.~11, pp.~1650-1651/,　No. 11　p. 1650-1651　1999年
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
Slicing of Functional Materials by Plasma CVM (Chemical Vaporization Machining)

Precision Science and Technology for Perfect Surfaces (Proceedings of the 9th International Conference on Production Engineering), pp.~225-230　Vol. pp.~225-230　1999年
With the Aim of Country with Intelligent Sense of Existence : The Case Introduction, Center of Excellence program Creation of Perfect Surfaces

Vol. Vol.~65, No.~11, pp.~1650-1651　1999年
With the Aim of Country with Intelligent Sense of Existence : The Case Introduction, Center of Excellence program Creation of Perfect Surfaces

Vol. Vol.~65, No.~11, pp.~1650-1651/,　1999年
Slicing of Functional Materials by Plasma CVM (Chemical Vaporization Machining)

Vol. pp.~225-230　1999年
Plasma Chemical Vaporization Machining with a Pipe Electrode for Large Optics

Vol. pp.~219-224　1999年
Development of Numerically Controlled Plasma CVM (Chemical Vaporization Machining) System for Fabrication of Ultra Precision Optical Devices

Precision Science and Technology for Perfect Surfaces (Proceedings of the 9th International Conference on Production Engineering), pp.~213-218　Vol. pp.~213-218　1999年
High Speed Patterning of Integrated-Type a-Si Solar Cell Submodules by Plasma CVM

Vol. pp.~543-548　1999年
High Rate Polishing of Silicon Surface using Plasma CVM with Rotary Drum Electrode

Vol. pp.~405-410　1999年
Development of New Ultra Precision Machining Methods --- Plasma CVM and EEM ---

Yuzo Mori, Kazuto Yamauchi, Kazuya Yamamura, Yasuhisa Sano

First International School on Crystal Growth Technology, pp. 218-228　Vol. pp. 218-228　1998年9月
Computer numerically controlled plasma chemical vaporization machining with a pipe electrode for optical fabrication

H Takino, N Shibata, H Itoh, T Kobayashi, H Tanaka, M Ebi, K Yamamura, Y Sano, Y Mori

APPLIED OPTICS　Vol. 37　No. 22　p. 5198-5210　1998年8月
Computer Numerically Controlled Plasma Chemical Vaporization Machining with a Pipe Electrode for Optical Fabrication

Hideo Takino, Norio Shibata, Teruki Kobayashi, Hiroaki Tanaka, Masami Ebi, Kazuya Yamamura, Yasuhisa Sano, Yuzo Mori

APPLIED OPTICS, 37/22,5198　Vol. 37　No. 22　p. 5198-5210　1998年8月
Plasma chemical vaporization machining (CVM) for fabrication of optics

H Takino, N Shibata, H Itoh, T Kobayashi, H Tanaka, M Ebi, K Yamamura, Y Sano, Y Mori

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS & EXPRESS LETTERS　Vol. 37　No. 7B　p. L894-L896　1998年7月
Plasma Chemical Vaporization Machining(CVM)for Fabrication of Optics

Hideo TAKINO, Norio SHIBATA, Teruki KOBAYASHI, Hiroaki TANAKA, Masami EBI, Kazuya YAMAMURA, Yasuhisa SANO, Yuzo MORI

Jpn. J. Appl. Phys., 37/Part2,7B,L894　Vol. 37　No. Part2　p. 7B,L894-L896　1998年7月
出版者・発行元：社団法人応用物理学会
EEM (Elastic Emission Machining)用微粒子作製装置の開発

森勇蔵, 山内和人, 山村和也, 佐野泰久, 松本光弘, 三村秀和

精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 1998　No. 1　p. 430-430　1998年3月5日
Computer Numerically Controlled Plasma Chemical Vaporization Machining with a Pipe Electrode for Optical Fabrication

TAKINO H, SHIBATA N, ITOH H, KOBAYASHI T, TANAKA H, EBI M, YAMAMURA K, SANO Y, MORI Y

APPLIED OPTICS, 37/22,5198　Vol. 37　No. 22　p. 5198-5210　1998年
Development of New Ultra Precision Machining Methods --- Plasma CVM and EEM ---

First International School on Crystal Growth Technology, pp. 218-228　Vol. pp. 218-228　1998年
Plasma Chemical Vaporization Machining(CVM)for Fabrication of Optics

Vol. 37　No. Part2　1998年
Computer Numerically Controlled Plasma Chemical Vaporization Machining with a Pipe Electrode for Optical Fabrication

APPLIED OPTICS, 37/22,5198　Vol. 37　No. 22　p. 5198-5210　1998年
Development of New Ultra Precision Machining Methods --- Plasma CVM and EEM ---

First International School on Crystal Growth Technology, pp. 218-228　Vol. pp. 218-228　1998年
Development of New Ultra Precision Machining Methads-Plasma CVM and EEM-

First International School on Crystal Growth Technology　1998年
Plasma Chemical Vaporization Machining(CVM)for Fabrication of Optics

Jpn. J. Appl. Phys.　Vol. 37　No. Part2　1998年
First-principles Analysis of Chemical Reactions between Metal Oxide Fine Powders and Si(100) Surface in EEM(Elastic Emission Machining)

Kazuto Yamauchi, Kikuji Hirose, Hidekazu Goto, Masao Sakamoto, Kazuya Yamamura, Yasuhisa Sano, Yuzo Mori

Transactions of the Materials Research Society of Japan, Vol.20, pp.867-870　Vol. Vol.20, pp.867-870　1996年12月
Plasma CVM(Chemical Vaporization Machining)におけるポリシング加工に関する研究(第3報) -加工面の平坦度と電極形状ならびに試料保持方法の相関(その2)-

森勇蔵, 山内和人, 山村和也, 佐野泰久

精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 1996　No. 2　p. 197-198　1996年9月1日
First-principles Analysis of Removal Mechanism in EEM(Elastic Emission Machining)

Kazuto Yamauchi, Kikuji Hirose, Hidekazu Goto, Kazuya Yamamura, Yasuhisa Sano, Yuzo Mori

Proceedings of 1996 the Japan-China Bilateral Symposium on Advanced Manufacturing Engineering, pp.60-64　Vol. pp.60-64　1996年9月
Polishing of Si Wafer by Plasma CVM(Chemical Vaporization Machining)

Yuzo Mori, Kazuya Yamamura, Kazuto Yamauchi, Yasuhisa Sano

Proceedings of 1996 the Japan-China Bilateral Symposium on Advanced Manufacturing Engineering, pp.65-68　Vol. pp.65-68　1996年9月
Slicing of Silicon by Plasma CVM(Chemical Vaporization Machining)

Yuzo Mori, Kazuto Yamauchi, Kazuya Yamamura, Yasuhisa Sano

Proceedings of 1996 the Japan-China Bilateral Symposium on Advanced Manufacturing Engineering, pp.69-72　Vol. pp.69-72　1996年9月
光散乱法によるナノメータオーダの粒径測定法の開発(第4報) -- 光電子増倍管出力特性の定式化とダイナミックレンジの改善法 --

安弘, 森勇藏, 片岡俊彦, 遠藤勝義, 山内和人, 稲垣耕司, 山村和也, 井上晴行, 佐野泰久

精密工学会誌, Vol.62, No.8, pp.1198-1202　Vol. 62　No. 8　p. 1198-1202　1996年8月
光散乱法によるナノメータオーダの粒径測定法の開発(第4報) : 光電子増倍管出力特性の定式化とダイナミックレンジの改善法

安弘, 森勇藏, 片岡俊彦, 遠藤勝義, 山内和人, 稲垣耕司, 山村和也, 井上晴行, 佐野泰久

精密工学会誌　Vol. 62　No. 8　p. 1198-1202　1996年8月
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
Plasma CVM(Chemical Vaporization Machining)におけるポリシング加工に関する研究(第1報) -ポリシング加工用高速回転型電極の試作とその加工特性-

森勇藏, 山内和人, 山村和也, 佐野泰久

精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 1996　No. 1　p. 1145-1146　1996年3月1日
プラズマCVM(Chemical Vaporization Machining)における切断加工に関する研究 -切断加工用高速回転電極の試作とその加工特性-

森勇藏, 山内和人, 山村和也, 佐野泰久

精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 1996　No. 1　p. 1143-1144　1996年3月1日
Plasma CVM(Chemical Vaporization Machining)におけるNC加工に関する研究(第1報) -NC加工用高速回転型電極の試作とその加工特性-

森勇藏, 山内和人, 山村和也, 佐野泰久

精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 1996　No. 1　p. 1141-1142　1996年3月1日
光散乱法によるナノメータオーダの粒径測定法 (第5報) -ダイナミックレンジの改善法と標準粒子の測定-

安弘, 南川文孝, 森勇蔵, 片岡俊彦, 遠藤勝義, 山内和人, 稲垣耕司, 井上晴行, 山村和也, 佐野泰久

精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 1996　No. 1　p. 1109-1110　1996年3月1日
EEM(Elastic Emission Machining)における加工現象の第一原理分子動力学シミュレーション (第3報) -化学結合の分子軌道計算-

山内和人, 山村和也, 佐野泰久, 広瀬喜久治, 後藤英和, 坂本正雄, 森勇藏

精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 1996　No. 1　p. 989-990　1996年3月1日
First-principles Analysis of Chemical Reactions between Metal Oxide Fine Powders and Si(100) Surface in EEM(Elastic Emission Machining)

Transactions of the Materials Research Society of Japan, Vol.20, pp.867-870　Vol. Vol.20, pp.867-870/,　1996年
Polishing of Si Wafer by Plasma CVM(Chemical Vaporization Machining)

Proceedings of 1996 the Japan-China Bilateral Symposium on Advanced Manufacturing Engineering, pp.65-68　Vol. pp.65-68　1996年
First-principles Analysis of Removal Mechanism in EEM(Elastic Emission Machining)

Proceedings of 1996 the Japan-China Bilateral Symposium on Advanced Manufacturing Engineering, pp.60-64　Vol. pp.60-64　1996年
Slicing of Silicon by Plasma CVM(Chemical Vaporization Machining)

Proceedings of 1996 the Japan-China Bilateral Symposium on Advanced Manufacturing Engineering, pp.69-72　Vol. pp.69-72　1996年
First-principles Analysis of Chemical Reactions between Metal Oxide Fine Powders and Si(100) Surface in EEM(Elastic Emission Machining)

Vol. Vol.20, pp.867-870　1996年
First-principles Analysis of Chemical Reactions between Metal Oxide Fine Powders and Si(100) Surface in EEM(Elastic Emission Machining)

Vol. Vol.20, pp.867-870/,　1996年
Polishing of Si Wafer by Plasma CVM(Chemical Vaporization Machining)

Vol. pp.65-68　1996年
First-principles Analysis of Removal Mechanism in EEM(Elastic Emission Machining)

Proceedings of 1996 the Japan-China Bilateral Symposium on Advanced Manufacturing Engineering, pp.60-64　Vol. pp.60-64　1996年
Slicing of Silicon by Plasma CVM(Chemical Vaporization Machining)

Vol. pp.69-72　1996年
First-principles Analysis of Chemical Reactions between Metal Oxide Fine Powders and Si(100)Surface in EEM(Elastic Emission Machining)

Transactions of the Materials Research Society of Japan　Vol. 20　1996年
A Method for Measuring Particle Sizes of Nanometer Order by Light-scattering

Proceedings of 1996 The Japan-China Bilateral Symposium on Advanced Manufacturing Engineering　1996年
First-principles Analysis of Removal Mechanism in EEM(Elastic Emission Machining)

Proceedings of 1996 The Japan-China Bilateral Symposium on Advanced Manufacturing Engineering　1996年
Slicing of Silicon by Plasma CVM(Chemical Vaporization Machining)

Proceedings of 1996 The Japan-China Bilateral Symposium on Advanced Manufacturing　1996年
Polishing of Si Water by Plasma CVM(Chemical Vaporization Machining)

Proceedings of 1996 The Japan-China Bilateral Symposium on Advanced Manufacturing　1996年
プラズマCVM(Chemical Vaporization Machining)における加工現象の第一原理分子動力学シミュレーション(第5報)-Si表面とハロゲン原子の相互作用の解析(その3)-

山村和也, 佐野泰久, 山内和人, 広瀬喜久治, 後藤英和, 坂本正雄, 森勇藏

精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 1995　No. 2　p. 625-626　1995年9月1日

著書 18

Chapter 41. Plasma-Based Nanomanufacturing Under Atmospheric Pressure, Handbook of Manufacturing Engineering and Technology

K. Yamamura, Y. Sano

Springer　2014年10月　学術書

ISBN: 9781447146698
超精密加工と表面科学－原子レベルの生産技術－第3部第2章2 半導体ウエハの超精密加工

佐野泰久

大阪大学出版　2014年3月　学術書

ISBN: 9784872594652
SiCパワーデバイスの開発と最新動向、第7章第5節SiC 基板表面の原子レベル平坦化技術

佐野泰久, 有馬健太, 山内和人

S&T出版　2012年10月　学術書

ISBN: 9784907002060
大気圧プラズマの生成制御と応用技術改訂版第6章第3節プラズマCVMによる超精密形状創成とプラズマ援用研磨による表面仕上げ

山村和也, 佐野泰久, 森勇藏

サイエンス&テクノロジー　2012年3月　学術書

ISBN: 9784864280396
半導体SiC技術と応用第2版「4.3.1 CARE法」

松波弘之, 大谷昇, 木本恒暢, 中村孝,他

日刊工業新聞社　2011年9月　学術書

ISBN: 9784526067549
Generation and Applications of Atmospheric Pressure Plasmas, Chapter 15. Ultra precision machining using plasma chemical vaporization machining (CVM)

K. Yamamura, Y. Sano, Y. Mori

Nova Science Publishers　2011年4月　学術書

ISBN: 9781612097176
Crystal Growth Technology (Chapter 18; Crystal Machining Using Atmospheric Pressure Plasma)

Yasuhisa Sano, Kazuya Yamamura, Kazuto Yamauchi

WILEY-VCH　2010年9月　学術書

ISBN: 9783527325931
次世代パワー半導体－省エネルギー社会に向けたデバイス開発の最前線－第1章第1節2 PCVMを用いたSiC基板の薄化

佐野泰久, 山村和也, 山内和人

(株)エヌ・ティー・エス　2009年10月　学術書
大気圧プラズマ基礎と応用 6.7.5 マイクロ／ナノ加工日本学術振興会プラズマ材料科学第153委員会

佐野泰久, 山村和也, 山内和人

オーム社　2009年10月　学術書

ISBN: 9784274207600
Crystal Growth Technology (Chapter 19; Plasma Chemical Vaporization Machining and Elastic Emission Machining)

Yasuhisa Sano, Kazuya Yamamura, Hidekazu Mimura, Kazuto Yamauchi, Yuzo Mori

Wiley-VCH　2008年3月　学術書

ISBN: 9783527317622
大気圧プラズマの生成制御と応用技術, 第13節プラズマCVMによる超精密加工

山村和也, 佐野泰久, 森勇藏

サイエンス＆テクノロジー　2006年11月　学術書

ISBN: 4903413136
Crystal Growth Technology(Plasma-CVM(Chemical Vaporization Machining))

Yuzo Mori, Kazuya Yamamura, Yasuhisa Sano

John Wiley & Sons　2003年10月　学術書
加工技術データファイル基礎編（特殊加工）、5.7プラズマＣＶＭ

森勇藏, 山村和也, 佐野泰久

（財）機械振興協会技術研究所　2003年6月　学術書
High-speed Patterning of Integrated-Type a-Si Solar Cell Submodules by Plasma CVM

Precision Science and Technology for Perfact Surfaces Published by The Japan Society for Precision Engineering(JSPE)　1999年
High Rate Polishing of Silicon Surface using Plasma CVM with Rotary Drum Electrode

Precision Science and Technology for Pertect Surfaces Published by The Japan Society for Precision Engineering(JSPE)　1999年
Slicing of Functional Materials by Plasma CVM (Chemical Vaporization Machining)

Precision Science and Technology for Pertect Surfaces Published by The Japan Society for Precision Engineering(JSPE)　1999年
Plasma Chemical Vaporization Machining with a Pipe Electrode for Large Optics

Precision Science and Technology for Pertect Surfaces Published by The Japan Society for Precision Engineering(JSPE)　1999年
Development of Numerically Controlled Plasma CVM (Chemical Vaporization Machining)System for Fabrication of Ultra Precsion Optical Devices

Precision Science and Technology for Pertect Surfaces Published by The Japan Society for Precision Engineering(JSPE)　1999年

作品 23

窒化ガリウム(GaN)基板の高能率・ダメージレス平坦化加工技術の開発

2010年～
省エネルギーパワーデバイス用SiC基板の高能率加工方法

2010年～
数値制御大気圧プラズマ犠牲酸化による超精密加工

2009年～
固体酸・塩基触媒を用いた窒化ガリウム(GaN)基板の高能率・ダメージレス平坦化技術の開発

2009年～
省エネルギーパワーデバイス用SiC基板の高能率加工方法

2009年～
固体酸・塩基触媒を用いた窒化ガリウム(GaN)基板の高能率・ダメージレス平坦化技術の開発

2008年～
グローバルCOE 高機能化原子制御製造プロセス教育研究拠点

2008年～
ワイドバンドギャップ半導体デバイス製作のための高能率化学的加工法

2008年～
数値制御大気圧プラズマ犠牲酸化による超精密加工

2008年～
液晶用メーター超級大型フォトマスク基板の高精度・高能率作製プロセスの開発

2008年～
Center of Excellence for Atomically Controlled Fabrication Technology

2008年～
触媒支援型化学加工法によるSiC基板の高精度・高能率平坦化

2007年～
液晶用メーター超級大型フォトマスク基板の高精度・高能率作製プロセスの開発

2007年～
数値制御大気圧プラズマ犠牲酸化による超精密加工

2007年～
ワイドバンドギャップ半導体デバイス製作のための高能率化学的加工法

2007年～
ワイドバンドギャップ半導体デバイス製作のための高能率化学的加工法

2006年～
触媒支援型化学加工法によるSiC基板の高精度・高能率平坦化

2006年～
液晶用メーター超級大型フォトマスク基板の高精度・高能率作製プロセスの開発

2006年～
触媒支援型化学加工法によるSiC基板の高精度・高能率平坦化

2005年～
高精度X線ミラーの超精密加工と形状計測に関する研究

2004年～
原子論的生産技術の創出拠点

2004年～
超高精度X線ミラー作製による高分解能硬X線顕微鏡の開発

2004年～
高精度X線ミラーの超精密過去と形状計測の関する研究

2004年～

特許・実用新案・意匠 4

プラズマ処理装置

佐野泰久

5013332

出願日:2007/08

登録日:2012/06
半導体ウエハ外周部の加工方法及びその装置

佐野泰久, 山村和也, 原英之, 加藤武寛

特許第4962960号

出願日:2007/08

登録日:2012/04
誘電体基板のパターン転写加工方法

森勇藏, 山村和也, 佐野泰久

特許第4665503号

出願日:2004/12

登録日:2011/01
精密加工方法及び精密加工装置

佐野泰久

4644858

出願日:2006/07

登録日:2010/12

学術貢献活動 32

精密工学会（関西支部庶務幹事）

2018年4月～継続中
応用物理学会先進パワー半導体分科会（幹事）

2017年4月～継続中
精密工学会プラナリゼーションCMPとその応用技術専門委員会（幹事）

2013年2月～継続中
精密工学会（関西支部幹事）

2011年4月～継続中
精密工学会（関西支部商議員）

2009年4月～継続中
プラナリゼーションCMP国際会議2019

ICPT2019 Organizing Committee

2019年9月～
シリコンカーバイド及び関連材料に関する国際会議2019 (ICSCRM 2019)

ICSCRM2019組織委員会

2019年9月～
応用物理学会先進パワー半導体分科会第5回講演会

応用物理学会先進パワー半導体分科会

2018年11月～
プラナリゼーションCMP国際会議2018

ICPT2018 Organizing Committee

2018年10月～
プラナリゼーションCMP国際会議2017

ICPT2017 Organizing Committee

2017年10月～
精密工学会2017年度秋季大会学術講演会

精密工学会

2017年9月～
プラナリゼーションCMP国際会議2016

ICPT2016 Organizing Committee

2016年11月～
第7回シリコン材料の先端科学と技術国際シンポジウム

シリコン材料の先端科学と技術国際シンポジウム実行委員会

2016年11月～
プラナリゼーションCMP国際会議2015

ICPT2015 Organizing Committee

2015年11月～
応用物理学会先進パワー半導体分科会第2回講演会

応用物理学会先進パワー半導体分科会

2015年11月～
プラナリゼーションCMP国際会議2014

公益社団法人精密工学会プラナリゼーションCMPとその応用技術専門委員会

2014年11月～
シリコンカーバイド及び関連材料に関する国際会議 2013 (ICSCRM2013)

公益社団法人応用物理学会

2013年9月～
セミコンジャパン2012

SEMIジャパン

2012年12月～
The 5th international symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology

The Global COE program at Osaka University and The Technical Committee on Ultra Precision Machining

2012年10月～
セミコンジャパン2011

SEMIジャパン

2011年12月～
The 4th international symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology

The Global COE program at Osaka University and The Technical Committee on Ultra Precision Machining

2011年10月～
セミコンジャパン2010

SEMI ジャパン

2010年12月～
The third international symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology

The Global COE program at Osaka University and The Technical Committee on Ultra Precision Machining

2010年11月～
セミコンジャパン2009

SEMIジャパン

2009年12月～
The second international symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology

The Global COE program at Osaka University and The Technical Committee on Ultra Precision Machining

2009年10月～
イノベーションジャパン2009

JST, NEDO

2009年9月～
The first international symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology

The global COE Program "Atomically Controlled Fabrication Technology"

2009年2月～
セミコンジャパン2008

SEMI Japan

2008年12月～
セミコンジャパン2007

SEMI ジャパン

2007年12月～
セミコンジャパン2007

SEMI ジャパン

2007年12月～
セミコンジャパン2006

SEMI ジャパン

2006年12月～
セミコンジャパン2006

SEMI ジャパン

2006年12月～

機関リポジトリ 50

大阪大学の学術機関リポジトリ（OUKA）に掲載されているコンテンツ

Hard x-ray intensity autocorrelation using direct two-photon absorption

Osaka Taito, Inoue Ichiro, Yamada Jumpei, Inubushi Yuichi, Matsumura Shotaro, Sano Yasuhisa, Tono Kensuke, Yamauchi Kazuto, Tamasaku Kenji, Yabashi Makina

Physical Review Research　Vol. 4　No. 1　2022年3月18日
Optimal deformation procedure for hybrid adaptive x-ray mirror based on mechanical and piezo-driven bending system

Inoue Takato, Nishioka Yuka, Matsuyama Satoshi, Sonoyama Junki, Akiyama Kazuteru, Nakamori Hiroki, Ichii Yoshio, Sano Yasuhisa, Shi Xianbo, Shu Deming, Wyman Max D., Harder Ross, Kohmura Yoshiki, Yabashi Makina, Assoufid Lahsen, Ishikawa Tetsuya, Yamauchi Kazuto

Review of Scientific Instruments　Vol. 92　No. 12　2021年12月28日
High-throughput deterministic plasma etching using array-type plasma generator system

Sano Yasuhisa, Nishida Ken, Asada Ryohei, Okayama Shinya, Toh Daisetsu, Matsuyama Satoshi, Yamauchi Kazuto

Review of Scientific Instruments　Vol. 92　No. 12　2021年12月16日
Photoelectrochemical oxidation assisted catalyst-referred etching for sic (0001) surface

Toh Daisetsu, Bui Pho Van, Yamauchi Kazuto, Sano Yasuhisa

International Journal of Automation Technology　Vol. 15　No. 1　p. 74-79　2021年1月5日
An abrasive-free chemical polishing method assisted by nickel catalyst generated by in situ electrochemical plating

Toh Daisetsu, Van Bui Pho, Isohashi Ai, Matsuyama Satoshi, Yamauchi Kazuto, Sano Yasuhisa

Review of Scientific Instruments　Vol. 91　No. 4　2020年4月13日
Improvements in graphene growth on 4H-SiC(0001) using plasma induced surface oxidation

Minami Ouki, Ito Ryota, Hosoo Kohei, Ochi Makoto, Sano Yasuhisa, Kawai Kentaro, Yamamura Kazuya, Arima Kenta

Journal of Applied Physics　Vol. 126　No. 6　p. 065301-1-065301-10　2019年8月8日
Catalyzed chemical polishing of SiO2 glasses in pure water

Toh Daisetsu, Bui Pho Van, Isohashi Ai, Kidani Naotaka, Matsuyama Satoshi, Sano Yasuhisa, Morikawa Yoshitada, Yamauchi Kazuto

Review of Scientific Instruments　Vol. 90　No. 4　2019年4月15日
Surface finishing method using plasma chemical vaporization machining for narrow channel walls of x-ray crystal monochromators

Hirano Takashi, Morioka Yuki, Matsumura Shotaro, Sano Yasuhisa, Osaka Taito, Matsuyama Satoshi, Yabashi Makina, Yamauchi Kazuto

International Journal of Automation Technology　Vol. 13　No. 2　p. 246-253　2019年3月5日
Characteristics and mechanism of catalyst-referred etching method: Application to 4H-SiC

Van Bui Pho, Sano Yasuhisa, Morikawa Yoshitada, Yamauchi Kazuto

International Journal of Automation Technology　Vol. 12　No. 2　p. 154-159　2018年3月5日
Development of concave-convex imaging mirror system for a compact and achromatic full-field x-ray microscope

Yamada Jumpei, Matsuyama Satoshi, Yasuda Shuhei, Sano Yasuhisa, Kohmura Yoshiki, Yabashi Makina, Ishikawa Tetsuya, Yamauchi Kazuto

Proceedings of SPIE　Vol. 10386　2017年9月6日
Chemical etching of silicon carbide in pure water by using platinum catalyst

Isohashi Ai, Bui P. V., Toh D., Matsuyama S., Sano Y., Inagaki K., Morikawa Y., Yamauchi K.

Applied Physics Letters　Vol. 110　No. 20　2017年5月15日
Ultrafast observation of lattice dynamics in laser-irradiated gold foils

Hartley N. J., Ozaki N., Matsuoka T., Albertazzi B., Faenov A., Fujimoto Y., Habara H., Harmand M., Inubushi Y., Katayama T., Koenig M., Krygier A., Mabey P., Matsumura Y., Matsuyama S., McBride E. E., Miyanishi K., Morard G., Okuchi T., Pikuz T., Sakata O., Sano Y., Sato T., Sekine T., Seto Y., Takahashi K., Tanaka K. A., Tange Y., Togashi T., Umeda Y., Vinci T., Yabashi M., Yabuuchi T., Yamauchi K., Kodama R.

Applied Physics Letters　Vol. 110　No. 7　2017年2月13日
Size-changeable x-ray beam collimation using an adaptive x-ray optical system based on four deformable mirrors

Goto T., Matsuyama S., Nakamori H., Hayashi H., Sano Y., Kohmura Y., Yabashi M., Ishikawa T., Yamauchi K.

Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering　Vol. 9965　2016年10月27日
Development of array-type atmospheric-pressure RF plasma generator with electric on-off control for high-throughput numerically controlled processes

Takei H., Kurio S., Matsuyama S., Yamauchi K., Sano Y.

Review of Scientific Instruments　Vol. 87　No. 10　2016年10月
Development of speckle-free channel-cut crystal optics using plasma chemical vaporization machining for coherent x-ray applications

Hirano Takashi, Osaka Taito, Sano Yasuhisa, Inubushi Yuichi, Matsuyama Satoshi, Tono Kensuke, Ishikawa Tetsuya, Yabashi Makina, Yamauchi Kazuto

Review of Scientific Instruments　Vol. 87　No. 6　2016年6月
High-efficiency planarization method combining mechanical polishing and atmospheric-pressure plasma etching for hard-to-machine semiconductor substrates

Sano Yasuhisa, Shiozawa Kousuke, Doi Toshiro, Kurokawa Syuhei, Aida Hideo, Miyashita Tadakazu, Yamauchi Kazuto

Mechanical Engineering Journal　Vol. 3　No. 1　2016年2月
Study on the mechanism of platinum-assisted hydrofluoric acid etching of SiC using density functional theory calculations

Bui P. V., Isohashi A., Kizaki H., Sano Y., Yamauchi K., Morikawa Y., Inagaki K.

Applied Physics Letters　Vol. 107　No. 20　2015年11月16日
Development of ion beam figuring system with electrostatic deflection for ultraprecise X-ray reflective optics

Yamada Jumpei, Matsuyama Satoshi, Sano Yasuhisa, Yamauchi Kazuto

Review of Scientific Instruments　Vol. 86　No. 9　2015年9月
Hard X-ray nanofocusing using adaptive focusing optics based on piezoelectric deformable mirrors

Goto Takumi, Nakamori Hiroki, Kimura Takashi, Sano Yasuhisa, Kohmura Yoshiki, Tamasaku Kenji, Yabashi Makina, Ishikawa Tetsuya, Yamauchi Kazuto, Matsuyama Satoshi

Review of Scientific Instruments　Vol. 86　No. 4　2015年4月
Development of split-delay x-ray optics using Si(220) crystals at SACLA

Osaka Taito, Hirano Takashi, Yabashi Makina, Sano Yasuhisa, Tono Kensuke, Inubushi Yuichi, Sato Takahiro, Ogawa Kanade, Matsuyama Satoshi, Ishikawa Tetsuya, Yamauchi Kazuto

Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering　Vol. 9210　2014年10月8日
Development of a one-dimensional two-stage focusing system with two deformable mirrors

Goto T., Matsuyama S., Nakamori H., Kimura T., Sano Y., Kohmura Y., Tamasaku K., Yabashi M., Ishikawa T., Yamauchi K.

Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering　Vol. 9208　2014年10月3日
Dependence of GaN Removal Rate of Plasma Chemical Vaporization Machining on Mechanically Introduced Damage

Sano Yasuhisa, Doi Toshiro K., Kurokawa Syuhei, Aida Hideo, Ohnishi Osamu, Uneda Michio, Shiozawa Kousuke, Okada Yu, Yamauchi Kazuto

Sensors and Materials　Vol. 26　No. 4　p. 429-434　2014年6月29日
Damage characteristics of platinum/carbon multilayers under X-ray free-electron laser irradiation

Kim Jangwoo, Koyama Takahisa, Yumoto Hirokatsu, Nagahira Ayaka, Matsuyama Satoshi, Sano Yasuhisa, Yabashi Makina, Ohashi Haruhiko, Ishikawa Tetsuya, Yamauchi Kazuto

Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering　Vol. 8848　2013年9月27日
Thin crystal development and applications for hard x-ray free-electron lasers

Osaka Taito, Yabashi Makina, Sano Yasuhisa, Tono Kensuke, Inubushi Yuichi, Sato Takahiro, Ogawa Kanade, Matsuyama Satoshi, Ishikawa Tetsuya, Yamauchi Kazuto

Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering　Vol. 8848　2013年9月27日
Development of achromatic full-field x-ray microscopy with compact imaging mirror system

Matsuyama S., Emi Y., Kino H., Sano Y., Kohmura Y., Tamasaku K., Yabashi M., Ishikawa T., Yamauchi K.

Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering　Vol. 8851　2013年9月26日
Experimental and simulation study of undesirable short-period deformation in piezoelectric deformable x-ray mirrors

Nakamori Hiroki, Matsuyama Satoshi, Imai Shota, Kimura Takashi, Sano Yasuhisa, Kohmura Yoshiki, Tamasaku Kenji, Yabashi Makina, Ishikawa Tetsuya, Yamauchi Kazuto

Review of Scientific Instruments　Vol. 83　No. 5　2012年5月3日
Development of a one-dimensional Wolter mirror for achromatic full-field X-ray microscopy

Matsuyama S., Kidani N., Mimura H., Kim J., Sano Y., Tamasaku K., Kohmura Y., Yabashi M., Ishikawa T., Yamauchi K.

Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering　Vol. 8139　2011年9月28日
Wavefield characterization of nearly diffraction-limited focused hard x-ray beam with size less than 10 nm

Kimura Takashi, Mimura Hidekazu, Handa Soichiro, Yumoto Hirokatsu, Yokoyama Hikaru, Imai Shota, Matsuyama Satoshi, Sano Yasuhisa, Tamasaku Kenji, Komura Yoshiki, Nishino Yoshinori, Yabashi Makina, Ishikawa Tetsuya, Yamauchi Kazuto

Review of Scientific Instruments　Vol. 81　No. 12　2010年12月29日
Development of a one-dimensional Wolter mirror for an advanced Kirkpatrick-Baez mirror

Matsuyama S., Wakioka T., Mimura H., Kimura T., Kidani N., Sano Y., Nishino Y., Tamasaku K., Yabashi M., Ishikawa T., Yamauchi K.

Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering　Vol. 7802　2010年8月27日
触媒表面を基準面とする化学研磨法の開発

佐野泰久, 有馬健太, 山内和人

大阪大学低温センターだより　Vol. 150　p. 22-27　2010年4月
Termination dependence of surface stacking at 4H-SiC (0001) -1×1: Density functional theory calculations

Hara Hideyuki, Morikawa Yoshitada, Sano Yasuhisa, Yamauchi Kazuto

Physical Review B - Condensed Matter and Materials Physics　Vol. 79　No. 15　2009年4月27日
Direct determination of the wave field of an x-ray nanobeam

Mimura Hidekazu, Yumoto Hirokatsu, Matsuyama Satoshi, Handa Soichiro, Kimura Takashi, Sano Yasuhisa, Yabashi Makina, Nishino Yoshinori, Tamasaku Kenji, Ishikawa Tetsuya, Yamauchi Kazuto

Physical Review A　Vol. 77　No. 1　2008年1月31日
Fabrication of ultrathin and highly uniform silicon on insulator by numerically controlled plasma chemical vaporization machining

Sano Yasuhisa, Yamamura Kazuya, Mimura Hidekazu, Yamauchi Kazuto, Mori Yuzo

Review of Scientific Instruments　Vol. 78　No. 8　2007年8月7日
Atomic-scale flattening of SiC surfaces by electroless chemical etching in HF solution with Pt catalyst

Arima Kenta, Hara Hideyuki, Murata Junji, Ishida Takeshi, Okamoto Ryota, Yagi Keita, Sano Yasuhisa, Mimura Hidekazu, Yamauchi Kazuto

Applied Physics Letters　Vol. 90　No. 20　2007年5月16日
Efficient focusing of hard x rays to 25 nm by a total reflection mirror

Mimura Hidekazu, Yumoto Hirokatsu, Matsuyama Satoshi, Sano Yasuhisa, Yamamura Kazuya, Mori Yuzo, Yabashi Makina, Nishino Yoshinori, Tamasaku Kenji, Ishikawa Tetsuya, Yamauchi Kazuto

Applied Physics Letters　Vol. 90　No. 5　2007年1月29日
Development of scanning x-ray fluorescence microscope with spatial resolution of 30 nm using Kirkpatrick-Baez mirror optics

Matsuyama S., Mimura H., Yumoto H., Sano Y., Yamamura K., Yabashi M., Nishino Y., Tamasaku K., Ishikawa T., Yamauchi K.

Review of Scientific Instruments　Vol. 77　No. 10　2006年10月11日
Development of mirror manipulator for hard-x-ray nanofocusing at sub-50-nm level

Matsuyama S., Mimura H., Yumoto H., Hara H., Yamamura K., Sano Y., Endo K., Mori Y., Yabashi M., Nishino Y., Tamasaku K., Ishikawa T., Yamauchi K.

Review of Scientific Instruments　Vol. 77　No. 9　2006年9月25日
At-wavelength figure metrology of total reflection mirrors in hard x-ray region

Yumoto Hirokatsu, Mimura Hidekazu, Matsuyama Satoshi, Handa Soichiro, Shibatani Akihiko, Katagishi Keiko, Sano Yasuhisa, Yabashi Makina, Nishino Yoshinori, Tamasaku Kenji, Ishikawa Tetsuya, Yamauchi Kazuto

Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering　Vol. 6317　2006年8月29日
At-wavelength figure metrology of hard x-ray focusing mirrors

Yumoto Hirokatsu, Mimura Hidekazu, Matsuyama Satoshi, Handa Soichiro, Sano Yasuhisa, Yabashi Makina, Nishino Yoshinori, Tamasaku Kenji, Ishikawa Tetsuya, Yamauchi Kazuto

Review of Scientific Instruments　Vol. 77　No. 6　2006年6月30日
Diffraction-limited two-dimensional hard-x-ray focusing at the 100 nm level using a Kirkpatrick-Baez mirror arrangement

Matsuyama S., Mimura H., Yumoto H., Yamamura K., Sano Y., Endo K., Mori Y., Nishino Y., Tamasaku K., Ishikawa T., Yabashi M., Yamauchi K.

Review of Scientific Instruments　Vol. 76　No. 8　2005年8月4日
Fabrication of elliptically figured mirror for focusing hard x rays to size less than 50 nm

Yumoto Hirokatsu, Mimura Hidekazu, Matsuyama Satoshi, Hara Hideyuki, Yamamura Kazuya, Sano Yasuhisa, Ueno Kazumasa, Endo Katsuyoshi, Mori Yuzo, Yabashi Makina, Nishino Yoshinori, Tamasaku Kenji, Ishikawa Tetsuya, Yamauchi Kazuto

Review of Scientific Instruments　Vol. 76　No. 6　2005年6月7日
Relative angle determinable stitching interferometry for hard x-ray reflective optics

Mimura Hidekazu, Yumoto Hirokatsu, Matsuyama Satoshi, Yamamura Kazuya, Sano Yasuhisa, Ueno Kazumasa, Endo Katsuyoshi, Mori Yuzo, Yabashi Makina, Tamasaku Kenji, Nishino Yoshinori, Ishikawa Tetsuya, Yamauchi Kazuto

Review of Scientific Instruments　Vol. 76　No. 4　2005年3月16日
Wave-optical and ray-tracing analysis to establish a compact two-dimensional focusing unit using K-B mirror arrangement

Matsuyama S., Mimura H., Yamamura K., Yumoto H., Sano Y., Endo K., Mori Y., Yabashi M., Tamasaku K., Nishino Y., Ishikawa T., Yamauchi K.

Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering　Vol. 5533　p. 181-191　2004年10月18日
数値制御プラズマCVMによる次世代超薄膜SOIウエハの製作

佐野泰久, 山村和也, 遠藤勝義, 森勇蔵

大阪大学低温センターだより　Vol. 125　p. 11-15　2004年1月
超高精度硬X線集光ミラーの製作とナノスペクトロスコピーへの応用

山村和也, 山内和人, 佐野泰久, 三村秀和, 遠藤勝義, 森勇蔵

大阪大学低温センターだより　Vol. 125　p. 4-10　2004年1月
Fabrication of elliptical mirror at nanometer-level accuracy for hard x-ray focusing by numerically controlled plasma chemical vaporization machining

Yamamura Kazuya, Yamauchi Kazuto, Mimura Hidekazu, Sano Yasuhisa, Saito Akira, Endo Katsuyoshi, Souvorov Alexei, Yabashi Makina, Tamasaku Kenji, Ishikawa Tetsuya, Mori Yuzo

Review of Scientific Instruments　Vol. 74　No. 10　p. 4549-4553　2003年10月
Microstitching interferometry for x-ray reflective optics

Yamauchi Kazuto, Yamamura Kazuya, Mimura Hidekazu, Sano Yasuhisa, Saito Akira, Ueno Kazumasa, Endo Katsuyoshi, Souvorov Alexei, Yabashi Makina, Tamasaku Kenji, Ishikawa Tetsuya, Mori Yuzo

Review of Scientific Instruments　Vol. 74　No. 5　p. 2894-2898　2003年5月
Ultraprecision Machining based on Physics and Chemistry

Mori Yuzo, Hirose Kikuji, Yamauchi Kazuto, Goto Hidekazu, Yamamura Kazuya, Sano Yasuhisa

Sensors and materials　Vol. 15　No. 1　p. 1-19　2003年
Nearly diffraction-limited line focusing of a hard-X-ray beam with an elliptically figured mirror

Yamauchi Kazuto, Yamamura Kazuya, Mimura Hidekazu, Sano Yasuhisa, Saito Akira, Souvorov Alexei, Yabashi Makina, Tamasaku Kenji, Ishikawa Tetsuya, Mori Yuzo

Journal of Synchrotron Radiation　Vol. 9　No. 5　p. 313-316　2002年9月
プラズマCVM(Chemical Vaporization Machining)による超精密加工に関する研究 -超薄膜SOI(Silicon on Insulator)ウエハの製作-

佐野泰久