研究者総覧 - 大阪大学

山村　和也

Yamamura Kazuya

山村　和也

Yamamura Kazuya

工学研究科，教授

keyword 中性子光学素子，X線光学素子，超精密光学素子，表面改質，物理化学加工，超精密加工

経歴 8

2024年4月～継続中

大阪大学栄誉教授
2021年4月～継続中

大阪大学大学院工学研究科附属精密工学研究センター　センター長
2017年8月～継続中

大阪大学教授
2009年4月～ 2025年3月

理化学研究所客員研究員
2007年4月～ 2017年8月

大阪大学准教授
2009年4月～ 2010年3月

大阪電気通信大学客員研究員
2001年8月～ 2007年3月

大阪大学助教授
1991年4月～ 2001年7月

大阪大学助手

学歴 3

大阪大学　論文博士博士（工学）

～ 2001年1月
大阪大学　工学研究科　精密工学専攻博士前期課程修了

～ 1991年3月
大阪大学　工学部　精密工学科卒業

～ 1989年3月

委員歴 14

（公社）精密工学会　フェロー　学協会

2017年～継続中
（一社）電気加工学会　理事　学協会

2016年～継続中
（一社）電気加工学会西日本支部　幹事　学協会

2016年～継続中
（公社）精密工学会超精密加工専門委員会　幹事　学協会

2012年～継続中
（公社）精密工学会　代議員　学協会

2011年～継続中
（公社）精密工学会関西支部　商議員　学協会

2006年～継続中
（公社）砥粒加工学会関西地区部会　会計監査　学協会

2019年～ 2022年
（公社）砥粒加工学会　理事　学協会

2017年～ 2018年
（公社）精密工学会関西支部　庶務幹事　学協会

2010年～ 2017年
（公社）砥粒加工学会関西地区部会　幹事　学協会

2015年～ 2016年
（社）精密工学会　校閲委員会委員　学協会

2008年～ 2010年
（社）精密工学会　評議員　学協会

2008年～ 2009年
（社）精密工学会　周年事業検討ワーキンググループ委員　学協会

2007年～ 2009年
（社）精密工学会関西支部　会計幹事　学協会

2007年～ 2009年

所属学会 15

表面技術協会
アメリカ精密工学会（ASPE）
（社）精密工学会超精密加工専門委員会
CIRP（国際生産加工アカデミー）
砥粒加工学会
日本中性子科学会
（社）精密工学会関西支部
（社）精密工学会
応用物理学会
精密工学会
The International Academy for Production Engineering
Japan Society for Abrasive Technology
日本中性子科学会
応用物理学会
精密工学会

研究内容・専門分野 2

ものづくり技術（機械・電気電子・化学工学） / 加工学、生産工学 /
ナノテク・材料 / 薄膜、表面界面物性 /

受賞 24

紫綬褒章

山村和也　2024年4月
精密工学会沼田記念論文賞

楊旭、楊暁喆、青木一史、山村和也　公益社団法人精密工学会　2024年3月
工作機械技術振興賞・人材育成賞

山村和也　公益社団法人工作機械技術振興財団　2023年6月
精密工学会高城賞

孫栄硯野副厚訓永橋潤司有馬健太川合健太郎山村和也　公益社団法人精密工学会　2023年3月
SEMICON Japan 2022 アカデミアAward 最優秀賞

山村研究室　SEMICON Japan　2022年12月
精密工学会技術賞

赤羽優子, 佐藤幸男, 菅原宏輝, 山村和也, 山田英明　公益社団法人精密工学会　2021年9月
文部科学大臣表彰科学技術賞開発部門

北田勝信, 山村和也, 深野徹, 宮﨑史朗, 渡辺啓一郎　2021年4月
Best Paper Award

X. Yang, Xu. Yang, K. Kawai, K. Arima, K. Yamamura　18th International Conference on Precision Engineering (ICPE2020)　2020年11月
井上春成賞

山村和也, 谷本秀夫　井上春成賞委員会　2017年7月
Rudolf Kingslake Medal and Prize

X. Shen, Q. Tu, J. Zhou, H. Deng, G. Jiang, K. Yamamura　SPIE　2016年8月
平成28年度表面技術協会論文賞

是津信行, 山村和也, 井筒祐志, 我田元, 大石修治, 手嶋勝弥　表面技術協会　2015年12月
岩木トライボコーティングネットワークアワード（岩木賞）優秀賞

山村和也　一般社団法人未来生産システム学協会　2015年2月
大阪大学総長顕彰

山村和也　大阪大学　2014年7月
工作機械技術振興賞（論文賞）

トウキ, 山村和也　公益財団法人工作機械技術振興財団　2014年6月
Best Paper Award

H. Deng, M. Ueda, K. Yamamura　4th International Conference of Asian Society for Precision Engineering and Nanotechnology　2011年11月
Best Paper Award

X. Shen, Y. Dai, W. Peng, M. Nagano, K. Yamamura　4th International Conference of Asian Society for Precision Engineering and Nanotechnology　2011年11月
Best Paper Award

Shuhei Uchida, Nobuyuki Zettsu, Kazuya Yamamura　3rd Asian Symposium for Precision Engineering and Nanotechnology　2009年11月
Best Poster Presentation Award

Hiroyuki Takai, Kazuya Yamamura　Asian Symposium for Precision Engineering and Nanotechnology 2007　2007年11月
Best Paper Award 2006

Kazuya Yamamura, Kunihito Kato, Yasuhisa Sano, Masafumi Shibahara, Katsuyoshi Endo, Yuzo Mori　The 8th International Conference on Progress of Machining Technology　2006年11月
工作機械技術振興賞（論文賞）

森勇藏, 山村和也, 佐野泰久　（財）工作機械技術振興財団　2003年6月
精密工学会賞

森勇藏, 山村和也, 佐野泰久　(社)精密工学会　2003年3月
工作機械技術振興賞(論文賞)

森勇蔵, 山村和也, 佐野泰久　(財)工作機械技術振興財団　2002年6月
精密工学会賞

山内和人, 杉山和久, 稲垣耕司, 山村和也, 佐野泰久, 森勇藏　精密工学会　2001年3月
工作機械技術振興賞(論文賞)

森勇蔵, 山内和人, 山村和也, 佐野泰久　(財)工作機械技術振興財団　2000年6月

論文 345

An interior damage free approach for nanosecond pulsed laser ablation of single crystal diamond via metal film induced self-maintaining graphitization

Nian Liu, Ling Lei, Jingming Zhu, Hao Lu, Junfeng Xiao, Jianguo Zhang, Xiao Chen, Jianfeng Xu, Kazuya Yamamura

Journal of Manufacturing Processes　Vol. 131　p. 958-972　2024年12月　研究論文（学術雑誌）
出版者・発行元：Elsevier BV
A proposed methodology to develop digital twin framework for plasma processing

Alasdair Mitchell, Xinyang Wei, Rongyan Sun, Kazuya Yamamura, Long Ye, Jonathan Corney, Nan Yu

Results in Engineering　Vol. 24　p. 103462-103462　2024年12月　研究論文（学術雑誌）
出版者・発行元：Elsevier BV
A highly efficient semi-finishing approach for polycrystalline diamond film via plasma-based anisotropic etching

Nian Liu, Ling Lei, Huilong Jiang, Yongjie Zhang, Junfeng Xiao, Jianguo Zhang, Xiao Chen, Jianfeng Xu, Kazuya Yamamura

Journal of Materials Processing Technology　Vol. 332　p. 118578-118578　2024年11月　研究論文（学術雑誌）
出版者・発行元：Elsevier BV
多層膜スーパーミラーを用いたWolter I 型中性子磁気顕微鏡の光学設計

曽山和彦, 林田洋寿, 丸山龍治, 山﨑大, 後藤惟樹, 小林勇輝, 荒川翔平, 山本有悟, 須場健太, 山村和也

JAEA Research　Vol. 2024　No. 006　p. 1-15　2024年10月　研究論文（大学，研究機関等紀要）
プラズマおよび電気化学プロセスを援用したナノ精度の加工技術

山村和也

クリーンテクノロジー　Vol. 34　No. 9　p. 54-59　2024年9月
A Review of Simulation Modeling of the State Evaluation and Process Prediction of Plasma Processing under Atmospheric Pressure

Xinyang Wei, Alasdair Mitchell, Rongyan Sun, Nan Yu, Kazuya Yamamura

Nanomanufacturing and Metrology　Vol. 7　No. 1　2024年6月26日　研究論文（学術雑誌）
出版者・発行元：Springer Science and Business Media LLC
プラズマを援用したナノ製造プロセス ―プラズマCVMとプラズマ援用研磨―

山村和也

静電気学会誌　Vol. 48　No. 3　p. 69-73　2024年6月
Oxidation mechanism of 4H-SiC in slurry-less ECMP with weak alkaline electrolyte

R. Sun, R. Kinoshita, K. Aoki, S. Hayakawa, K. Hori, K. Yasuda, Y. Ohkubo, K. Yamamura

CIRP Annals - Manufacturing Technology　2024年5月1日　研究論文（学術雑誌）
Insights into the atomic-scale removal mechanism of single crystal diamond in plasma-assisted polishing with quartz glass

Nian Liu, Huilong Jiang, Junfeng Xiao, Jianguo Zhang, Xiao Chen, Jingming Zhu, Jianfeng Xu, Kazuya Yamamura

Tribology International　Vol. 194　p. 109507-109507　2024年3月4日　研究論文（学術雑誌）
出版者・発行元：Elsevier BV
Identification of the surface chemical species of plasma-treated polytetrafluoroethylene by ab-initio calculations of the core-energy-level shift in X-ray photoelectron spectra

M. Nishino, K. Inagaki, Y. Morikawa, K. Yamamura, Y. Ohkubo

Applied Surface Science　Vol. in Press　2024年1月8日　研究論文（学術雑誌）
Effects of electrolyte type and concentration on the anodic oxidation of 4H-SiC (0001) in slurryless electrochemical mechanical polishing

Xiaozhe Yang, Xu Yang, Kazuya Yamamura

Electrochimica Acta　Vol. 474　p. 143531-143531　2023年11月19日　研究論文（学術雑誌）
出版者・発行元：Elsevier BV
プラズマ／電気化学プロセスを援用したナノ精度の形状加工と難加工材料のダメージフリー研磨

山村和也

日本機械学会誌　Vol. 126　No. 1259　p. 8-13　2023年10月5日
「ナノ製造プロセスの最前線」特集によせて

山村和也

日本機械学会誌　Vol. 126　No. 1259　p. 6-7　2023年10月5日
Preparation of platinum-free manganese oxide (MnOx) catalyst film for H2O2 decomposition in contact-lens cleaning

Y. Ohkubo, D. Fukuoka, Y. Seto, M. Nishino a, K. Endo a, K. Yamamura

Thin Solid Films　2023年9月9日　研究論文（学術雑誌）
Direct adhesion between Cu foil and polytetrafluoroethylene without increasing surface roughness for high-frequency printed wiring boards

M. Nishino, T. Kodama, K. Yamamura, Y. Ohkubo

RSC Advances　Vol. 13　No. 37　p. 25895-25903　2023年8月30日　研究論文（学術雑誌）
Selective electrochemical mechanical polishing of 4H–SiC surface employing porous material impregnated with electrolyte

Xiaozhe Yang, Xu Yang, Zhuangde Jiang, Kazuya Yamamura

Ceramics International　Vol. 49　No. 22　p. 34569-34581　2023年8月9日　研究論文（学術雑誌）
出版者・発行元：Elsevier BV
Slurryless electrochemical mechanical polishing of 4-inch 4H–SiC (0001) and (000–1) surfaces

Xu Yang, Xiaozhe Yang, Kazufumi Aoki, Kazuya Yamamura

Precision Engineering　Vol. 83　p. 237-249　2023年6月6日　研究論文（学術雑誌）
出版者・発行元：Elsevier BV
Highly efficient finishing of large-sized single crystal diamond substrates by combining nanosecond pulsed laser trimming and plasma-assisted polishing

Nian Liu, Kentaro Sugimoto, Naoya Yoshitaka, Hideaki Yamada, Rongyan Sun, Kenta Arima, Kazuya Yamamura

Ceramics International　Vol. 49　No. 11　p. 19109-19123　2023年3月6日　研究論文（学術雑誌）
出版者・発行元：Elsevier BV
Surface modification and adhesive-free adhesion of polytetrafluoroethylene (PTFE) and silicone gel containing oleophilic SiO2 powder by plasma treatment

E. Miyake, Y. Seto, M. Nishino, I. Komatsu, K. Endo, K. Yamamura, Y. Ohkubo

RSC Advances　Vol. 13　No. 3　p. 1834-1841　2023年1月9日　研究論文（学術雑誌）
プラズマ援用研磨による大面積ダイヤモンド基板の高能率ダメージフリー研磨

山村和也

ニューダイヤモンド誌　Vol. 39　No. 1　p. 37-39　2023年1月
スラリーレス電気化学機械研磨によるSiCのダメージフリー研磨

山村和也

表面技術誌　Vol. 73　No. 11　p. 523-527　2022年11月
難研磨材料のスラリーレスプラズマ援用研磨と電気化学機械研磨

山村和也

精密工学会誌　Vol. 88　No. 6　p. 440-444　2022年6月
Effects of polishing pressure and sliding speed on the material removal mechanism of single crystal diamond in plasma-assisted polishing

Nian Liu, Kentaro Sugimoto, Naoya Yoshitaka, Hideaki Yamada, Rongyan Sun, Kentaro Kawai, Kenta Arima, Kazuya Yamamura

Diamond and Related Materials　Vol. 124　p. 108899-108899　2022年4月　研究論文（学術雑誌）
出版者・発行元：Elsevier BV
Nanocarbon-Induced Etching Property of Semiconductor Surfaces: Testing Nanocarbon’s Catalytic Activity for Oxygen Reduction Reaction at a Single-Sheet Level

Ayumi Ogasawara, Kentaro Kawai, Kazuya Yamamura, Kenta Arima

ECS Journal of Solid State Science and Technology　Vol. 11　No. 4　p. 041001-041001　2022年4月1日　研究論文（学術雑誌）
出版者・発行元：The Electrochemical Society
Separation of Neighboring Terraces on a Flattened Si(111) Surface by Selective Etching along Step Edges Using Total Wet Chemical Processing

Zhida Ma, Seiya Masumoto, Kentaro Kawai, Kazuya Yamamura, Kenta Arima

Langmuir　Vol. 38　No. 12　p. 3748-3754　2022年3月29日　研究論文（学術雑誌）
出版者・発行元：American Chemical Society (ACS)
Charge Utilization Efficiency and Side Reactions in the Electrochemical Mechanical Polishing of 4H-SiC (0001)

Xiaozhe Yang, Xu Yang, Haiyang Gu, Kentaro Kawai, Kenta Arima, Kazuya Yamamura

Journal of The Electrochemical Society　Vol. 169　No. 2　p. 023501-023501　2022年2月1日　研究論文（学術雑誌）
出版者・発行元：The Electrochemical Society
Adhesive-free adhesion between plasma-treated glass-cloth-containing polytetrafluoroethylene (GC-PTFE) and stainless steel: Comparison between GC-PTFE and pure-PTFE

M. Nishino, Y. Okazaki, Y. Seto, T. Uehara, K. Endo, K. Yamamura, Y. Ohkubo

Polymers　Vol. 14　No. 3　2022年1月20日　研究論文（学術雑誌）
プラズマを援用した大面積単結晶ダイヤモンド基板の高能率ダメージフリー研磨技術の開発

赤羽優子, 佐藤幸男, 菅原宏輝, 山村和也, 山田英明

精密工学会誌　Vol. 88　No. 2　p. 133-136　2022年1月
Flexible selection of the functional-group ratio on a polytetrafluoroethylene (PTFE) surface using a single-gas plasma treatment

Yuji Ohkubo, Yuki Okazaki, Misa Nishino, Yosuke Seto, Katsuyoshi Endo, Kazuya Yamamura

RSC Advances　Vol. 12　No. 48　p. 31246-31254　2022年　研究論文（学術雑誌）
出版者・発行元：Royal Society of Chemistry (RSC)
Cross-sectional observation of a weak boundary layer in polytetrafluoroethylene (PTFE) using scanning electron microscope

Y. Seto, M. Nishino, Y. Okazaki, K. Endo, K. Yamamura, Y. Ohkubo

Polymer Journal　Vol. 54　No. 1　p. pp.79-81　2022年1月　研究論文（学術雑誌）
Effects of He and Ar heat-assisted plasma treatments on the adhesion properties of polytetrafluoroethylene (PTFE)

Y. Ohkubo, Y. Okazaki, M. Shibahara, M. Nishino, Y. Seto, K. Endo, K. Yamamura

Polymers　Vol. 13　No. 23　2021年12月9日　研究論文（学術雑誌）
Comparison of surface and subsurface damage of mosaic single-crystal diamond substrate processed by mechanical and plasma-assisted polishing

Nian Liu, Hideaki Yamada, Naoya Yoshitaka, Kentaro Sugimoto, Rongyan Sun, Kentaro Kawai, Kenta Arima, Kazuya Yamamura

Diamond and Related Materials　Vol. 119　p. 108555-108555　2021年11月　研究論文（学術雑誌）
出版者・発行元：Elsevier BV
Novel SiC wafer manufacturing process employing three-step slurryless electrochemical mechanical polishing

Xu Yang, Xiaozhe Yang, Kentaro Kawai, Kenta Arima, Kazuya Yamamura

Journal of Manufacturing Processes　Vol. 70　p. 350-360　2021年10月1日　研究論文（学術雑誌）
出版者・発行元：Elsevier Ltd
Selective Etching of Semiconductor Surfaces by Catalytic Activity of Nanocarbon

Ryo MIKURINO, Ayumi OGASAWARA, Kentaro KAWAI, Kazuya YAMAMURA, Kenta ARIMA

Vacuum and Surface Science　Vol. 64　No. 8　p. 352-357　2021年8月10日　研究論文（学術雑誌）
出版者・発行元：Surface Science Society Japan
Atomic-scale insights into the origin of rectangular lattice in nanographene probed by scanning tunneling microscopy

Junhuan Li, Shaoxian Li, Tomoki Higashi, Kentaro Kawai, Kouji Inagaki, Kazuya Yamamura, Kenta Arima

Physical Review B　Vol. 103　No. 24　2021年6月24日　研究論文（学術雑誌）
出版者・発行元：American Physical Society (APS)
Atomic-scale and damage-free polishing of single crystal diamond enhanced by atmospheric pressure inductively coupled plasma

Hu Luo, Khan Muhammad Ajmal, Wang Liu, Kazuya Yamamura, Hui Deng

Carbon　Vol. 182　p. 175-184　2021年6月3日　研究論文（学術雑誌）
出版者・発行元：Elsevier BV
Dominant factors and their action mechanisms on material removal rate in electrochemical mechanical polishing of 4H-SiC (0001) surface

Xiaozhe Yang, Xu Yang, Kentaro Kawai, Kenta Arima, Kazuya Yamamura

Applied Surface Science　Vol. 562　p. 150130-150130　2021年5月17日　研究論文（学術雑誌）
出版者・発行元：Elsevier BV
Novel highly-efficient and dress-free polishing technique with plasma-assisted surface modification and dressing

Rongyan Sun, Atsunori Nozoe, Junji Nagahashi, Kenta Arima, Kentaro Kawai, Kazuya Yamamura

Precision Engineering　Vol. 72　p. 224-236　2021年5月9日　研究論文（学術雑誌）
出版者・発行元：Elsevier BV
Polishing and planarization of single crystal diamonds: state-of-the-art and perspectives

Hu Luo, Khan Muhammad Ajmal, Wang Liu, Kazuya Yamamura, Hui Deng

International Journal of Extreme Manufacturing　Vol. 3　No. 2　p. 022003-022003　2021年3月10日　研究論文（学術雑誌）
出版者・発行元：IOP Publishing
Damage-free highly efficient plasma-assisted polishing of a 20-mm square large mosaic single crystal diamond substrate

N. Liu, K. Sugawara, N. Yoshitaka, H. Yamada, D. Takeuchi, Y. Akabane, K. Fujino, K. Kawai, K. Arima, Kazuya Yamamura

Scientific Reports　Vol. 10　No. 1　2020年11月10日　研究論文（学術雑誌）
出版者・発行元：Springer Science and Business Media LLC
熱アシストプラズマ処理の接着性向上効果に対する電極-試料（PTFE）間距離の影響

中川哲哉, 西野実沙, 遠藤勝義, 山村和也, 大久保雄司

日本接着学会誌　Vol. 56　p. 389-396　2020年10月1日　研究論文（学術雑誌）
Open-air-type Ar + H2O plasma treatment of polytetrafluoroethylene for improving Ag/PTFE adhesion strength: application to highly adhesive Ag direct wiring patterns

Y. Ohkubo, Y. Kodama, M. Nishino, T. Oshita, T. Uehara, K. Endo, K. Yamamura

Japanese Journal of Applied Physics　Vol. 59　No. 7　p. 077004-077004　2020年6月30日　研究論文（学術雑誌）
出版者・発行元：IOP Publishing
High-quality plasma-assisted polishing of aluminum nitride ceramic

R. Sun, X. Yang, K. Arima, K. Kawai, K. Yamamura

CIRP Annals　Vol. 69　No. 1　p. 301-304　2020年5月20日　研究論文（学術雑誌）
出版者・発行元：Elsevier BV
Catalytic Properties of Chemically Modified Graphene Sheets to Enhance Etching of Ge Surface in Water

Ryo Mikurino, Ayumi Ogasawara, Tomoki Hirano, Yuki Nakata, Hiroto Yamashita, Shaoxian Li, Kentaro Kawai, Kazuya Yamamura, Kenta Arima

The Journal of Physical Chemistry C　Vol. 124　No. 11　p. 6121-6129　2020年3月　研究論文（学術雑誌）
出版者・発行元：ACS Publications
Feasibility using ethanol-added argon instead of helium as the carrier gas used in atmospheric-pressure plasma chemical vaporization machining

Rongyan Sun, Keiichiro Watanabe, Shiro Miyazaki, Toru Fukano, Masanobu Kitada, Kentaro Kawai, Kenta Arima, Kazuya Yamamura

Proceedings of the 20th International Conference of the European Society for Precision Engineering and Nanotechnology, EUSPEN 2020　p. 159-160　2020年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
出版者・発行元：euspen
Strong biomimetic immobilization of Pt-particle catalyst on ABS substrate using polydopamine and its application for contact-lens cleaning with H2O2

Y. Ohkubo, T. Aoki, D. Kaibara, S. Seino, O. Mori, R. Sasaki, K. Endo, K. Yamamura

Nanomaterials　Vol. 10　No. 1　2020年1月　研究論文（学術雑誌）
Obtaining Atomically Smooth 4H–SiC (0001) Surface by Controlling Balance Between Anodizing and Polishing in Electrochemical Mechanical Polishing

Xu Yang, Xiaozhe Yang, Rongyan Sun, Kentaro Kawai, Kenta Arima, Kazuya Yamamura

Nanomanufacturing and Metrology　Vol. 2　No. 3　p. 140-147　2019年9月　研究論文（学術雑誌）
出版者・発行元：Springer Science and Business Media LLC
Etching Characteristics of Quartz Crystal Wafers Using Argon-Based Atmospheric Pressure CF4 Plasma Stabilized by Ethanol Addition

Rongyan Sun, Xu Yang, Keiichiro Watanabe, Shiro Miyazaki, Toru Fukano, Masanobu Kitada, Kenta Arima, Kentaro Kawai, Kazuya Yamamura

Nanomanufacturing and Metrology　Vol. 2　No. 3　p. 168-176　2019年9月　研究論文（学術雑誌）
出版者・発行元：Springer Science and Business Media LLC
Highly efficient planarization of sliced 4H-SiC (0001) wafer by slurryless electrochemical mechanical polishing

Yang Xu, Yang Xiaozhe, Kawai Kentaro, Arima Kenta, Yamamura Kazuya

INTERNATIONAL JOURNAL OF MACHINE TOOLS & MANUFACTURE　Vol. 144　2019年9月
Improvements in graphene growth on 4H-SiC(0001) using plasma induced surface oxidation

Ouki Minami, Ryota Ito, Kohei Hosoo, Makoto Ochi, Yasuhisa Sano, Kentaro Kawai, Kazuya Yamamura, Kenta Arima

Journal of Applied Physics　Vol. 126　No. 6　p. 065301 1-065301 10　2019年8月　研究論文（学術雑誌）
Influence of air contamination during heat-assisted plasma treatment on adhesion property of polytetrafluoroethylene (PTFE)

Y. Ohkubo, T. Nakagawa, K. Endo, K. Yamamura

RSC Advances　Vol. 9　p. 22900-22906　2019年7月　研究論文（学術雑誌）
Fabrication of optics with a thin part by plasma chemical vaporization machining

Hideo Takino, Kazuya Yamamura, Yasuhisa Sano, Yuzo Mori

Freeform Optics - Proceedings Optical Design and Fabrication 2019 (Freeform, OFT)　2019年6月3日　研究論文（国際会議プロシーディングス）
出版者・発行元：Optical Society of America (OSA)
Rapid Assembly of DNA Origami in Microfluidic Temperature Gradient

Kentaro Kawai, Hara Keita, Ryota Nakamura, Kenta Arima, Kazuya Yamamura, Osamu Tabata

2019 20th International Conference on Solid-State Sensors, Actuators and Microsystems and Eurosensors XXXIII, TRANSDUCERS 2019 and EUROSENSORS XXXIII　p. 398-401　2019年6月　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Improved catalytic durability of Pt-particle/ABS for H2O2 decomposition in contact lens cleaning

Y. Ohkubo, T. Aoki, S. Seino, O. Mori, I. Ito, K. Endo, K. Yamamura

Nanomaterials　Vol. 9　No. 3　2019年3月　研究論文（学術雑誌）
Freestanding graphene CVD growth on insulating substrate using ga catalyst

Tomoki Tsuji, Kenta Arima, Kazuya Yamamura, Kentaro Kawai

23rd International Conference on Miniaturized Systems for Chemistry and Life Sciences, MicroTAS 2019　p. 1194-1195　2019年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
出版者・発行元：Chemical and Biological Microsystems Society
Figuring of fused silica optical surface with thin parts by plasma chemical vaporization machining

Hideo Takino, Kazuya Yamamura, Yasuhisa Sano, Yuzo Mori

Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering　Vol. 11168　2019年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
出版者・発行元：SPIE
Absolute distance measurement of optical path length of non-contact three-dimensional nanoprofiler based on normal vector tracing method by tandem white-light interferometer

Jungmin Kang, Takao Kitayama, Ryo Kizaki, Yui Toyoshi, Kota Hashimoto, Agustinus Winarno, Kiyoshi Takamasu, Kazuya Yamamura, Katsuyoshi Endo

Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering　Vol. 11056　2019年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Fundamental Properties for Enhanced Etching of Ge Surfaces in Water Assisted by Single Sheets of Reduced Graphene Oxide

T. Hirano, Y. Nakata, H. Yamashita, S. Li, K. Kawai, K. Yamamura, K. Arima

Abstract Book & Schedule of PCSI-46　p. 88-88　2019年1月
出版者・発行元：American Vacuum Society
Atomic-scale Observations of Reduced Graphene Oxide Nanosheets Dispersed on HOPG Substrates

Shaoxian Li, Tomoki Hirano, Kentaro Kawai, Kazuya Yamamura, Kenta Arima

Abstract Book & Schedule of PCSI-46　p. 69-69　2019年1月
出版者・発行元：American Vacuum Society
Surface Modification and Microstructuring of 4H-SiC(0001) by Anodic Oxidation with Sodium Chloride Aqueous Solution

X. Yang, R. Sun, K. Kawai, K. Arima, K. Yamamura

Applied Materials & Interfaces 11 (2019) 2535-2542.　Vol. 11　No. 2　p. 2535-2542　2019年1月　研究論文（学術雑誌）
出版者・発行元：
Ultrasonic-assisted anodic oxidation of 4H-SiC (0001) surface

X. Yang, X. Yang, K. Kawai, K. Arima, K. Yamamura

Electrochemistry Communications 100 (2019) 1-5.　Vol. 100　p. 1-5　2019年1月　研究論文（学術雑誌）
Adhesive-free adhesion between heat-assisted plasma-treated fluoropolymers (PTFE, PFA) and plasma-jet-treated polydimethylsiloxane (PDMS) and its application

Y. Ohkubo, K. Endo, K. Yamamura

Scientific Reports　Vol. 8　No. 1　2018年12月　研究論文（学術雑誌）
出版者・発行元：
プラズマナノ製造プロセスによるセラミックスのダメージフリー加工

山村和也

トライボロジスト Vol. 63 No. 12 (2018. 12. 15) 806-811.　Vol. 63　No. 12　p. 806-811　2018年12月
Effect of Temperature Distribution in Microtube and Microfluidic Channel for DNA Origami Assembly

Keita Hara, Tatsuya Inagaki, Naoki Yamashita, Kenta Arima, Kazuya Yamamura, Osamu Tabata, Kentaro Kawai

2018年11月　研究論文（その他学術会議資料等）
プラズマナノ製造プロセス

山村和也

メカニカルサーフェス・テック　No. 046　p. 35-37　2018年10月
反応性プラズマを援用したセラミックス材料のダメージフリー形状創成・仕上げ加工技術の開発

山村和也

粉体および粉末冶金　Vol. 65　No. 10　p. 654-658　2018年10月
Comparison between adhesion properties of adhesive bonding and adhesive-free adhesion for heat-assisted plasma-treated polytetrafluoroethylene (PTFE)

Y. Ohkubo, M. Shibahara, A. Nagatani, K. Honda, K. Endo, K. Yamamura

J. Adhesion　Vol. 96　No. 8　p. 776-796　2018年9月　研究論文（学術雑誌）
プラズマCVMによる高精度ミラーの作製

山村和也

精密工学会誌 Vol. 84 No. 6　Vol. 84　No. 6　p. 507-510　2018年6月
プラズマ援用研磨によるワイドギャップ半導体材料の超平滑仕上げ

山村和也

自動車技術 Vol. 72 No. 6　Vol. 72　No. 6　p. 42-47　2018年6月
Application of plasma chemical vaporization machining for figuring of reaction-sintered silicon carbide

R. Sun, Y. Ohkubo, K. Endo, K. Yamamura

Proceedings of 18th International Conference of the European Society for Precision Engineering and Nanotechnology　p. 391-392　2018年6月　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Damage-free highly efficient polishing of single-crystal diamond wafer by plasma-assisted polishing

K. Yamamura, K. Emori, R. Sun, Y. Ohkubo, K. Endo, Y. Yamada, A. Chayama, Y. Mokuno

CIRP Annals Manufacturing Technology　Vol. 67　p. 353-356　2018年5月　研究論文（学術雑誌）
出版者・発行元：
Nanopore Fabrication and DNA sensing on Two-Dimensional Materials using Helium Ion Microscopy

Kentaro Kawai, Takumi Hayashi, Kenta Arima, Kazuya Yamamura, Osamu Tabata

2018年4月　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Surface modification of fluoropolymer using open-air plasma treatment at atmospheric pressure with Ar, Ar + O2, and Ar + H2 for application in high-adhesion metal wiring patterns

Y. Kodama, Y. Ohkubo, T. Oshita, Y. Nakano, T. Uehara, T. Aoyama, K. Endo, K. Yamamura

表面技術　Vol. 69　No. 4　p. 152-162　2018年4月　研究論文（学術雑誌）
Investigation of anodic oxidation mechanism of 4H-SiC (0001) for electrochemical mechanical polishing

X. Yang, R. Sun, Y. Ohkubo, K. Kawai, K. Arima, K. Endo, K. Yamamura

Electrochimica Acta　Vol. 271　p. 666-676　2018年3月　研究論文（学術雑誌）
出版者・発行元：
Effect of rubber compounding agent on adhesion strength between the rubber and heat-assisted plasma-treated polytetrafluoroethylene

Y. Ohkubo, M. Shibahara, K. Ishihara, A. Nagatani, K. Honda, K. Endo, K. Yamamura

J. Adhesion　Vol. 95　No. 3　p. 242-257　2018年2月　研究論文（学術雑誌）
Adhesion property of heat-assisted plasma-treated polytetrafluoroethylene (PTFE) – Realization in extremely high adhesion of PTFE and other types of material –

Y. Ohkubo, M. Shibahara, A. Nagatani, K. Honda, K. Endo, K. Yamamura

2018年2月
Optimization of gas composition used in plasma chemical vaporization machining for figuring of reaction-sintered silicon carbide with low surface roughness

R. Sun, X. Yang, Y. Ohkubo, K. Endo, K. Yamamura

Scientific Reports　Vol. 8　No. 1　2018年2月　研究論文（学術雑誌）
出版者・発行元：
Electrochemical mechanical polishing of 4H-SiC (0001) with different grinding stones

Xu Yang, Kentaro Kawai, Kenta Arima, Kazuya Yamamura

ISAAT 2018 - 21st International Symposium on Advances in Abrasive Technology　2018年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
出版者・発行元：21st International Symposium on Advances in Abrasive Technology, ISAAT 2018
Preliminary study on figuring of reaction-sintered silicon carbide by plasma chemical vaporization machining

Rongyan Sun, Yuji Ohkubo, Kentaro Kawai, Kenta Arima, Kazuya Yamamura

Proceedings - 33rd ASPE Annual Meeting　p. 335-338　2018年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
出版者・発行元：American Society for Precision Engineering, ASPE
AFM Observation of Initial Oxidation Stage of 4H-SiC (0001) in Electrochemical Mechanical Polishing

Xu Yang, Yuji Ohkubo, Katsuyoshi Endo, Kazuya Yamamura

Procedia CIRP　Vol. 68　p. 735-740　2018年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
出版者・発行元：Elsevier B.V.
熱アシストプラズマ処理したポリテトラフルオロエチレンとゴムとの接着界面におけるシリカ粒子添加の影響

柴原正文, 大久保雄司, 長谷朝博, 本田幸司, 遠藤勝義, 山村和也

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2018　p. 710-710　2018年
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
High accuracy cylindrical mirror measurement by three-dimensional nano-profiler based on the normal vector tracing method

Jungmin Kang, Hiroki Shiraji, Ryo Kizaki, Yui Toyoshi, Takao Kitayama, Kazuya Yamamura, Takashi Miyawaki, Katsuyoshi Endo

Proceedings - 33rd ASPE Annual Meeting　p. 142-145　2018年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
プラズマCVMによる機能材料の高精度無歪加工

山村和也

NEW GLASS, Vol.32, No. 3, 16-20.　Vol. 32　No. 3　p. 16-20　2017年11月
出版者・発行元：ニューガラスフォーラム
Atomic-scale finishing of carbon face of single crystal SiC by combination of thermal oxidation pretreatment and slurry polishing

H. Deng, N. Liu, K. Endo, K. Yamamura

Appl. Surf. Sci. 434 (2018) 40-48.　Vol. 434　p. 40-48　2017年10月　研究論文（学術雑誌）
出版者・発行元：
Polishing of tungsten carbide by combination of anodizing and silica slurry polishing

H. Deng, X. Zhang, K. Liu, K. Yamamura, H. Sato

Journal of The Electrochemical Society 164 (2017) E352-E359.　Vol. 164　No. 12　p. E352-E359　2017年9月　研究論文（学術雑誌）
プラズマ援用研磨によるSiCのダメージフリー仕上げ

山村和也

砥粒加工学会誌 Vol.61, No. 8, 430-433.　Vol. 61　No. 8　p. 430-433　2017年8月
出版者・発行元：砥粒加工学会
Drastic improvement in adhesion property of polytetrafluoroethylene (PTFE) via heat-assisted plasma treatment using a heater

Y. Ohkubo, K. Ishihara, M. Shibahara, A. Nagatani, K. Honda, K. Endo, K. Yamamura

Scientific Reports　Vol. 7　2017年8月　研究論文（学術雑誌）
Radiolytic synthesis of Pt-Particle/ABS catalysts for H2O2 decomposition in contact lens cleaning

Y. Ohkubo, T. Aoki, S. Seino, O. Mori, I. Ito, K. Endo, K. Yamamura

Nanomaterials　Vol. 7　No. 9　2017年8月　研究論文（学術雑誌）
プラズマ援用研磨によるSiCのダメージフリー仕上げ

山村和也

砥粒加工学会誌Vol.61 No. 8 430-433.　Vol. 61　No. 8　p. 430-433　2017年8月
High-accuracy three-dimensional aspheric mirror measurement with nanoprofiler based on normal vector tracing method

R. Kudo, T. Kitayama, Y. Tokuta, H. Shiraji, M. Nakano, K. Yamamura, K. Endo

Optics and Lasers in Engineering 98 (2017) 159-162　Vol. 98　p. 159-162　2017年7月　研究論文（学術雑誌）
Improving the grindability of titanium alloy Ti–6Al–4V with the assistance of ultrasonic vibration and plasma electrolytic oxidation

S. Li, Y. Wu, K. Yamamura, M. Nomura, T. Fujii

Annals of the CIRP 64 (2017) 345-348.　Vol. 64　No. 1　p. 345-348　2017年5月　研究論文（学術雑誌）
出版者・発行元：
電子線照射還元法によりABS樹脂上へ担持したPtナノ粒子触媒の耐久性向上

青木智紀, 大久保雄司, 清野智史, 小玉欣典, 中川哲哉, 原田朋実, 遠藤勝義, 森理, 伊藤一作, 山村和也

表面技術協会講演大会講演要旨集　Vol. 135th　2017年3月　研究論文（その他学術会議資料等）
High rate abrasive-free polishing of single crystal diamond wafer by plasma assisted polishing

Ken Emori, Katsuyoshi Endo, Hideaki Yamada, Akiyoshi Chayahara, Yoshiaki Mokuno, Kazuya Yamamura

Proceedings of the 17th International Conference of the European Society for Precision Engineering and Nanotechnology, EUSPEN 2017　p. 163-164　2017年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
出版者・発行元：euspen
Removal of subsurface damage of 4H-SiC wafer by plasma assisted polishing

Kentaro Tsujiuchi, Chika Kageyama, Katsuyoshi Endo, Kazuya Yamamura

Proceedings of the 17th International Conference of the European Society for Precision Engineering and Nanotechnology, EUSPEN 2017　p. 197-198　2017年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
出版者・発行元：euspen
非接触ナノ形状測定装置による非球面ミラーの形状測定

木崎嶺, 白地央樹, 北山貴雄, 山村和也, 遠藤勝義

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2017　p. 95-96　2017年
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
Adhesive-free adhesion between polytetrafluoroethylene (PTFE) and isobutylene–isoprene rubber (IIR) via heat-assisted plasma treatment

Y. Ohkubo, K. Ishihara, H. Sato, M. Shibahara, A. Nagatani, K. Honda, K. Endo, K. Yamamura

RSC Advances 7 (2017) 6432-6438.　Vol. 7　No. 11　p. 6432-6438　2017年1月　研究論文（学術雑誌）
電子線照射還元法によるH2O2分解用Ptナノ粒子触媒の合成 -微粒子化剤添加の効果-

青木智紀, 大久保雄司, 清野智史, 小玉欣典, 中川哲哉, 原田朋実, 遠藤勝義, 森理, 伊藤一作, 山村和也

2016年11月　研究論文（その他学術会議資料等）
Damage-free finishing of CVD-SiC by a combination of dry plasma etching and plasma-assisted polishing

H. Deng, K. Endob, K. Yamamura

Int. J. Mach. Tool. Man. 115 (2017) 38-46.　Vol. 115　p. 38-46　2016年11月　研究論文（学術雑誌）
Preliminary study on atmosphericpressure plasma-based chemical dry figuring and finishing of reactionsintered silicon carbide

X. Shen, H. Deng, X. Zhang, K. Peng, Kazuya Yamamura

Opt. Eng. 55 (2016) 105102 (8pp).　Vol. 55　No. 10　2016年10月　研究論文（学術雑誌）
熱アシストプラズマ処理によるポリテトラフルオロエチレンと無電解銅めっき膜の密着性向上

大久保雄司, 石原健人, 佐藤悠, 遠藤勝義, 山村和也

表面技術　Vol. 67　No. 10　p. 551-556　2016年10月　研究論文（学術雑誌）
出版者・発行元：一般社団法人表面技術協会
電子線照射還元法によるABS樹脂基材上へのH2O2分解用触媒Ptナノ粒子の作製

青木智紀, 大久保雄司, 小玉欣典, 中川哲哉, 原田朋実, 遠藤勝義, 清野智史, 森理, 伊藤一作, 山村和也

表面技術協会講演大会講演要旨集　Vol. 134th　2016年9月　研究論文（その他学術会議資料等）
Surface modification of polytetrafluoroethylene (PTFE) by heat-assisted atmospheric pressure plasma treatment for improving adhesion of PTFE to isobutylene-isoprene rubber (IIR)

Y. Ohkubo, K. Ishihara, M. Shibahara, A. Nagatani, K. Honda, T. Aoki, Y. Kodama, K. Enod, K. Yamamura

2016年9月　研究論文（その他学術会議資料等）
Measurement of aspheric mirror by nanoprofiler using normal vector tracing

T. Kitayama, H. Shiraji, K. Yamamura, K. Endo

Proc. of SPIE 9962　Vol. 9962　2016年8月　研究論文（国際会議プロシーディングス）
電子線照射還元法によるPtナノ粒子触媒のABS樹脂上への固定化 ―エッチング処理と表面電荷調整処理による表面改質効果の調査―

青木智紀, 大久保雄司, 小玉欣典, 中川哲哉, 原田朋実, 遠藤勝義, 山村和也, 清野智史, 森理, 伊藤一作

精密工学会関西地方定期学術講演会講演論文集　Vol. 2016　2016年7月　研究論文（その他学術会議資料等）
Highly-efficient slurryless finishing of GaN by plasma-assisted polishing using a resin bonded grinding stone

C. Kageyama, H. Deng, K. Endo, K. Yamamura

Proceedings of 16th International Conference of the European Society for Precision Engineering and Nanotechnology　2016年5月　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Electrochemical mechanical polishing of difficult-to-machine mold materials

K. Yamamura, Y. Imanishi, K. Endo

Proceedings of 16th International Conference of the European Society for Precision Engineering and Nanotechnology　2016年5月　研究論文（学術雑誌）
Planarization of CVD grown single crystal diamond wafer by numerically controlled plasma chemical vaporization machining

H. Dojo, K. Endo, H. Yamada, A. Chayahara, Y. Mokuno, K. Yamamura

Proceedings of 16th International Conference of the European Society for Precision Engineering and Nanotechnology　2016年5月　研究論文（国際会議プロシーディングス）
3D surface measurement of spherical mirror by nanoprofiler using normal vector tracing method

H. Shiraji, Y. Tokuta, T. Kitayama, M. Nakano, R. Kudo, K. Yamamura, K. Endo

Proceedings of International Conference on X-ray Optics, Detectors, Sources, and their Applications 2016　p. 37-38　2016年5月　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Comparative analysis on surface property in anodic oxidation polishing of reaction-sintered silicon carbide and single-crystal 4H silicon carbide

Xinmin Shen, Qunzhang Tu, Hui Deng, Guoliang Jiang, Xiaohui He, Bin Liu, Kazuya Yamamura

Applied Physics A: Materials Science and Processing　Vol. 122　No. 4　2016年4月1日　研究論文（学術雑誌）
出版者・発行元：Springer Verlag
High-spatial Resolution Figuring by Pulse Width Modulation Controlled Plasma Chemical Vaporization Machining

K. Yamamura, Y. Takeda, S. Sakaiya, D. Funato, K. Endo

Procedia CIRP 42 (2016) 508-511.　Vol. 42　p. 508-511　2016年3月　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Oxidation Characteristic and Machining Performance of Reaction-Sintered Silicon Carbide Ceramic in Anodically Oxidation-Assisted Polishing

Guoliang Jiang, Xinmin Shen, Jian Tang, Xiaonan Zhang, Xiangpo Zhang, Kazuya Yamamura

INTERNATIONAL JOURNAL OF ELECTROCHEMICAL SCIENCE　Vol. 11　No. 2　p. 1512-1529　2016年2月　研究論文（学術雑誌）
大気圧プラズマプロセスをベースとした単結晶ダイヤモンド基板の高能率ダメージフリー平坦化・平滑化（第7報）

道上久也, 遠藤勝義, 山田英明, 茶谷原昭義, 杢野由明, 山村和也

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2016　p. 851-852　2016年
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
数値制御プラズマCVMにおける高精度・高能率化に関する研究（第1報）

境谷省吾, 舩戸大輔, 遠藤勝義, 山村和也

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2016　p. 927-928　2016年
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
プラズマ援用研磨法の開発（第16報）

蔭山千華, トウ輝, 遠藤勝義, 山村和也

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2016　p. 849-850　2016年
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
法線ベクトルを用いたナノ精度形状測定法における逐次計算による誤差低減

工藤良太, 北山貴雄, 徳田有亮, 白地央樹, 中野元博, 山村和也, 遠藤勝義

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2016　p. 187-188　2016年
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
Research on optimal process parameters in thermally oxidation-assisted polishing of reaction-sintered silicon carbide

Xinmin Shen, Kazuya Yamamura, Xiaonan Zhang, Xiangpo Zhang, Dong Wang, Kang Peng

Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering　Vol. 9683　2016年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
出版者・発行元：SPIE
Innovative technique for bonding fluoropolymers and different materials using atmospheric pressure plasma

Yuji Ohkubo, Kazuya Yamamura

Journal of Japan Institute of Electronics Packaging　Vol. 19　No. 2　p. 127-131　2016年　研究論文（学術雑誌）
出版者・発行元：Japan Institute of Electronics Packaging
Study on removal mechanism of sapphire in plasma assisted polishing

C. Kageyama, K. Monna, H. Deng, K. Endo, K. Yamamura

Advanced Materials Research 1136 (2016) 317-320.　Vol. 1136　p. 317-320　2016年1月　研究論文（国際会議プロシーディングス）
電子線照射還元法によるABS樹脂基板上へのPtナノ粒子担持

青木智紀, 大久保雄司, 清野智史, 石原健人, 小玉欣典, 遠藤勝義, 山村和也

2015年11月　研究論文（その他学術会議資料等）
Efficient processing of reaction-sintered silicon carbide by anodically oxidation-assisted polishing

Q. Tu, X. Shen, J. Zhou, X. He, K. Yamamura

Opt. Eng. 54 (2015) 105113.　Vol. 54　No. 10　2015年10月　研究論文（学術雑誌）
Neutron focusing by a Kirkpatrick-Baez type super-mirror

D. Yamazaki, M. Nagano, R. Maruyama, H. Hayashoda, K. Soyama, K. Yamamura

JPS Conf. Proc. 8 (2015) 051009-1_6.　2015年9月　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Atomic-scale and pit-free flattening of GaN by combination of plasma pretreatment and time-controlled chemical mechanical polishing

H. Deng, K. Endo, K. Yamamura

Appl. Phys. Lett. 107 (2015) 051602 (4pp)　Vol. 107　No. 5　p. 051602-1-051602-4　2015年8月　研究論文（学術雑誌）
Simulation-based systematic error compensation for nanoprofiler using normal vector tracing method

R. Kudo, K. Okita, K. Okuda, Y. Tokuta, M. Nakano, K. Yamamura, K. Endo

Measurement 73 (2015) 473-479.　Vol. 73　p. 473-479　2015年6月　研究論文（学術雑誌）
PTFEの用途を拡大する革新的な表面処理技術

大久保雄司, 山村和也

加工技術　Vol. 50　No. 6　p. 316-322　2015年6月
出版者・発行元：株式会社繊維社
Polishing characteristics of CVD-SiC in plasma-assisted polishing

H. Deng, K. Endo, K. Yamamura

Proceedings of 15th International Conference of the European Society for Precision Engineering and Nanotechnology　2015年6月　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Mechanism analysis on finishing of reaction-sintered silicon carbide by combination of water vapor plasma oxidation and ceria slurry polishing

X. Shen, Q. Tu, J. Zhou, H. Deng, G. Jiang, K. Yamamura

Opt. Eng. 54 (2015) 055106.　Vol. 54　No. 5　2015年5月　研究論文（学術雑誌）
Competition between surface modification and abrasive polishing: a method of controlling the surface atomic structure of 4H-SiC (0001)

Hui Deng, Katsuyoshi Endo, Kazuya Yamamura

SCIENTIFIC REPORTS　Vol. 5　2015年3月　研究論文（学術雑誌）
Self-calibration for optical path length of 3D nanoprofiler considering random error

Ryota Kudo, Kohei Okuda, Kenya Okita, Yusuke Tokuta, Shun Nakatani, Motohiro Nakano, Kazuya Yamamura, Katsuyoshi Endo

XXI IMEKO World Congress "Measurement in Research and Industry"　2015年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
出版者・発行元：IMEKO-International Measurement Federation Secretariat
Flattening of single crystal SiC by combination of anodic oxidation and soft abrasive polishing

Hui Deng, Kenji Hosoya, Yusuke Imanishi, Katsuyoshi Endo, Kazuya Yamamura

Proceedings of the 15th International Conference of the European Society for Precision Engineering and Nanotechnology, EUSPEN 2015　p. 365-366　2015年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
出版者・発行元：euspen
プラズマ援用研磨法の開発（第15報）

蔭山千華, 門奈剛毅, 田畑雄壮, とう輝, 遠藤勝義, 山村和也

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2015　p. 377-378　2015年
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
ナノ形状測定法におけるマルチステップ自律校正法による光路長の推定

白地央樹, 徳田有亮, 工藤良太, 中野元博, 山村和也, 遠藤勝義

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2015　p. 309-310　2015年
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
プラズマ援用研磨法の開発（第14報）

とう輝, 遠藤勝義, 山村和也

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2015　p. 479-480　2015年
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
大気圧プラズマプロセスをベースとした単結晶ダイヤモンド基板の高能率ダメージフリー平坦化・平滑化（第6報）

道上久也, 田畑雄壮, とう輝, 遠藤勝義, 山村和也, 山田英明, 茶谷原昭義, 杢野由明

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2015　p. 481-482　2015年
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
大気開放型プラズマCVMにおける高精度・高能率化に関する研究（第5報）

境谷省吾, 竹田善紀, 船戸大輔, 遠藤勝義, 山村和也

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2015　p. 547-548　2015年
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
法線ベクトルを用いたナノ精度形状測定法における形状導出アルゴリズムの特性解析

工藤良太, 沖田賢哉, 奥田晃平, 北山貴雄, 徳田有亮, 中谷隼, 中野元博, 山村和也, 遠藤勝義

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2015　p. 635-636　2015年
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
高速ナノ形状測定法による非球面ミラーの形状測定

徳田有亮, 北山貴雄, 沖田賢哉, 奥田晃平, 中野元博, 中谷隼, 山村和也, 工藤良太, 遠藤勝義

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2015　p. 633-634　2015年
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
熱アシストプラズマ処理によるポリテトラフルオロエチレンの表面改質と表面硬化

大久保雄司, 佐藤悠, 石原健人, 青木智紀, 遠藤勝義, 山村和也

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2015　p. 1097-1098　2015年
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
大気圧プラズマプロセスをベースとした単結晶ダイヤモンド基板の高能率ダメージフリー平坦化・平滑化（第5報）

田畑雄壮, 道上久也, 遠藤勝義, 山田英明, 茶谷原昭義, 杢野由明, 山村和也

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2015　p. 1009-1010　2015年
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
電気化学機械研磨による金型用SiC材の高能率・ダメージフリー研磨（第1報）

今西勇介, 遠藤勝義, 山村和也

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2015　p. 1011-1012　2015年
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
プラズマ援用研磨法の開発（第13報）

とうき, 遠藤勝義, 山村和也

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2015　p. 1007-1008　2015年
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
プラズマ援用研磨法の開発（第12報）

とうき, 今西勇介, 遠藤勝義, 山村和也

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2015　p. 1005-1006　2015年
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
電気化学機械研磨による単結晶SiC基板の高能率・ダメージフリー研磨（第1報）

山村和也, 細谷憲治, とうき, 今西勇介, 遠藤勝義

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2015　p. 1003-1004　2015年
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
Plasma-based nanomanufacturing under atmospheric pressure

Kazuya Yamamura, Yasuhisa Sano

HandBook of Manufacturing Engineering and Technology　p. 1529-1547　2015年1月1日　論文集(書籍)内論文
出版者・発行元：Springer-Verlag London Ltd
The measurement of an aspherical mirror by three-dimensional Nanoprofiler

Yusuke Tokuta, Kenya Okita, Kohei Okuda, Takao Kitayama, Motohiro Nakano, Shun Nakatani, Ryota Kudo, Kazuya Yamamura, Katsuyoshi Endo

OPTICAL SYSTEMS DESIGN 2015: OPTICAL FABRICATION, TESTING, AND METROLOGY V　Vol. 9628　2015年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Systematic error analysis for 3D nanoprofiler tracing normal vector

Ryota Kudo, Yusuke Tokuta, Motohiro Nakano, Kazuya Yamamura, Katsuyoshi Endo

OPTIFAB 2015　Vol. 9633　2015年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Plasma-assisted polishing of gallium nitride to obtain a pit-free and atomically flat surface

H. Deng, K. Endo, K. Yamamura

CIRP ANNALS-MANUFACTURING TECHNOLOGY　Vol. 64　No. 1　p. 531-534　2015年　研究論文（学術雑誌）
Electro-chemical mechanical polishing of single-crystal SiC using CeO2 slurry

H. Deng, K. Hosoya, Y. Imanishi, K. Endo, K. Yamamura

Electrochem. Commun. 52 (2015) 5-8.　Vol. 52　p. 5-8　2015年1月　研究論文（学術雑誌）
Flattening of 4H-SiC by combination of oxidation and abrasive polishing

H. Deng, K. Endo, K. Yamamura

Proceedings of 15th International Conference of the European Society for Precision Engineering and Nanotechnology　2014年10月　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Ultra-precision deterministic figuring by pulse width modulation controlled plasma jet figuring

K. Yamamura, K. Hosoya, Y. Imanishi, H. Deng, K. Endo

2014年10月
Formation of highly adhesive polytetrafluoroethylene/isobtylene-isoprene rubber interface by atmospheric-pressure plasma irradiation

K. Ishihara, H. Sato, Y. Ohkubo, M. Shibahara, A. Nagatani, K. Honda, K. Endo, K. Yamamura

5th World Congress on Adhesion and Related Phenomena (WCARP-V) (2014) 122.　2014年9月
Highly efficient planarization of CVD-grown single-crystal diamond substrate by atmospheric-pressure microwave plasma jet figuring

K. Yamamura, S. Makiyama, T. Tabata, H. Yamada, A. Cyayahara, Y. Mokuno, S. Shikata, K. Endo

2014年9月
Surface modification of PTFE for a high adhesive Ag layer by open-air type plasma treatment with graft copolymerization

H. Sato, K. Ishihara, Y. Ohkubo, K. Endo, K. Yamamura

2014年9月　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Preliminary Study on Highly Efficient Polishing of 4H-SiC by Utilization of Anodic Oxidation

K. Yamamura, K. Hosoya, Y. Imanishi, H. Deng, K. Endo

Advanced Materials Research 1017 (2014) 509-514.　Vol. 1017　p. 509-514　2014年8月　研究論文（国際会議プロシーディングス）
出版者・発行元：
Improvement of spatial resolution in figuring using Open-Air Type Plasma Chemical Vaporization Machining with Pulse Width Modulation Control

Y. Takeda, Y. Hata, J. Ito, K. Endo, K. Yamamura

2014年7月　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Effect of plasma irradiation in removal rate of single crystal diamond in plasma assisted polishing with quartz glass tool

T. Tabata, K. Monna, Y. Yamamoto, S. Makiyama, H. Deng, K. Endo, H. Yamada, A. Chayahara, Y. Mokuno, S. Shikata, K. Yamamura

2014年7月　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Dependency of OH emission intensity in material removal rate of sapphire substrates in plasma assisted polishing

K. Monna, H. Deng, T. Tabata, K. Endo, K. Yamamura

2014年7月　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Two-stage precision figuring process applying numerically controlled electrochemical machining with suction type electrode

N. Mitsushima, M. Ouchi, K. Endo, K. Yamamura

2014年7月　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Investigation of the anodic oxide layer/SiC interface morphology during anodic oxidation assisted polishing

K. Hosoya, Y. Imanishi, K. Endo, K. Yamamura

2014年7月　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Surface modification of GaN by irradiation of atmospheric pressure plasma for damage-free polishing

H. Deng, K. Endo, K Yamamura

2014年7月　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Ultra-precision Fabrication Process for Neutron Focusing Device

K. Yamamura, N. Mitsushima, Y. Goto, K. Endo, D. Yamazaki, R. Maruyama, H. Hayashida, K. Soyama

2014年7月
Optimization of the plasma oxidation and abrasive polishing processes in plasma assisted polishing for highly effective planarization of 4H-SiC

H. Deng, K. Monna, T. Tabata, K. Endo, K. Yamamura

Annals of the CIRP 63 (2014) 529-532.　Vol. 63　No. 1　p. 529-532　2014年6月　研究論文（学術雑誌）
Systematic Error Analysis of Nanoprofiler Using Normal Vector Tracing Method Based on Numerical Simulation

R. Kudo, K. Okuda, K. Okita, Y. Tokuta, M. Nakano, K. Yamamura, K. Endo

p. 126-131　2014年6月　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Measurement of high accurate mirror using nanoprofiler with self-calibratable rotary encoder

K. Okita, T. Kojima, K. Usuki, K. Okuda, Y. Tokuta, M. Nakano, R. Kudo, K. Yamamura, T. Watanabe, K. Endo

2014年6月　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Flatness correction of quartz glass substrate by plasma jet figuring with pulse width modulation control

K. Yamamura, Y. Takeda, Y. Hata, J. Ito, K. Endo

2014年5月　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Polishing characteristics of single crystal SiC assisted by plasma oxidation using different kinds of abrasives

H. Deng, K. Endo, K. Yamamura

2014年5月　研究論文（国際会議プロシーディングス）
プラズマプロセスを援用した高密着性ポリテトラフルオロエチレン/エポキシ樹脂/SUS304界面形成技術

是津信行, 山村和也, 井筒祐志, 我田元, 大石修治, 手島勝弥

表面技術　Vol. 65　No. 5　p. 227-233　2014年5月　研究論文（学術雑誌）
Characterization of 4H-SiC (0001) surface processed by plasma assisted polishing

H. Deng, M. Ueda, K. Yamamura

Int. J. Adv. Manuf. Technol.　Vol. 72　No. 1-4　p. 1-7　2014年5月　研究論文（学術雑誌）
Damage-free and atomically-flat finishing of single crystal SiC by combination of oxidation and soft abrasive polishing

H. Deng, K. Endo, K. Yamamura

Procedia CIRP 13 ( 2014 ) 203- 207.　Vol. 13　p. 203-207　2014年5月　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Three-dimensional surface ﬁgure measurement of high-accuracy spherical mirror with nanoprofiler using normal vector tracing method

R. Kudo, K. Okuda, K. Usuki, M. Nakano, K. Yamamura, K. Endo

Rev. Sci. Instrum. 85 (2014) 045101　Vol. 85　No. 4　2014年4月　研究論文（学術雑誌）
Comparison of thermal oxidation and plasma oxidation of 4H-SiC (0001) for surface flattening

H. Deng, K. Endo, K. Yamamura

Appl. Phys. Lett. 104 (2014) 101608.　Vol. 104　No. 10　2014年3月　研究論文（学術雑誌）
Evaluation of the MRR control performance of PCVM with the application of the PWM control

Y. Takeda, Y. Hata, J. Ito, K. Endo, K. Yamamura

2014年2月
Optimization of water content in process gas for high MRR of single crystal diamond in plasma assisted polishing

T. Tabata, K. Monna, Y. Yamamoto, S. Makiyama, H. Deng

2014年2月
Development of two-stage figuring process applying numerically controlled electrochemical machining for fabricating neutron focusing mirror substrate

N. Mitsushima, M. Ouchi, K. Endo, K. Yamamura

2014年2月
Effects of water concentration and gas species on OH radical emission intensity in plasma assisted polishing

K. Monna, H. Deng, T. Tabata, K. Endo, K. Yamamura

2014年2月
XTEM observation of the anodic oxide layer/SiC interface morphology during anodic oxidation assisted polishing

K. Hosoya, Y. Imanishi, K. Endo, K. Yamamura

2014年2月
Nanoindentation studies on the mechanical properties of silicon face and carbon face of 4H-SiC

H. Deng, K.Endo, K. Yamamura

2014年2月
Profile measurement of aspheric mirror using High-Speed Nanoprofiler

K. Okuda, K. Usuki, T. Kitayama, T. Kojima, K. Okita, R. Tokura, M. Nakano, R. Kudo, K. Yamamura, K. Endo

2014年2月
Development of Precisely Controlled Metallodielectric Plasmonic Nanoshell Arrays with Nanogap for Sensitive Detection of Molecular Adsorption Based on NIR responsive LSPR

S. Uchida, N. Zettsu, K. Endo, K. Yamamura

2014年2月
Observation of the spatial distribution of gravitationally bound quantum states of ultracold neutrons and its derivation using the Wigner function

G. Ichikawa, S. Komamiya, Y. Kamiya, Y. Minami, M. Tani, P. Geltenbort, K. Yamamura, M. Nagano, T. Sanuki, S. Kawasaki, M. Hino, M. Kitaguchi

Phys. Rev. Lett. 112 (2014) pp. 071101　Vol. 112　No. 7　2014年2月　研究論文（学術雑誌）
Dicing of SiC wafer by atmospheric-pressure plasma etching process with slit mask for plasma confinement

Y. Sano, H. Nishikawa, Y. Okada, K. Yamamura, S. Matsuyama, K. Yamauchi

Materials Science Forum　Vol. 778-780　p. 759-762　2014年2月　研究論文（学術雑誌）
Thinning of a two-inch silicon carbide wafer by plasma chemical vaporization machining using a slit electrode

Y. Okada, H. Nishikawa, Y. Sano, K. Yamamura, K. Yamauchi

Materials Science Forum　Vol. 778-780　p. 750-753　2014年2月　研究論文（学術雑誌）
Open-air Type Plasma Chemical Vaporization Machining by Applying Pulse Width Modulation Control

Y. Takeda, Y. Hata, K. Endo, K. Yamamura

J. Phys. D: Appl. Phys. 47 (2014) 115503 (6pp).　Vol. 47　No. 11　2014年2月　研究論文（学術雑誌）
Study on Controlling Mechanism of Step-Terrace Structure in CeO2 Slurry Polishing of 4H-SiC

Hui Deng, Katsuyoshi Endo, Kazuya Yamamura

2014 INTERNATIONAL CONFERENCE ON PLANARIZATION/CMP TECHNOLOGY (ICPT)　p. 147-148　2014年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
A new optical head tracing reflected light for nanoprofiler

K. Okuda, K. Okita, Y. Tokuta, T. Kitayama, M. Nakano, R. Kudo, K. Yamamura, K. Endo

ADVANCES IN METROLOGY FOR X-RAY AND EUV OPTICS V　Vol. 9206　2014年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Development and demonstration of a multi-channel spheroidal focusing device for neutron beams

H. Hayashida, K. Soyama, D. Yamazaki, R. Maruyama, K. Yamamura

INTERNATIONAL WORKSHOP ON NEUTRON OPTICS AND DETECTORS (NOP&D 2013)　Vol. 528　No. 1　2014年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Material removal rate control in open-air type plasma chemical vaporization machining by pulse width modulation of applied power

Y. Takeda, Y. Hata, K. Endo, K. Yamamura

Vol. 625　p. 593-596　2013年11月　研究論文（国際会議プロシーディングス）
出版者・発行元：
Figuring and finishing of reaction-sintered SiC by anodic oxidation assisted process

N. Shimozono, X. Shen, H. Deng, K. Endo, K. Yamamura

Vol. 625　p. 570-575　2013年11月　研究論文（国際会議プロシーディングス）
出版者・発行元：
Investigation of removal mechanism of sapphire in plasma assisted polishing

K. Monna, H. Deng, K. Endo, K. Yamamura

Vol. 625　p. 458-462　2013年11月　研究論文（国際会議プロシーディングス）
出版者・発行元：
Finishing of 4H-SiC (0001) by Combination of Thermal Oxidation and Abrasive Polishing

H. Deng, K. Endo, K. Yamamura

Vol. 625　p. 192-195　2013年11月　研究論文（国際会議プロシーディングス）
出版者・発行元：
Comparative analysis of oxidation methods of reaction-sintered silicon carbide for optimization of oxidation-assisted polishing

X. Shen, Y. Dai, H. Deng, C. Guan, K. Yamamura

Opt. Express 21 (2013) 26123–26135.　Vol. 21　No. 22　p. 26123-26135　2013年10月　研究論文（学術雑誌）
数値制御ローカルウエットエッチングによる中性子集束用楕円面ミラー基盤の創成

山村和也

精密工学会誌 79 (2013) 813-817.　2013年9月
Atomic-scale planarization of 4H-SiC (0001) by combination of thermal oxidation and abrasive polishing

H. Deng, K. Endo, K. Yamamura

Appl. Phys. Lett. 103 (2013) 111603.　Vol. 103　No. 11　2013年9月　研究論文（学術雑誌）
Experimental studies on water vapor plasma oxidation and thermal oxidation of 4H-SiC (0001) for clarification of the atomic-scale flattening mechanism in plasma assisted polishing

H. Deng, K. Endo, K. Yamamura

Proceedings of ICSCRM2013　Vol. 778-780　p. 587-590　2013年9月　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Highly Adhesive Copper Pattern on PTFE by Plasma Irradiation through Inkjet Printing

H. Sato, K. Ooka, K. Endo, K. Yamamura

2013年8月
Development of focusing supermirors by means of ultra-precise surface figuring and ion beam sputtering

D. Yamazaki, H. Hayashida, R. Maruyama, Y. Kasugai, K. Soyama, M. Nagano, T. Tabata, N. Mitsushima, K. Yamamura

2013年7月
Development of a multi-channel ellipsoidal cylindrical focusing mirror

H. Hayashida, D. Yamazaki, R. Maruyama, K. Soyama, K. Yamamura

2013年7月
Focusing supermirrors with precisely figured elliptic surfaces

D. Yamazaki, H. Hayashida, R. Maruyama, T. Shinohara, K. Soyama, M. Nagano, N. Mitsushima, K. Yamamura

2013年7月
大気圧プラズマ化学液相堆積法によるPTFEシート上への高密着性銅皮膜の形成

是津信行, 秋山弘貴, 山村和也, 大石修治, 手嶋勝弥

Journal of Flux Growth 8 (2013) 2-7.　Vol. 8　No. 1　2013年7月
Fundamental research on the label-free detection of protein adsorption using near-infrared light-responsive plasmonic metal nanoshell arrays with controlled nanogap

S. Uchida, N. Zettsu, K. Endo, K. Yamamura

Nanoscale Research Letters 8 (2013) 274.　Vol. 8　No. 1　2013年6月　研究論文（学術雑誌）
Atomic-scale Flattening Mechanism of 4H-SiC (0001) in Plasma Assisted Polishing

H. Deng, K. Yamamura

Annals of the CIRP 62 (2013) 575-578.　Vol. 62　No. 1　p. 575-578　2013年6月　研究論文（学術雑誌）
Ultrasmooth reaction-sintered silicon carbide surface resulting from combination of thermal oxidation and ceria slurry polishing

X. Shen, Y. Dai, H. Deng, C. Guan, K. Yamamura

Opt. Express 21 (2013) 14780-14788.　Vol. 21　No. 12　p. 14780-14788　2013年6月　研究論文（学術雑誌）
Label-free detection of biotin-streptavidin binding pair by using the near infra-red light responsible plasmonic nanostructures array with controlled nanogap

S. Uchida, N. Zettsu, K. Yamamura

2013年5月
Study on oxidation processes of 4H-SiC (0001) for investigation of the atomically flattening mechanism in plasma assisted polishing

H. Deng, K. Yamamura

2013年5月　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Preliminary Study on Plasma Assisted Polishing of Sapphire

K. Yamamura, S. Morinaga, K. Monna, H. Deng, K. Endo

Proc. The 9th CJUMP and 7th UPET (2013) 54-58.　2013年3月　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Investigation of Thermally Oxidized SiO2/4H-SiC (0001) Interface for Surface Flattening

H. Deng, K. Endo, K. Yamamura

Proc. The 9th CJUMP and 7th UPET (2013) 65-69.　2013年3月　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Subsurface atomic structure of 4H-SiC (0001) finished by plasma assisted polishing

H. Deng, K. Yamamura

Materials Science Forum 740-742 (2013) 435-438.　Vol. 740-742　p. 435-438　2013年2月　研究論文（学術雑誌）
プラズマ援用研磨法の開発（第８報）:サファイア基板へのプラズマ援用研磨適用に関する基礎検討

門奈剛毅, トウ輝, 田畑雄壮, 遠藤勝義, 山村和也

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2013　p. 221-222　2013年
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
陽極酸化援用研磨法の開発 (第1報):4H-SiCの基礎加工特性

細谷憲治, 遠藤勝義, 山村和也

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2013　p. 227-228　2013年
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
大気圧プラズマプロセスをベースとした単結晶ダイヤモンド基板の高能率ダメージフリー平坦化・平滑化（第2報）:石英ガラスを工具としたプラズマ援用研磨におけるプラズマ照射の効果

田畑雄壮, 門奈剛毅, トウ輝, 牧山真也, 遠藤勝義, 山村和也

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2013　p. 225-226　2013年
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
ナノギャップ構造を有する金属ナノシェルアレイを用いた生体分子検出

内田修平, 是津信行, 遠藤勝義, 山村和也

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2013　p. 337-338　2013年
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
プラズマ援用研磨法の開発（第7報）:酸化面のセリア砥粒研磨によるtwo-bilayerのステップ/テラス構造を形成するメカニズムの考察

トウ輝, 遠藤勝義, 山村和也

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2013　p. 219-220　2013年
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
陽極酸化援用加工を用いた反応焼結SiC材の高精度ダメージフリー加工に関する研究:陽極酸化におけるSiCとSiの酸化レートの評価

下園直樹, 遠藤勝義, 山村和也

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2013　p. 229-230　2013年
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
大気圧プラズマプロセスをベースとした単結晶ダイヤモンド基板の高能率ダメージフリー平坦化・平滑化(第1報):Ar+O2マイクロ波プラズマジェットのエッチング特性

牧山真也, 田畑雄壮, 遠藤勝義, 山村和也

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2013　p. 223-224　2013年
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
大気圧プラズマによる表面改質技術の開発:フッ素樹脂表面への高密着性銅メタライジング

佐藤悠, 遠藤勝義, 山村和也

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2013　p. 581-582　2013年
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
大気開放型プラズマCVMを用いた形状創成における高精度化・高効率化に関する研究（第1報）:プラズマジェット加工方式における基礎的加工特性の評価

畑祐輝, 竹田善紀, 伊藤丈予, 遠藤勝義, 山村和也

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2013　p. 681-682　2013年
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
大気開放型プラズマCVMを用いた形状創成における高精度・高効率化に関する研究（第2報）:パルス幅変調制御による加工量制御の基礎的検討

竹田善紀, 畑祐輝, 遠藤勝義, 山村和也

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2013　p. 683-684　2013年
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
数値制御電解加工(NC-ECM)による中性子収束用金属ミラー基盤の精密形状創成（第1報）:ライン型電極による楕円面の一括創成

光嶋直樹, 大内将, 遠藤勝義, 山村和也

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2013　p. 975-976　2013年
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
Atomically smooth damage free finishing of 4H-SiC(0001) by plasma assisted polishing

K. Yamamura

2012年12月
Preface

Kazuto Yamauchi, Kazuya Yamamura

Current Applied Physics　Vol. 12　No. 3　2012年12月　研究論文（学術雑誌）
Interfacial Analysis of Electroless Copper Thin Film on Fluorocarbon Polymer Fabricated by Plasma Irradiation with Graft Copolymerization

K. Ooka, Y. Hara, K. Yamamura

Proceedings of International Symposium on Dry Process(DPS2012)　2012年11月　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Improvement of adhesion strength of epoxy resin/PTFE interface by atmospheric pressure plasma treatment of PTFE

Y. Hara, K. Yamamura

Proceedings of International Symposium on Dry Process(DPS2012)　2012年11月　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Fabrication of Precise Asymmetric Nanoshells Array with Nanogaps for A Label-Free Immunoassay Based on NIR-light Responsive LSPR

S. Uchida, K. Yamamura, N.Zettsu

Key Engineering Materials　Vol. 523-524　p. 680-685　2012年11月　研究論文（学術雑誌）
Nanometer-level self-aggregation and three-dimensional growth of copper nanoparticles under dielectric barrier discharge at atmospheric pressure

Y. Yamamoto, H. Akiyama, K. Ooka, K. Yamamura, Y. Oshikane, N. Zettsu

Current Applied Physics　Vol. 12　p. S63-S68　2012年11月　研究論文（学術雑誌）
A Simulation Study on Figure Error Correction Using Near-Gaussian Removal Function in Numerical Controlled Local Wet Etching

X. Shen, M. Nagano, W. Peng, Y. Dai, K. Yamamura

Key Engineering Materials　Vol. 523-524　p. 276-+　2012年11月　研究論文（学術雑誌）
Correlation of the peroxide radical on the plasma treated PFA surface and the adhesion strength of PFA/electroless copper plating film

Y. Hara, K. Ooka, N. Zettsu, K. Yamamura

Current Applied Physics　Vol. 12　p. S38-S41　2012年11月　研究論文（学術雑誌）
Smoothing of reaction sintered silicon carbide using plasma assisted polishing

H. Deng, K. Yamamura

Current Applied Physics　Vol. 12　p. S24-S28　2012年11月　研究論文（学術雑誌）
Study on in situ Etching Rate Monitoring in Numerically Controlled Local Wet Etching

N. Shimozono, M. Nagano, T. Tabata, K. Yamamura

Key Engineering Materials　Vol. 523-524　p. 34-39　2012年11月　研究論文（学術雑誌）
Material Removal Rate Control in Open-air Type Plasma Chemical Vaporization Machining Using Optical Actinometry

Y. Yamamoto, Y. Hata, M. Hosoda, Y. Oshikane, K. Yamamura

Key Engineering Materials　Vol. 523-524　p. 267-271　2012年11月　研究論文（学術雑誌）
Adhesion strength of electroless copper plated layer on fluoropolymer surface modified by medium pressure plasma

K. Ooka, Y. Yamamoto, Y. Hara, N. Zettsu, K. Yamamura

Key Engineering Materials　Vol. 523-524　p. 262-+　2012年11月　研究論文（学術雑誌）
Evaluation of surface roughness and subsurface damage of 4H-SiC processed by different finishing techniques

H. Deng, K. Yamamura

Key Engineering Materials　Vol. 523-524　p. 19-23　2012年11月　研究論文（学術雑誌）
Figuring of Aspherical Metal Mirror Substrate for Neutron Focusing by Numerically Controlled Electrochemical Machining

T. Tabata, M. Nagano, D. Yamazaki, R. Maruyama, K. Soyama, K. Yamamura

Key Engineering Materials　Vol. 523-524　p. 29-+　2012年11月　研究論文（学術雑誌）
Quadruple stacked elliptical supermirror devicefor one dimensional neutron focusing

M. Nagano, F. Yamaga, D. Yamazaki, R. Maruyama, H. Hayashida, K. Soyama, K. Yamamura

Key Engineering Materials　Vol. 523-524　p. 272-+　2012年11月　研究論文（学術雑誌）
Adhesion Strength of Epoxy Resin/PTFE Treated by Atmospheric Pressure Helium Plasma

Y. Hara, K. Yamamura

Extended Abstracs of Fifh International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology　2012年10月
Preliminary Study on Etching Characterization of Single Crystal Diamond in Open-air Type Plasma Chemical Vaporization Machining

S. Makiyama, K. Yamamura

Extended Abstracs of Fifh International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology　2012年10月
Development of Removal Rate Control System in Open-air Type Plasma Chemical Vaporization Machining Using Optical Actinometry

Y. Hata, Y. Takeda, Y. Oshikane, K. Yamamura

Extended Abstracs of Fifh International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology　2012年10月
Development of in situ Monitoring System for HF Concentration using Raman Spectroscopy in Numerically Controlled Local Wet Etching

N. Shimozono, M. Nagano, K. Yamamura

Extended Abstracs of Fifh International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology　2012年10月
XTEM Observation of 4H-SiC (0001) Surfaces Oxidized by Water Vapor Plasma in Plasma Assisted Polishing

H. Deng, K. Yamamura

Extended Abstracs of Fifh International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology　2012年10月
Fabrication of Spheroidal Supermirror for Neutron Beam Focusing -Figure Correction of Glass Mandrel using Spherical Polishing Pad-

K. Yamasaki, M. Nagano, N. Mitsushima, R. Maruyama, H. Hayashida, D. Yamazaki, K. Soyama, K. Yamamura

Extended Abstracs of Fifh International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology　2012年10月
Effect of Atmospheric Plasma Treatment on Adhesion Strength of Electroless Copper Film/Fluorocarbon Polymer Interface

K. Ooka, Y. Hara, K. Yamamura

Extended Abstracs of Fifh International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology　2012年10月
Combined effect of Oxidation and Removal in Plasma Chemical Vaporization Machining of Reaction Sintered Silicon CarbideFifh

X. Shen, K. Yamamura

Extended Abstracs of Fifh International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology　2012年10月
Approach to a Nanoscale Optical Biosensor using Nanoshell Array for a Label-Free Immunoassay based on NIR-light Responsive LSPR

S. Uchida, N. Zettsu, K. Yamamura

Extended Abstracs of Fifh International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology　2012年10月
Development of Stacking Mirror Device Using Millimeter-Thick Elliptical Supermirrors for Neutron Beam Focusing

M. Nagano, F. Yamaga, D. Yamazaki, R. Maruyama, K. Soyama, K. Yamamura

Extended Abstracs of Fifh International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology　2012年10月
Chemical Fabrication Techniques for Optical Components with Nanometer-level Accuracy

K. Yamamura

Extended Abstracs of Fifh International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology　2012年10月
Removal Properties of Reaction Sintered SｉC in Atmospheric Pressure Plasma Fabrication Process

K. Yamamura, Y. Yamamoto, Y. Hata, H. Deng

Proceedings of 10th International Conference on Progress of Machining Technology(ICPMT2012)　2012年9月　研究論文（国際会議プロシーディングス）
A Simulation Study on Optimazation of Scan Mode in Numerically Controlled Local Wet Etching

X. Shen, K. Yamamura

Proceedings of 10th International Conference on Progress of Machining Technology(ICPMT2012)　2012年9月　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Oxidation of 4H-SiC by Water Vapor Plasma in Plasma Assisted Polishing

H. Deng, K. Yamamura

Proceedings of 10th International Conference on Progress of Machining Technology(ICPMT2012)　2012年9月　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Ultra-precision Figuring of Elliptical Quartz Glass Substrate by Numerically Controlled Local Wet Etching Using HF Solution at Azeotropic Concentration

M. Nagano, D. Yamazaki, R. Maruyama, H. Hayashida, K. Soyama, K. Yamamura

Proceedings of 10th International Conference on Progress of Machining Technology(ICPMT2012)　p. 223-226　2012年9月　研究論文（国際会議プロシーディングス）
XPS analysis of 4H-SiC surfaces oxidized by helium based atmospheric pressure water vapor plasma for plasma assisted polishing

H. Deng, K. Yamamura

Vol. 740-742　p. 514-517　2012年9月　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Basic experiment on atmospheric-pressure plasma etching with slit aperture for high-efficiency dicing of SiC wafer

Yasuhisa Sano, Hiroaki Nishikawa, Kohei Aida, Chaiyapat Tangpatjaroen, Kazuya Yamamura, Satoshi Matsuyama, Kazuto Yamauchi

Vol. 740-742　p. 813-+　2012年9月　研究論文（国際会議プロシーディングス）
大気圧プラズマを援用したSiCの超平滑ダメージフリー研磨

山村和也

FCレポート　2012年7月
Supermirror Coatings for the J-PARC/MLF

R. Maruyama, D. Yamazaki, H. Hayashida, M. Nagano, N. Zettsu, K. Yamamura, M. Takeda, S. Okayasu, K. Soyama

2012年7月
Stacking mirror device using millimeter-thick elliptical supermirrors fabricated by numerically controlled local wet etching for focusing neutron beam

M. Nagano, F. Yamaga, D. Yamazaki, R. Maruyama, K. Soyama, K. Yamamura

Proc. of 12th International Conference of the European Society for Precision Engineering and Nanotechnology　2012年6月　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Smoothing mechanism of reaction sintered SiC in plasma assisted polishing using ceria abrasive

H. Deng, M. Ueda, K. Yamamura

Key Engineering Materials 516 (2012) 119-124.　Vol. 516　p. 119-124　2012年6月　研究論文（学術雑誌）
Preliminary Study on Chemical Figuring and Finishing of Sintered SiC Substrate Using Atmospheric Pressure Plasma

K. Yamamura, Y. Yamamoto, H. Deng

Proc. of the 45th CIRP Conference on Manufacturing Systems (45th CIRP CMS 2012)　Vol. 3　p. 335-339　2012年5月　研究論文（国際会議プロシーディングス）
シリコンカーバイドを無傷に研磨

山村和也

セラミックス　2012年4月
Effect of Si interlayers on the magnetic and mechanical properties of Fe/Ge neutron polarizing multilayer mirrors

R. Maruyama, D. Yamazaki, S. Okayasu, M. Takeda, N. Zettsu, M. Nagano, K. Yamamura, H. Hayashida, K. Soyama

J. Appl. Phys. 111 (2012) 063904_1-10.　Vol. 111　No. 6　2012年3月　研究論文（学術雑誌）
High-precision figured thin supermirror substrates for multiple neutron focusing device

M. Nagano, F. Yamaga, D. Yamazaki, R. Maruyama, H. Hayashida, K. Soyama, K. Yamamura

J. Phys. Conf. Ser. 340 (2012) 012016_1_7　Vol. 340　2012年2月　研究論文（学術雑誌）
Oxidation of 4H-SIC (0001) by water vapor plasma in plasma assisted polishing

Hui Deng, Kazuya Yamamura

10th International Conference on Progress of Machining Technology, ICPMT 2012　p. 160-163　2012年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
数値制御電解加工による金属ミラーの形状創成加工（第２報）:同軸ノズル電極の基礎加工特性

田畑雄壮, 永野幹典, 山村和也

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2012　p. 343-344　2012年
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
プラズマ発生領域制限マスクを用いたPCVM(Plasma Chemical Vaporization Machining) によるSiC基板の切断加工の検討

西川央明, 佐野泰久, 会田浩平, 岡田悠, 山村和也, 松山智至, 山内和人

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2012　p. 425-426　2012年
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
数値制御ローカルウエットエッチング法による高精度光学素子の作製（第9報）:共沸濃度のフッ化水素酸を用いた合成石英基板の高精度加工

永野幹典, 山村和也

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2012　p. 407-408　2012年
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
大気開放型プラズマCVMにおける加工速度フィードバック制御機構の開発 (第3報):アクチノメトリー法を用いた反応種密度計測における誤差要因の検討

畑祐輝, 竹田善紀, 山村和也, 押鐘寧

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2012　p. 879-880　2012年
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
One-dimensional neutron focusing with large beam divergence by 400mm-long elliptical supermirror

M. Nagano, F. Yamaga, D. Yamazaki, R. Maruyama, H. Hayashida, K. Soyama, K. Yamamura

5TH EUROPEAN CONFERENCE ON NEUTRON SCATTERING　Vol. 340　2012年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Shape correction of optical surfaces using plasma chemical vaporization machining with a hemispherical tip electrode

Hideo Takino, Kazuya Yamamura, Yasuhisa Sano, Yuzo Mori

Applied Optics 51 (2012) 401-407.　Vol. 51　No. 3　p. 401-407　2012年1月　研究論文（学術雑誌）
The improvement of removal function in local wet etching by using eccentric rotation system

X. Shen, Y. Dai, W. Peng, M. Nagano, K. Yamamura

Abstracts of 4th International Conference of Asian Society for Precision Engineering and Nanotechnology, 104.　Vol. 516　p. 504-+　2011年11月　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Development of Focusing Supermirrors for GISANS Measurements at BL17 “SHARAKU” of J-PARC/MLF

D. Yamazaki, R. Maruyama, H. Hayashida, K. Soyama, M. Takeda, M. Nagano, F. Yamaga, K. Yamamura

Abstracts of 1st Asia-Oceania Conference on Neutron Scattering, 449.　2011年11月
Development of neutron focusing device using stacked millimeter-thick elliptical supermirror substrates

M. Nagano, F. Yamaga, D. Yamazaki, R. Maruyama, H. Hayashida, K. Soyama, K. Yamamura

Abstracts of 1st Asia-Oceania Conference on Neutron Scattering, 110.　2011年11月
Evaluation of focusing performance of elliptical neutron focusing supermirror by ray-tracing simulation

M. Nagano, F. Yamaga, D. Yamazaki, R. Maruyama, H. Hayashida, K. Soyama, K. Yamamura

Abstracts of 1st Asia-Oceania Conference on Neutron Scattering, 444.　2011年11月
A Spheroidal Supermirror

K. Soyama, D. Yamazaki, R. Maruyama, H. Hayashida, M. Nagano, N. Zettsu, K. Yamamura

Abstracts of 1st Asia-Oceania Conference on Neutron Scattering, 446.　2011年11月
XTEM observation of 4H-SiC (0001) surfaces processed by plasma assisted polishing

H. Deng, K. Yamamura

Proceeding of the 8th CHINA-JAPAN International Conference on Ultra-Precision Machining, 30.　Vol. 497　p. 156-159　2011年11月　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Plasma Chemical Vaporization Machining of Silicon Carbide Wafer Using Flat-bar Electrode with Multiple Gas Nozzles

Y. Sano, K. Aida, H. Nishikawa, K. Yamamura, S. Matsuyama, K. Yamauchi

Proceeding of the 8th CHINA-JAPAN International Conference on Ultra-Precision Machining, 31.　Vol. 497　p. 160-+　2011年11月　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Chemical and morphological analysis of 4H-SiC surface processed by plasma assisted polishing

H. Deng, M. Ueda, K. Yamamura

Abstracts of 4th International Conference of Asian Society for Precision Engineering and Nanotechnology, 65.　Vol. 516　p. 186-191　2011年11月　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Study on flattening mechanism of reaction sintered SiC by plasma assisted polishing using ceria abrasive

H. Deng, M. Ueda, K. Yamamura

Abstracts of 4th International Conference of Asian Society for Precision Engineering and Nanotechnology, 56.　2011年11月
Noncontact figuring of millimeter-thick elliptical mirror substrate by numerically controlled local wet etching

M. Nagano, F. Yamaga, K. Yamasaki, N. Zettsu, D. Yamazaki, R. Maruyama, H. Hayashida, K. Soyama, K. Yamamura

Abstracts of 4th International Conference of Asian Society for Precision Engineering and Nanotechnology, 72.　Vol. 516　p. 361-+　2011年11月　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Back-side thinning of silicon carbide wafer by plasma etching using atmospheric-pressure plasma

Y. Sano, K. Aida, H. Nishikawa, K. Yamamura, S. Matsuyama, K. Yamauchi

Abstracts of 4th International Conference of Asian Society for Precision Engineering and Nanotechnology, 72　Vol. 516　p. 108-+　2011年11月　研究論文（国際会議プロシーディングス）
A Study on Surface Roughness of Curved Silicon Crystal Spectrometer Fabricated by Plasma Chemical Vaporization Machining

Y. Yamamoto, M. Hosoda, M. Nagano, K. Yamamura

Abstracts of 4th International Conference of Asian Society for Precision Engineering and Nanotechnology, 51.　Vol. 516　p. 522-526　2011年11月　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Cutting of SiC substrates by atmospheric-pressure plasma etching with slit mask for plasma confinement

H. Nishikawa, Y. Sano, K. Aida, T. Chaiyapat, K. Yamamura, S. Matsuyama, K. Yamauchi

Abstracts of The 33rd International Symposium on Dry Process, 35-36.　2011年11月　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Cutting of SiC substrates by atmospheric-pressure plasma etching with slit mask for plasma confinement

H. Nishikawa, Y. Sano, K. Aida, T. Chaiyapat, K. Yamamura, S. Matsuyama, K. Yamauchi

Extended Abstracts of Fourth International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology, 172-173.　2011年10月　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Study on Adhesion Strength of Cu Plating Film Formed on PTFE Substrate through Atmospheric Pressure Plasma Liquid Deposition

Y. Hara, K. Oooka, H. Akiyama, N. Zettsu, K. Yamamura

Extended Abstracts of Fourth International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology, 218-219.　2011年10月
Real Time Monitoring and Control of Etching Rate in Open-air Type Plasma Chemical Vaporization Machining Using Optical Actinometry

Y. Yamamoto, M. Nagano, M. Hosoda, Y. Hata, K. Yamamura

Extended Abstracts of Fourth International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology, 212-213.　2011年10月
Investigation of Material Removal Mechanism of Reaction Sintered SiC in Plasma Assisted Polishing

H. Deng, K. Yamamura

Extended Abstracts of Fourth International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology, 152-153.　2011年10月
Fabrication of Ring-Shaped PS@Au Metallodielectric Nanoshell Arrays for Localized Surface Plasmon Resonance Biosensor

Y. Yamamoto, S. Uchida, K. Yamamura, N. Zettsu

Extended Abstracts of Fourth International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology, 96-97.　2011年10月
Fabrication of Patterned Metal Layer on Poly(tetrafluoroethylene)Substrate through Atmospheric Pressure Plasma Liquid Deposition Approach

K. Ooka, H. Akiyama, Y. Yamamoto, N. Zettsu, K. Yamamura

Extended Abstracts of Fourth International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology, 158-159.　2011年10月
Estimation of Alignment Tolerance for Multiply-Arranged Elliptical Neutron Focusing Supermirror Device by Ray-Tracing Simulation

F. Yamaga, M. Nagano, D. Yamazaki, R. Maruyama, K. Soyama, K. Yamamura

Extended Abstracts of Fourth International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology,　2011年10月
Morphological and Molecular Design of PTFE/epoxy Resin Interface for Adhesion Enhancement by Liquid Phase and Atmospheric Pressure Plasma

S. Matsuura, Y. Izutsu, N. Zettsu, K. Yamamura

Extended Abstracts of Fourth International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology, 132-133.　2011年10月
Effect of Shield Gas on Surface Roughness in Processing of Silicon by Open-air Type Plasma Chemical Vaporization Machining

M. Hosoda, M. Nagano, Y. Yamamoto, Y. Hata, K. Yamamura

Extended Abstracts of Fourth International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology, 136-137.　2011年10月
Fabrication of Precise Metallodielectric Plasmonic Nanoshell Arrays with Nanogap for A Label-Free

S. Uchida, K. Yamamura, N. Zettsu

Extended Abstracts of Fourth International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology, 94-95.　2011年10月
Development of multiply-arranged elliptical neutron focusing supermirror device -Fabrication Process of High-Precision Thin Elliptical Supermirror-

M. Nagano, F. Yamaga, D. Yamazaki, R. Maruyama, K. Soyama, K. Yamamura

Extended Abstracts of Fourth International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology, 22-23.　Vol. 2011　No. 0　p. 501-502　2011年10月
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
Cutting of SiC Wafer by Atmospheric-Pressure Plasma Etching With Wire Electrode

Yasuhisa Sano, Kohei Aida, Takehiro Kato, Kazuya Yamamura, Hidekazu Mimura, Satoshi Matsuyama, Kazuto Yamauchi

Vol. 717-720　p. 865-+　2011年9月　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Evaluation of surface roughness of quartz glass substrate in fabrication process for neutron focusing mirror

Mikinori Nagano, Fumiya Yamaga, Kenta Yamasaki, Nobuyuki Zettsu, Dai Yamazaki, Ryuji Maruyama, Kazuhiko Soyama, Kazuya Yamamura

Advanced Materials Research 325 (2011) 647-652.　Vol. 325　p. 647-+　2011年9月　研究論文（学術雑誌）
プラズマ援用研磨による4H-SiC(0001)表面の高品位仕上げ加工

山村和也, 瀧口達也, 上田真己, トウ輝, 服部梓, 是津信行

砥粒加工学会誌 vol.55 (2011) 534-539.　Vol. 55　No. 9　p. 534-539　2011年9月　研究論文（学術雑誌）
出版者・発行元：砥粒加工学会
Damage-Free Dry Polishing of 4H-SiC Combined with Atmospheric-Pressure Water Vapor Plasma Oxidation

Hui Deng, Tatsuya Takiguchi, Masaki Ueda, Azusa N. Hattori, Nobuyuki Zettsu, Kazuya Yamamura

Jpn. J. Appl. Phys. 50 (2011) 08JG05_1-4.　Vol. 50　No. 8　2011年8月　研究論文（学術雑誌）
高精度非球面スーパーミラーの開発

山崎大, 丸山龍治, 林田洋寿, 曽山和彦, 永野幹典, 山家史也, 山村和也

日本原子力研究開発機構JAEA-Review(Web)　No. 2011-014　2011年6月
Ultra precision machining using plasma chemical vaporization machining (CVM)

Kazuya Yamamura, Yasuhisa Sano, Yuzo Mori

Generation and Applications of Atmospheric Pressure Plasmas　p. 237-254　2011年　論文集(書籍)内論文
出版者・発行元：Nova Science Publishers, Inc.
プラズマ援用研磨法の開発（第4報）:反応焼結SiC材におけるプラズマ援用研磨メカニズムの考察

トウ輝, 牧山真也, 山村和也

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2011　p. 764-765　2011年
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
数値制御プラズマCVMによるヨハンソン型Si（111）二重湾曲分光結晶のダメージフリー加工（第6報）:ガス流体解析を用いた表面粗さ生成要因の考察

細田真央, 永野幹典, 山本悠人, 畑裕輝, 山村和也

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2011　p. 483-484　2011年
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
リング型PS@Auプラズモニックナノシェルアレイの作製

山本悠人, 内田修平, 山村和也, 是津信行

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2011　p. 519-520　2011年
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
大気開放下におけるプラズマ化学液相堆積法によるフッ素ポリマー表面の銅メタライジング:過酸化物ラジカルの存在形態と無電解銅めっき膜の密着強度の相関

大岡健人, 秋山弘貴, 山本悠人, 是津信行, 山村和也

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2011　p. 537-538　2011年
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
中性子集光用楕円面スーパーミラーデバイスの開発:ミラーの形状誤差が集光性能に与える影響

山家史也, 永野幹典, 山崎大, 丸山龍治, 曽山和彦, 山村和也

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2011　p. 479-480　2011年
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
重力場における超冷中性子の量子状態観測のための高精度中性子拡大鏡の開発

永野幹典, 山崎健太, 田畑雄壮, 山村和也, 市川豪, 南雄人, 駒宮幸男

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2011　p. 481-482　2011年
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
Crystal Machining Using Atmospheric Pressure Plasma

Yasuhisa Sano, Kazuya Yamamura, Kazuto Yamauchi

Crystal Growth Technology: Semiconductors and Dielectrics　p. 313-330　2010年7月19日　論文集(書籍)内論文
出版者・発行元：Wiley-VCH
Fabrication of damage-free Johansson-type doubly curved crystal spectrometer substrate by numerically controlled local wet etching

K. Yamamura, K. Ueda, M. Nagano, N. Zettsu, S. Maeo, S. Shimada, T. Utaka, K. Taniguchi

Nucl. Instr. and Meth. A 616 (2010) 281-284.　2010年4月　研究論文（学術雑誌）
High-integrity finishing of 4H-SiC (0001) by plasma-assisted polishing

Kazuya Yamamura, Tatsuya Takiguchi, Masaki Ueda, Azusa N. Hattori, Nobuyuki Zettsu

ADVANCES IN ABRASIVE TECHNOLOGY XIII　Vol. 126-128　p. 423-428　2010年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
High-Integrity Finishing of 4H-SiC (0001) by Plasma-Assisted Polishing

K. Yamamura, T. Takiguchi, M. Ueda, A. N. Hattori, N. Zettsu

Adv. Mat. Res.　Vol. 423-428　p. 126-128　2010年　研究論文（学術雑誌）
Improvement of thickness uniformity of bulk silicon wafer by numerically controlled local wet etching

Mikinori Nagano, Takuro Mitani, Kazuaki Ueda, Nobuyuki Zettsu, Kazuya Yamamura

JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH　Vol. 311　No. 8　p. 2560-2563　2009年4月　研究論文（学術雑誌）
プログラム自己組織化による銀ナノキューブダイマーの合成とそのプラズモニック特性

三谷宗久, 内田修平, 山村和也, 遠藤勝義, 是津信行

2009年3月
サブメートル級ナノ粒子配列膜製造技術の開発（6）

真鍋享平, 是津信行, 山村和也, 遠藤勝義

2009年度精密工学会春季大会学術講演会講演論文集　2009年3月
ナノ粒子デバイス製造プロセスの開発

斉藤正太, 山村和也, 遠藤勝義, 是津信行

第69回応用物理学会学術講演会講演予稿集　2008年9月
サブメートル級ナノ粒子配列膜製造技術の開発（５）

真鍋享平, 是津信行, 山村和也, 遠藤勝義

2008年度精密工学会秋季大会学術講演会講演論文集　2008年9月
非最密型中空金ナノ粒子膜の作製

内田修平, 是津信行, 山村和也, 遠藤勝義

第58回高分子学会年次大会講演予稿集　2008年5月
Shape correction of steep curved surfaces using plasma chemical vaporization machining with a hemispherical tip electrode

H. Takino, K. Ara, N. Shibata, K. Yamamura, Y. Sano, Y. Mori

Proceedings of the 7th International Conference European Society for Precision Engineering and Nanotechnology, EUSPEN 2007　Vol. 2　p. 193-196　2007年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
出版者・発行元：euspen
Ro-vibronic Structure in the Q-branch in the Spectra of Hydrogen Fulcher-a Band Emission in the Atmospheric Pressure Plasma CVD Process Driven at 150 MHz

Y. Oshikane, H. Kakiuchi, K. Yamamura, C. M. Western, K. Yasutake, K. Endo

Extended Abstratcs of International 21st Century COE Symposium on Atomistic Fabrication Technology　2006年10月
Development of mirror manipulator for hard x-ray nanofocusing at sub-50nm level

S. Matsuyama, H. Mimura, H. Yumoto, H. Hara, S. Handa, K. Yamamura, Y. Sano, K. Endo, Y. Mori, M. Yabashi, Y. Nishino, K. Tamasaku, T. Ishikawa, K. Yamauchi

Review of Scientific Instruments　Vol. 77　No. 9　2006年10月　研究論文（学術雑誌）
Scanning X-ray Fluorescence Microscope Using Kirkpatrick-Baez Optics with Spatial Resolution Better than 50nm

Satoshi Matsuyama, Hidekazu Mimura, Mari Shimura, Hirokatsu Yumoto, Keiko Katagishi, Soichiro Handa, Akihiko Shibatani, Yasuhisa Sano, Kazuya Yamamura, Katsuyoshi Endo, Yuzo Mori, Yoshinori Nishino, Kenji Tamasaku, Makina Yabashi, Tetsuya Ishikawa, Kazuto Yamauchi

The 16th International Microscopy Congress (IMC16)　2006年9月
Development of scanning X-ray fluorescence microscope with spatial resolution of 30nm using K-B mirrors optics

S.Matsuyama, H.Mimura, H.Yumoto, K.Yamamura, Y.Sano, M.Yabashi, Y.Nishino, K.Tamasaku, T. Ishikawa, K.Yamauchi

Review of Scientific Instruments　Vol. 77　No. 10　2006年9月　研究論文（学術雑誌）
Hard X-ray focusing with a beam size less than 30 nm by total reflection mirror

H. Mimura, H. Yumoto, S. Matsuyama, S. Handa, Y. Sano, K. Yamamura, K. Tamasaku, Y. Nishino, M. Yabashi, T. Ishikawa, K. Yamauchi

2006年7月
Diffraction-limited X-ray nanobeam with KB mirrors

K. Yamauchi, H. Mimura, S. Matsuyama, H. Yumoto, S. Handa, Y. Sano, K. Yamamura, K. Tamasaku, Y. Nishino, M. Yabashi, T. Ishikawa

2006年7月
N2 C3Pu-B3Pg band spectroscopy in open-air type CVM plasma with He/CF4/O2 and H2 Fulcher-a band spectroscopy in atmospheric He/H2/SiH4 CVD plasma

Yasushi Oshikane, Kazuya Yamamura, Koji Ueno, Hiroaki Kakiuchi, Kiyoshi Yasutake, Takafumi Karasawa, Colin M. Western, Akinori Oda, Akihiko Nagao, Katsuyoshi Endo

Europhysics Conference Abstract of 18th Europhysics Conference on the Atomic and Molecular Physics of Ionised Gases　2006年7月
Machining characteristics of AT cut quartz crystal wafer by open-air type atmospheric pressure plasma machining system, Abstractbook of the 8th Asia-Pacific Conference on Plasma Science and Technology

Kazuya Yamamura, Koji Ueno, Yasuhisa Sano, Yasushi Oshikane, Masafumi Shibahara, Yuzo Mori

Abstractbook of the 8th Asia-Pacific Conference on Plasma Science and Technology　2006年7月
Surface Gradient Integrated Profiler for X-ray and EUV Optics-Calibration of the rotational angle error of the rotary encoders-

Yasuo Higashi, Yuichi Takaie, Katsuyoshi Endo, Tatsuya Kume, Kazuhiro Enami, Kazuto Ymauchi, Kazuya Yamamura, Yasushi Sano, Kenji Ueno, Yuzo Mori

Ninth International Conference on Synchrotron Radiation Instrumentation　Vol. 879　p. 726-+　2006年6月　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Development of Surface Measurement Technologies for Hard X-ray Nanofocusing Mirror at Osaka University and SPring-8

H. Mimura, H. Yumoto, S. Matsuyama, K. Yamamura, Y. Sano, K. Endo, Y. Mori, M. Yabashi, Y. Nishino, K. Tamasaku, T. Ishikawa, K. Yamauchi

The 3rd International Workshop on Metrology for X-ray Optics　2006年5月
Development of K-B Mirror Manipulator for Hard X-ray Sub-50nm Focusing

Satoshi Matsuyama, Hidekazu Mimura, Hirokatsu Yumoto, Soichiro Handa, Keiko Katagishi, Akihiko Shibatani, Kazuya Yamamura, Yasuhisa Sano, Yoshinori Nishino, Kenji Tamasaku, Makina Yabashi, Tetsuya Ishikawa, Kazuto Yamauchi

International Workshop on Mechanical Engineering Design of Synchrotron Radiation Equipment and Instrumentation 2006　2006年5月
Polishing characteristics of silicon carbide by plasma chemical vaporization machining

Y. Sano, M. Watanabe, K. Yamamura, K. Yamauchi, T. Ishida, K. Arima, A. Kubota, Y. Mori

Proc. ICRP-6/SPP-23　Vol. 45　No. 10　p. 8277-8280　2006年1月　研究論文（国際会議プロシーディングス）
High-spatial-resolution scanning X-ray fluorescence microscope with Kirkpatrick-Baez mirrors

Satoshi Matsuyama, Hidekazu Mimura, Mari Shimura, Hirokatsu Yumoto, Keiko Katagishi, Soichiro Handa, Akihiko Shibatani, Yasuhis Sano, Kazuya Yamamura, Yoshinori Nishino, Kenji Tamasaku, Makina Yabashi, Tetsuya Ishikawa, Kazuto Yamauchi

ADVANCES IN X-RAY/EUV OPTICS, COMPONENTS, AND APPLICATIONS　Vol. 6317　2006年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Ultraprecision finishing process for improving thickness distribution of quartz crystal wafer by utilizing atmospheric pressure plasma

Kazuya Yamamura, Yasuhisa Sano, Yuzo Mori, Masafumi Shibahara

PROCEEDINGS OF THE 2006 IEEE INTERNATIONAL FREQUENCY CONTROL SYMPOSIUM AND EXPOSITION, VOLS 1 AND 2　p. 848-+　2006年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Wave-optical evaluation of interference fringes and wavefront phase in a hard-x-ray beam totally reflected by mirror optics

Kazuto Yamauchi, Kazuya Yamamura, Hidekazu Mimura, Yasuhisa Sano, Akira Saito, Katsuyoshi Endo, Alexei Souvorov, Makina Yabashi, Kenji Tamasaku, Tetsuya Ishikawa, Yuzo Mori

Applied Optics　Vol. 44　No. 32　p. 6927-6932　2005年11月　研究論文（学術雑誌）
出版者・発行元：
Two-dimensional Actinometric Study of Fluorine and Oxygen Atom Densities in the CVM Plasma Gap and the Temperature Estimation with Electronic Spectra of Diatomic Molecules

Yasushi Oshikane, Akihiko Nagao, Akinori Oda, Colin M. Western, Kazuya Yamamura, Katsuyoshi Endo

17th International Symposium on Plasma Chemistry, Abstracts and Full-papers CD　2005年8月　研究論文（国際会議プロシーディングス）
出版者・発行元：IUPAC & IPCS
Surface figuring and measurement methods with spatial resolution close to 0.1 mm for x-ray mirror fabrication

H. Mimura, H. Yumoto, S. Matsuyama, K. Yamamura, Y. Sano, K.Endo, Y. Mori, Y. Nishino, M. Yabashi, K. Tamasaku, T. Ishikawa, K.Yamauchi

Vol. 5921　p. 1-8　2005年8月　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Diffraction-limited two-dimensional hard-X-rays focusing in 100nm level using K-B mirror arrangement

S. Matsuyama, H. Mimura, H. Yumoto, K. Yamamura, Y. Sano, K. Endo, Y. Mori, M. Yabashi, K. Tamasaku, Y. Nishino, T. Ishikawa, K. Yamauchi

Review of Scientific Instruments　Vol. 76　No. 8　p. 1-5　2005年8月　研究論文（学術雑誌）
A new Designed High-Precision Profiler - Study on Mandrel measurement-

Y.Higashi, Y.Takaie, K.Endo, T.Kume, K.Enami, K.Yamauchi, K.Yamamura, K.Ueno, Y.Mori

Proc. 8th Cof. X-ray Microscopy IPAP Conf. Series 7　2005年7月　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Scanning hard-X-ray microscope with spatial resolution better than 50nm

S. Matsuyama, H. Mimura, H. Yumoto, H. Hara, K. Yamamura, Y. Sano, K.Endo, Y. Mori, M. Yabashi, Y. Nishino, K. Tamasaku, T. Ishikawa, K.Yamauchi

2005年7月　研究論文（学術雑誌）
Hard X-ray Diffraction-Limited Nanofocusing with unprecidently accurate mirrors

H. Mimura, S. Matsuyama, H. Yumoto, H. Hara, K. Yamamura, Y. Sano, M. Shibahara, K. Endo, Y. Mori, Y. Nishino, K. Tamasaku, M. Yabashi, T. Ishikawa, K. Yamauchi

2005年7月　研究論文（学術雑誌）
Development of elliptical kirkpatrick-baez mirrors for hard X-ray nanofocusing

K. Yamauchi, H. Mimura, K. Yamamura, Y. Sano, H. Yumoto, S. Matsuyama, K. Endo, Y. Nishino, K. Tamasaku, M. Yabashi, T. Ishikawa, Y. Mori

Optics InfoBase Conference Papers　2005年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Focusing hard X-rays to sub-50 nm size by elliptically figured: Mirror

Hirokatsu Yumoto, Hidekazu Mimura, Satoshi Matsuyama, Hideyuki Hara, Kazuya Yamamura, Yasuhisa Sano, Kazumasa Ueno, Katsuyoshi Endo, Yuzo Mori, Makina Yabashi, Yoshinori Nishino, Kenji Tamasaku, Tetsuya Ishikawa, Kazuto Yamauchi

Optics InfoBase Conference Papers　2005年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Stitching interferometry for surface figure measurement of X-ray reflective optics

Hidekazu Mimura, Hirokatsu Yumoto, Satoshi Matsuyama, Hideyuki Hara, Kazuya Yamamura, Yasuhisa Sano, Kazumasa Ueno, Katsuyoshi Endo, Yuzo Mori, Makina Yabashi, Yoshinori Nishino, Kenji Tamasaku, Tetsuya Ishikawa, Kazuto Yamauchi

Optics InfoBase Conference Papers　2005年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Hard X-ray nano-focusing at 40nm level using K-B mirror optics for nanoscopy/spectroscopy

Satoshi Matsuyama, Hidekazu Mimura, Hirokatsu Yumoto, Hideyuki Hara, Kazuya Yamamura, Yasuhisa Sano, Katsuyoshi Endo, Yuzo Mori, Yoshinori Nishino, Kenji Tamasaku, Makina Yabashi, Tetsuya Ishikawa, Kazuto Yamauchia

Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering　Vol. 5918　p. 1-8　2005年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Surface Figure Metrology of x-ray mirrors using optical interferometry

K. Yamauchi, K. Yamamura, H. Mimura, Y. Sano, S. Matsuyama, H. Yumoto, K. Ueno, K. Endo, M. Yabashi, K. Tamasaku, Y. Nishino, T. Ishikawa, Y. Mori

2004年9月
Surface figure metrology of total reflection X-ray mirror using optical interferometry at Osaka Univ. and SPring-8

K.Yamuchi, H.Mimura, K.Yamamura, Y.Sano, K.Ueno, S.Matsuyama, K.Endo, Y.Nishino, K.Tamasaku, M.Yabashi, T.Ishikawa

Proceedings of Second International Workshop on Metrology for X-ray Optics　2004年4月
超高精度硬Ｘ線集光ミラーの製作とナノスペクトロスコピーへの応用

山村和也, 山内和人, 佐野泰久, 三村秀和, 遠藤勝義, 森勇藏

大阪大学低温センターだより，125, 4-10　Vol. 125　p. 4-10　2004年1月　研究論文（大学，研究機関等紀要）
出版者・発行元：大阪大学低温センター
Aspheric surface fabrication in nm-level accuracy by numerically controlled plasma chemical vaporization machining (CVM) and elastic emission machining (EEM)

K Yamamura, H Mimura, K Yamauchi, Y Sano, A Saito, T Kinoshita, K Endo, Y Mori, A Souvorov, M Yabashi, K Tamasaku, D Ishikawa

X-RAY MIRRORS, CRYSTALS, AND MULTILAYERS II　Vol. 4782　p. 265-270　2002年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Sub-micron focusing of hard X-ray beam by elliptically figured mirrors for scanning X-ray microscopy

Y Mori, K Yamauchi, K Yamamura, H Mimura, Y Sano, A Saito, K Ueno, K Endo, A Souvorov, M Yabashi, K Tamasaku, T Ishikawa

X-RAY MIRRORS, CRYSTALS, AND MULTILAYERS II　Vol. 4782　p. 58-64　2002年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
First-Principles Simulation of Removal Process in EEM(Elastic Emission Machining)

Kazuto Yamauchi, Kikuji Hirose, Hidekazu Goto, Kazuhisa Sugiyama, Kouji Inagaki, Kazuya Yamamura, Yasuhisa Sano, Yuzo Mori

Computational Materials Science, Vol.~14, pp.~232-235　1999年4月　研究論文（学術雑誌）
Laser beam intensity profile transformation with a fabricated mirror

Koshichi Nemoto, Takashi Fujii, Naohiko Goto, Hideo Takino, Teruki Kobayashi, Norio Shibata, Kazuya Yamamura, Yuzo Mori

Applied Optics　Vol. 36　No. 3　p. 551-557　1997年1月20日　研究論文（学術雑誌）
Mirror fabricated with nonaxisymmetric surface profile for laser beam forming and wave front correction

Koshichi Nemoto, Takashi Fujii, Naohiko Goto, Hideo Takino, Norio Shibata, Kazuya Yamamura, Yuzo Mori

Conference Proceedings - Lasers and Electro-Optics Society Annual Meeting-LEOS　p. 202-203　1996年　研究論文（学術雑誌）
出版者・発行元：IEEE
Influence of fabrication precision on laser beam forming by fabricated optics

K Nemoto, T Fujii, N Goto, H Takino, T Kobayashi, N Shibata, K Yamamura, Y Mori

LBOC - THIRD INTERNATIONAL WORKSHOP ON LASER BEAM AND OPTICS CHARACTERIZATION　Vol. 2870　p. 558-564　1996年　研究論文（国際会議プロシーディングス）

MISC 715

プラズマ援用研磨法の開発(第25報)-RS-SiC材のSiC成分とSi成分の酸化レートの評価-

陶通, 孫栄硯, 川合健太郎, 有馬健太, 山村和也

精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 2022　2022年
プラズマ援用研磨法の開発(第24報)-CF₄プラズマ照射前後におけるAlN基板とダイヤモンド砥粒との吸着力の変化-

孫栄硯, 陶通, 川合健太郎, 有馬健太, 山村和也

精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 2022　2022年
プラズマ援用研磨による多結晶ダイヤモンド基板の高能率ダメージフリー平坦・平滑化に関する研究(第1報)

杉本健太郎, 孫栄硯, 川合健太郎, 有馬健太, 山村和也

砥粒加工学会学術講演会講演論文集(CD-ROM)　Vol. 2022　2022年
Si表面の溝底部に埋め込んだ金属原子からの光電子検出~光電子検出量の脱出角依存性の検討~

東知樹, 孫栄硯, 川合健太郎, 山村和也, 有馬健太

精密工学会関西地方定期学術講演会講演論文集　Vol. 2022　2022年
プラズマ援用研磨による単結晶ダイヤモンド基板の高能率ダメージフリー加工-研磨レートおよび表面性状の研磨圧力依存性および摺動速度依存性に関する検討-

杉本健太郎, 劉念, 吉鷹直也, 孫栄硯, 川合健太郎, 有馬健太, 山村和也

精密工学会関西地方定期学術講演会講演論文集　Vol. 2022　2022年
第一原理計算を用いたナノグラフエン上の特異な超構造電子状態の解析

李君寰, 稲垣耕司, 川合健太郎, 孫栄硯, 山村和也, 有馬健太

精密工学会関西地方定期学術講演会講演論文集　Vol. 2022　2022年
プラズマ援用研磨による多結晶ダイヤモンド基板の高能率ダメージフリー平坦・平滑化に関する研究(第1報)

杉本健太郎, 孫栄硯, 川合健太郎, 有馬健太, 山村和也

精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 2022　2022年
中性子集光用高精度Wolterミラーマンドレルの作製(第14報)-PCVMにおける加工温度と表面粗さの相関-

須場健太, 山本有悟, 孫栄硯, 川合健太郎, 有馬健太, 山村和也, 丸山龍治, 曽山和彦, 林田洋寿

精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 2022　2022年
サブ分子層の吸着水がGeO₂/Ge界面の電気特性に与える影響の超精密計測

佐野修斗, 和田陽平, 孫栄硯, 川合健太郎, 山村和也, 有馬健太

精密工学会関西地方定期学術講演会講演論文集　Vol. 2022　2022年
Si表面の溝底部に埋め込んだ金属原子からの光電子検出~光電子検出量の脱出角依存性の検討~

東知樹, 孫栄硯, 山村和也, 有馬健太

精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 2022　2022年
数値制御プラズマCVMによるWolterミラーマンドレルの高精度加工

須場健太, 山本有悟, 孫栄硯, 川合健太郎, 有馬健太, 山村和也, 丸山龍治, 曽山和彦, 林田洋寿

精密工学会関西地方定期学術講演会講演論文集　Vol. 2022　2022年
Plasma-assisted polishing for atomic surface fabrication of single crystal SiC

Jian-Wei Ji, Yamamura Kazuya, Hui Deng

Wuli Xuebao/Acta Physica Sinica　Vol. 70　No. 6　2021年3月20日　書評論文,書評,文献紹介等
出版者・発行元：Institute of Physics, Chinese Academy of Sciences
プラズマ援用研磨法の開発(第21報)-ビトリファイドボンド砥石を用いたドレスフリー研磨法の開発-

孫栄硯, 川合健太郎, 有馬健太, 山村和也, 永橋潤司, 野副厚訓

精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 2021　2021年
減圧プラズマフッ化における焼結AlN基板のフッ化レートの評価

孫栄硯, 陶通, 川合健太郎, 有馬健太, 山村和也

精密工学会関西地方定期学術講演会講演論文集　Vol. 2021　2021年
減圧プラズマ酸化における反応焼結SiCの酸化特性

陶通, 孫栄硯, 川合健太郎, 有馬健太, 山村和也

精密工学会関西地方定期学術講演会講演論文集　Vol. 2021　2021年
プラズマCVM加工におけるガス組成と最適加工ギャップの関係

北出隼人, 孫栄硯, 川合健太郎, 有馬健太, 山村和也

精密工学会関西地方定期学術講演会講演論文集　Vol. 2021　2021年
窒化アルミニウムセラミックス材のプラズマ援用研磨に関する研究-異なる粒径のビトリファイドボンドダイヤモンド砥石を用いたAlN基板の研磨特性-

陶通, 孫栄硯, 川合健太郎, 有馬健太, 山村和也

砥粒加工学会学術講演会講演論文集(CD-ROM)　Vol. 2021　2021年
プラズマ援用研磨法の開発(第22報)-フッ素系ガスを用いたプラズマ援用研磨における砥石成分の付着抑制-

孫栄硯, 陶通, 川合健太郎, 有馬健太, 山村和也

精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 2021　2021年
マイクロ波プラズマジェット型プラズマCVMにおける加工痕形状の考察

北出隼人, 孫栄硯, 川合健太郎, 有馬健太, 山村和也

精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 2021　2021年
プラズマ援用研磨法の開発(第23報)-AlN基板の研磨における砥粒材質と研磨特性の相関-

陶通, 孫栄硯, 川合健太郎, 有馬健太, 山村和也

精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 2021　2021年
プラズマ援用研磨法の開発(第19報)-AlN基板の研磨特性の評価-

孫栄硯, 川合健太郎, 有馬健太, 山村和也

精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 2020　2020年
プラズマ援用研磨法の開発(第20報)-焼結AlN基板の脱粒フリー研磨-

孫栄硯, 川合健太郎, 有馬健太, 山村和也

精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 2020　2020年
プラズマ援用研磨法の開発(第18報)-フッ素系プラズマの照射によるAlN基板の表面改質効果の評価-

孫栄硯, 川合健太郎, 有馬健太, 山村和也

精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 2019　2019年
プラズマCVMによる多成分材料の高精度加工に関する研究(第3報)-反応焼結SiC材の加工における反応生成堆積物の影響-

孫栄硯, 川合健太郎, 有馬健太, 山村和也, 大久保雄司

精密工学会関西地方定期学術講演会講演論文集　Vol. 2019　2019年
AFM-IRを用いたポリテトラフルオロエチレン(PTFE)/天然ゴム(NR)接着体の界面分析

大久保雄司, 柴原正文, 本田幸司, 長谷朝博, 遠藤勝義, 山村和也

日本接着学会年次大会講演要旨集(CD-ROM)　Vol. 57th　2019年
ポリドーパミンを用いた過酸化水素分解用Pt触媒の耐久性向上

貝原大介, 青木智紀, 清野智史, 西野実沙, 中川哲哉, 遠藤勝義, 山村和也, 大久保雄司, 森理, 佐々木理衣

精密工学会関西地方定期学術講演会講演論文集　Vol. 2019　2019年
中性子集光用高精度Wolterミラーマンドレルの作製（第7報）:PCVM加工における熱流入由来の加工量誤差の補正

荒川翔平, 山本有悟, 川合健太郎, 有馬健太, 山崎大, 丸山龍治, 林田洋寿, 曽山和彦, 山村和也

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2019　No. 0　p. 695-695　2019年
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
プラズマCVMによる水晶ウエハの加工に関する研究-エタノール添加によるCF₄含有大気圧Arプラズマの安定化-

孫栄硯, 川合健太郎, 有馬健太, 山村和也, 渡辺啓一郎, 宮崎史朗, 深野徹, 北田勝信

精密工学会関西地方定期学術講演会講演論文集　Vol. 2018　2018年
プラズマCVMによる多成分材料の高精度加工に関する研究(第2報)-反応焼結SiC材に対する非球面形状の創成-

孫栄硯, 川合健太郎, 有馬健太, 山村和也, 大久保雄司

精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 2018　2018年
反応性プラズマを援用したセラミックス材料のダメージフリー形状創成・仕上げ加工技術の開発

山村和也, 孫栄硯, 大久保雄司

粉体粉末冶金協会講演大会(Web)　Vol. 2018　2018年
中性子集光用高精度Wolterミラーマンドレルの作製（第6報）:PCVM加工によるWolterミラーマンドレルの形状修正

荒川翔平, 川合健太郎, 有馬健太, 山崎大, 丸山龍治, 林田洋寿, 曽山和彦, 山村和也

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2018　No. 0　p. 722-722　2018年
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
大気圧プラズマを用いた金型用反応焼結SiC材のダメージフリー形状創成・仕上げ加工技術-プラズマCVMの基礎加工特性-

孫栄硯, 大久保雄司, 遠藤勝義, 山村和也

精密工学会関西地方定期学術講演会講演論文集　Vol. 2017　2017年
電子線照射還元法により担持したPtナノ粒子のH₂O₂分解触媒活性に及ぼす担体材料の影響

青木智紀, 大久保雄司, 清野智史, 小玉欣典, 中川哲哉, 河本懐, 遠藤勝義, 森理, 伊藤一作, 山村和也

表面技術協会講演大会講演要旨集　Vol. 136th　2017年
Adhesive-free adhesion between polytetrafluoroethylene (PTFE) and isobutylene-isoprene rubber (IIR) via heat-assisted plasma treatment (vol 7, pg 6432, 2017)

Y. Ohkubo, K. Ishihara, H. Sato, M. Shibahara, A. Nagatani, K. Honda, K. Endo, K. Yamamura

RSC ADVANCES　Vol. 7　No. 63　p. 39928-39928　2017年　その他
中性子集光用高精度Wolterミラーマンドレルの作製（第4報）:石英ガラス製回転体基盤に対するプラズマジェット加工特性の評価

小林勇輝, 後藤惟樹, 遠藤勝義, 山崎大, 丸山龍治, 林田洋寿, 曽山和彦, 山村和也

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2017　No. 0　p. 973-974　2017年
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
中性子集光用高精度Wolterミラーマンドレルの作製（第5報）:PCVM加工における加工変質層が及ぼす加工特性への影響の評価

小林勇輝, 荒川翔平, 遠藤勝義, 山崎大, 丸山龍治, 林田洋寿, 曽山和彦, 山村和也

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2017　No. 0　p. 865-866　2017年
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
熱アシストプラズマ処理によるフッ素樹脂の表面改質 (特集プラズマを利用する表面処理技術)

大久保雄司, 山村和也

機能材料　Vol. 36　No. 10　p. 13-20　2016年10月
出版者・発行元：シーエムシー出版
中性子集光用高精度Wolterミラーマンドレルの作製（第2報）:マイクロ波プラズマジェット加工における加工速度のCF4/O2組成依存性

小林勇輝, 後藤惟樹, 遠藤勝義, 山崎大, 丸山龍治, 林田洋寿, 曽山和彦, 山村和也

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2016　No. 0　p. 277-278　2016年
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
中性子集束用高精度Wolterミラーマンドレルの作製:集束性能に影響を及ぼす形状誤差の光線追跡シミュレーションによる評価

後藤惟樹, 小林勇輝, 遠藤勝義, 山崎大, 丸山龍治, 林田洋寿, 曽山和彦, 山村和也

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2016　No. 0　p. 915-916　2016年
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
フッ素樹脂と金属膜の強力接着技術 (新規材料創出に繋がる表面改質)

大久保雄司, 山村和也

コンバーテック　Vol. 43　No. 2　p. 51-54　2015年2月
出版者・発行元：加工技術研究会
フッ素樹脂/異種材料(ゴム・金属)の強力接着 (特集異種材料接着のための界面科学(複合材料界面も含む))

大久保雄司, 山村和也

接着の技術 = Adhesion technology, Japan　Vol. 35　No. 3　p. 38-42　2015年
出版者・発行元：日本接着学会
Atomic-scale planarization of 4H-SiC (0001) by combination of thermal oxidation and abrasive polishing (vol 103, 111603, 2013)

Hui Deng, Katsuyoshi Endo, Kazuya Yamamura

APPLIED PHYSICS LETTERS　Vol. 103　No. 18　2013年10月　その他
28pRC-5 重力に束縛された超冷中性子の量子状態の観測およびそれを用いた未知短距離力の探索(28pRC 新粒子・新物理の探索,素粒子実験領域)

市川豪, 駒宮幸男, 神谷好郎, 山村和也, 永野幹典

日本物理学会講演概要集　Vol. 68　No. 1　p. 37-37　2013年3月26日
出版者・発行元：一般社団法人日本物理学会
The 4th International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology Preface

Kazuto Yamauchi, Kazuya Yamamura

CURRENT APPLIED PHYSICS　Vol. 12　p. S1-S1　2012年12月　その他
25pCL-11 高性能集光スーパーミラーによる角度発散型中性子反射法の開発(25pCL X線・粒子線(中性子),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン))

山崎大, 丸山龍治, 林田洋寿, 曽山和彦, 永野幹典, 山家一也, 山村和也

日本物理学会講演概要集　Vol. 67　No. 0　p. 1007-1007　2012年
出版者・発行元：一般社団法人日本物理学会
中性子集光用回転楕円ミラーの作製第IV報:小径球面パッドを用いた形状修正研磨における体積加工速度の安定化

山崎健太, 永野幹典, 光嶋直樹, 山村和也, 丸山龍治, 林田洋寿, 山崎大, 曽山和彦

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2012　No. 0　p. 409-410　2012年
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
多重配置した中性子集光用楕円面スーパーミラーデバイスの開発:4枚の1mm厚ミラー基板のアライメント機構

永野幹典, 山家史也, 山崎大, 丸山龍治, 林田洋寿, 曽山和彦, 山村和也

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2012　No. 0　p. 1147-1148　2012年
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
中性子集光用回転楕円ミラーの作製第III報:小径パッドを用いた回転体石英マンドレルの形状修正と表面仕上げ

山崎健太, 永野幹典, 山家史也, 山村和也, 丸山龍治, 林田洋寿, 山崎大, 曽山和彦

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2012　No. 0　p. 1149-1150　2012年
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
One-dimensional neutron focusing with large beam divergence by 400mm-long elliptical supermirror

M. Nagano, F. Yamaga, D. Yamazaki, R. Maruyama, H. Hayashida, K. Soyama, K. Yamamura

5TH EUROPEAN CONFERENCE ON NEUTRON SCATTERING　Vol. 340　2012年
Single-nanometer focusing of hard x-rays by Kirkpatrick-Baez mirrors

Kazuto Yamauchi, Hidekazu Mimura, Takashi Kimura, Hirokatsu Yumoto, Soichiro Handa, Satoshi Matsuyama, Kenta Arima, Yasuhisa Sano, Kazuya Yamamura, Koji Inagaki, Hiroki Nakamori, Jangwoo Kim, Kenji Tamasaku, Yoshinori Nishino, Makina Yabashi, Tetsuya Ishikawa

JOURNAL OF PHYSICS: CONDENSED MATTER　Vol. 23　No. 39　p. 394206 1-394206 2　2011年10月　書評論文,書評,文献紹介等
M. Nagano, F. Yamaga, D. Yamazaki, R. Maruyama, K. Soyama, K. Yamamura

High-precision figured, thin supermirror substrates for multiple neutron focusing device

Proceedings of 5th European Conference on Neutron Scattering　2011年7月
One-dimensional neutron focusing with large beam divergence by 400mm-long elliptical supermirror

M. Nagano, F. Yamaga, D. Yamazaki, R. Maruyama, K. Soyama, K. Yamamura

Vol. 340　2011年7月
High-integrity finishing of reaction sintered SiC by plasma assisted polishing using ceria abrasive

K. Yamamura, M. Ueda, H. Deng, N. Zettsu

Proceedings of 11th International Conference of the European Society for Precision Engineering and Nanotechnology　Vol. pp.422-426.　2011年5月
Plasma assisted polishing of single crystal SiC for obtaining atomically flat strain-free surface

K. Yamamura, T. Takiguchi, M. Ueda, H. Deng, A.N. Hattori, N. Zettsu

Annals of the CIRP, 60 (2011) 571-574.　Vol. 60　No. 1　p. 571-574　2011年5月
触媒フリー無電解銅めっきプロセスによるフッ素樹脂表面の高密着性銅メタライジング

是津信行, 山村和也

大阪大学低温センターだより　Vol. 154　p. 20-26　2011年4月
出版者・発行元：大阪大学低温センター
Fabrication of discrete polystyrene nanoparticle arrays with controllable their structural parameters

S. Uchida, K. Yamamura, N. Zettsu

J. Nanosci. Nanotechnol. 11 (2011) 2956-2961.　Vol. 11　No. 4　p. 2956-2961　2011年4月
Development of fabrication process for aspherical neutron focusing mirror using numerically controlled local wet etching with low-pressure polishing

M. Nagano, F. Yamaga, N. Zettsu, D. Yamazaki, R. Maruyama, K. Soyama, K. Yamamura

Nucl. Instr. and Meth., A 634 (2011) S112-S116.　Vol. 634　p. S112-S116　2011年4月
Finishing of AT-Cut Quartz Crystal Wafer with Nanometric Thickness Uniformity by Pulse-Modulated Atmospheric Pressure Plasma Etching

Kazuya Yamamura, Masaki Ueda, Masafumi Shibahara, Nobuyuki Zettsu

JOURNAL OF NANOSCIENCE AND NANOTECHNOLOGY　Vol. 11　No. 4　p. 2922-2927　2011年4月
Simple and Versatile Route to High Yield Face-to-Face Dimeric Assembly of Ag Nanocubes and Their Surface Plasmonic Properties

Shuhei Uchida, Atsushi Taguchi, Munehisa Mitani, Taro Ichimura, Satoshi Kawata, Kazuya Yamamura, Nobuyuki Zettsu

JOURNAL OF NANOSCIENCE AND NANOTECHNOLOGY　Vol. 11　No. 4　p. 2890-2896　2011年4月
Improvement in Thickness Uniformity of Thick SOI by Numerically Controlled Local Wet Etching

Kazuya Yamamura, Kazuaki Ueda, Mao Hosoda, Nobuyuki Zettsu

JOURNAL OF NANOSCIENCE AND NANOTECHNOLOGY　Vol. 11　No. 4　p. 2910-2915　2011年4月
Thinning of 2-inch SiC wafer by plasma chemical vaporization machining using cylindrical rotary electrode

Yasuhisa Sano, Takehiro Kato, Kohei Aida, Kazuya Yamamura, Hidekazu Mimura, Satoshi Matsuyama, Kazuto Yamauchi

Materials Science Forum　Vol. 679-680　p. 481-+　2011年4月
Simple and versatile route to high yield face-to-face dimeric assembly of Ag nanocubes and their surface plasmonic properties

S. Uchida, A. Taguchi, M. Mitani, T. Ichimura, S. Kawata, K. Yamamura, N. Zettsu

, J. Nanosci. Nanotechnol. 11 (2011) 2890-2896.　Vol. 11　No. 4　p. 2890-2896　2011年4月
Improvement in thickness uniformity of thick SOI by numerically controlled local wet etching

K. Yamamura, K. Ueda, M. Hosoda, N. Zettsu

J. Nanosci. Nanotechnol. 11 (2011) 2910-2915.　Vol. 11　No. 4　p. 2910-2915　2011年4月
Development of fabrication process for aspherical neutron focusing mirror using numerically controlled local wet etching with low-pressure polishing

M. Nagano, F. Yamaga, N. Zettsu, D. Yamazaki, R. Maruyama, K. Soyama, K. Yamamura

NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION A-ACCELERATORS SPECTROMETERS DETECTORS AND ASSOCIATED EQUIPMENT　Vol. 634　p. S112-S116　2011年4月
Finishing of AT-cut quartz crystal wafer with nanometric thickness uniformity by pulse-modulated atmospheric pressure plasma etching

K. Yamamura, M. Ueda, M. Shibahara, N. Zettsu

J. Nanosci. Nanotechnol. 11 (2011) 2922-2927.　Vol. 11　No. 4　p. 2922-2927　2011年4月
Fabrication of Discrete Polystyrene Nanoparticle Arrays with Controllable Their Structural Parameters

Shuhei Uchida, Kazuya Yamamura, Nobuyuki Zettsu

JOURNAL OF NANOSCIENCE AND NANOTECHNOLOGY　Vol. 11　No. 4　p. 2956-2961　2011年4月
28aGB-12 重力場による超冷中性子の量子状態観測 : 実験装置の概要と改良点(28aGB ニュートリノ・中性子・その他,素粒子実験領域)

南雄人, 日野正裕, 市川豪, 駒宮幸男, 神谷好郎, 川崎真介, 佐貫智行, 山村和也, 永野幹典, 北口雅暁

日本物理学会講演概要集　Vol. 66　No. 0　p. 31-31　2011年
出版者・発行元：一般社団法人日本物理学会
非対称構造を有するPS@Auナノシェルアレイの作製と近赤外プラズモン特性

内田修平, 田口敦清, 南本大穂, 津田哲哉, 山村和也, 是津信行

応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 72nd　2011年
多重配置した中性子集光用楕円面スーパーミラーデバイスの開発:光線追跡シミュレーションによるアライメント精度の検討

山家史也, 永野幹典, 是津信行, 山崎大, 丸山龍治, 林田洋寿, 曽山和彦, 山村和也

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2011　No. 0　p. 503-504　2011年
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
Si界面層がFe/Ge中性子偏極ミラーの磁気特性に与える影響

丸山龍治, 山崎大, 岡安悟, 武田全康, 是津信行, 永野幹典, 山村和也, 林田洋寿, 曽山和彦

日本原子力学会年会・大会予稿集　Vol. 2011　No. 0　p. 122-122　2011年
出版者・発行元：一般社団法人日本原子力学会
シャドウマスクを用いたPCVM(Plasma Chemical Vaporization Machining)によるSiC 基板の切断加工の検討

西川央明, 佐野泰久, 会田浩平, 山村和也, 松山智至, 山内和人

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2011　No. 0　p. 509-510　2011年
出版者・発行元：The Japan Society for Precision Engineering
High Adhesion PTFE/epoxy Interface Enabled by Exotic Plasmas-assisted Morphological and Molecular Designs

Y. Idutsu, N. Zettsu, K. Yamamura

Proceedings of the Eleventh International Symposium on Biomimetic Materials Processing (BMMP-11)(2010)P-36.　2011年1月
Thinning of 2-inch SiC Wafer by Plasma Chemical Vaporization Machining Using Cylindrical Rotary Electrode

Yasuhisa Sano, Takehiro Kato, Kohei Aida, Kazuya Yamamura, Hidekazu Mimura, Satoshi Matsuyama, Kazuto Yamauchi

SILICON CARBIDE AND RELATED MATERIALS 2010　Vol. 679-680　p. 481-+　2011年
Plasma assisted polishing of single crystal SiC for obtaining atomically flat strain-free surface

K. Yamamura, T. Takiguchi, M. Ueda, H. Deng, A. N. Hattori, N. Zettsu

CIRP ANNALS-MANUFACTURING TECHNOLOGY　Vol. 60　No. 1　p. 571-574　2011年
High Adhesion PTFE/epoxy Interface Enabled by Exotic Plasmas-assisted Morphological and Molecular Designs

Proceedings of the Eleventh International Symposium on Biomimetic Materials Processing (BMMP-11)(2010)P-36.　2011年
M. Nagano, F. Yamaga, D. Yamazaki, R. Maruyama, K. Soyama, K. Yamamura

Proceedings of 5th European Conference on Neutron Scattering　2011年
Neutron beam focusing using large-m supermirrors coated on precisely-figured aspheric surfaces

D. Yamazaki, R. Maruyama, K. Soyama, H. Takai, M. Nagano, K. Yamamura

J. Phys. Conf. Ser. 251 (2010) 012076_1_4.　Vol. 251　2010年12月
Fabrication of plano-elliptical neutron focusing supermirror by numerically controlled local wet etching with ion beam sputter deposition

M Nagano, H Takai, D Yamazaki, R Maruyama, K Soyama, K Yamamura

J. Phys. Conf. Ser. 251 (2010) 012077_1_4.　Vol. 251　2010年12月
Atmospheric pressure plasma liquid deposition of copper nanoparticles onto poly(4-vinylpyridine)-grafted-poly(tetrafluoroethylene) surface

Hiroki Akiyama, Kazuya Yamamura, Nobuyuki Zettsu

Transactions of MRS-J, 35 (2010) pp.817-820.　Vol. Transactions of MRS-J, 35 (2010) pp.817-820.　No. 4　p. 817-820　2010年12月
出版者・発行元：The Materials Research Society of Japan
Figuring of Damage-Free Cylindrical Silicon Crystal Substrate for a Focusing X-ray Spectrometer by Plasma Chemical Vaporization Machining

M. Hosoda, M. Nagano, N. Zettsu, S. Shimada, K. Taniguchi, K. Yamamura

Extended Abstracts of Third International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology, P-7, 72-73.　Vol. P-7, 72-73.　2010年11月
Fabrication of High-Precision Elliptical Neutron Focusing Supermirror with Large Clear Aperture

M. Nagano, F. Yamaga, N. Zettsu, D. Yamazaki, R. Maruyama, K. Soyama, K. Yamamura

Extended Abstracts of Third International Symposium on Atomically Controlled Fabrication, P-11, 80-81.　Vol. P-11, 80-81.　2010年11月
Shape Control Synthesis of QDs with Chemical Composition Gradients for Light Emitting Devices

U. Farva, K. Yamamura, N. Zettsu

Extended Abstracts of Third International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology, P-32, 122-123.　Vol. P-32, 122-123.　2010年11月
Atmospheric Pressure Plasma Liquid Deposition of Copper Nanoparticles onto Poly(4-vinylpyrdine)-grafted-poly (tetrafluoroethylente) Surface

H. Akiyama, Y. Oshikane, N. Zettsu, K. Yamamura

Extended Abstracts of Third International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology, P-57, 172-173.　Vol. P-57, 172-173.　No. 4　p. 817-820　2010年11月
出版者・発行元：The Materials Research Society of Japan
Machining Properties of Reaction-Sintered Silicon Carbide by Plasma Assisted Machining

M. Ueda, S. Morinaga, H. Deng, N. Zettsu, K. Yamamura

Extended Abstracts of Third International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology, P-65, 188-189.　Vol. P-65, 188-189.　2010年11月
Thinning of SiC Wafer by Plasma Chemical Vaporization Machining

K. Aida, Y. Sano, H. Nishikawa, K. Yamamura, H. Mimura, S. Matsuyama, K. Yamauchi

Extended Abstracts of Third International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology, P-66, 190-191.　Vol. P-66, 190-191.　2010年11月
Development of Chemical Processing Methods for Silicon Carbide Wafering and Device Processing

Y. Sano, K. Yamamura, K. Arima, K. Yamauchi

Extended Abstracts of Third International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology, 6.2, 54-55.　Vol. 6.2, 54-55.　2010年11月
Fabrication of Shape Controlled Metal Nanodot Arrays by Autonomous Liquid-phase Nanoscale Processing as well as Their Charge Injection Characteritics for Floating Nanodot Gate Memory

N. Zettsu, S. Matsuura, A. Watanabe, K. Yamamura, T. Hosoi, H. Watanabe

Extended Abstracts of Third International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology, 4.4, 42-43.　Vol. 4.4, 42-43.　2010年11月
Fabrication of Ultraprecision Millimeter-thick Neutron Focusing Supermirror by Numerically Controlled Local Wet Etching and Low-pressure Polishing

F. Yamaga, M. Nagano, K. Yamasaki, N. Zettsu, D. Yamazaki, R. Maruyama, K. Soyama, K. Yamamura

Extended Abstracts of Third International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology, P-3, 64-65.　Vol. P-3, 64-65.　2010年11月
Fabrication of Metallodielectric Plasmonic Nanoshell Arrays for A Label-Free Immunoassay Based on NIR-light Responsive LSPR

S. Uchida, K. Yamamura, N. Zettsu

Extended Abstracts of Third International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology, P-12, 82-83.　Vol. P-12, 82-83.　2010年11月
Plasma Assisted Polishing of Reaction-Sintered Silicon Carbide

Kazuya Yamamura, Masaki Ueda, Tatsuya Takiguchi, Nobuyuki Zettsu

Proceedings of 25th Annual Meeting of the American Society for Precision Engineering (ASPE) 61-64.　2010年10月
Surface Modification by Water Vapor Plasma for Damage-free Roughness Smoothing of 4H-SiC

Kazuya Yamamura, Tatsuya Takiguchi, Masaki Ueda, Azusa N. Hattori, Nobuyuki Zettsu

proceedings of 63rd Gaseous Electronics Conference (GEC) and 7th International Conference on Reactive Plasmas(ICRP),DTP-067　2010年10月
Catalyst-free electroless Cu plating of fluoropolymer surface through an atmospheric pressure plasma assisted self-assembly

Nobuyuki Zettsu, Hiroki Akiyama, Kazuya Yamamura

Proceedings of 63rd Gaseous Electronics Conference (GEC) and 7th International Conference on Reactive Plasmas(ICRP), DTP-069　2010年10月
Atmospheric pressure plasma liquid deposition of Cu nanoparticles onto P4VP-grafted-PTFE surface and their autocatalytic characteristics

Nobuyuki Zettsu, Hiroki Akiyama, Kazuya Yamamura

Proceedings of 63rd Gaseous Electronics Conference (GEC) and 7th International Conference on Reactive Plasmas(ICRP), ET3-003　2010年10月
Figuring of Millimeter-Thick Elliptical Mirror Substrate Using Numerically Controlled Local Wet Etching With Low-Pressure Polishing

M.Nagano, F.Yamaga, N.Zettsu, D.Yamazaki, R.Maruyama, K.Soyama, K.Yamamura

Proceedings of 25th Annual Meeting of the American Society for Precision Engineering (ASPE), 21-24.　2010年10月
Fabrication of a single layer of polystyrene nanoparticle array, and their use as templates for NIR-light responsible metallodielectric plasmonic nanoshells

Shuhei Uchida, Kazuya Yamamura, Nobuyuki Zettsu

Proceedings of 63rd Gaseous Electronics Conference (GEC) and 7th International Conference on Reactive Plasmas(ICRP), DTP-068　2010年10月
Plasma assisted finishing of difficult-to-machine materials

Kazuya Yamamura

Proceedings of 2nd International Conference on Nanomanufacturing, nanaMan00189(Invited)　2010年9月
Thinning of 2-inch SiC wafer by plasma chemical vaporization machining

Y. Sano, T. Kato, K. Yamamura, H. Mimura, S. Matsuyama, K. Yamauchi

Abstract Booklet of the 8th European Conference on Silicon Carbide and Related Materials　Vol. TP-155　2010年8月
Beveling of Silicon Carbide Wafer by Plasma Etching Using Atmospheric-Pressure Plasma

Yasuhisa Sano, Takehiro Kato, Kazuya Yamamura, Hidekazu Mimura, Satoshi Matsuyama, Kazuto Yamauchi

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS　Vol. 49　No. 8　2010年8月
Dicing of SiC wafer by atmospheric-pressure plasma etching process with wire electrode

Yasuhisa Sano, Kohei Aida, Kazuya Yamamura, Hidekazu Mimura, Satoshi Matsuyama, Kazuto Yamauchi

2010年8月
Removal characteristics of plasma chemical vaporization machining with a pipe electrode for optical fabrication

Hideo Takino, Kazuya Yamamura, Yasuhisa Sano, Yuzo Mori

Appl. Opt. 49 (2010) 4434-4440.　Vol. 49　No. 23　p. 4434-4440　2010年8月
Removal characteristics of plasma chemical vaporization machining with a pipe electrode for optical fabrication

Hideo Takino, Kazuya Yamamura, Yasuhisa Sano, Yuzo Mori

APPLIED OPTICS　Vol. 49　No. 23　p. 4434-4440　2010年8月
Beveling of Silicon Carbide Wafer by Plasma Etching Using Atmospheric-Pressure Plasma

Yasuhisa Sano, Takehiro Kato, Kazuya Yamamura, Hidekazu Mimura, Satoshi Matsuyama, Kazuto Yamauchi

Japanese Journal of Applied Physics　Vol. 49　No. 8　2010年8月
Development of Atmospheric-Pressure-Plasma-Assisted High-efficient and High-integrity Machining Process of Difficult-to-Machine Materials

K. Yamamura, T. Takiguchi, N. Zettsu

Proceedings of 10th International Conference of the European Society for Precision Engineering and Nanotechnology　2010年6月
Fabrication of Ultraprecision Millimeter-thick Elliptical Neutron Focusing Mirror Substrate by Local Wet Etching

Fumiya Yamaga, Mikinori Nagano, Nobuyuki Zettsu, Dai Yamazaki, Ryuji Maruyama, Kazuhiko Soyama, Kazuya Yamamura

Key Engineering Materials, 447-448 (2010) 208-212.　Vol. 447-448　p. 208-+　2010年6月
Fabrication of Damage-free Curved Silicon Crystal Substrate for a Focusing X-ray Spectrometer by Plasma Chemical Vaporization Machining

Mao Hosoda, Kazuaki Ueda, Mikinori Nagano, Nobuyuki Zettsu, Shoichi Shimada, Kazuo Taniguchi, Kazuya Yamamura

Key Engineering Materials, 447-448 (2010) 213-217.　Vol. 447-448　p. 213-+　2010年6月
Effect of Substrate Heating in Thickness Correction of Quartz Crystal Wafer by Plasma Chemical Vaporization Machining

Masaki Ueda, Masafumi Shibahara, Nobuyuki Zettsu, Kazuya Yamamura

Key Engineering Materials, 447-448 (2010) 218-222.　Vol. 447-448　p. 218-+　2010年6月
大気圧プラズマによるエッチングを応用した種々の加工法とその特性

佐野泰久, 山村和也, 山内和人

光技術コンタクト　Vol. 第48巻第6号　2010年6月
Fabrication of damage-free Johansson-type doubly curved crystal spectrometer substrate by numerically controlled local wet etching

K. Yamamura, K. Ueda, M. Nagano, N. Zettsu, S. Maeo, S. Shimada, T. Utaka, K. Taniguchi

NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION A-ACCELERATORS SPECTROMETERS DETECTORS AND ASSOCIATED EQUIPMENT　Vol. 616　No. 2-3　p. 281-284　2010年5月
High-reflectivity (m=4) elliptical neutron focusing supermirror fabricated by numerically controlled local wet etching with ion beam sputter deposition

K. Yamamura, M. Nagano, N. Zettsu, D. Yamazaki, R. Maruyama, K. Soyama

NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION A-ACCELERATORS SPECTROMETERS DETECTORS AND ASSOCIATED EQUIPMENT　Vol. 616　No. 2-3　p. 193-196　2010年5月
プラズマCVMによる水晶ウエハの高精度ダメージフリー加工

山村和也

砥粒加工学会誌 Vol.54 (2010) 276-279.　Vol. 54　No. 5　p. 276-279　2010年5月
出版者・発行元：砥粒加工学会
Fabrication of discrete array of metallodielectric nanoshells and their surface plasmonic properties

Shuhei Uchida, Kazuya Yamamura, Nobuyuki Zettsu

THIN SOLID FILMS　Vol. 518　No. 13　p. 3581-3584　2010年4月
Atmospheric pressure plasma liquid deposition of copper nanoparticles on poly(4-vinylpyridine)-grafted-poly(tetrafluoroethylene) surface and their autocatalytic properties

Hiroki Akiyama, Nobuyuki Zettsu, Kazuya Yamamura

Thin Solid Films, 518 (2010) 3351-3354.　Vol. 518　No. 13　p. 3551-3554　2010年4月
Fabrication of discrete array of metallodielectric nanoshells and their surface plasmonic properties

Shuhei Uchida, Kazuya Yamamura, Nobuyuki Zettsu

Thin Solid Films, 518 (2010) 3581-3584.　Vol. 518　No. 13　p. 3581-3584　2010年4月
Atmospheric pressure plasma liquid deposition of copper nanoparticles on poly(4-vinylpyridine)-grafted-poly(tetrafluoroethylene) surface and their autocatalytic properties

Hiroki Akiyama, Nobuyuki Zettsu, Kazuya Yamamura

THIN SOLID FILMS　Vol. 518　No. 13　p. 3551-3554　2010年4月
Fabrication of 400 mm-long elliptical neutron focusing supermirror by local wet etching with ion beam sputter deposition

M. Nagano, F. Yamaga, N. Zettsu, D. Yamazaki, R. Maruyama, K. Soyama, K. Yamamura

2010年3月
Focusing Devices using Spheroidal Supermirrors

K. Soyama, D. Yamazaki, R. Maruyama, M. Nagano, F. Yamaga, N. Zettsu, K. Yamamura

2010年3月
Breaking the 10nm barrier in hard-X-ray focusing

H. Mimura, S. Handa, T. Kimura, H. Yumoto, D. Yamakawa, H. Yokoyama, S. Matsuyama, K. Inagaki, K. Yamamura, Y. Sano, K. Tamasaku, Y. Nishino, M. Yabashi, T. Ishikawa, K. Yamauchi

Nature Physics　Vol. 6　No. 2　p. 122-125　2010年2月
24pWZ-6 高精度楕円スーパーミラーによる白色中性子集光(II)(24pWZ X線・粒子線(中性子),領域10(誘電体格子欠陥,X線・粒子線フォノン))

山崎大, 丸山龍治, 林田洋寿, 曽山和彦, 永野幹典, 山家史也, 山村和也

日本物理学会講演概要集　Vol. 65　No. 0　p. 913-913　2010年
出版者・発行元：一般社団法人日本物理学会
PCVM (Plasma Chemical Vaporization Machining)を用いた2インチSiC基板の全面加工

会田浩平, 佐野泰久, 西川央明, 山村和也, 三村秀和, 松山智至, 山内和人

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2010　No. 0　p. 735-736　2010年
Crystal Growth Technology (Chapter 18; Crystal Machining Using Atmospheric Pressure Plasma)

WILEY-VCH　2010年
Fabrication of a single layer of polystyrene nanoparticle array, and their use as templates for NIR-light responsible metallodielectric plasmonic nanoshells

Proceedings of 63rd Gaseous Electronics Conference (GEC) and 7th International Conference on Reactive Plasmas(ICRP), DTP-068　2010年
Fabrication of Metallodielectric Plasmonic Nanoshell Arrays for A Label-Free Immunoassay Based on NIR-light Responsive LSPR

Extended Abstracts of Third International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology, P-12, 82-83.　Vol. P-12, 82-83.　2010年
Thinning of SiC wafer by plasma chemical vaporization machining

Yasuhisa Sano, Takehiro Kato, Tsutomu Hori, Kazuya Yamamura, Hidekazu Mimura, Yoshiaki Katsuyama, Kazuto Yamauchi

Material Science Forum, 645-648 (2010) 857-860.　Vol. 645-648　p. 857-+　2010年1月
Fabrication of plano-elliptical neutron focusing supermirror by numerically controlled local wet etching with ion beam sputter deposition

M. Nagano, H. Takai, D. Yamazaki, R. Maruyama, K. Soyama, K. Yamamura

INTERNATIONAL CONFERENCE ON NEUTRON SCATTERING 2009　Vol. 251　2010年
Focusing Devices using Spheroidal Supermirrors

2010年
プラズマCVMによる水晶ウエハの高精度ダメージフリー加工

砥粒加工学会誌 Vol.54 (2010) 276-279.　Vol. Vol.54, No.5 (2010) 276-279.　2010年
Fabrication of Damage-free Curved Silicon Crystal Substrate for a Focusing X-ray Spectrometer by Plasma Chemical Vaporization Machining

Mao Hosoda, Kazuaki Ueda, Mikinori Nagano, Nobuyuki Zettsu, Shoichi Shimada, Kazuo Taniguchi, Kazuya Yamamura

ADVANCED PRECISION ENGINEERING　Vol. 447-448　p. 213-+　2010年
Effect of Substrate Heating in Thickness Correction of Quartz Crystal Wafer by Plasma Chemical Vaporization Machining

Masaki Ueda, Masafumi Shibahara, Nobuyuki Zettsu, Kazuya Yamamura

ADVANCED PRECISION ENGINEERING　Vol. 447-448　p. 218-+　2010年
大気圧プラズマによるエッチングを応用した種々の加工法とその特性

光技術コンタクト　Vol. 第48巻第6号　2010年
Dicing of SiC wafer by atmospheric-pressure plasma etching process with wire electrode

2010年
Thinning of 2-inch SiC wafer by plasma chemical vaporization machining

Abstract Booklet of the 8th European Conference on Silicon Carbide and Related Materials　Vol. TP-155　2010年
Crystal Growth Technology (Chapter 18; Crystal Machining Using Atmospheric Pressure Plasma)

WILEY-VCH　2010年
Plasma assisted finishing of difficult-to-machine materials

Proceedings of 2nd International Conference on Nanomanufacturing, nanaMan00189(Invited)　2010年
Plasma Assisted Polishing of Reaction-Sintered Silicon Carbide

Proceedings of 25th Annual Meeting of the American Society for Precision Engineering (ASPE) 61-64.　2010年
Figuring of Millimeter-Thick Elliptical Mirror Substrate Using Numerically Controlled Local Wet Etching With Low-Pressure Polishing

Proceedings of 25th Annual Meeting of the American Society for Precision Engineering (ASPE), 21-24.　2010年
Surface Modification by Water Vapor Plasma for Damage-free Roughness Smoothing of 4H-SiC

proceedings of 63rd Gaseous Electronics Conference (GEC) and 7th International Conference on Reactive Plasmas(ICRP),DTP-067　2010年
Catalyst-free electroless Cu plating of fluoropolymer surface through an atmospheric pressure plasma assisted self-assembly

Proceedings of 63rd Gaseous Electronics Conference (GEC) and 7th International Conference on Reactive Plasmas(ICRP), DTP-069　2010年
Atmospheric pressure plasma liquid deposition of Cu nanoparticles onto P4VP-grafted-PTFE surface and their autocatalytic characteristics

Proceedings of 63rd Gaseous Electronics Conference (GEC) and 7th International Conference on Reactive Plasmas(ICRP), ET3-003　2010年
Fabrication of High-Precision Elliptical Neutron Focusing Supermirror with Large Clear Aperture

Extended Abstracts of Third International Symposium on Atomically Controlled Fabrication, P-11, 80-81.　Vol. P-11, 80-81.　2010年
Shape Control Synthesis of QDs with Chemical Composition Gradients for Light Emitting Devices

Extended Abstracts of Third International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology, P-32, 122-123.　Vol. P-32, 122-123.　2010年
Atmospheric Pressure Plasma Liquid Deposition of Copper Nanoparticles onto Poly(4-vinylpyrdine)-grafted-poly (tetrafluoroethylente) Surface

Extended Abstracts of Third International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology, P-57, 172-173.　Vol. P-57, 172-173.　2010年
Machining Properties of Reaction-Sintered Silicon Carbide by Plasma Assisted Machining

Extended Abstracts of Third International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology, P-65, 188-189.　Vol. P-65, 188-189.　2010年
Thinning of SiC Wafer by Plasma Chemical Vaporization Machining

Extended Abstracts of Third International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology, P-66, 190-191.　Vol. P-66, 190-191.　2010年
Figuring of Damage-Free Cylindrical Silicon Crystal Substrate for a Focusing X-ray Spectrometer by Plasma Chemical Vaporization Machining

Extended Abstracts of Third International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology, P-7, 72-73.　Vol. P-7, 72-73.　2010年
Development of Chemical Processing Methods for Silicon Carbide Wafering and Device Processing

Extended Abstracts of Third International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology, 6.2, 54-55.　Vol. 6.2, 54-55.　2010年
Fabrication of Shape Controlled Metal Nanodot Arrays by Autonomous Liquid-phase Nanoscale Processing as well as Their Charge Injection Characteritics for Floating Nanodot Gate Memory

Extended Abstracts of Third International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology, 4.4, 42-43.　Vol. 4.4, 42-43.　2010年
Fabrication of Ultraprecision Millimeter-thick Neutron Focusing Supermirror by Numerically Controlled Local Wet Etching and Low-pressure Polishing

Extended Abstracts of Third International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology, P-3, 64-65.　Vol. P-3, 64-65.　2010年
Neutron beam focusing using large-m supermirrors coated on precisely-figured aspheric surfaces

D. Yamazaki, R. Maruyama, K. Soyama, H. Takai, M. Nagano, K. Yamamura

INTERNATIONAL CONFERENCE ON NEUTRON SCATTERING 2009　Vol. 251　2010年
Thinning of SiC wafer by plasma chemical vaporization machining

Yasuhisa Sano, Takehiro Kato, Tsutomu Hori, Kazuya Yamamura, Hidekazu Mimura, Yoshiaki Katsuyama, Kazuto Yamauchi

SILICON CARBIDE AND RELATED MATERIALS 2009, PTS 1 AND 2　Vol. 645-648　p. 857-+　2010年
Development of Atmospheric-Pressure-Plasma-Assisted High-efficient and High-integrity Machining Process of Difficult-to-Machine Materials

Proceedings of 10th International Conference of the European Society for Precision Engineering and Nanotechnology　2010年
Fabrication of Ultraprecision Millimeter-thick Elliptical Neutron Focusing Mirror Substrate by Local Wet Etching

Fumiya Yamaga, Mikinori Nagano, Nobuyuki Zettsu, Dai Yamazaki, Ryuji Maruyama, Kazuhiko Soyama, Kazuya Yamamura

ADVANCED PRECISION ENGINEERING　Vol. 447-448　p. 208-+　2010年
High-precision finishing of AT-cut quartz crystal wafer by plasma chemical vaporization machining

M. Ueda, M. Nagano, N. Zettsu, M. Shibahara, K. Yamamura

3rd International Conference of Asian Society for Precision Engineering and Nanotechnology　Vol. 1P2-6　2009年11月
Improvement of Thickness Uniformity of SOI Layer by Numerically Controlled Local Wet Etching

K. Ueda, M. Hosoda, M. Nagano, N. Zettsu, K. Yamamura

3rd International Conference of Asian Society for Precision Engineering and Nanotechnology　Vol. 2C-12　2009年11月
Dicing of SiC Wafer by Plasma Chemical Vaporization Machining with Wire Electrode

K. Aida, Y. Sano, K. Yamamura, H. Mimura, S. Matsuyama, K. Yamauchi

Second International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology　Vol. pp. 188-189.　2009年11月
Improvement of thickness uniformity of thick-SOI by numerically controlled local wet etching

K. Ueda, M. Hosoda, M. Nagano, N. Zettsu, K. Yamamura

Second International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology　Vol. pp. 180-181.　2009年11月
High-precision correction of thickness distribution of AT-cut quartz crystal wafer by pulse-modulated atmospheric pressure plasma etching

M. Ueda, M. Nagano, N. Zettsu, M. Shibahara, K. Yamamura

Second International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology　Vol. pp. 178-179.　2009年11月
Fabrication of non-close packed periodic polymer nanoparticle arrays controllable their structural parameters

S. Uchida, N. Zettsu, K. Yamamura

3rd International Conference of Asian Society for Precision Engineering and Nanotechnology　Vol. 2C-14　2009年11月
Atmospheric pressure plasma liquid deposition of copper nanoparticles on poly(4-vinylpyridine)-grafted-poly(tetrafluoroethylene) surface and their autocatalytic properties

H. Akiyama, K. Yamamura, N. Zettsu

Second International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology　Vol. pp. 176-177.　2009年11月
Fabrication of high-precision elliptical mirror substrate for neutron focusing by numerically controlled local wet etching

M. Nagano, F. Yamaga, Y. Yamamoto, N. Zettsu, D. Yamazaki, R. Maruyama, K. Soyama, K. Yamamura

Second International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology　Vol. pp. 182-183　2009年11月
Fabrication of discrete array of metallodielectric nanoshells controllable their surface plasmonic properties

S. Uchida, K. Yamamura, N. Zettsu

Second International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology　Vol. pp. 186-187.　2009年11月
Fabrication of thin plano-elliptical neutron focusing mirror substrate by numerically controlled local wet etching

M. Nagano, F. Yamaga, Y. Yamamoto, N. Zettsu, D.Yamazaki, R. Maruyama, K. Soyama, K. Yamamura

3rd International Conference of Asian Society for Precision Engineering and Nanotechnology　2009年11月
Thinning of SiC wafer by plasma chemical vaporization machining

Y. Sano, T. Kato, T. Hori, K. Yamamura, H. Mimura, Y. Katsuyama, K. Yamauchi

Technical Digest of International Conference on Silicon Carbide and Related Materials 2009　Vol. II-108　2009年10月
Fabrication of Damage-Free Johansson-Type Doubly Curved Crystal Spectrometer Substrate by Numerically Controlled Local Wet Etching

K. Ueda, M. Nagano, N. Zettsu, S. Maeo, S. Shimada, T. Utaka, K. Taniguchi, K. Yamamura

Vol. pp.46-47　2009年9月
High-reflectivity (m=4) elliptical neutron focusing supermirror fabricated by numerically controlled local wet etching with ion beam sputter deposition

M. Nagano, N. Zettsu, D. Yamazaki, R. Maruyama, K. Soyama, K. Yamamura

2009年9月
Beveling of Silicon Carbide Wafer by Plasma Etching Using Atmospheric-Pressure Plasma

Y. Sano, T. Kato, K. Yamamura, H. Mimura, S. Matsuyama, K. Yamauchi

Proceedings of 31st International Symposium on Dry Process　Vol. 215-216　2009年9月
Novel Scheme of Figure-Error Correction for X-ray Nanofocusing Mirror

Soichiro Handa, Hidekazu Mimura, Hirokatsu Yumoto, Takashi Kimura, Satoshi Matsuyama, Yasuhisa Sano, Kazuya Yamamura, Kenji Tamasaku, Yoshinori Nishino, Makina Yabashi, Tetsuya Ishikawa, Kazuto Yamauchi

Japanese Journal of Applied Physics, 48 (2009) 096507-1_4.　Vol. 48　No. 9　2009年9月
27pYK-7 高精度楕円スーパーミラーによる白色中性子集光(X線・粒子線(中性子),領域10,誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性)

山崎大, 丸山龍治, 曽山和彦, 永野幹典, 山村和也

日本物理学会講演概要集　Vol. 64　No. 2　p. 882-882　2009年8月18日
出版者・発行元：一般社団法人日本物理学会
Fabrication of High-Precision Curved Crystal Substrate for Johansson-Type Doubly Curved Crystal by Numerically Controlled Local Wet Etching

K. Yamamura, K. Ueda, M. Nagano, N. Zettsu, S. Maeo, S. Shimada, T. Utaka, K. Taniguchi

Book of Abstracts, P52.　Vol. Book of Abstracts, P52.　2009年7月
High Efficient Damage-Free Correction of Thickness Distribution of Quartz Crystal Wafer by Atmospheric Pressure Plasma Etching

Kazuya yamamura, Tetsuya Morikawa, Masaki Ueda, Mikinori nagano, Nobuyuki Zettsu, Masafumi Shibahara

IEEE Trans. Ultrason. Ferroelectr. Freq. Contro, Vol.56 (2009) pp.1128-1130.　Vol. 56　No. 6　p. 1128-1130　2009年6月
Highly Efficient Damage-Free Correction of Thickness Distribution of Quartz Crystal Wafers by Atmospheric Pressure Plasma Etching

Kazuya Yamamura, Tetsuya Morikawa, Masaki Ueda, Mikinori Nagano, Nobuyuki Zettsu, Masafumi Shibahara

IEEE TRANSACTIONS ON ULTRASONICS FERROELECTRICS AND FREQUENCY CONTROL　Vol. 56　No. 6　p. 1128-1130　2009年6月
Two-stage figuring using numerically controlled local wet etching for high-efficiency fabrication of plano-aspherical mirror

K. Yamamura, M. Nagano, H. Takai, D. Yamazaki, R. Maruyama, K. Soyama

Proceedings of 9th International Conference of the European Society for Precision Engineering and Nanotechnology　Vol. pp. 30-33.　2009年6月
Figuring of plano-elliptical neutron focusing mirror by local wet etching

Kazuya Yamamura, Mikinori Nagano, Hiroyuki Takai, Nobuyuki Zettsu, Dai Yamazaki, Ryuji Maruyama, Kazuhiko Soyama, Shoichi Shimada

OPTICS EXPRESS　Vol. 17　No. 8　p. 6414-6420　2009年4月
Figuring of plano-elliptical neutron focusing mirror by local wet etching

Kazuya Yamamura, Mikinori Nagano, Hiroyuki Takai, Nobuyuki Zettsu, Dai Yamazaki, Ryuji Maruyama, Kazuhiko Soyama, Shoichi Shimada

Optics Express　Vol. 17　No. 8　p. 6414-6420　2009年4月
Improvement of Thickness Uniformity of Bulk Silicon Wafer by Numerically Controlled Local Wet Etching

Mikinori Nagano, Takuro Mitani, Kazuaki Ueda, Nobuyuki Zettsu, Kazuya Yamamura

Jounal of Crystal Growth Vol.311(2009)pp.2560-2563.　Vol. 407-408　p. 372-375　2009年4月
30pRE-10 高精度非球面基板上の高性能中性子スーパーミラーによる中性子集光と斜入射小角散乱(30pRE X線・粒子線(中性子),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性))

山崎大, 丸山龍治, 曽山和彦, 高井宏之, 永野幹典, 山村和也

日本物理学会講演概要集　Vol. 64　No. 1　p. 983-983　2009年3月3日
出版者・発行元：一般社団法人日本物理学会
Etching of GaN by plasma chemical vaporization machining

Yasuji Nakahama, Norio Kanetsuki, Takeshi Funaki, Masaru Kadono, Yasuhisa Sano, Kazuya Yamamura, Katsuyoshi Endo, Yuzo Mori

2009年3月
Beveling of Silison Carbide Wafer by Plasma Chemical Vaporization Machining

Takehiro Kato, Yasuhisa Sano, Hideyuki Hara, Hidekazu Mimura, Kazuya Yamamura, Kazuto Yamauchi

Materials Science Forum　Vol. Vols. 600-603, pp 843-846　2009年2月
Development of the holizonatl drive controlled nano-coater for making single layer of densely-packed polymeric nanoparticle arrays

K. Manabe, K. Yamamura, N. Zettsu

First International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology -Surface and Thin Film Processing -　Vol. P3.5, pp.128-129.　2009年2月
Surface metallization of PTFE substrate through atmospheric pressure plasma liquid deposition approach

H. Akiyama, N. Zettsu, K. Yamamura

First International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology -Surface and Thin Film Processing -　Vol. P3.2, pp.122-123.　2009年2月
Figuring of plano-elliptical hard X-ray focusing mirror by 1-dimensional numerically controlled local wet etching, First International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology -Surface and Thin Film Processing -

M. Nagano, H. Takai, N. Zettsu, K. Yamamura

First International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology -Surface and Thin Film Processing -　2009年2月
Improvement of thickness distribution of bulk silicon wafer and SOI by numerically controlled local wet etching

T. Mitani, M. Nagano, K. Ueda, N. Zettsu, K. Yamamura

First International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology -Surface and Thin Film Processing -　Vol. P2.17, pp.88-89.　2009年2月
Development of plano-elliptical neutron focusing supermirror by numerically controlled local wet etching, First International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology -Surface and Thin Film Processing -

M. Nagano, H. Takai, N. Zettsu, D. Yamazaki, R. Maruyama, K. Soyama, K. Yamamura

First International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology -Surface and Thin Film Processing -　Vol. P2.18, pp.90-91.　2009年2月
Temperature Dependence of Plasma Chemical Vaporization Machining of Silicon and Silicon Carbide

Yasuhisa Sano, Masayo Watanabe, Takehiro Kato, Kazuya Yamamura, Hidekazu Mimura, Kazuto Yamauchi

Materials Science Forum　Vol. Vols. 600-603, pp 847-850　2009年2月
Development of Johansson-type doubly-curved-crystal by numerically controlled local wet etching

K. Ueda, M. Nagano, N. Zettsu, S. Maeo, S. Shimada, T. Udaka, K. Taniguchi, K. Yamamura

First International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology -Surface and Thin Film Processing -　Vol. P2.20, pp.94-95.　2009年2月
Novel scheme of figure-error correction for X-ray nanofocusing mirror

Soichiro Handa, Hidekazu Mimura, Hirokatsu Yumoto, Takashi Kimura, Satoshi Matsuyama, Yasuhisa Sano, Kazuya Yamamura, Kenji Tamasaku, Yoshinori Nishino, Makina Yabashi, Tetsuya Ishikawa, Kazuto Yamauchi

Japanese Journal of Applied Physics　Vol. 48　No. 9　p. 0965071-0965074　2009年
大気圧プラズマ基礎と応用 6.7.5 マイクロ／ナノ加工日本学術振興会プラズマ材料科学第153委員会

オーム社　Vol. 6.7.5 マイクロ　No. ナノ加工(p.357-362)　2009年
次世代パワー半導体－省エネルギー社会に向けたデバイス開発の最前線－第1章第1節2 PCVMを用いたSiC基板の薄化

(株)エヌ・ティー・エス　Vol. pp. 57-66　2009年
Fabrication of discrete array of metallodielectric nanoshells controllable their surface plasmonic properties

Second International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology　Vol. pp. 186-187.　2009年
Fabrication of thin plano-elliptical neutron focusing mirror substrate by numerically controlled local wet etching

3rd International Conference of Asian Society for Precision Engineering and Nanotechnology　2009年
ローカルウエットエッチング法による超精密非接触加工

山村和也

月刊ディスプレイ Vol. 15, No. 1(2009) pp. 40-44.　Vol. Vol. 15, No. 1(2009) pp. 40-44.　2009年1月
Temperature Dependence of Plasma Chemical Vaporization Machining of Silicon and Silicon Carbide

Yasuhisa Sano, Masayo Watanabe, Takehiro Kato, Kazuya Yamamura, Hidekazu Mimura, Kazuto Yamauchi

SILICON CARBIDE AND RELATED MATERIALS 2007, PTS 1 AND 2　Vol. 600-603　p. 847-+　2009年
Development of Johansson-type doubly-curved-crystal by numerically controlled local wet etching

First International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology -Surface and Thin Film Processing -　Vol. P2.20, pp.94-95.　2009年
Two-stage figuring using numerically controlled local wet etching for high-efficiency fabrication of plano-aspherical mirror

Proceedings of 9th International Conference of the European Society for Precision Engineering and Nanotechnology　Vol. pp. 30-33.　2009年
Improvement of Thickness Uniformity of Bulk Silicon Wafer by Numerically Controlled Local Wet Etching

Kazuya Yamamura, Takuro Mitani, Kazuaki Ueda, Mikinori Nagano, Nobuyuki Zettsu

PROGRESS OF MACHINING TECHNOLOGY　Vol. 407-408　p. 372-375　2009年
Beveling of Silicon Carbide Wafer by Plasma Etching Using Atmospheric-Pressure Plasma

Proceedings of 31st International Symposium on Dry Process　Vol. 215-216　2009年
Fabrication of Damage-Free Johansson-Type Doubly Curved Crystal Spectrometer Substrate by Numerically Controlled Local Wet Etching

Vol. pp.46-47　2009年
High-reflectivity (m=4) elliptical neutron focusing supermirror fabricated by numerically controlled local wet etching with ion beam sputter deposition

2009年
Thinning of SiC wafer by plasma chemical vaporization machining

Technical Digest of International Conference on Silicon Carbide and Related Materials 2009　Vol. II-108　2009年
High-precision finishing of AT-cut quartz crystal wafer by plasma chemical vaporization machining

3rd International Conference of Asian Society for Precision Engineering and Nanotechnology　Vol. 1P2-6　2009年
Improvement of Thickness Uniformity of SOI Layer by Numerically Controlled Local Wet Etching

3rd International Conference of Asian Society for Precision Engineering and Nanotechnology　Vol. 2C-12　2009年
Dicing of SiC Wafer by Plasma Chemical Vaporization Machining with Wire Electrode

Second International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology　Vol. pp. 188-189.　2009年
Improvement of thickness uniformity of thick-SOI by numerically controlled local wet etching

Second International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology　Vol. pp. 180-181.　2009年
High-precision correction of thickness distribution of AT-cut quartz crystal wafer by pulse-modulated atmospheric pressure plasma etching

Second International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology　Vol. pp. 178-179.　2009年
Fabrication of non-close packed periodic polymer nanoparticle arrays controllable their structural parameters

3rd International Conference of Asian Society for Precision Engineering and Nanotechnology　Vol. 2C-14　2009年
Atmospheric pressure plasma liquid deposition of copper nanoparticles on poly(4-vinylpyridine)-grafted-poly(tetrafluoroethylene) surface and their autocatalytic properties

Second International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology　Vol. pp. 176-177.　2009年
Fabrication of high-precision elliptical mirror substrate for neutron focusing by numerically controlled local wet etching

Second International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology　Vol. pp. 182-183　2009年
Beveling of Silicon Carbide Wafer by Plasma Chemical Vaporization Machining

Takehiro Kato, Yasuhisa Sano, Hideyuki Hara, Hidekazu Mimura, Kazuya Yamamura, Kazuto Yamauchi

SILICON CARBIDE AND RELATED MATERIALS 2007, PTS 1 AND 2　Vol. 600-603　p. 843-846　2009年
Development of the holizonatl drive controlled nano-coater for making single layer of densely-packed polymeric nanoparticle arrays

First International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology -Surface and Thin Film Processing -　Vol. P3.5, pp.128-129.　2009年
Surface metallization of PTFE substrate through atmospheric pressure plasma liquid deposition approach

First International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology -Surface and Thin Film Processing -　Vol. P3.2, pp.122-123.　2009年
Figuring of plano-elliptical hard X-ray focusing mirror by 1-dimensional numerically controlled local wet etching, First International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology -Surface and Thin Film Processing -

P2.19, pp.92-93.　2009年
Development of plano-elliptical neutron focusing supermirror by numerically controlled local wet etching, First International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology -Surface and Thin Film Processing -

First International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology -Surface and Thin Film Processing -　Vol. P2.18, pp.90-91.　2009年
Improvement of Thickness Uniformity of Bulk Silicon Wafer by Numerically Controlled Local Wet Etching

Kazuya Yamamura, Takuro Mitani, Kazuaki Ueda, Mikinori Nagano, Nobuyuki Zettsu

PROGRESS OF MACHINING TECHNOLOGY　Vol. 407-408　p. 372-375　2009年
High-Efficient Damage-Free Correction of the Thickness Distribution of Quartz Crystal Wafer Using Open-Air Type Plasma CVM

Kazuya Yamamura, Tetsuya Morikawa, Masaki Ueda

PROGRESS OF MACHINING TECHNOLOGY　Vol. 407-408　p. 343-346　2009年
Figuring of Elliptical Neutron Focusing Mirror Using Numerically Controlled Local Wet Etching

Mikinori Nagano, Hiroyuki Takai, Kazuya Yamamura, Dai Yamazaki, Ryuji Maruyama, Kazuhiko Soyama

PROGRESS OF MACHINING TECHNOLOGY　Vol. 407-408　p. 376-+　2009年
Improvement of thickness distribution of bulk silicon wafer and SOI by numerically controlled local wet etching

First International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology -Surface and Thin Film Processing -　Vol. P2.17, pp.88-89.　2009年
Etching of GaN by plasma chemical vaporization machining

2009年
Etching characteristics of GaN by plasma chemical vaporization machining

Yasuji Nakahama, Norio Kanetsuki, Takeshi Funaki, Masaru Kadono, Yasuhisa Sano, Kazuya Yamamura, Katsuyoshi Endo

Surf. Interface Anal.　Vol. 40　No. 12　p. 1566-1570　2008年12月
Etching characteristics of GaN by plasma chemical vaporization machining

Yasuji Nakahama, Norio Kanetsuki, Takeshi Funaki, Masaru Kadono, Yasuhisa Sano, Kazuya Yamamura, Katsuyoshi Endo, Yuzo Mori

SURFACE AND INTERFACE ANALYSIS　Vol. 40　No. 12　p. 1566-1570　2008年12月
Plasma Chemical Vaporization Machining and Elastic Emission Machining

Yasuhisa Sano, Kazuya Yamamura, Hidekazu Mimura, Kazuto Yamauchi, Yuzo Mori

Crystal Growth Technology: From Fundamentals and Simulation to Large-scale Production　p. 475-495　2008年11月25日
出版者・発行元：Wiley-VCH Verlag GmbH & Co. KGaA
Improvement of Thickness Uniformity of Silicon and SOI Wafer by Numerically Controlled Local Wet Etching

Kazuya Yamamura, Takuro Mitani, Nobuyuki Zettsu

Proceedings of 23rd ASPE Annual Meeting and 12th ICPE　Vol. Proceedings of 23rd ASPE Annual Meeting and 12th ICPE, pp.538-541.　2008年10月
The Disecrete Polystylene-Gold Core-Shell Nanoparticles Array And Their Surface Plasmonic Properties

Nobuyuki Zettsu, Shuhei Uchida, Kazuya Yamamura

Proceedings of 23rd ASPE Annual Meeting and 12th ICPE　Vol. Proceedings of 23rd ASPE Annual Meeting and 12th ICPE, pp. 500-501.　2008年10月
光医療用ナノ粒子造影剤の開発~銀ナノキューブダイマーの合成とプラズモニック特性~

内田修平, 三谷宗久, 山村和也, 遠藤勝義, 是津信行, 市村垂生, 田口敦清, 河田聡

応用物理学会学術講演会講演予稿集　Vol. 69th　No. 3　2008年9月2日
Neutron-Beam Focusing with a Large-m Supermirror on a High-Precision Ellipsoidal Surface

D. Yamazaki, R. Maruyama, K. Soyama, H. Takai, K. Yamamura

2008年9月
Surface functionalization of PTFE sheet through atmospheric pressure plasma liquid deposition approach

Nobuyuki Zettsu, Hiroto Itoh, Kazuya Yamamura

SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY　Vol. 202　No. 22-23　p. 5284-5288　2008年8月
Plasma-chemical surface functionalization of flexible substrates at atmospheric pressure

Nobuyuki Zettsu, Hiroto Itoh, Kazuya Yamamura

THIN SOLID FILMS　Vol. 516　No. 19　p. 6683-6687　2008年8月
Surface functionalization of PTFE sheet through atmospheric pressure plasma liquid deposition approach

Nobuyuki Zettsu, Hiroto Itoh, Kazuya Yamamura

Surface & Coatings Technology, Vol.202 (2008) pp.5284-5288.　Vol. 202　No. 22-23　p. 5284-5288　2008年8月
Uniformalization of AT cut quartz crystal wafer thickness using open-air type plasma CVM process

Kazuya Yamamura, Tetsuya Morikawa, Masafumi Shibahara, Nobuyuki Zettsua, Yuzo Moria

SURFACE AND INTERFACE ANALYSIS　Vol. 40　No. 6-7　p. 1007-1010　2008年6月
Etching characteristics of local wet etching of silicon in HF/HNO3 mixtures

Kazuya Yamamura, Takuro Mitani

SURFACE AND INTERFACE ANALYSIS　Vol. 40　No. 6-7　p. 1011-1013　2008年6月
Figuring of elliptical hard X-ray focusing mirror using 1-dimensional numerically controlled local wet etching

Kazuya Yamamura, Hiroyuki Takai

SURFACE AND INTERFACE ANALYSIS　Vol. 40　No. 6-7　p. 1014-1018　2008年6月
Figuring of elliptical hard X-ray focusing mirror using 1-dimensional numerically controlled local wet etching

Kazuya Yamamura, Hiroyuki Takai

Surface and Interface Analysis, Vol.40, 2008, pp.1014-1018　Vol. 40　No. 6-7　p. 1014-1018　2008年6月
Uniformalization of AT cut quartz crystal wafer thickness using open-air type plasma CVM process

Kazuya Yamamura, Tetsuya Morikawa, Masafumi Shibahara, Nobuyuki Zettsu, Yuzo Mori

Surface and Interface Analysis　Vol. 40　No. 6-7　p. 1007-1010　2008年6月
Etching characteristics of local wet etching of silicon in HF/HNO3 mixtures

Kazuya Yamamura, Takuro Mitani

Surface and Interface Analysis　Vol. 40　No. 6-7　p. 1011-1013　2008年6月
Plasma-chemical surface functionalization of flexible substrates at atmospheric pressure

Nobuyuki Zettsu, Hiroto Itoh, Kazuya Yamamura

Thin Solid Films, 516 (2008) 6683-6687.　Vol. 516　No. 19　p. 6683-6687　2008年6月
Figuring of ultraprecision aspherical focusing mirror using numerically controlled local wet etching

K. Yamamura, H. Takai

International Conference of the European Society for Precision Engineering and Nanotechnology　Vol. 448-451.　2008年5月
Crystal machining using atmospheric pressure plasma

Y. Sano, K. Yamamura, K. Yamauchi, Y. Mori

Book of Lecture Notes, 4th International Workshop on Crystal Growth Technology　Vol. 47　2008年5月
Damage-free improvement of thickness uniformity of quartz crystal wafer by plasma chemical vaporization machining

K. Yamamura, S. Shimada, Y. Mori

Annals of the CIRP, Vol.57 (2008) 567-570.　Vol. 57　No. 1　p. 567-570　2008年5月
Crystal Growth Technology (Plasma Chemical Vaporization Machining and Elastic Emission Machining)

Wiley-VCH　2008年
Neutron-Beam Focusing with a Large-m Supermirror on a High-Precision Ellipsoidal Surface

2008年
ウエットエッチングのメカニズムと処理パラメータの最適化,第1章第10節ローカルウエットエッチング法による光学素子の高精度加工

サイエンス&テクノロジー　Vol. 第1章第10節 pp. 139-153.　2008年
The Disecrete Polystylene-Gold Core-Shell Nanoparticles Array And Their Surface Plasmonic Properties

Proceedings of 23rd ASPE Annual Meeting and 12th ICPE　Vol. Proceedings of 23rd ASPE Annual Meeting and 12th ICPE, pp. 500-501.　2008年
Improvement of Thickness Uniformity of Silicon and SOI Wafer by Numerically Controlled Local Wet Etching

Proceedings of 23rd ASPE Annual Meeting and 12th ICPE　Vol. Proceedings of 23rd ASPE Annual Meeting and 12th ICPE, pp.538-541.　2008年
Crystal machining using atmospheric pressure plasma

Book of Lecture Notes, 4th International Workshop on Crystal Growth Technology　Vol. 47　2008年
Figuring of ultraprecision aspherical focusing mirror using numerically controlled local wet etching

International Conference of the European Society for Precision Engineering and Nanotechnology　Vol. 448-451.　2008年
Damage-free improvement of thickness uniformity of quartz crystal wafer by plasma chemical vaporization machining

K. Yamamura, S. Shimada, Y. Mori

CIRP ANNALS-MANUFACTURING TECHNOLOGY　Vol. 57　No. 1　p. 567-570　2008年
Facile Fabrication and Near-Infrared Localized Surface Plasmon Resonance Properties of Two-dimensional PS@Au Core/Shell Nanoparticle Arrays, and Their Use as a Ultra-sensitive Bio-sensors

Shuhei Uchida, Kazuya Yamamura, Katsuyoshi Endo, Nobuyuki Zettsu

MRS 2007 Fall Meeting　2007年11月
Figuring of Elliptical Hard X-ray Focusing Mirror Using Numerically Controlled Local Wet Etching

Hiroyuki Takai, Kazuya Yamamura

Asian Symposium for Precision Engineering and Nanotechnology 2007　Vol. pp. 244-247.　2007年11月
Improvement of Thickness Distribution of SOI Using Numerically Controlled Local Wet Etching

Takuro Mitani, Kazuya Yamamura

Asian Symposium for Precision Engineering and Nanotechnology 2007　Vol. pp. 241-243.　2007年11月
Etching characteristics of AT cut quartz crystal in open-air type plasma CVM process

K. Ueno, Y. Oshikane, M. Shibahara, K. Yamamura

29th International Symposium on Dry Process　Vol. pp. 273-274.　2007年11月
Improvement of Thickness Distribution of AT Cut Quartz Crystal Wafer Using Open-Air Type Numerically Controlled Plasma Chemical Vaporization Machining

Tetsuya Morikawa, Kazuya Yamamura, Masafumi Shibahara, Yuzo Mori

Asian Symposium for Precision Engineering and Nanotechnology 2007　Vol. pp. 248-251.　2007年11月
Figuring of Elliptical Hard X-ray Focusing Mirror Using Numerically Controlled Local Wet Etching

H. Takai, K. Yamamura

International 21st Century COE Symposium on Atomistic Fabrication Technology 2007　Vol. International 21st Century COE Symposium on Atomistic Fabrication Technology 2007, pp. 12.　2007年10月
Improvement of Thickness Distribution of SOI Using Numerically Controlled Local Wet Etching

T. Mitani, K. Yamamura

International 21st Century COE Symposium on Atomistic Fabrication Technology 2007　Vol. International 21st Century COE Symposium on Atomistic Fabrication Technology 2007, pp. 13.　2007年10月
Uniformation of AT Cut Quartz Crystal Wafer Using Open-Air Type Numerically Controlled Plasma CVM Process

T. Morikawa, M. Shibahara, N. Zettsu, Y. Mori, K. Yamamura

International 21st Century COE Symposium on Atomistic Fabrication Technology 2007　Vol. International 21st Century COE Symposium on Atomistic Fabrication Technology 2007, pp 14.　2007年10月
Effect of pulse modulated operation on etching characteristics of AT cut quartz crystal in open-air type plasma CVM process

Kohji Ueno, Yasushi Oshikane, Masafumi Shibahara, Nobuyuki Zettsu, Kazuya Yamamura

International 21st Century COE Symposium on Atomistic Fabrication Technology 2007　Vol. International 21st Century COE Symposium on Atomistic Fabrication Technology 2007, pp. 15.　2007年10月
Machining of GaN by Plasma CVM (Chemical Vaporization Machining)

Y. Nakahama, N. Kanetsuki, T. Funaki, M. Kadono, Y. Sano, K. Yamamura, K. Endo, Y. Mori

International 21st Century COE Symposium on Atomistic Fabrication Technology 2007　Vol. International 21st Century COE Symposium on Atomistic Fabrication Technology 2007, pp 18.　2007年10月
Sensing Characterization of NIR-Localized Surface Plasmon Resonances in PS@Au core-shell nanoparticle array for Application as Ultra-sensitive Sensors

Shuhei Uchida, Kazuya Yamamura, Katsuyoshi Endo, Nobuyuki Zettsu

International 21st Century COE Symposium on Atomistic Fabrication Technology 2007　Vol. International 21st Century COE Symposium on Atomistic Fabrication Technology 2007, pp. 36.　2007年10月
Beveling of Silicon Carbide Wafer by Plasma Chemical Vaporization Machining

Takehiro Kato, Yasuhisa Sano, Hideyuki Hara, Hidekazu Mimura, Kazuya Yamamura, Kazuto Yamauchi

International Conference on Silicon Carbide and Related Materials 2007 Technical Digest　Vol. We-98　2007年10月
Temperature Dependence of Plasma Chemical Vaporization Machining of Silicon and Silicon Carbide

Y. Sano, M. Watanabe, T. Kato, K. Yamamura, H. Mimura, K. Yamauchi

International Conference on Silicon Carbide and Related Materials 2007 Technical Digest　Vol. Mo-P-55　2007年10月
Surface Functionalization of PTFE Sheet through Atmospheric Pressure Plasma Liquid Deposition Approach

N. Zettsu, H. Itoh, K. Yamamura

6th Asian-European International Conference on Plasma Surface Engineering　Vol. pp. 307.　2007年9月
超高精度ミラーによる硬X線ナノビーム形成とその応用

三村秀和, 松山智至, 湯本博勝, 半田宗一郎, 片岸恵子, 木村隆志, 佐野泰久, 山村和也, 稲垣耕司, 玉作賢治, 西野吉則, 矢橋牧名, 石川哲也, 山内和人

日本物理学会講演概要集　Vol. 62　No. 2　2007年8月21日
Polishing Characteristics of 4H-SiC Si-Face and C-Face by Plasma Chemical Vaporization Machining

Yasuhisa Sano, Masayo Watanabe, Kazuya Yamamura, Kazuto Yamauchi, Takeshi Ishida, Kenta Arima, Akihisa Kubota, Yuzo Mori

Materials Science Forum　2007年8月
Fabrication of ultrathin and highly uniform silicon on insulator by numerically controlled plasma chemical vaporization machining

Yasuhisa Sano, Kazuya Yamamura, Hidekazu Mimura, Kazuto Yamauchi, Yuzo Mori

Rev. Sci. Instrum　Vol. 78　No. 8　2007年8月
Measurement of rotational and vibrational temperature of gas molecules in the CVM plasma by using spatial resolved optical emission spectrometry

Kohji Ueno, Yasushi Oshikane, Yasuhisa Sano, Kazuya Yamamura

18th International Symposium on Plasma Chemistry　Vol. pp. 166.　2007年8月
Atomspheric Pressure-Glow Plasma Induced Surface Functionalization of Flexible Substrate

H. Itoh, N. Zettsu, M. Shibahara, K. Yamamura

18th International Symposium on Plasma Chemistry　Vol. pp. 186.　2007年8月
Plasma chemical surface functionalization of PTFE sheet through atmospheric pressure plasma liquid deposition approach

N. Zettsu, H. Itoh, K. Yamamura

XXVIII International Conference on Phenomena in Ionized Gases　Vol. XXVIII International Conference on Phenomena in Ionized Gases, p. 757-760.　2007年7月
Unifomalization of thr AT cut quartz crystal wafer using maskless localized atmospheric pressure plasma etching process

K. Yamamura, Y. Yamamoto, T. Morikawa, M. Shibahara, Y. Mori

XXVIII International Conference on Phenomena in Ionized Gases　Vol. XXVIII International Conference on Phenomena in Ionized Gases. p. 735-736.　2007年7月
大気圧プラズマ処理によるポリテトラフルオロエチレンの表面改質

柴原正文, 赤松正守, 神崎仁, 山村和也

表面技術誌,Vol.58, No.7, pp.420-424.　Vol. Vol.58, No.7, pp.420-424.　2007年7月
Fabrication of Ultra Precision Optics by Numerically Controlled Local Wet Etching

Kazuya Yamamura

Annals of the CIRP, Vol. 56, pp.541-544.　Vol. 56　No. 1　p. 541-544　2007年7月
Plasmachemical Surface Functionalization of Flexible Substrates at Atmospheric Pressure

Nobuyuki Zettsu, Hiroto Itoh, Kazuya Yamamura

The 20th Symposium on Plasma Science for Materials　Vol. The 20th Symposium on Plasma Science for Materials, p. 85.　2007年6月
Development of numerically controlled local wet etching

Kazuya Yamamura

SCIENCE AND TECHNOLOGY OF ADVANCED MATERIALS　Vol. 8　No. 3　p. 158-161　2007年4月
Surface gragient integrated profiler for X-ray and EUV optics

Yasuo Higashi, Yuichi Takaie, Katsuyoshi Endo, Tatsuya Kume, Kazuhiro Enami, Kazuto Yamauchi, Kazuya Yamamura, Yasuhisa Sana, Kenji Ueno, Yuzo Mori

SCIENCE AND TECHNOLOGY OF ADVANCED MATERIALS　Vol. 8　No. 3　p. 177-180　2007年4月
高精度非球面ミラーの加工技術

佐野泰久, 三村秀和, 山村和也, 山内和人, 森勇藏

レーザー学会誌　Vol. 35　No. 3　p. 162-167　2007年3月
Improvement of the thickness distribution of at cut quartz crystal wafer by open-air type plasma chemical vaporization machining

Kazuya Yamamura, Masafumi Shibahara, Yasuhisa Sano, Yusuke Yamamoto, Tetsuya Morikawa, Yuzo Mori

e-Journal of Surface Science and Nanotechnology　Vol. 5　p. 41-44　2007年2月6日
Improvement of the Thickness Distribution of AT Cut Quartz Crystal Wafer by Open-air Type Plasma Chemical Vaporization Machining

Kazuya Yamamura, Masafumi Shibahara, Yasuhisa Sano, Yusuke Yamamoto, Tetsuya Morikawa, Yuzo Mori

e-Journal of Surface Science and Nanotechnology　Vol. 5　p. 41-44　2007年2月
Efficient focusing of hard x-rays to 25nm by a total reflection mirror

H. Mimura, H. Yumoto, S. Matsuyama, Y. Sano, K. Yamamura, Y. Mori, M. Yabashi, Y. Nishino, K. Tamasaku, T. Ishikawa, K. Yamauchi

Applied Physcics Letters　Vol. 90　No. 5　2007年2月
大気圧プラズマ処理によるポリエチレンテレフタレートの表面改質

柴原正文, 稲垣官司, 山村和也

表面技術誌　Vol. 58　No. 2　p. 124-129　2007年2月
出版者・発行元：The Surface Finishing Society of Japan
Fabrication of X‐ray Mirror for Hard X‐ray Diffraction Limited Nanofocusing

YUMOTO Hirokatsu, MIMURA Hidekazu, MATSUYAMA Satoshi, HANDA Soichiro, SHIBATANI Akihiko, KATAGISHI Keiko, YAMAMURA Kazuya, SANO Yasuhisa, ENDO Katsuyoshi, MORI Yuzo, YABASHI Makina, NISHINO Yoshinori, TAMASAKU Kenji, ISHIKAWA Tetsuya, YAMAUCHI Kazuto

AIP Conference Proceedings　Vol. 879　No. Pt.1　p. 967-970　2007年
Development of a Scanning X‐ray Fluorescence Microscope Using Size‐Controllable Focused X‐ray Beam from 50 to 1500nm

MATSUYAMA Satoshi, MIMURA Hidekazu, YUMOTO Hirokatsu, KATAGISHI Keiko, HANDA Soichiro, SHIBATANI Akihiko, SANO Yasuhisa, YAMAMURA Kazuya, ENDO Katsuyoshi, MORI Yuzo, NISHINO Yoshinori, TAMASAKU Kenji, YABASHI Makina, ISHIKAWA Tetsuya, YAMAUCHI Kazuto

AIP Conference Proceedings　Vol. 879　No. Pt.2　p. 1325-1328　2007年
22pTC-3 超高精度ミラーによる硬X線ナノビーム形成とその応用(領域10シンポジウム主題:X線・電子線による回折イメージングの最前線,領域10,誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性)

三村秀和, 松山智至, 湯本博勝, 半田宗一郎, 片岸恵子, 木村隆志, 佐野泰久, 山村和也, 稲垣耕司, 玉作賢治, 西野吉則, 矢橋牧名, 石川哲也, 山内和人

日本物理学会講演概要集　Vol. 62　No. 0　p. 989-989　2007年
出版者・発行元：一般社団法人日本物理学会
Efficient focusing of hard x rays to 25 nm by a total reflection mirror

Hidekazu Mimura, Hirokatsu Yumoto, Satoshi Matsuyama, Yasuhisa Sano, Kazuya Yamamura, Yuzo Mori, Makina Yabashi, Yoshinori Nishino, Kenji Tamasaku, Tetsuya Ishikawa, Kazuto Yamauchi

APPLIED PHYSICS LETTERS　Vol. 90　No. 5　2007年1月
Polishing characteristics of 4H-SiC Si-face and C-face by plasma chemical vaporization machining

Yasuhisa Sano, Masayo Watanabe, Kazuya Yamamura, Kazuto Yamauchi, Takeshi Ishida, Kenta Arima, Akihisa Kubota, Yuzo Mori

SILICON CARBIDE AND RELATED MATERIALS 2006　Vol. 556-557　p. 757-+　2007年
大気圧プラズマ処理によるポリエチレンテレフタレートの表面改質

柴原正文, 稲垣官司, 山村和也, 山村和也

表面技術誌　Vol. Vol. 58, No.2 (2007) 124-129.　No. 2　p. 124-129　2007年
出版者・発行元：The Surface Finishing Society of Japan
高精度非球面ミラーの加工技術

レーザー学会誌　Vol. Vol. 35, pp.162-167　2007年
大気圧プラズマ処理によるポリテトラフルオロエチレンの表面改質

表面技術誌　Vol. Vol.58, No.7, pp.420-424.　2007年
Fabrication of ultra precision optics by numerically controlled local wet etching

K. Yamamura, T. Masuzawa

CIRP ANNALS-MANUFACTURING TECHNOLOGY　Vol. 56　No. 1　p. 541-544　2007年
Plasmachemical Surface Functionalization of Flexible Substrates at Atmospheric Pressure

The 20th Symposium on Plasma Science for Materials　Vol. The 20th Symposium on Plasma Science for Materials, p. 85.　2007年
Plasma chemical surface functionalization of PTFE sheet through atmospheric pressure plasma liquid deposition approach

XXVIII International Conference on Phenomena in Ionized Gases　Vol. XXVIII International Conference on Phenomena in Ionized Gases, p. 757-760.　2007年
Unifomalization of thr AT cut quartz crystal wafer using maskless localized atmospheric pressure plasma etching process

XXVIII International Conference on Phenomena in Ionized Gases　Vol. XXVIII International Conference on Phenomena in Ionized Gases. p. 735-736.　2007年
Improvement of Thickness Distribution of SOI Using Numerically Controlled Local Wet Etching

International 21st Century COE Symposium on Atomistic Fabrication Technology 2007　Vol. International 21st Century COE Symposium on Atomistic Fabrication Technology 2007, pp. 13.　2007年
Uniformation of AT Cut Quartz Crystal Wafer Using Open-Air Type Numerically Controlled Plasma CVM Process

International 21st Century COE Symposium on Atomistic Fabrication Technology 2007　Vol. International 21st Century COE Symposium on Atomistic Fabrication Technology 2007, pp 14.　2007年
Sensing Characterization of NIR-Localized Surface Plasmon Resonances in PS@Au core-shell nanoparticle array for Application as Ultra-sensitive Sensors

International 21st Century COE Symposium on Atomistic Fabrication Technology 2007　Vol. International 21st Century COE Symposium on Atomistic Fabrication Technology 2007, pp. 36.　2007年
Figuring of Elliptical Hard X-ray Focusing Mirror Using Numerically Controlled Local Wet Etching

International 21st Century COE Symposium on Atomistic Fabrication Technology 2007　Vol. International 21st Century COE Symposium on Atomistic Fabrication Technology 2007, pp. 12.　2007年
Machining of GaN by Plasma CVM (Chemical Vaporization Machining)

International 21st Century COE Symposium on Atomistic Fabrication Technology 2007　Vol. International 21st Century COE Symposium on Atomistic Fabrication Technology 2007, pp 18.　2007年
Effect of pulse modulated operation on etching characteristics of AT cut quartz crystal in open-air type plasma CVM process

International 21st Century COE Symposium on Atomistic Fabrication Technology 2007　Vol. International 21st Century COE Symposium on Atomistic Fabrication Technology 2007, pp. 15.　2007年
Facile Fabrication and Near-Infrared Localized Surface Plasmon Resonance Properties of Two-dimensional PS@Au Core/Shell Nanoparticle Arrays, and Their Use as a Ultra-sensitive Bio-sensors

MRS 2007 Fall Meeting　2007年
Measurement of rotational and vibrational temperature of gas molecules in the CVM plasma by using spatial resolved optical emission spectrometry

18th International Symposium on Plasma Chemistry　Vol. pp. 166.　2007年
Atomspheric Pressure-Glow Plasma Induced Surface Functionalization of Flexible Substrate

18th International Symposium on Plasma Chemistry　Vol. pp. 186.　2007年
Surface Functionalization of PTFE Sheet through Atmospheric Pressure Plasma Liquid Deposition Approach

6th Asian-European International Conference on Plasma Surface Engineering　Vol. pp. 307.　2007年
Temperature Dependence of Plasma Chemical Vaporization Machining of Silicon and Silicon Carbide

International Conference on Silicon Carbide and Related Materials 2007 Technical Digest　Vol. Mo-P-55　2007年
Beveling of Silicon Carbide Wafer by Plasma Chemical Vaporization Machining

International Conference on Silicon Carbide and Related Materials 2007 Technical Digest　Vol. We-98　2007年
Figuring of Elliptical Hard X-ray Focusing Mirror Using Numerically Controlled Local Wet Etching

Asian Symposium for Precision Engineering and Nanotechnology 2007　Vol. pp. 244-247.　2007年
Improvement of Thickness Distribution of SOI Using Numerically Controlled Local Wet Etching

Asian Symposium for Precision Engineering and Nanotechnology 2007　Vol. pp. 241-243.　2007年
Etching characteristics of AT cut quartz crystal in open-air type plasma CVM process

29th International Symposium on Dry Process　Vol. pp. 273-274.　2007年
Development of numerically controlled local wet etching

Science and Technology of Advanced Materials　Vol. Vol.8 No.3 pp.158-161.　2007年
Numerically Controlled Local Wet Etching For Fabricating the Ultraprecision Optics

Kazuya Yamamura

Proceedings of 5th International Conference on Optics-photonics Design & Fabrication　Vol. pp. 257-258　2006年12月
Measurement of rotational and vibrational temperature of gas molecule in the open-air type PCVM plasma by using spatial resolved emission spectra

Kazuya Yamamura, Koji Ueno, Yasushi Oshikane, Yasuhisa Sano, Masafumi Shibahara, Yuzo Mori

Proceedings of 28th International Symposium on Dry Process　Vol. pp. 49-50　2006年11月
High spatial resolution machining utilizing atmospheric pressure plasma machining

Kazuya Yamamura, Kunihito Kato, Yasuhisa Sano, Masafumi Shibahara, Katsuyoshi Endo, Yuzo Mori

Proceedings of 8th International Conference on Progress of Machining Technology　Vol. pp. 257-260　2006年11月
Improvement of the Thickness Distribution of AT Cut Quartz Crystal Wafer by Open-air Type Plasma Chemical Vaporization Machining

Kazuya Yamamura, Masafumi Shibahara, Yasuhisa Sano, Yusuke Yamamoto, Tetsuya Morikawa, Yuzo Mori

Proceedings of Handai Nanoscience and Nanotechnology International Symposium　Vol. pp. 74　2006年11月
Development of ultraprecision numerically controlled finishing machine utilizing atmospheric pressure plasma

Kazuya Yamamura, Akihiro Fujiwara, Koji Ueno, Yasuhisa Sano, Masafumi Shibahara, Katsuyoshi Endo, Yuzo Mori

Proceedings of 8th International Conference on Progress of Machining Technology　Vol. pp. 253-256　2006年11月
Machining characteristics of ultraprecision atmospheric pressure plasma process

Kazuya Yamamura, Koji Ueno, Akihiro Fujiwara, Yasuhisa Sano, Yasusi Oshikane, Masafumi Shibahara, Katsuyoshi Endo, Yuzo Mori

Proceedings of 8th International Conference on Progress of Machining Technology　Vol. pp. 265-268　2006年11月
Polishing characteristics of silicon carbide by plasma chemical vaporization machining

Yasuhisa Sano, Masayo Watanabe, Kazuya Yamamura, Kazuto Yamauchi, Takeshi Ishida, Kenta Arima, Akihisa Kubota, Yuzo Mori

Jpn. J. Appl. Phys. 45 No.10B　Vol. 45　No. 10　p. 8277-8280　2006年10月
Surface Gradient Integrated Profiler for X-ray and EUV Optics

Y. Higashi, Y. Takaie, K. Endo, Y. Mori, K. Yamauchi, T. Kume, K. Enami, K. Yamamura, Y. Sano, K. Ueno

Proceedings of International 21st Century COE Symposium on Atomistic Fabrication Technology　Vol. 8　No. 3　p. 177-180　2006年10月
Development of Numerically Controlled Local Wet Etching

Kazuya Yamamura

Prceedings of International 21st Century COE Symposium on Atomistic Fabrication Technology　Vol. pp. 15-16　2006年10月
Ultraprecision machining utilizing numerically controlled scanning of localized atmospheric pressure plasma

Kazuya Yamamura, Yasuhisa Sano, Masafumi Shibahara, Kazuto Yamauchi, Hidekazu Mimura, Katsuyoshi Endo, Yuzo Mori

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS BRIEF COMMUNICATIONS & REVIEW PAPERS　Vol. 45　No. 10B　p. 8270-8276　2006年10月
High Spatial Resolution Machining Utilizing Atmospheric Pressure Plasma -Machining Characteristics of Silicon-

Kazuya Yamamura, Kunihito Kato, Yasuhisa Sano, Masafumi Shibahara, Katsuyoshi Endo, Yuzo Mori

Jpn. J. Appl. Phys. 45 No.10B　Vol. 363-364　p. 257-260　2006年10月
High-spatial-resolution machining utilizing atmospheric pressure plasma: Machining characteristics of silicon

Kazuya Yamamura, Kunihito Kato, Yasuhisa Sano, Masafumi Shibahara, Katsuyoshi Endo, Yuzo Mori

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS BRIEF COMMUNICATIONS & REVIEW PAPERS　Vol. 45　No. 10B　p. 8281-8285　2006年10月
Development of ultraprecision finishing method for quartz crystal wafer utilizing atmospheric pressure plasma

Masafumi Shibahara, Yusuke Yamamoto, Kazuya Yamamura, Yasuhisa Sano, Katsuyoshi Endo, Yuzo Mori

Towards Synthesis of Micro-/Nano-systems,　Vol. pp. 233-237　2006年8月
Fabrication of small complex-shaped optics by plasma chemical vaporization machining with a microelectrode

Hideo Takino, Norio Shibata, Hiroshi Itoh, Teruki Kobayashi, Koshichi Nemoto, Takashi Fujii, Naohiko Goto, Kazuya Yamamura, Yasuhisa Sano, Yuzo Mori

APPLIED OPTICS　Vol. 45　No. 23　p. 5897-5902　2006年8月
Ultraprecision finishing of photomask substrate by utilizing atmospheric pressure plasma

Kazuya Yamamura, Akihiro Fujiwara, Koji Ueno, Yasuhisa Sano, Masafumi Shibahara, Katsuyoshi Endo, Yuzo Mori

Towards Synthesis of Micro-/Nano-systems　Vol. pp. 227-231　2006年8月
Fabrication of ultraprecisely figured mirror for nano focusing hard-x-ray

Hirokatsu Yumoto, Hidekazu Mimura, Satoshi Matsuyama, Souichiro Handa, Kazuya Yamamura, Yasuhisa Sano, Katsuyoshi Endo, Yuzo Mori, Makina Yabashi, Yoshinori Nishino, Kenji Tamasaku, Tetsuya Ishikawa, Kazuto Yamauchi

Towards Synthesis of Micro-/Nano-systems　Vol. pp. 295-300　2006年8月
Fabrication of small complex-shaped optics by plasmachemical vaporization machining with a microelectrode

Hideo Takino, Norio Shibata, Hiroshi Itoh, Teruki Kobayashi, Koshichi Nemoto, Takashi Fujii, Naohiko Goto, Kazuya Yamamura, Yasuhisa Sano, Yuzo Mori

Applied Optics　Vol. 45　No. 23　p. 5897-5902　2006年8月
高分解能硬X線顕微鏡のためのミラーマニピュレータの開発 : 硬X線領域における50nm以下の回折限界集光の実現

松山智至, 三村秀和, 湯本博勝, 原英之, 山村和也, 佐野泰久, 西野吉則, 玉作賢治, 矢橋牧名, 石川哲也, 山内和人

精密工学会誌論文集　Vol. 72　No. 7　p. 884-888　2006年7月5日
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
Rotational and vibrational temperature of Fulcher-alpha band emitted by hydrogen molecules in capacitive VHF CVD plasma process at atmosphere

Yasushi Oshikane, Hiroaki Kakiuchi, Kazuya Yamamura, Kiyoshi Yasutake, Takafumi Karasawa, Colin M. Western, Akinori Oda, Katsuyoshi Endo

Abstractbook of the 8th Asia-Pacific Conference on Plasma Science and Technology　Vol. p.269　2006年7月
数値制御プラズマCVMによる水晶ウエハの高精度加工に関する研究－回転電極とパイプ電極を併用した数値制御加工による水晶ウエハ厚さの均一化－

柴原正文, 山村和也, 佐野泰久, 杉山剛, 山本雄介, 遠藤勝義, 森勇藏

精密工学会誌, Vol. 72, No. 7　Vol. Vol. 72, No.7, 934-938　No. 7　p. 934-938　2006年7月
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
数値制御プラズマCVMによる水晶ウエハの高精度加工

山村和也, 柴原正文

超音波テクノ　Vol. Vol. 18, No.3, 52-55　No. 3　p. 52-55,127　2006年5月
出版者・発行元：日本工業出版
走査型蛍光X線顕微鏡を用いた細胞内元素分布の測定

片岸恵子, 松山智至, 三村秀和, 湯本博勝, 山村和也, 佐野泰久, 遠藤勝義, 森勇蔵, 西野吉則, 玉作賢治, 矢橋牧名, 石川哲也, 山内和人

応用物理学関係連合講演会講演予稿集　Vol. 53rd　No. 2　2006年3月22日
超高精度X線ミラーの作製とコヒーレントX線による評価

三村秀和, 湯本博勝, 松山智至, 山村和也, 佐野泰久, 遠藤勝義, 森勇藏, 玉作賢治, 矢橋牧名, 西野吉則

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2006　No. 0　p. 233-234　2006年3月1日
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
高分解能硬X線顕微鏡のためのミラーマニピュレータの開発-硬X線領域における50nm以下の回折限界集光の実現-

松山智至, 三村秀和, 湯本博勝, 原英之, 山村和也, 佐野泰久, 西野吉則, 玉作賢治, 矢橋牧名, 石川哲也, 山内和人

精密工学会誌(CD-ROM)　Vol. 72　No. 7　2006年
新規な研磨加工を行った4H–SiC(0001)表面の原子構造解析

石田剛志, 有馬健太, 原英之, 山村和也, 山内和人, 遠藤勝義

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2006　No. 0　p. 1115-1116　2006年
出版者・発行元：The Japan Society for Precision Engineering
Cutting of functional materials by plasma chemical vaporization machining with inner-diameter blade electrode

Y. Sano, K. Yamamura, H. Mimura, K. Yamauchi, A. Kubota, Y. Mori

Proc. ICRP-6/SPP-23　Vol. 305-306　2006年1月
Ultra precision machining utilizing numerically controlled scanning of localized atmospheric pressure plasma

K. Yamamura, Y. Sano, M. Shibahara, K. Yamauchi, H. Mimura, K. Endo, Y. Mori

Proceedings of ICRP6/SPP23　Vol. 81-82　2006年1月
数値制御プラズマCVMによる水晶ウエハの高精度加工

超音波テクノ　Vol. Vol. 18, No.3, 52-55　2006年
数値制御プラズマCVMによる水晶ウエハの高精度加工に関する研究－回転電極とパイプ電極を併用した数値制御加工による水晶ウエハ厚さの均一化－

柴原正文, 山村和也, 佐野泰久, 杉山剛, 山本雄介, 遠藤勝義, 森勇藏

精密工学会誌, Vol. 72, No. 7　Vol. Vol. 72, No.7, 934-938　No. 7　p. 934-938　2006年
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
Ultraprecision finishing of photomask substrate by utilizing atmospheric pressure plasma

Towards Synthesis of Micro-/Nano-systems　Vol. pp. 227-231　2006年
Fabrication of ultraprecisely figured mirror for nano focusing hard-x-ray

Towards Synthesis of Micro-/Nano-systems　Vol. pp. 295-300　2006年
High spatial resolution machning utilizing atmospheric pressure plasma - Machining characteristics of silicon

Kazuya Yamamura, Kunihito Kato, Yasuhisa Sano, Masafumi Shibahara, Katsuyoshi Endo, Yuzo Mori

Progress of Machining Technology, Proceedings　Vol. Vol. 45 8281-8285　p. 257-260　2006年
Machining characteristics of ultraprecision atmospheric pressure plasma process

Kazuya Yamamura, Koji Ueno, Akihiro Fujiwara, Yasuhisa Sano, Yasusi Osikane, Masafumi Shibahara, Katsuyoshi Endo, Yuzo Mori

Progress of Machining Technology, Proceedings　Vol. pp. 265-268　p. 265-268　2006年
大気圧プラズマの生成制御と応用技術, 第13節プラズマCVMによる超精密加工

サイエンス＆テクノロジー　2006年
Ultra precision machining utilizing numerically controlled scanning of localized atmospheric pressure plasma

Proceedings of ICRP6/SPP23　Vol. 81-82　2006年
Polishing characteristics of 4H-SiC Si-face and C-face by plasma chemical vaporization machining

2006年
High spatial resolution machining utilizing atmospheric pressure plasma - machining characteristics of silicon -

K. Kato, K. Yamamura, Y. Sano, M. Shibahara, K. Endo, Y. Mori

Proceedings of ICRP6/SPP23　Vol. 363-364　2006年1月
Rotational and vibrational temperature of Fulcher-alpha band emitted by hydrogen molecules in capacitive VHF CVD plasma process at atmosphere

Abstractbook of the 8th Asia-Pacific Conference on Plasma Science and Technology　Vol. p.269　2006年
Development of ultraprecision finishing method for quartz crystal wafer utilizing atmospheric pressure plasma

Towards Synthesis of Micro-/Nano-systems,　Vol. pp. 233-237　2006年
Development of Numerically Controlled Local Wet Etching

Prceedings of International 21st Century COE Symposium on Atomistic Fabrication Technology　Vol. pp. 15-16　2006年
Surface gradient integrated profiler for X-ray and EUV optics - 3D mapping of 1m-long flat mirror and off-axis parabolic mirror

Y. Higashi, Y. Takaie, K. Endo, T. Kume, K. Enami, K. Yamauchi, K. Yamamura, H. Sano, J. Uchikoshi, K. Ueno, Y. Mori

Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering　Vol. 6317　2006年
Measurement of rotational and vibrational temperature of gas molecule in the open-air type PCVM plasma by using spatial resolved emission spectra

Proceedings of 28th International Symposium on Dry Process　Vol. pp. 49-50　2006年
High spatial resolution machining utilizing atmospheric pressure plasma machining

Proceedings of 8th International Conference on Progress of Machining Technology　Vol. pp. 257-260　2006年
Improvement of the Thickness Distribution of AT Cut Quartz Crystal Wafer by Open-air Type Plasma Chemical Vaporization Machining

Proceedings of Handai Nanoscience and Nanotechnology International Symposium　Vol. pp. 74　2006年
Development of ultraprecision numerically controlled finishing machine utilizing atmospheric pressure plasma

Proceedings of 8th International Conference on Progress of Machining Technology　Vol. pp. 253-256　2006年
Numerically Controlled Local Wet Etching For Fabricating the Ultraprecision Optics

Proceedings of 5th International Conference on Optics-photonics Design & Fabrication　Vol. pp. 257-258　2006年
Ultraprecision Machining Utilizing Numerically Controlled Scanning of Localized Atmospheric Pressure Plasma

Jpn. J. Appl. Phys. 45 No.10B　Vol. Vol. 45 8270-8276　2006年
High spatial resolution machining utilizing atmospheric pressure plasma - machining characteristics of silicon -

Proceedings of ICRP6/SPP23　Vol. 363-364　2006年
Ultra precision machining utilizing numerically controlled scanning of localized atmospheric pressure plasma

Proceedings of ICRP6/SPP23　Vol. 81-82　2006年
Improvement of thickness uniformity of quartz crystal wafer by numerically controlled plasma CVM.

M. Shibahara, K. Yamamura, Y. Sano, T. Sugiyama, K. Endo, Y. Mori

Proc. SPIE 5918(2005) 591804　Vol. 5918, 591804　2005年10月
A new designed ultra-high precision profiler

Y. Higashi, Y. Takaie, K. Endo, T. Kume, K. Enami, K. Yamauchi, K. Yamamura, Y. Sano, K. Ueno, Y. Mori

Proccedings of SPIE 5921　Vol. Vol. 5921, 592107　2005年10月
Plasma Chemical Vaporization Machining (PCVM)

Y. Sano, K. Yamamura, K. Endo, Y. Mori

Book of Lecture Note, IWCGT-3, (2005) pp. 305-316.　2005年9月
硬X線ナノ集光用超高精度楕円ミラーの作製と1次元集光性能の評価

湯本博勝, 三村秀和, 松山智至, 原英之, 山村和也, 佐野泰久, 上野一匡, 遠藤勝義, 森勇藏, 西野吉則, 玉作賢治, 矢橋牧名, 石川哲也, 山内和人

精密工学会誌　Vol. 71　No. 9　p. 1137-1140　2005年9月
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
Improvement of the thickness distribution of a quartz crystal wafer by numerically controlled plasma chemical vaporization machining

M Shibahara, K Yamamura, Y Sano, T Sugiyama, K Endo, Y Mori

REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS　Vol. 76　No. 9　2005年9月
Improvement of Thickness Distribution of Quartz Crystal Wafer by Numerically Controlled Plasma Chemical Vaporization Machining

Masafumi Shibahara, Kazuya Yamamura, Yasuhisa Sano, Tsuyoshi Sugiyama, Katsuyoshi Endo, Yuzo Mori

Review of Scientific Instruments, Vol.76, 096103　Vol. 76　No. 9　2005年9月
A new Designed High-Precision Profiler

Y.Higashi, Y.Takaie, K.Endo, T.Kume, K.Enami, K.Yamauchi, K.Yamamura, K.Ueno, Y.Mori

Vol. 5921　p. 1-9　2005年8月
Fabrication of elliptically figured mirror for focusing hard X-rays to size less than 50 nm

H. Yumoto, H. Mimura, S. Matsuyama, K. Yamamura, Y. Sano, K. Ueno, K. Endo, Y. Mori, Y. Nishino, M. Yabashi, K. Tamasaku, T. Ishikawa, K. Yamauchi

Review of Scientific Instruments, 76, 063708 (2005).　Vol. 76　No. 6　2005年7月
Element Array by Scanning X-ray Fluorescence Microscopy after Cis-Diamminedichloro-Platinum(II) Treatment

M. Shimura, A. Saito, S. Matsuyama, T. Sakuma, Y. Terui, K. Ueno, H. Yumoto, K. Yamauchi, K. Yamamura, H. Mimura, Y. Sano, M. Yabashi, K. Tamasaku, K. Nishio, Y. Nishino, K. Endo, K. Hatake, Y. Mori, Y. Ishizaka, T. Ishikawa

Cancer Research, 65 (12), 4998-5002, (2005).　Vol. 65　No. 12　p. 4998-5002　2005年7月
Element array by scanning X-ray fluorescence microscopy after Cis-diamminedichloro-platinum(II) treatment

M Shimura, A Saito, S Matsuyama, T Sakuma, Y Terui, K Ueno, H Yumoto, K Yamauchi, K Yamamura, H Mimura, Y Sano, M Yabashi, K Tamasaku, K Nishio, Y Nishino, K Endo, K Hatake, Y Mori, Y Ishizaka, T Ishikawa

CANCER RESEARCH　Vol. 65　No. 12　p. 4998-5002　2005年6月
Fabrication of elliptically figured mirror for focusing hard x rays to size less than 50 nm

H Yumoto, H Mimura, S Matsuyama, H Hara, K Yamamura, Y Sano, K Ueno, K Endo, Y Mori, M Yabashi, Y Nishino, K Tamasaku, T Ishikawa, K Yamauchi

REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS　Vol. 76　No. 6　2005年6月
Hard X-ray Focusing less than 50nm for Nanoscopy/spectroscopy

K. Yamauchi, H. Mimura, S. Matsuyama, H. Yumoto, S. Handa, K. Yamamura, Y. Sano, K. Endo, Y. Mori, Y. Nishino, K. Tamasaku, M. Yabashi, T. Ishikawa

AIP Conference Proceedings　Vol. 879　No. Pt.1　p. 786-791　2005年5月
数値制御プラズマＣＶＭによる水晶ウエハの高精度加工に関する研究－円筒型回転電極を用いた数値制御加工による水晶ウエハ厚さの均一化－

柴原正文, 山村和也, 佐野泰久, 杉山剛, 遠藤勝義, 森勇藏

精密工学会誌, Vol.71, No.5, pp.655-659.　Vol. Vol.71, No.5, pp.655-659.　No. 5　p. 655-659　2005年5月
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
EEM (Elastic Emission Machining)による4H-SiC(0001)表面の平滑化

久保田章亀, 三村秀和, 佐野泰久, 山村和也, 山内和人, 森勇藏

精密工学会誌論文集　Vol. 71　No. 4　p. 477-480　2005年4月
Creation of Perfect Surfaces

Yuzu Mori, Kazuya Yamamura, Katsuyoshi Endo, Kazuto Yamauchi, Kiyoshi Yasutake, Hidekazu Goto, Hiroaki Kakiuchi, Yasuhisa Sano, Hidekazu Mimura

Journal of Crystal Growth　Vol. 275　No. 1-2　p. 39-50　2005年4月
Relative angle determinable stitching interferometry for hard x-ray reflective optics

H Mimura, H Yumoto, S Matsuyama, K Yamamura, Y Sano, K Ueno, K Endo, Y Mori, M Yabashi, K Tamasaku, Y Nishino, T Ishikawa, K Yamauchi

REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS　Vol. 76　No. 4　2005年4月
Hard X-ray Diffraction-Limited Nanofocusing with Kirkpatrick-Baez Mirrors

H. Mimura, S. Matsuyama, H. Yumoto, H. Hara, K. Yamamura, Y. Sano, M. Shibahara, K. Endo, Y. Mori, Y. Nishino, K. Tamasaku, M. Yabashi, T. Ishikawa, K. Yamauchi

Japanese Journal of Applied Physics Part 2　Vol. 44 (18), L539-L542 (2005)/,　2005年4月
数値制御プラズマＣＶＭによる水晶ウエハの高精度加工に関する研究－加工装置の開発と基本的加工特性の取得－

山村和也, 柴原正文, 佐野泰久, 杉山剛, 遠藤勝義, 森勇藏

精密工学会誌, Vol.71 No.4, pp.455-459.　Vol. 71　No. 4　p. 455-459　2005年4月
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
超高精度X線集光ミラーの作製と集光特性の評価

三村秀和, 松山智至, 湯本博勝, 原英之, 山村和也, 西野吉則, 玉作賢治, 矢橋牧名, 石川哲也

精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 2005　2005年3月1日
Development of surface figuring and smoothing technologies for ultraprecise X-ray mirror Fabrication

H. Mimura, H. Yumoto, S. Matsuyama, K. Yamamura, Y. Sano, K. Endo, Y. Mori, Y. Nishino, K. Tamasaku, M. Yabashi, T. Ishikawa, K. Yamauchi

2005年2月
Relative angle determinable stitching interferometry for hard X-ray reflective optics

H. Mimura, H. Yumoto, S. Matsuyama, K. Yamamura, Y. Sano, K. Ueno, K. Endo, Y. Mori, Y. Nishino, K. Tamasaku, M. Yabashi, T. Ishikawa, K. Yamauchi

Review of Scientfic Instruments　Vol. 76　No. 4　2005年2月
Fabrication of ultraprecisely figured and ultrasmooth elliptical mirrors for hard X-ray nanofocusing

K. Yamuchi, H. Mimura, K. Yamamura, Y. Sano, K. Ueno, S. Matsuyama, K. Endo, Y. Nishino, K. Tamasaku, M. Yabashi, T. Ishikawa

2005年2月
Creation of perfect surfaces

Y Mori, K Yamamura, K Endo, K Yamauchi, K Yasutake, H Goto, H Kakiuchi, Y Sano, H Mimura

JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH　Vol. 275　No. 1-2　p. 39-50　2005年2月
EEMによるSiC表面の平坦化

久保田章亀, 三村秀和, 稲垣耕司, 佐野泰久, 山村和也, 山内和人, 森勇藏

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2005　No. 0　p. 785-785　2005年
出版者・発行元：The Japan Society for Precision Engineering
STMによるEEM(Elastic Emission Machining)の加工機構の解明

加藤潤, 久保田章亀, 有馬健太, 山村和也, 森勇藏, 山内和人, 遠藤勝義

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2005　No. 0　p. 779-780　2005年
出版者・発行元：The Japan Society for Precision Engineering
プラズマCVMによるSiCの加工特性

渡辺容代, 佐野泰久, 山村和也, 山内和人, 石田剛志, 有馬健太, 遠藤勝義, 森勇藏

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2005　No. 0　p. 529-530　2005年
出版者・発行元：The Japan Society for Precision Engineering
硬X線ナノ集光ミラーの形状計測:高精度スティッチング法の開発

湯本博勝, 三村秀和, 松山智至, 山村和也, 佐野泰久, 遠藤勝義, 森勇藏, 石川哲也, 山内和人

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2005　No. 0　p. 453-454　2005年
出版者・発行元：The Japan Society for Precision Engineering
硬X線ナノ集光用超高精度楕円ミラーの作製と1次元集光性能の評価

湯本博勝, 三村秀和, 松山智至, 原英之, 山村和也, 佐野泰久, 上野一匡, 遠藤勝義, 森勇藏, 西野吉則, 玉作賢治, 矢橋牧名, 石川哲也, 山内和人

精密工学会誌　Vol. 精密工学会誌 Vol. 71 No. 9 pp.1137-1140　No. 9　p. 1137-1140　2005年
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
Development of surface figuring and smoothing technologies for ultraprecise X-ray mirror Fabrication

2005年
Fabrication of ultraprecisely figured and ultrasmooth elliptical mirrors for hard X-ray nanofocusing

2005年
Hard X-ray diffraction-limited nanofocusing with Kirkpatrick-Baez mirrors

H Mimura, S Matsuyama, H Yumoto, H Hara, K Yamamura, Y Sano, M Shibahara, K End, Y Mori, Y Nishino, K Tamasaku, M Yabashi, T Ishikawa, K Yamauchi

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS & EXPRESS LETTERS　Vol. 44　No. 16-19　p. L539-L542　2005年
EEM (Elastic Emission Machining)による4H-SiC(0001)表面の平滑化

精密工学会誌論文集　Vol. , 71(4), 477-480 (2005)　2005年
数値制御プラズマＣＶＭによる水晶ウエハの高精度加工に関する研究－加工装置の開発と基本的加工特性の取得－

山村和也, 柴原正文, 佐野泰久, 杉山剛, 遠藤勝義, 森勇藏

精密工学会誌, Vol.71 No.4, pp.455-459.　Vol. 71　No. 4　p. 455-459　2005年
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
数値制御プラズマＣＶＭによる水晶ウエハの高精度加工に関する研究－円筒型回転電極を用いた数値制御加工による水晶ウエハ厚さの均一化－

柴原正文, 山村和也, 佐野泰久, 杉山剛, 遠藤勝義, 森勇藏

精密工学会誌, Vol.71, No.5, pp.655-659.　Vol. Vol.71, No.5, pp.655-659.　No. 5　p. 655-659　2005年
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
Plasma Chemical Vaporization Machining (PCVM)

Book of Lecture Note, IWCGT-3, (2005) pp. 305-316.　2005年
Improvement of thickness uniformity of quartz crystal wafer by numerically controlled plasma CVM

Masafumi Shibahara, Kazuya Yamamura, Yasuhisa Sano, Tsuyoshi Sugiyama, Katsuyoshi Endo, Yuzo Mori

Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering　Vol. 5869　p. 1-8　2005年
数値制御プラズマＣＶＭによる水晶ウエハの高精度加工に関する研究－円筒型回転電極を用いた数値制御加工による水晶ウエハ厚さの均一化－

精密工学会誌, Vol.71, No.5, pp.655-659.　Vol. Vol.71, No.5, pp.655-659./,　2005年
Hard X-ray diffraction-limited nanofocusing with kirkpatrick-baez mirrors

Hidekazu Mimura, Satoshi Matsuyama, Hirokatsu Yumoto, Hideyuki Hara, Kazuya Yamamura, Yasuhisa Sano, Masafumi Shibahara, Katsuyoshi Endo, Yuzo Mori, Yoshinori Nishlno, Kenji Tamasaku, Makina Yabashi, Tetsuya Ishikawa, Kazuto Yamauchi

Japanese Journal of Applied Physics, Part 2: Letters　Vol. 44　No. 16-19　p. L539-L542　2005年
Improvement of thickness uniformity of quartz crystal wafer by numerically controlled plasma CVM.

Proc. SPIE 5918(2005) 591804　Vol. 5918, 591804　2005年
数値制御プラズマCVMによる水晶ウエハの高精度加工に関する研究 : 加工装置の開発と基本的加工特性の取得

山村和也, 柴原正文, 佐野泰久, 杉山剛, 遠藤勝義, 森勇藏

精密工学会誌論文集　Vol. 71　No. 4　p. 455-459　2005年
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
Development of surface figuring and smoothing technologies for ultraprecise X-ray mirror Fabrication

2005年
Plasma Chemical Vaporization Machining (PCVM)

Book of Lecture Note, IWCGT-3, (2005) pp. 305-316.　2005年
A new designed ultra-high precision profiler

Y. Higashi, Y. Takaie, K. Endo, T. Kume, K. Enami, K. Yamauchi, K. Yamamura, H. Sano, K. Ueno, Y. Mori

Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering　Vol. 5921　p. 1-9　2005年
Improvement of thickness uniformity of quartz crystal wafer by numerically controlled plasma CVM.

Proc. SPIE 5918(2005) 591804　Vol. 5918, 591804/,　2005年
数値制御プラズマCVMによる水晶ウエハの高精度加工に関する研究 : 円筒型回転電極を用いた数値制御加工による水晶ウエハ厚さの均一化

柴原正文, 山村和也, 佐野泰久, 杉山剛, 遠藤勝義, 森勇藏

精密工学会誌論文集　Vol. Vol.71, No.5, pp.655-659./,　No. 5　p. 655-659　2005年
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
硬X線ナノ集光のための高精度楕円体ミラーの作製と集光特性の評価

湯本博勝, 山内和人, 三村秀和, 松山智至, 山村和也, 佐野泰久, 西野吉則, 玉作賢治, 矢橋牧名

応用物理学会学術講演会講演予稿集　Vol. 65th　No. 2　2004年9月1日
ミラー集光系を用いたX線顕微鏡(ナノスコピー)の開発

松山智至, 山内和人, 三村秀和, 湯本博勝, 山村和也, 西野吉則, 玉作賢治, 矢橋牧名, 石川哲也

応用物理学会学術講演会講演予稿集　Vol. 65th　No. 2　2004年9月1日
Machining of next generation semiconductor materials by plasma chemical vaporization machining

Kazuya Yamamura, Yuzo Mori, Yasuhisa Sano

Abstracts of the 14th international conference on crystal growth, pp.606　Vol. pp.606　2004年8月
Microstitching Interferometry for hard X-ray nanofocusing mirrors

H. Mimura, H. Yumoto, K. Yamamura, Y. Sano, S. Matsuyama, K. Ueno, K. Endo, Y. Mori, M. Yabashi, K. Tamasaku, Y. Nishino, T. Ishikawa, K. Yamauchi

Proceedings of SPIE　Vol. 5533, 171-180　2004年8月
Wave-optical and ray-tracing analysis to establish a two dimensional focusing unit using K-B arrangement

S. Matsuyama, H. Mimura, K. Yamamura, H. Yumoto, Y. Sano, K. Endo, Y. Mori, M. Yabashi, K. Tamasaku, Y. Nishino, T. Ishikawa, K. Yamauchi

Proceedings of SPIE　Vol. 5533　p. 181-191　2004年8月
Fabrication technology of ultraprecise mirror optics to realize hard X-ray nanobeam, SPIE International Symposium, Optical Science and Technology

K. Yamauchi, K. Yamamura, H. Mimura, Y. Sano, S. Matsuyama, H. Yumoto, K. Ueno, M. Shibahara, K. Endo, M. Yabashi, K. Tamasaku, Y. Nishino, T. Ishikawa, Y. Mori

Proceedings of SPIE,　Vol. 5533　p. 116-123　2004年8月
Creation of perfect surfaces

Yuzo Mori, Kazuya Yamamura, Katsuyoshi Endo, Kazuto Yamauchi, Kiyoshi Yasutake, Hidekazu Goto, Hiroaki Kakiuchi, Yasuhisa Sano, Hidekazu Mimura

The 14th international conference on crystal growth　2004年8月
Image quality improvement in hard X-ray projection microscope using total reflection mirror optics

H. Mimura, K. Yamauchi, K. Yamamura, A. Kubota, S. Matsuyama, Y. Sano, K. Ueno, K. Endo, Y. Nishino, K. Tamasaku, M. Yabashi, T. Ishikawa, Y. Mori

Journal of Synchrotoron Radiation, 11, pp. 343-346.　Vol. 11, pp. 343-346/,　2004年7月
Image quality improvement in a hard X-ray projection microscope using total reflection mirror optics

H Mimura, K Yamauchi, K Yamamura, A Kubota, S Matsuyama, Y Sano, K Ueno, K Endo, Y Nishino, K Tamasaku, M Yabashi, T Ishikawa, Y Mori

JOURNAL OF SYNCHROTRON RADIATION　Vol. 11　p. 343-346　2004年7月
Thinning of silicon-on-insulator wafers by numerically controlled plasma chemical vaporization machining

Yuzo Mori, Kazuya Yamamura, Yasuhisa Sano

Review of Scientific Instruments, Vol. 75, No. 4, pp.942-946　Vol. 75　No. 4　p. 942-946　2004年4月
Thinning of silicon-on-insulator wafers by numerically controlled plasma chemical vaporization machining

Yuzo Mori, Kazuya Yamamura, Yasuhisa Sano

Review of Scientific Instruments　Vol. 75　No. 4　p. 942-946　2004年4月
Thinning of silicon-on-insulator wafers by numerically controlled plasma chemical vaporization machining

Y Mori, K Yamamura, Y Sano

REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS　Vol. 75　No. 4　p. 942-946　2004年4月
走査型X線顕微鏡のための楕円体ミラーを用いた二次元集光ユニットの開発

松山智至, 山内和人, 山村和也, 三村秀和, 佐野泰久, 玉作賢治, 矢橋牧名, 西野吉則, 石川哲也

応用物理学関係連合講演会講演予稿集　Vol. 51st　No. 2　2004年3月28日
27pPSA-45 第一原理分子動力学シミュレーションを用いたα-アルミナ表面の化学反応によるエッチングプロセスの探索(領域9ポスターセッション)(領域9)

掛谷悟史, 稲垣耕司, 山村和也, 佐野泰久, 広瀬喜久冶, 遠藤勝義

日本物理学会講演概要集　Vol. 59　No. 1　p. 899-899　2004年3月3日
出版者・発行元：一般社団法人日本物理学会
Fabrication technology for hard X-ray reflective optics

Y. Mori, K. Yamuchi, K. Yamamura, H. Mimura, Y.Sano, S. Matsuyama, K. Endo, Y. Nishino, K. Tamasaku, M. Yabashi, T. Ishikawa

Proceedings of Second International Workshop on Metrology for X-ray Optics　2004年3月
STMによるSi(011),(111)ウエハ超精密加工表面の原子構造解析

加藤潤, 久保田章亀, 有馬健太, 山村和也, 山内和人, 遠藤勝義, 森勇藏

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2004　No. 0　p. 384-384　2004年
出版者・発行元：The Japan Society for Precision Engineering
干渉計を用いた楕円体ミラーの形状計測:高精度スティッチング法の開発

湯本博勝, 山内和人, 三村秀和, 松山智至, 山村和也, 佐野泰久, 遠藤勝義, 石川哲也, 森勇藏

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2004　No. 0　p. 116-116　2004年
出版者・発行元：The Japan Society for Precision Engineering
Fabrication technology for hard X-ray reflective optics

Proceedings of Second International Workshop on Metrology for X-ray Optics　2004年
数値制御プラズマＣＶＭによる次世代超薄膜ＳＯＩウエハの製作

佐野泰久, 山村和也, 遠藤勝義, 森勇藏

大阪大学低温センターだより，125,11-15　Vol. 125,11-15　p. 11-15　2004年1月
出版者・発行元：大阪大学低温センター
原子の滑らかさの加工技術

O plus E, Vol. 26, No.1, pp.36-42　Vol. Vol. 26, No.1, pp.36-42　2004年
Microstitching interferometry for nano focusing mirror optics

H Mimura, H Yumoto, S Matsuyama, K Yamamura, Y Sano, K Ueno, K Endo, Y Mori, M Yabashi, K Tamasaku, Y Nishino, T Ishikawa, K Yamauchi

ADVANCES IN MIRROR TECHNOLOGY FOR X-RAY, EUV LITHOGRAPHY, LASER, AND OTHER APPLICATIONS II　Vol. 5533　p. 171-180　2004年
Creation of perfect surfaces

2004年
数値制御プラズマＣＶＭによる次世代超薄膜ＳＯＩウエハの製作

森勇蔵, 佐野泰久, 山村和也, 遠藤勝義, ヤマムラカズヤ, モリユウゾウ, エンドウカツヨシ, サノヤスヒサ

大阪大学低温センターだより，125,11-15　Vol. 125,11-15/,　p. 11-15　2004年
出版者・発行元：大阪大学低温センター
原子の滑らかさの加工技術

O plus E, Vol. 26, No.1, pp.36-42　Vol. Vol. 26, No.1, pp.36-42/,　2004年
Machining of next generation semiconductor materials by plasma chemical vaporization machining

Abstracts of the 14th international conference on crystal growth, pp.606　Vol. pp.606　2004年
Quality improvement in hard X-ray projection microscope using total reflection mirror optics.

J. Synchrotron Rad.　Vol. Vol. 11, pp. 343-346./,　2004年
Ultra-precision machining technology of realizing atomically smooth surface

O plus E, Vol. 26, No.1, pp.36-42　Vol. Vol. 26, No.1, pp.36-42　2004年
Image quality improvement in hard X-ray projection microscope using total reflection mirror optics

Journal of Synchrotoron Radiation, 11, pp. 343-346.　Vol. 11, pp. 343-346　2004年
Fabrication technology of ultraprecise mirror optics to realize hard X-ray nanobeam

K Yamauchi, K Yamamura, H Mimura, Y Sano, S Matsuyama, H Yumoto, K Ueno, M Shibahara, K Endo, M Yabashi, K Tamasaku, Y Nishino, T Ishikawa, Y Mori

ADVANCES IN MIRROR TECHNOLOGY FOR X-RAY, EUV LITHOGRAPHY, LASER, AND OTHER APPLICATIONS II　Vol. 5533　p. 116-123　2004年
Creation of perfect surfaces

Abstracts the 14th international conference on crystal growth, pp.211　2004年
原子の滑らかさの加工技術

森勇藏, 山村和也, 山内和人, 佐野泰久, 三村秀和

O plus E, Vol. 26, No.1, pp.36-42　Vol. Vol. 26, No.1, pp.36-42　2004年1月
出版者・発行元：(株)新技術コミュニケーションズ
Development of a figure correction method having spatial resolution close to 0.1mm

Y Mori, K Yamauchi, K Yamamura, H Mimura, Y Sano, A Saito, K Endo, A Souvorov, M Yabashi, K Tamasaku, T Ishikawa

ADVANCES IN MIRROR TECHNOLOGY FOR X-RAY, EUV LITHOGRAPHY, LASER, AND OTHER APPLICATIONS　Vol. 5193　p. 105-111　2004年
Fabrication technology for hard X-ray reflective optics

Proceedings of Second International Workshop on Metrology for X-ray Optics　2004年
Microstitching Interferometry for hard X-ray nanofocusing mirrors

Proceedings of SPIE　Vol. 5533, 171-180/,　2004年
Wave-optical and ray-tracing analysis to establish a compact two-dimensional focusing unit using K-B mirror arrangement

S Matsuyama, H Mimura, K Yamamura, H Yumoto, Y Sano, K Endo, Y Mori, M Yabashi, K Tamasaku, Y Nishino, T Ishikawa, K Yamauchi

ADVANCES IN MIRROR TECHNOLOGY FOR X-RAY, EUV LITHOGRAPHY, LASER, AND OTHER APPLICATIONS II　Vol. 5533　p. 181-191　2004年
Ultra-precision machining technology of realizing atomically smooth surface

O plus E, Vol. 26, No.1, pp.36-42　Vol. Vol. 26, No.1, pp.36-42/,　2004年
Machining of next generation semiconductor materials by plasma chemical vaporization machining

Abstracts of the 14th international conference on crystal growth, pp.606　Vol. pp.606　2004年
Ultraviolet Emission Spectroscopy and Absorption Spectroscopy of CF2 Radical in Chemical Vaporization Machining (CVM) Plasma Generated with High Speed Rotating Cylindrical Electrode

Yasushi Oshikane, Shinya Sato, Akihiko Nagao, Kazuya Yamamura, Katsuyoshi Endo, Yuzo Mori

Technical Program of AVS 50th　2003年11月
Two-dimensional submicron focusing of hard X-rays by two elliptical mirrors fabricated by plasma chemical vaporization machining and elastic emission machining

K Yamauchi, K Yamamura, H Mimura, Y Sano, A Saito, K Endo, A Souvorov, M Yabashi, K Tamasaku, T Ishikawa, Y Mori

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS　Vol. 42　No. 11　p. 7129-7134　2003年11月
Two-dimensional Submicron Focusing of Hard X-rays by Two Elliptical Mirrors Fabricated by Plasma Chemical Vaporization Machining and Elastic Emission Machining

Kazuto Yamauchi, Kazuya Yamamura, Hidekazu Mimura, Yasuhisa Sano, Akira Saito, Katsuyoshi Endo, Alexei Souvorov, Makina Yabashi, Kenji Tamasaku, Tetsuya Ishikawa, Yuzo Mori

Jpn. J. Appl. Phys., Vol.42, No.11, pp.7129-7134　Vol. 42　No. 11　p. 7129-7134　2003年11月
Fabrication of elliptical mirror at nanometer-level accuracy for hard x-ray focusing by numerically controlled plasma chemical vaporization machining.

K. Yamamura, K. Yamauchi, H. Mimura, Y. Sano, A. Saito, K. Endo, A. Souvorov, M. Yabashi, K. Tamasaku, T. Ishikawa, Y. Mori

Review of Sceintific Instruments, 74, (10), pp.4549-4553　Vol. 74　No. 10　p. 4549-4553　2003年10月
Fabrication of elliptical mirror at nanometer-level accuracy for hard x-ray focusing by numerically controlled plasma chemical vaporization machining

K Yamamura, K Yamauchi, H Mimura, Y Sano, A Saito, K Endo, A Souvorov, M Yabashi, K Tamasaku, T Ishikawa, Y Mori

REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS　Vol. 74　No. 10　p. 4549-4553　2003年10月
Fabrication technology of hard X-ray aspherical mirror optics and application to nanospectroscopy

Y. Mori, K. Yamauchi, K. Yamamura, H. Mimura, Y. Sano, A. Saito, K. Endo, A. Souvorov, M. Yabashi, K. Tamasaku, T. Ishikawa, M. Shimura, Y. Ishizaka

Proc. SPIE 5193, pp.11-17　Vol. 5193, pp.11-17/,　2003年8月
Development of a figure correction method having spatial resolution close to 0.1mm

Y. Mori, K. Yamauchi, K. Yamamura, H. Mimura, Y. Sano, A. Saito, K. Endo, A. Souvorov, M. Yabashi, K. Tamasaku, T. Ishikawa

Proc. SPIE 5193, pp.105-111　Vol. 5193　p. 105-111　2003年8月
硬Ｘ線用斜入射平面ミラーの形状誤差が反射Ｘ線強度・位相分布に及ぼす影響の波動光学的評価

山内和人, 山村和也, 三村秀和, 佐野泰久, 齋藤彰, 久保田章亀, 金岡政彦, Alexei Souvorov, 玉作賢治, 矢橋牧名, 石川哲也, 森勇藏

精密工学会誌, 69, 2003, 997-1001　Vol. 69, 997-1001/,　No. 7　p. 997-1001　2003年7月
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
高精度X線ミラーのための干渉計を利用した形状計測システムの開発

山内和人, 山村和也, 三村秀和, 佐野泰久, 久保田章亀, 関戸康裕, 上野一匡, Alexei Souvorov, 玉作賢治, 矢橋牧名, 石川哲也, 森勇藏

精密工学会誌, 69, 6, 856-860　Vol. 69　No. 6　p. 856-860　2003年6月
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
Microstitching interferometry for x-ray reflective optics

K. Yamauchi, K. Yamamura, H. Mimura, Y. Sano, A. Saito, K. Ueno, K. Endo, A. Souvorov, M. Yabashi, K. Tamasaku, T. Ishikawa, Y. Mori

Review of Scientific Instruments 74 (2003) 2894-2898.　Vol. 74　No. 5　p. 2894-2898　2003年5月
数値制御プラズマCVM(Chemical Vaporization Machining)によるSOIの薄膜化－デバイス用基板としての加工面の評価－

森勇藏, 佐野泰久, 山村和也, 森田諭, 森田瑞穂, 大嶋一郎, 斉藤祐司, 須川成利, 大見忠弘

精密工学会誌 69 (2003) 721-725.　Vol. 69 721-725　No. 5　p. 721-725　2003年5月
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
Microstitching interferometry for x-ray reflective optics

K Yamauchi, K Yamamura, H Mimura, Y Sano, A Saito, K Ueno, K Endo, A Souvorov, M Yabashi, K Tamasaku, T Ishikawa, Y Mori

REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS　Vol. 74　No. 5　p. 2894-2898　2003年5月
プラズマCVMおよびEEMによる超高精度X線ミラーの作製とその応用

森勇藏, 山内和人, 山村和也, 三村秀和, 佐野泰久, 久保田章亀, 遠藤勝義, Alexei Souvorov, 玉作賢治, 矢橋牧名, 石川哲也

精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2003　No. 0　p. 388-388　2003年
出版者・発行元：The Japan Society for Precision Engineering
加工技術データファイル基礎編（特殊加工）、5.7プラズマＣＶＭ

（財）機械振興協会技術研究所　2003年
Crystal Growth Technology(Plasma-CVM(Chemical Vaporization Machining))

John Wiley & Sons　Vol. pp. 587-606　2003年
Ultraprecision Machining based on Physics and Chemistry

Yuzo Mori, Kikuji Hirose, Kazuto Yamauchi, Hidekazu Goto, Kazuya Yamamura, Yasuhisa Sano

Sensors and Materials Sensors and Materials　Vol. 15　No. 1　p. 001-019　2003年1月
Ultraviolet Emission Spectroscopy and Absorption Spectroscopy of CF2 Radical in Chemical Vaporization Machining (CVM) Plasma Generated with High Speed Rotating Cylindrical Electrode

Technical Program of AVS 50th　2003年
数値制御プラズマCVM(Chemical Vaporization Machining)によるSOIの薄膜化－デバイス用基板としての加工面の評価－

精密工学会誌 69 (2003) 721-725.　Vol. 69 721-725　2003年
高精度X線ミラーのための干渉計を利用した形状計測システムの開発

精密工学会誌, 69, 6, 856-860　Vol. 69, 6, 856-860　2003年
硬Ｘ線用斜入射平面ミラーの形状誤差が反射Ｘ線強度・位相分布に及ぼす影響の波動光学的評価

精密工学会誌, 69, 2003, 997-1001　Vol. 69, 997-1001　2003年
Fabrication technology of hard X-ray aspherical mirror optics and application to nanospectroscopy

Proc. SPIE 5193, pp.11-17　Vol. 5193, pp.11-17　2003年
数値制御プラズマCVM(Chemical Vaporization Machining)によるSOIの薄膜化－デバイス用基板としての加工面の評価－

森勇藏, 佐野泰久, 山村和也, 森田諭, 森田瑞穂, 大嶋一郎, 斉藤祐司, 須川成利, 大見忠弘

精密工学会誌 69 (2003) 721-725.　Vol. 69 721-725　No. 5　p. 721-725　2003年
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
高精度X線ミラーのための干渉計を利用した形状計測システムの開発

山内和人, 山村和也, 三村秀和, 佐野泰久, 久保田章亀, 関戸康裕, 上野一匡, SOUVOROV Alexei, 玉作賢治, 矢橋牧名, 石川哲也, 森勇藏

精密工学会誌, 69, 6, 856-860　Vol. 69, 6, 856-860/,　No. 6　p. 856-860　2003年
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
硬Ｘ線用斜入射平面ミラーの形状誤差が反射Ｘ線強度・位相分布に及ぼす影響の波動光学的評価

精密工学会誌, 69, 2003, 997-1001　Vol. 69, 997-1001/,　2003年
硬Ｘ線用斜入射平面ミラーの形状誤差が反射Ｘ線強度・位相分布に及ぼす影響の波動光学的評価

精密工学会誌　Vol. Vol. 69, pp. 997-1001./,　2003年
高精度X線ミラーのための干渉計を利用した形状計測システムの開発

精密工学会誌　Vol. Vol. 69, pp. 856-860./,　2003年
数値制御プラズマCVM(Chemical Vaporization Machining)によるSOIの薄膜化－デバイス用基板としての加工面の評価－

精密工学会誌　Vol. Vol. 69, pp. 721-725./,　2003年
Fabrication of elliptical mirror at nanometer-level accuracy for hard x-ray focusing by numerically controlled plasma chemical vaporization machining.

Rev. Sci. Instrum.　Vol. Vol. 74, pp. 4549-4553./,　2003年
Crystal Growth Technology(Plasma-CVM(Chemical Vaporization Machining))

John Wiley & Sons　Vol. pp. 587-606　2003年
硬X線用斜入射平面ミラーの形状誤差が反射X線強度・位相分布に及ぼす影響の波動光学的評価

山内和人, 山村和也, 三村秀和, 佐野泰久, 齋藤彰, 久保田章亀, 金岡政彦, SOUVOROV Alexei, 玉作賢治, 矢橋牧名, 石川哲也, 森勇蔵

精密工学会誌　Vol. 69, 997-1001　No. 7　p. 997-1001　2003年
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
Ultraprecision Machining based on Physics and Chemistry

Yuzo Mori, Kikuji Hirose, Kazuto Yamauchi, Hidekazu Goto, Kazuya Yamamura, Yasuhisa Sano

2003年1月
数値制御プラズマCVM (Chemical Vaporization Machining)によるSOIの薄膜化 : デバイス用基板としての加工面の評価

森勇藏, 佐野泰久, 山村和也, 森田諭, 森田瑞穂, 大嶋一郎, 斉藤祐司, 須川成利, 大見忠弘

精密工学会誌　Vol. 69 721-725　No. 5　p. 721-725　2003年
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
Development of the Measurement System with Interferometers for Ultraprecise X-ray mirror

Vol. 69, 6, 856-860　2003年
Wave-optical evaluation of reflected X-ray intensity and wavefront distribution in total reflection hard X-ray mirror optics

Vol. 69, 997-1001　2003年
Fabrication technology of hard X-ray aspherical mirror optics and application to nanospectroscopy

Proc. SPIE 5193, pp.11-17　Vol. 5193, pp.11-17　2003年
Ultraprecision Machining based on Physics and Chemistry

Sensors and Materials, Vol. 15, No. 1 (2003), pp.1-19.　2003年
Ultraviolet Emission Spectroscopy and Absorption Spectroscopy of CF2 Radical in Chemical Vaporization Machining (CVM) Plasma Generated with High Speed Rotating Cylindrical Electrode

Technical Program of AVS 50th　2003年
Thinning of SOI by numerically controlled Plasma CVM(Chemical Vaporization Machining) -Evalation of Machined Surface for Electron Devices-

Vol. 69 721-725　2003年
Development of the Measurement System with Interferometers for Ultraprecise X-ray mirror

Vol. 69, 6, 856-860/,　2003年
Wave-optical evaluation of reflected X-ray intensity and wavefront distribution in total reflection hard X-ray mirror optics

Vol. 69, 997-1001/,　2003年
Fabrication technology of hard X-ray aspherical mirror optics and application to nanospectroscopy

Proc. SPIE 5193, pp.11-17　Vol. 5193, pp.11-17/,　2003年
数値制御プラズマCVM(Chemical Vaporization Machining)によるSOIの薄膜化

森勇藏, 山村和也, 佐野泰久

精密工学会誌, Vol.68, No.12, p.1590-1594　Vol. Vol.68, No.12, p.1590-1594/,　No. 12　p. 1590-1594　2002年12月
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
プラズマCVMプロセス中のCF, CF_2ラジカルの分光計測 : レーザー誘起蛍光分光と紫外線吸収分光とによるラジカル密度分布診断

押鐘寧, 佐藤慎也, 山村和也, 遠藤勝義, 片岡俊彦, 森勇藏

精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 2002　No. 2　p. 461-461　2002年10月1日
プラズマCVMおよびEEMによる放射光用X線ミラーの作製とその応用 : 二枚の平面ミラーを用いたX線干渉計の開発

森勇藏, 山内和人, 山村和也, 三村秀和, 佐野泰久, 齋藤彰, SOUVOROV A, 矢橋牧名, 玉作賢治, 石川哲也

精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 2002　No. 2　p. 458-458　2002年10月1日
プラズマCVMおよびEEMによる放射光用X線ミラーの作製とその応用 : 硬X線顕微鏡の開発

森勇蔵, 山内和人, 山村和也, 三村秀和, 佐野泰久, 斉藤彰, SOUVOROV Alexei, 矢橋牧名, 玉作賢治, 石川哲也

精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 2002　No. 2　p. 458-458　2002年10月1日
プラズマCVMおよびEEMによるシンクロトロン放射X線用楕円ミラーの作製と集光特性の評価

森勇藏, 山内和人, 山村和也, 三村秀和, 佐野泰久, 斎藤彰, Alexei SOUVOROV, 玉作賢治, 矢橋牧名, 石川哲也

精密工学会誌　Vol. 68　No. 10　p. 1347-1350　2002年10月
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
プラズマCVMおよびEEMによるシンクロトロン放射X線用楕円ミラーの作製と集光特性の評価

森勇藏, 山内和人, 山村和也, 三村秀和, 佐野泰久, 齋藤彰, Alexei Souvorov, 玉作賢治, 矢橋牧名, 石川哲也

精密工学会誌, Vol.68, p.1347-1350　Vol. 68　No. 10　p. 1347-1350　2002年10月
コヒーレント照射でのＸ線全反射ミラー

石川哲也, 矢橋牧名, 玉作賢治, スボロフアレクセイ, 山内和人, 山村和也, 三村秀和, 齋藤彰, 森勇藏

放射光, Vol.15, p.296-302　Vol. Vol.15, p.296-302　2002年9月
Nearly diffraction-limited line focusing of a hard-X-ray beam with an elliptically figured mirror

K Yamauchi, K Yamamura, H Mimura, Y Sano, A Saito, A Souvorov, M Yabashi, K Tamasaku, T Ishikawa, Y Mori

JOURNAL OF SYNCHROTRON RADIATION　Vol. 9　p. 313-316　2002年9月
Deterministic retrieval of surface waviness by means of topography with coherent X-rays

A. Souvorov, M. Yabashi, K. Tamasaku, T. Ishikawa, Y. Mori, K. Yamauchi, K. Yamamura, A. Saito

J. Synchrotron Rad., Vol.9, p.223-228　Vol. Vol.9, p.223-228/,　2002年9月
Nearly diffraction-limited line focusing of a hard-X-ray beam with an elliptically figured mirror

K. Yamauchi, K. Yamamura, H. Mimura, Y. Sano, A. Saito, A. Souvorov, M. Yabashi, K. Tamasaku, T. Ishikawa, Y. Mori

J. Synchrotron Rad., vol.9, p.313-316　Vol. 9　p. 313-316　2002年9月
Nearly diffraction-limited line focusing of a hard-X-ray beam with an elliptically figured mirror

Kazuto Yamauchi, Kazuya Yamamura, Hidekazu Mimura, Yasuhisa Sano, Akira Saito, Alexei Souvorov, Makina Yabashi, Kenji Tamasaku, Tetsuya Ishikawa, Yuzo Mori

Journal of Synchrotron Radiation　Vol. 9　No. 5　p. 313-316　2002年9月1日
Aspheric surface fabrication in nm-level accuracy by numerically controlled plasma CVM and EEM

K. Yamamura, H. Mimura, K. Yamauchi, Y. Sano, A. Saito, T. Kinoshita, K. Endo, A. Souvorov, M. Yabashi, K. Tamasaku, T. Ishikawa, Y. Mori

Proc. SPIE, Vol.4782　Vol. Vol.4782　2002年7月
Wave-optical analysis of sub-micron focusing of hard X-ray by reflective optics

K. Yamauchi, K. Yamamura, H. Mimura, Y. Sano, A. Saito, M. Kanaoka, K. Endo, A. Souvorov, M. Yabashi, K. Tamasaku, T. Ishikawa, Y. Mori

Proc. SPIE, Vol.4782　Vol. Vol.4782　2002年7月
Fabrication of optics by use of plasma chemical vaporization machining with a pipe electrode

H. Takino, N. Shibata, H. Itoh, T. Kobayashi, K. Yamamura, Y. Sano, Y. Mori

Appl. Optics, Vol.41, p.3971-3977　Vol. Vol.41, p.3971-3977/,　2002年7月
Fabrication of optics by use of plasma chemical vaporization machining with a pipe electrode

H Takino, N Shibata, H Itoh, T Kobayashi, K Yamamura, Y Sano, Y Mori

APPLIED OPTICS　Vol. 41　No. 19　p. 3971-3977　2002年7月
Sub-micron focusing of hard X-ray by reflective optics for scanning x-ray microscopy

Y. Mori, K. Yamauchi, K. Yamamura, H. Mimura, Y. Sano, A. Saito, K. Ueno, K. Endo, A. Souvorov, M. Yabashi, K. Tamasaku, T. Ishikawa

SPIE Vol.4782　Vol. Vol.4782　p. 58-58　2002年7月
Deterministic retrieval of surface waviness by means of topography with coherent X-rays

A. Souvorov, M. Yabashi, K. Tamasaku, T. Ishikawa, Y. Mori, K. Yamauchi, K. Yamamura, A. Saito

Journal of Synchrotron Radiation　Vol. 9　No. 4　p. 223-228　2002年7月1日
Sub-micron focusing by reflective optics for scanning x-ray microscopy

Y. Mori, K. Yamauchi, K. Yamamura, H. Mimura, Y. Sano, A. Saito, K. Ueno, K. Endo, A. Souvorov, M. Yabashi, K. Tamasaku, T. Ishikawa

Proc. SPIE　Vol. 4782　p. 58-64　2002年7月
Fabrication of optics by use of plasma chemical vaporization machining with a pipe electrode

Hideo Takino, Norio Shibata, Hiroshi Itoh, Teruki Kobayashi, Kazuya Yamamura, Yasuhisa Sano, Yuzo Mori

Applied Optics　Vol. 41　No. 19　p. 3971-3977　2002年7月1日
Deterministic retrieval of surface waviness by means of topography with coherent X-rays

A Souvorov, M Yabashi, K Tamasaku, T Ishikawa, Y Mori, K Yamauchi, K Yamamura, A Saito

JOURNAL OF SYNCHROTRON RADIATION　Vol. 9　p. 223-228　2002年7月
Ultra-Precision Machining based on Physics and Chemistry

Y. Mori, K. Hirose, K. Yamauchi, H. Goto, K. Yamamura, Y. Sano

Proceedings of Proceedings of 3rd Workshop on Physical Chemistry of Wet Etching of Silicon, p.10-26　2002年6月
プラズマCVMによるSOlの数値制御薄膜化:薄膜化した8インチSOlウエハのデバイス特性

森勇蔵, 山村和也, 佐野泰久, 上島洋輝, 沖一郎, 伊佐次晃司

精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 2002　No. 1　p. 608-608　2002年3月1日
プラズマCVMおよびEEMによるX線平面ミラーの加工と放射光による評価

森勇蔵, 山内和人, 山村和也, 三村秀和, 佐野泰久, 斉藤彰, 金岡政彦, SOUVOROV A, 矢橋牧名, 玉作賢治, 石川哲也

精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 2002　No. 1　p. 605-605　2002年3月1日
数値制御プラズマCVMおよび数値制御EEMによる硬X線集光用超精密非球面ミラーの加工

森勇蔵, 山内和人, 山村和也, 三村秀和, 佐野泰久, 斉藤彰, SOUVOROV A, 矢橋牧名, 玉作賢治, 石川哲也

精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 2002　No. 1　p. 604-604　2002年3月1日
プラズマCVMおよびEEMによるシンクロトロン放射X線用楕円ミラーの作製と集光特性の評価

精密工学会誌, Vol.68, p.1347-1350　Vol. Vol.68, p.1347-1350　2002年
数値制御プラズマCVM(Chemical Vaporization Machining)によるSOIの薄膜化

精密工学会誌, Vol.68, No.12, p.1590-1594　Vol. Vol.68, No.12, p.1590-1594　2002年
Sub-micron focusing of hard X-ray by reflective optics for scanning x-ray microscopy

SPIE Vol.4782　Vol. Vol.4782　2002年
コヒーレント照射でのＸ線全反射ミラー

放射光, Vol.15, p.296-302　Vol. Vol.15, p.296-302/,　2002年
プラズマCVMおよびEEMによるシンクロトロン放射X線用楕円ミラーの作製と集光特性の評価

精密工学会誌, Vol.68, p.1347-1350　Vol. Vol.68, p.1347-1350/,　2002年
数値制御プラズマCVM(Chemical Vaporization Machining)によるSOIの薄膜化

精密工学会誌, Vol.68, No.12, p.1590-1594　Vol. Vol.68, No.12, p.1590-1594/,　2002年
Ultra-Precision Machining based on Physics and Chemistry

Proceedings of Proceedings of 3rd Workshop on Physical Chemistry of Wet Etching of Silicon, p.10-26　Vol. p.10-26　2002年
Aspheric surface fabrication in nm-level accuracy by numerically controlled plasma CVM and EEM

Proc. SPIE, Vol.4782　Vol. Vol.4782　2002年
Wave-optical analysis of sub-micron focusing of hard X-ray beams by reflective optics

K Yamauchi, K Yamamura, H Mimura, Y Sano, A Saito, M Kanaoka, K Endo, A Souvorov, M Yabashi, K Tamasaku, T Ishikawa, Y Mori

X-RAY MIRRORS, CRYSTALS, AND MULTILAYERS II　Vol. 4782　p. 271-276　2002年
数値制御プラズマCVM(Chemical Vaporization Machining)によるSOIの薄膜化－加工装置の開発と超薄膜SOIウエハの試作－

精密工学会誌　Vol. Vol. 68, pp. 1590-1594./,　2002年
Fabrication of the Elliptical Mirror for Synchrotron hard X-ray by Plasma Chemical Vaporization Machining and Elastic Emission Machining and the Evaluation of the Focusing Performances

Jouranal of the Japan Society for Precision Engineering, Vol.68, p.1347-1350　Vol. Vol.68, p.1347-1350　2002年
Thinning of SOI by numerically controlled plasma CVM(chemical vaporization machining) -Development of the NC-PCVM machine and trial of ultra-thin SOI wafer-

Vol. Vol.68, No.12, p.1590-1594　2002年
Fabrication of optics by use of plasma chemical vaporization machining with a pipe electrode

Vol. Vol.41, p.3971-3977　2002年
Ultra-Precision Machining based on Physics and Chemistry

Vol. p.10-26　2002年
Aspheric surface fabrication in nm-level accuracy by numerically controlled plasma CVM and EEM

Vol. Vol.4782　2002年
Fabrication of optics by use of plasma chemical vaporization machining with a pipe electrode

Vol. Vol.41, p.3971-3977/,　2002年
Sub-micron focusing of hard X-ray by reflective optics for scanning x-ray microscopy

Vol. Vol.4782　2002年
Wave-optical analysis of sub-micron focusing of hard X-ray beams by reflective optics

K. Yamauchi, K. Yamamura, H. Mimura, Y. Sano, A. Saito, M. Kanaoka, K. Endo, A. Souvorov, M. Yabashi, K. Tamasaku, T. Ishikawa, Y. Mori

Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering　Vol. 4782　p. 271-276　2002年
Electric Impedance Measurement and Pulsed OPO Laser Induced Fluorescence Study of Capacitively Coupled VHF Plasma (He/CF4/O2) at Atmospheric Pressure for Chemical Vaporization Machining (CVM) Process

Yasushi Oshikane, Shoichi Kawashima, Kenichi Takemoto, Kazuya Yamamura, Katsuyoshi Endo, Yuzo Mori

Program of the 54th Annual Gaseous Electronics Conference, (2001) 62.　Vol. 62　2001年10月
レーザ誘起蛍光分光法による大気圧・高周波CF_4プラズマ中のラジカル密度の空間分布計測

押鐘寧, 川島祥一, 竹本健一, 山村和也, 遠藤勝義, 森勇蔵

精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 2001　No. 2　p. 234-234　2001年9月1日
プラズマCVMにおける高融点金属材料の加工特性

柴原正文, 山村和也, 佐野泰久, 森勇蔵

精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 2001　No. 2　p. 231-231　2001年9月1日
プラズマCVMにおける基礎研究 : 単結晶シリコンの加工における加工条件と表面粗さの相関

森勇蔵, 山村和也, 佐野泰久, 鴻池満司

精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 2001　No. 2　p. 233-233　2001年9月1日
数値制御プラズマCVMによるX線ミラーの加工に関する研究(第2報)

森勇蔵, 山村和也, 佐野泰久, 岸本宏樹

精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 2001　No. 2　p. 229-229　2001年9月1日
プラズマCVMによるSOIの数値制御薄膜化 : 加工面のデバイス特性評価

森勇蔵, 山村和也, 佐野泰久, 上島洋輝

精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 2001　No. 2　p. 228-228　2001年9月1日
プラズマCVMによる光学部品の超精密加工 : 薄肉光学部品の加工特性

瀧野日出雄, 小林輝紀, 柴田規夫, 山村和也, 佐野泰久, 森勇蔵

精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 2001　No. 2　p. 230-230　2001年9月1日
超精密非球面形状計測装置の開発 : ゴニオメータの角度位置決め精度の検証

東保男, 杉山弘, 張小威, 安藤正海, 遠藤勝義, 山内和人, 山村和也, 打越純一, 森勇蔵

精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 2001　No. 2　p. 133-133　2001年9月1日
プラズマCVMおよびEEMによるX線光学素子の加工と放射光による評価

森勇蔵, 山内和人, 山村和也, 三村秀和, 斉藤彰, 岸本宏樹, 関戸康裕, 金岡政彦

精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 2001　No. 2　p. 240-240　2001年9月1日
Development of plasma chemical vaporization machining and elastic emission machining systems for coherent x-ray optics

Y. Mori, K. Yamauchi, K. Yamamura, H. Mimura, A. Saito, H. Kishimoto, Y. Sekito, M. Kanaoka, A. Souvorov, M. Yabashi, K. Tamasaku, T. Ishikawa

Proc. SPIE, Vol.4501, p.30-42　Vol. 4501　p. 30-42　2001年7月
Removal Characteristics of Plasma Chemical Vaporization Machining with a Pipe Electrode

Hideo Takino, Teruyuki Kobayashi, Norio Shibata, Kazuya Yamamura, Yasuhisa Sano, Yuzo Mori

Proc. 2nd International Conference of European Society for Precision Engeneering and Nanotechnology　p. 58-61　2001年6月
プラズマCVM(Chemical Vaporization Machining)による超精密加工

山村和也, 佐野泰久, 森勇藏

表面科学, Vol.~22, No.~3, pp.~160-166　Vol. 22　No. 3　p. 160-166　2001年3月
プラズマCVMによる機能材料の切断加工 ---内周刃型切断加工装置の試作とその切断加工特性---

森勇藏, 山内和人, 山村和也, 佐野泰久

精密工学会誌, Vol.~67, No.~2, pp.~295-299　Vol. Vol.~67, No.~2, pp.~295-299/,　2001年2月
プラズマCVMによる機能材料の切断加工 : 内周刃型切断加工装置の試作とその切断加工特性

森勇藏, 山内和人, 山村和也, 佐野泰久

精密工学会誌　Vol. 67　No. 2　p. 295-299　2001年2月
プラズマCVM(Chemical Vaporization Machining)による超精密加工

表面科学, Vol.~22, No.~3, pp.~160-166　Vol. Vol.~22, No.~3, pp.~160-166　2001年
数値制御プラズマCVMによるX線ミラーの加工に関する研究（第1報）---X線ミラー加工用装置の開発---

精密工学会誌, Vol.~67, No.~1, pp.~131-136　Vol. Vol.~67, No.~1, pp.~131-136　2001年
Electric Impedance Measurement and Pulsed OPO Laser Induced Fluorescence Study of Capacitively Coupled VHF Plasma (He/CF4/O2) at Atmospheric Pressure for Chemical Vaporization Machining (CVM) Process

Program of the 54th Annual Gaseous Electronics Conference, (2001) 62.　Vol. 62　2001年
プラズマCVMによる機能材料の切断加工 ---内周刃型切断加工装置の試作とその切断加工特性---

精密工学会誌, Vol.~67, No.~2, pp.~295-299　Vol. Vol.~67, No.~2, pp.~295-299　2001年
Removal Characteristics of Plasma Chemical Vaporization Machining with a Pipe Electrode

Proc. 2nd International Conference of European Society for Precision Engeneering and Nanotechnology　2001年
数値制御プラズマCVMによるX線ミラーの加工に関する研究（第1報）---X線ミラー加工用装置の開発---

森勇藏, 山村和也, 佐野泰久

精密工学会誌, Vol.~67, No.~1, pp.~131-136　Vol. Vol.~67, No.~1, pp.~131-136/,　No. 1　p. 131-136　2001年
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
プラズマCVMによる機能材料の切断加工 ---内周刃型切断加工装置の試作とその切断加工特性---

精密工学会誌, Vol.~67, No.~2, pp.~295-299　Vol. Vol.~67, No.~2, pp.~295-299/,　2001年
プラズマCVM(Chemical Vaporization Machining)による超精密加工

表面科学, Vol.~22, No.~3, pp.~160-166　Vol. Vol.~22, No.~3, pp.~160-166/,　2001年
Development of plasma chemical vaporization machining and elastic emission machining systems for coherent x-ray optics

Y Mori, K Yamauchi, K Yamamura, H Mimura, A Saito, H Kishimoto, Y Sekito, M Kanaoka

X-RAY MIRRORS, CRYSTALS AND MULTILAYERS　Vol. 4501　p. 30-42　2001年
プラズマCVMによる機能材料の切断加工-内周刃型切断加工装置の試作とその切断加工特性-

森勇藏, 山内和人, 山村和也, 佐野泰久

精密工学会誌　Vol. 67　No. 2　p. 295-299　2001年
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
数値制御プラズマCVMによるX線ミラーの加工に関する研究(第1報)-X線ミラー加工用装置の開発-

森勇藏, 山村和也, 佐野泰久

精密工学会誌　Vol. 67　No. 1　p. 131-136　2001年
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
The Study of Fabrication of the X-ray Mirror by Numerically Controlled Plasma CVM (1st Report) ---Development of the Machine for the X-ray Mirror Fabrication---

Vol. Vol.~67, No.~1, pp.~131-136　2001年
Cutting og Functional Material by Plasma CVM ---Development of the Cutting Machine with Inner Blade Electrode and Its Cutting Characteristics---

Vol. Vol.~67, No.~2, pp.~295-299　2001年
Ultra-precision Machining by Plasma CVM

Vol. Vol.~22, No.~3, pp.~160-166　2001年
数値制御プラズマCVMによるX線ミラーの加工に関する研究（第1報）---X線ミラー加工用装置の開発---

森勇藏, 山村和也, 佐野泰久

精密工学会誌, Vol.~67, No.~1, pp.~131-136　Vol. Vol.~67, No.~1, pp.~131-136/,　2001年1月
Electric Impedance Measurement and Pulsed OPO Laser Induced Fluorescence Study of Capacitively Coupled VHF Plasma (He/CF4/O2) at Atmospheric Pressure for Chemical Vaporization Machining (CVM) Process

Vol. 62　2001年
Ultra-precision Machining by Plasma CVM

Vol. Vol.~22, No.~3, pp.~160-166/,　2001年
Removal Characteristics of Plasma Chemical Vaporization Machining with a Pipe Electrode

2001年
Development of plasma chemical vaporization machining and elastic emission machining systems for coherent X-ray optics

Y. Mori, K. Yamauchi, K. Yamamura, H. Mimura, A. Saito, H. Kishimoto, Y. Sekito, M. Kanaoka, A. Souvorov, M. Yabashi, K. Tamasaku, T. Ishikawa

Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering　Vol. 4501　p. 30-42　2001年
The Study of fabrication of the x-ray mirror by numerically controlled plasma CVM(1st-report)-Development of the machine for the x-ray mirror fabrication-

Journal of the Japan Society for Precision Engineering　Vol. 67　No. 1　2001年
Development of Plasma Chemical Vaporization Machining

Yuzo Mori, Kazuto Yamauchi, Kazuya Yamamura, Yasuhisa Sano

Review of Scientific Instruments, Vol.~71, No.~12, pp.~4627-4632　Vol. Vol.~71, No.~12, pp.~4627-4632　2000年12月
Development of plasma chemical vaporization machining

Y Mori, K Yamauchi, K Yamamura, Y Sano

REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS　Vol. 71　No. 12　p. 4627-4632　2000年12月
The Study of Fabrication of the X-ray Mirror by Numerically Controlled Plasma Chemical Vaporization Machining : Development of the Machine for the X-ray Mirror Fabrication

Yuzo Mori, Kazuya Yamamura, Yasuhisa Sano

Review of Scientific Instruments, Vol. 71, No. 12, pp. 620-4626　Vol. Vol. 71, No. 12, pp. 4620-4626/,　2000年12月
The study of fabrication of the x-ray mirror by numerically controlled plasma chemical vaporization machining: Development of the machine for the x-ray mirror fabrication

Y Mori, K Yamamura, Y Sano

REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS　Vol. 71　No. 12　p. 4620-4626　2000年12月
Development of New Machining Process for Ultra Precision Surface Preparation ---EEM,Plasma CVM,and Atmospheric Pressure Plasma CVD---

Yuzo Mori, Kazuto Yamauhci, Kazuya Yamamura, Hiroaki Kakiuchi, Yasuhisa Sano

The 2nd International School on Crystal Growth Technology, Book of Lecture Notes, pp.~212-232　Vol. pp.~212-232　2000年8月
プラズマCVMの開発

森勇藏, 山内和人, 山村和也, 佐野泰久

精密工学会誌, Vol.~66, No.~8, pp.~1280-1285　Vol. 66　No. 8　p. 1280-1285　2000年8月
Development of Numerically Controlled Plasma Chemical Vaporization Machining System

Yuzo Mori, Kazuya Yamamura, Yasuhisa Sano

Technology Reports of the Osaka University, Vol.~50, No.~2374, pp.~63‐69　Vol. Vol.~50, No.~2374, pp.~63‐69　2000年4月
SPV(Surface Photo-voltage)スペクトロスコピーによる超精密加工表面評価法の開発

山内和人, 杉山和久, 稲垣耕司, 山村和也, 佐野泰久, 森勇藏

精密工学会誌, Vol.~66, No.~4, pp.~630-634　Vol. 66　No. 4　p. 630-634　2000年4月
大気圧プラズマによる超精密加工と高速成膜

森勇藏, 安武潔, 山村和也, 垣内弘章

精密工学会誌, Vol.~66, No.~4, pp.~517-522　Vol. Vol.~66, No.~4, pp.~517-522　2000年4月
SPV (Surface Photo-voltage)スペクトロスコピーによる超精密加工表面評価法の開発

山内和人, 杉山和久, 稲垣耕司, 山村和也, 佐野泰久, 森勇藏

精密工学会誌　Vol. 66　No. 4　p. 630-634　2000年4月
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
プラズマCVMにおける切断加工に関する研究(第5報) : 加工ギャップのその場観察

森勇蔵, 山村和也, 佐野泰久

精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 2000　No. 1　p. 193-193　2000年3月1日
数値制御プラズマCVM加工装置の開発(第4報)

森勇蔵, 山村和也, 佐野泰久

精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 2000　No. 1　p. 192-192　2000年3月1日
大気圧プラズマインピーダンス測定(第2報) : 測定装置内電磁界解析による測定原理の検証

森勇蔵, 片岡俊彦, 遠藤勝義, 山村和也, 佐野泰久, 押鐘寧, 片山晋二, 江畑裕介

精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 2000　No. 1　p. 194-194　2000年3月1日
SPV(Surface Photo-voltage)スペクトロスコピーによる超精密加工表面評価法の開発

精密工学会誌, Vol.~66, No.~4, pp.~630-634　Vol. Vol.~66, No.~4, pp.~630-634　2000年
大気圧プラズマによる超精密加工と高速成膜

森勇藏, 安武潔, 山村和也, 垣内弘章

精密工学会誌, Vol.~66, No.~4, pp.~517-522　Vol. Vol.~66, No.~4, pp.~517-522　No. 4　p. 517-522　2000年
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
プラズマCVMの開発

精密工学会誌, Vol.~66, No.~8, pp.~1280-1285　Vol. Vol.~66, No.~8, pp.~1280-1285　2000年
The Study of Fabrication of the X-ray Mirror by Numerically Controlled Plasma Chemical Vaporization Machining : Development of the Machine for the X-ray Mirror Fabrication

Review of Scientific Instruments, Vol. 71, No. 12, pp. 620-4626　Vol. Vol. 71, No. 12, pp. 4620-4626　2000年
Development of Numerically Controlled Plasma Chemical Vaporization Machining System

Technology Reports of the Osaka University, Vol.~50, No.~2374, pp.~63‐69　Vol. Vol.~50, No.~2374, pp.~63‐69/,　2000年
SPV(Surface Photo-voltage)スペクトロスコピーによる超精密加工表面評価法の開発

精密工学会誌, Vol.~66, No.~4, pp.~630-634　Vol. Vol.~66, No.~4, pp.~630-634/,　2000年
大気圧プラズマによる超精密加工と高速成膜

精密工学会誌, Vol.~66, No.~4, pp.~517-522　Vol. Vol.~66, No.~4, pp.~517-522/,　2000年
プラズマCVMの開発

精密工学会誌, Vol.~66, No.~8, pp.~1280-1285　Vol. Vol.~66, No.~8, pp.~1280-1285/,　2000年
Development of New Machining Process for Ultra Precision Surface Preparation ---EEM,Plasma CVM,and Atmospheric Pressure Plasma CVD---

The 2nd International School on Crystal Growth Technology, Book of Lecture Notes, pp.~212-232　Vol. pp.~212-232　2000年
プラズマCVMの開発

森勇蔵, 山内和人, 山村和也, 佐野泰久

精密工学会誌　Vol. 66　No. 8　p. 1280-1285　2000年
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
Development of plasma chemical vaporization machining.

Rev. Sci. Instrum.　Vol. Vol. 71, pp. 4627-4632./,　2000年
Development of plasma chemical vaporization machining

Yuzo Mori, Kazuto Yamauchi, Kazuya Yamamura, Yasuhisa Sano

Review of Scientific Instruments　Vol. 71　No. 12　p. 4627-4627　2000年
出版者・発行元：AIP Publishing
Development of Numerically Controlled Plasma Chemical Vaporization Machining System

Vol. Vol.~50, No.~2374, pp.~63‐69　2000年
Development of Plasma CVM(Chemical Vaporization Machining)

Vol. Vol.~66, No.~8, pp.~1280-1285　2000年
The Study of Fabrication of the X-ray Mirror by Numerically Controlled Plasma Chemical Vaporization Machining : Development of the Machine for the X-ray Mirror Fabrication

Review of Scientific Instruments, Vol. 71, No. 12, pp. 4620-4626　Vol. Vol. 71, No. 12, pp. 4620-4626　2000年
Development of Plasma Chemical Vaporization Machining

Vol. Vol.~71, No.~12, pp.~4627-4632/,　2000年
Development of Numerically Controlled Plasma Chemical Vaporization Machining System

Vol. Vol.~50, No.~2374, pp.~63‐69/,　2000年
SPV(Surface Photo-voltage)スペクトロスコピーによる超精密加工表面評価法の開発

山内和人, 杉山和久, 稲垣耕司, 山村和也, 佐野泰久, 森勇藏

精密工学会誌　Vol. Vol.~66, No.~4, pp.~630-634/,　No. 4　p. 630-634　2000年
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
Ultra-precision Machining and High-rate Deposition of Thin Films Using Atmospheric Pressure Plasma

Vol. Vol.~66, No.~4, pp.~517-522/,　2000年
Development of Plasma CVM(Chemical Vaporization Machining)

Vol. Vol.~66, No.~8, pp.~1280-1285/,　2000年
Development of New Machining Process for Ultra Precision Surface Preparation ---EEM,Plasma CVM,and Atmospheric Pressure Plasma CVD---

Vol. pp.~212-232　2000年
The Study of Fabrication of the X-ray Mirror by Numerically Controlled Plasma Chemical Vaporization Machining : Development of the Machine for the X-ray Mirror Fabrication

Review of Scientific Instruments, Vol. 71, No. 12, pp. 4620-4626　Vol. Vol. 71, No. 12, pp. 4620-4626/,　2000年
Development of plasma chemical vaporization machining

Review of Scientific Instruments　Vol. 71　No. 12　p. 4627-4632　2000年
The Study of fabrication of the x-ray mirror by numerically controlled plasma chemical vaporization machining : Development of the machine for the x-ray mirror fabrication

Review of Scientific Instruments　Vol. 71　No. 12　p. 4620-4626　2000年
Development of Numerically Controlled Plasma Chemical Vaporization Machining System

Technology Reports of the Osaka University　Vol. 50　No. 2374　2000年
パイプ電極プラズマCVMによる光学平面の創成加工

瀧野日出雄(ニコン, 柴田規夫(ニコン, 伊藤博(ニコン, 小林輝紀(ニコン, 田中宏明(ニコン, 海老正美(ニコン, 山村和也, 佐野泰久, 森勇藏

精密工学会誌, Vol.~65, No.~11, pp.~1650-1651　Vol. 65　No. 11　p. 1650-1651　1999年11月
Plasma Chemical Vaporization Machining with a Pipe Electrode for Large Optics

Hideo Takino, ikon, Norio Shibata, Nikon Cor, Teruki Kobayashi, Nikon Cor, Hiroshi\- Itoh, Nikon Cor, Hiroaki Tanaka, ikon, Akihiro Koike, ikon C, Katsuhiko\- Nakano, ikon C, Kazuya Yamamura, Yasuhisa Sano, Yuzo Mori

Precision Science and Technology for Perfect Surfaces (Proceedings of the 9th International Conference on Production Engineering), pp.~219-224　Vol. pp.~219-224　1999年9月
High Speed Patterning of Integrated-Type a-Si Solar Cell Submodules by Plasma CVM

Shingo Nakano, SANYO Electric Co, Yoichi Domoto, SANYO Electric Co, Hisaki Tarui, SANYO Electric Co, Seiichi Kiyama, SANYO Electric Co, Yasuhisa Sano, Kazuya Yamamura, Yuzo Mori

Precision Science and Technology for Perfect Surfaces (Proceedings of the 9th International Conference on Production Engineering), pp.~543-548　Vol. pp.~543-548　1999年9月
出版者・発行元：JSPE
Development of Numerically Controlled Plasma CVM (Chemical Vaporization Machining) System for Fabrication of Ultra Precision Optical Devices

Yuzo Mori, Kazuya Yamamura, Yasuhisa Sano

Precision Science and Technology for Perfect Surfaces (Proceedings of the 9th International Conference on Production Engineering), pp.~213-218　Vol. pp.~213-218　1999年9月
出版者・発行元：JSPE
Slicing of Functional Materials by Plasma CVM (Chemical Vaporization Machining)

Yuzo Mori, Kazuya Yamamura, Yasuhisa Sano

Precision Science and Technology for Perfect Surfaces (Proceedings of the 9th International Conference on Production Engineering), pp.~225-230　Vol. pp.~225-230　1999年9月
出版者・発行元：JSPE
High Rate Polishing of Silicon Surface using Plasma CVM with Rotary Drum Electrode

Hiroaki Takeuchi, Sharp Corp, Tohru Okuda, Sharp Corp, Kazuhiro Nishikawa, Sharp Corp, Yoshiyuki Hojyo, Sharp Corp, Masaru Kadono, Sharp Cor, Takashi Nukii, Sharp Corp, Kazuya Yamamura, Yasuhisa Sano, Yuzo Mori

Precision Science and Technology for Perfect Surfaces (Proceedings of the 9th International Conference on Production Engineering), pp.~405-410　Vol. pp.~405-410　1999年9月
マイクロ電極を用いたプラズマCVMによる複雑形状光学面の創成加工

瀧野日出雄, 柴田規夫, 小林輝紀, 伊藤博, 根本孝七, 藤井隆, 後藤直彦, 山村和也, 佐野泰久, 森勇蔵

精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 1999　No. 1　p. 422-422　1999年3月5日
回転電極型プラズマCVM法におけるシリコンの加工速度向上に関する-検討

西川和宏, 奥田徹, 竹内博明, 北條義之, リュウノ野勝, 貫井孝, 山村和也, 佐野泰久, 森勇蔵

精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 1999　No. 1　p. 423-423　1999年3月5日
プラズマCVMによる高融点金属材料の表面加工 (第3報)

柴原正文, 山村和也, 佐野泰久, 園田司, 西岡敏明, 脇坂彰一, 沖田耕三, 森勇蔵

精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 1999　No. 1　p. 424-424　1999年3月5日
大気圧プラズマインピーダンス測定(第1報) -測定原理, 測定結果, およびその測定精度について-

森勇蔵, 片岡俊彦, 遠藤勝義, 山村和也, 佐野泰久, 押鐘寧, 江畑裕介, 片山晋二, 岡本利樹, 足立真士

精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 1999　No. 1　p. 428-428　1999年3月5日
プラズマCVM(Chemical Vaporization Machining)における切断加工に関する研究(第4報)-加工ギャップ制御方法-

森勇蔵, 山村和也, 佐野泰久, 脇坂彰一, 柴原正文

精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 1999　No. 1　p. 426-426　1999年3月5日
数値制御プラズマCVM加工装置の開発(第3報)

森勇蔵, 山村和也, 佐野泰久, 脇坂彰一, 柴原正文

精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 1999　No. 1　p. 425-425　1999年3月5日
プラズマCVM加工における電極/ワーク間ギャップセンサの開発

竹内博明, 奥田徹, 西川和宏, 北條義之, 山村和也, 佐野泰久, 森勇蔵, 石川俊夫

精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 1999　No. 1　p. 427-427　1999年3月5日
パイプ電極プラズマCVMによる光学平面の創成加工

瀧野日出雄, 柴田規夫, 伊藤博, 小林輝紀, 田中宏明, 海老正美, 山村和也, 佐野泰久, 森勇藏

精密工学会誌, Vol.~65, No.~11, pp.~1650-1651　Vol. Vol.~65, No.~11, pp.~1650-1651　No. 11　p. 1650-1651　1999年
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
Development of Numerically Controlled Plasma CVM (Chemical Vaporization Machining) System for Fabrication of Ultra Precision Optical Devices

Precision Science and Technology for Perfect Surfaces (Proceedings of the 9th International Conference on Production Engineering), pp.~213-218　Vol. pp.~213-218　1999年
Slicing of Functional Materials by Plasma CVM (Chemical Vaporization Machining)

Precision Science and Technology for Perfect Surfaces (Proceedings of the 9th International Conference on Production Engineering), pp.~225-230　Vol. pp.~225-230　1999年
High Rate Polishing of Silicon Surface using Plasma CVM with Rotary Drum Electrode

Precision Science and Technology for Perfect Surfaces (Proceedings of the 9th International Conference on Production Engineering), pp.~405-410　Vol. pp.~405-410　1999年
パイプ電極プラズマCVMによる光学平面の創成加工

瀧野日出雄, 柴田規夫, 伊藤博, 小林輝紀, 田中宏明, 海老正美, 山村和也, 佐野泰久, 森勇藏

精密工学会誌, Vol.~65, No.~11, pp.~1650-1651　Vol. Vol.~65, No.~11, pp.~1650-1651/,　No. 11　p. 1650-1651　1999年
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
Plasma Chemical Vaporization Machining with a Pipe Electrode for Large Optics

Precision Science and Technology for Perfect Surfaces (Proceedings of the 9th International Conference on Production Engineering), pp.~219-224　Vol. pp.~219-224　1999年
High Speed Patterning of Integrated-Type a-Si Solar Cell Submodules by Plasma CVM

Precision Science and Technology for Perfect Surfaces (Proceedings of the 9th International Conference on Production Engineering), pp.~543-548　Vol. pp.~543-548　1999年
With the Aim of Country with Intelligent Sense of Existence : The Case Introduction, Center of Excellence program Creation of Perfect Surfaces

Vol. Vol.~65, No.~11, pp.~1650-1651　1999年
Plasma Chemical Vaporization Machining with a Pipe Electrode for Large Optics

Vol. pp.~219-224　1999年
Development of Numerically Controlled Plasma CVM (Chemical Vaporization Machining) System for Fabrication of Ultra Precision Optical Devices

Precision Science and Technology for Perfect Surfaces (Proceedings of the 9th International Conference on Production Engineering), pp.~213-218　Vol. pp.~213-218　1999年
Slicing of Functional Materials by Plasma CVM (Chemical Vaporization Machining)

Vol. pp.~225-230　1999年
High Speed Patterning of Integrated-Type a-Si Solar Cell Submodules by Plasma CVM

Vol. pp.~543-548　1999年
High Rate Polishing of Silicon Surface using Plasma CVM with Rotary Drum Electrode

Vol. pp.~405-410　1999年
Slicing of Functional Materials by Plasma CVM

Proceedings of the 9th International Conference on Production Engineering　1999年
Development of Numerically Controlled Plasma CVM System for Fabrication of Ultra Precision Optical Devices.

Proceedings of the 9th International Conference on Production Engineering　1999年
Computer numerically controlled plasma chemical vaporization machining with a pipe electrode for optical fabrication

H Takino, N Shibata, H Itoh, T Kobayashi, H Tanaka, M Ebi, K Yamamura, Y Sano, Y Mori

APPLIED OPTICS　Vol. 37　No. 22　p. 5198-5210　1998年8月
Computer Numerically Controlled Plasma Chemical Vaporization Machining with a Pipe Electrode for Optical Fabrication

Hideo Takino, Norio Shibata, Teruki Kobayashi, Hiroaki Tanaka, Masami Ebi, Kazuya Yamamura, Yasuhisa Sano, Yuzo Mori

APPLIED OPTICS, 37/22,5198　Vol. 37　No. 22　p. 5198-5210　1998年8月
Computer numerically controlled plasma chemical vaporization machining with a pipe electrode for optical fabrication

Hideo Takino, Norio Shibata, Hiroshi Itoh, Teruki Kobayashi, Hiroaki Tanaka, Masami Ebi, Kazuya Yamamura, Yasuhisa Sano, Yuzo Mori

Applied Optics　Vol. 37　No. 22　p. 5198-5210　1998年8月1日
Plasma chemical vaporization machining (CVM) for fabrication of optics

H Takino, N Shibata, H Itoh, T Kobayashi, H Tanaka, M Ebi, K Yamamura, Y Sano, Y Mori

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS & EXPRESS LETTERS　Vol. 37　No. 7B　p. L894-L896　1998年7月
Plasma Chemical Vaporization Machining(CVM)for Fabrication of Optics

Hideo TAKINO, Norio SHIBATA, Teruki KOBAYASHI, Hiroaki TANAKA, Masami EBI, Kazuya YAMAMURA, Yasuhisa SANO, Yuzo MORI

Jpn. J. Appl. Phys., 37/Part2,7B,L894　Vol. 37　No. Part2　p. 7B,L894-L896　1998年7月
出版者・発行元：社団法人応用物理学会
Plasma chemical vaporization machining (CVM) for fabrication of optics

H Takino, N Shibata, H Itoh, T Kobayashi, H Tanaka, M Ebi, K Yamamura, Y Sano, Y Mori

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS & EXPRESS LETTERS　Vol. 37　No. 7B　p. L894-L896　1998年7月
プラズマCVMによる光学面の形状創成 -第2報 : パイプ電極プラズマCVM装置による非球面加工-

瀧野日出雄, 柴田規夫, 伊藤博, 小林輝紀, 田中宏明, 海老正美, 谷口美樹, 山村和也, 佐野泰久, 森勇藏

精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 1998　No. 1　p. 513-513　1998年3月5日
プラズマCVMによる高融点金属材料の表面加工 (第2報)

柴原正文, 西岡敏明, 脇坂彰一, 沖田耕三, 森勇藏, 山村和也, 佐野泰久

精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 1998　No. 1　p. 515-515　1998年3月5日
EEM (Elastic Emission Machining)用微粒子作製装置の開発

森勇蔵, 山内和人, 山村和也, 佐野泰久, 松本光弘, 三村秀和

精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 1998　No. 1　p. 430-430　1998年3月5日
Computer Numerically Controlled Plasma Chemical Vaporization Machining with a Pipe Electrode for Optical Fabrication

APPLIED OPTICS, 37/22,5198　Vol. 37　No. 22　p. 5198-5210　1998年
Plasma Chemical Vaporization Machining(CVM)for Fabrication of Optics

Vol. 37　No. Part2　1998年
Development of New Ultra Precision Machining Methods-Plasma CVM and EEM-

Book of Lecture Notes　1998年
プラズマCVM(Chemical Vaporization Machining)における切断加工に関する研究(第3報) -各種材料の切断加工特性-

森勇藏, 山村和也, 佐野泰久

精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 1997　No. 2　p. 185-185　1997年10月1日
プラズマCVMによる高融点金属材料の表面加工

柴原正文, 西岡敏明, 沖田耕三, 森勇蔵, 山村和也, 佐野泰久

精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 1997　No. 2　p. 189-189　1997年10月1日
数値制御プラズマCVM加工装置の開発(第1報)

森勇藏, 山村和也, 佐野泰久, 石川俊夫, 岡本利樹, 足立真士

精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 1997　No. 2　p. 186-186　1997年10月1日
プラズマCVMによる光学面の形状創成 -第1報 : パイプ電極を用いた数値制御プラズマCVM装置の開発-

瀧野日出雄, 柴田規夫, 伊藤博, 小林輝紀, 田中宏明, 海老正美, 山村和也, 森勇蔵

精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 1997　No. 2　p. 187-187　1997年10月1日
プラズマCVM加工面に影響を与える前加工面の加工変質層について

小林輝紀, 柴田規夫, 瀧野日出雄, 伊藤博, 山村和也, 森勇蔵

精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 1997　No. 2　p. 188-188　1997年10月1日
プラズマCVMによる集積型a-Si太陽電池の高速パターニングに関する研究

中野真吾, 堂本洋一, 平野均, 樽井久樹, 木山精一, 中野昭一, 佐野泰久, 山村和也, 森勇藏

精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 1997　No. 2　p. 190-190　1997年10月1日
First-principles Analysis of Chemical Reactions between Metal Oxide Fine Powders and Si(100) Surface in EEM(Elastic Emission Machining)

Kazuto Yamauchi, Kikuji Hirose, Hidekazu Goto, Masao Sakamoto, Kazuya Yamamura, Yasuhisa Sano, Yuzo Mori

Transactions of the Materials Research Society of Japan, Vol.20, pp.867-870　Vol. Vol.20, pp.867-870　1996年12月
Plasma CVM(Chemical Vaporization Machining)におけるポリシング加工に関する研究(第3報) -加工面の平坦度と電極形状ならびに試料保持方法の相関(その2)-

森勇蔵, 山内和人, 山村和也, 佐野泰久

精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 1996　No. 2　p. 197-198　1996年9月1日
First-principles Analysis of Removal Mechanism in EEM(Elastic Emission Machining)

Kazuto Yamauchi, Kikuji Hirose, Hidekazu Goto, Kazuya Yamamura, Yasuhisa Sano, Yuzo Mori

Proceedings of 1996 the Japan-China Bilateral Symposium on Advanced Manufacturing Engineering, pp.60-64　Vol. pp.60-64　1996年9月
Polishing of Si Wafer by Plasma CVM(Chemical Vaporization Machining)

Yuzo Mori, Kazuya Yamamura, Kazuto Yamauchi, Yasuhisa Sano

Proceedings of 1996 the Japan-China Bilateral Symposium on Advanced Manufacturing Engineering, pp.65-68　Vol. pp.65-68　1996年9月
Slicing of Silicon by Plasma CVM(Chemical Vaporization Machining)

Yuzo Mori, Kazuto Yamauchi, Kazuya Yamamura, Yasuhisa Sano

Proceedings of 1996 the Japan-China Bilateral Symposium on Advanced Manufacturing Engineering, pp.69-72　Vol. pp.69-72　1996年9月
光散乱法によるナノメータオーダの粒径測定法の開発(第4報) -- 光電子増倍管出力特性の定式化とダイナミックレンジの改善法 --

安弘, 森勇藏, 片岡俊彦, 遠藤勝義, 山内和人, 稲垣耕司, 山村和也, 井上晴行, 佐野泰久

精密工学会誌, Vol.62, No.8, pp.1198-1202　Vol. Vol.62, No.8, pp.1198-1202/,　1996年8月
光散乱法によるナノメータオーダの粒径測定法の開発(第4報) : 光電子増倍管出力特性の定式化とダイナミックレンジの改善法

安弘, 森勇藏, 片岡俊彦, 遠藤勝義, 山内和人, 稲垣耕司, 山村和也, 井上晴行, 佐野泰久

精密工学会誌　Vol. 62　No. 8　p. 1198-1202　1996年8月
Plasma CVM(Chemical Vaporization Machining)におけるポリシング加工に関する研究(第1報) -ポリシング加工用高速回転型電極の試作とその加工特性-

森勇藏, 山内和人, 山村和也, 佐野泰久

精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 1996　No. 1　p. 1145-1146　1996年3月1日
プラズマCVM(Chemical Vaporization Machining)における切断加工に関する研究 -切断加工用高速回転電極の試作とその加工特性-

森勇藏, 山内和人, 山村和也, 佐野泰久

精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 1996　No. 1　p. 1143-1144　1996年3月1日
Plasma CVM(Chemical Vaporization Machining)におけるNC加工に関する研究(第1報) -NC加工用高速回転型電極の試作とその加工特性-

森勇藏, 山内和人, 山村和也, 佐野泰久

精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 1996　No. 1　p. 1141-1142　1996年3月1日
光散乱法によるナノメータオーダの粒径測定法 (第5報) -ダイナミックレンジの改善法と標準粒子の測定-

安弘, 南川文孝, 森勇蔵, 片岡俊彦, 遠藤勝義, 山内和人, 稲垣耕司, 井上晴行, 山村和也, 佐野泰久

精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 1996　No. 1　p. 1109-1110　1996年3月1日
EEM(Elastic Emission Machining)における加工現象の第一原理分子動力学シミュレーション (第3報) -化学結合の分子軌道計算-

山内和人, 山村和也, 佐野泰久, 広瀬喜久治, 後藤英和, 坂本正雄, 森勇藏

精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 1996　No. 1　p. 989-990　1996年3月1日
精密加工の最先端技術、第８章Ⅳ、「プラズマＣＶＭの加工特性と表面物性」

工業調査会　1996年
A Method for Measuring Particle Sizes of Nanometer Order by Light-Scattering

山村和也

/,147　1996年
出版者・発行元：Proceedings of 1996 The Japan-China Bilateral Symposium on Advanced Manufacturing Engineering
光散乱法によるナノメータオーダの粒径測定法の開発(第4報) -- 光電子増倍管出力特性の定式化とダイナミックレンジの改善法 --

精密工学会誌, Vol.62, No.8, pp.1198-1202　Vol. Vol.62, No.8, pp.1198-1202　1996年
A Method for Measuring Particle Sizes of Nanometer Order by Light-Scattering

/,147　1996年
First-principles Analysis of Chemical Reactions between Metal Oxide Fine Powders and Si(100) Surface in EEM(Elastic Emission Machining)

Transactions of the Materials Research Society of Japan, Vol.20, pp.867-870　Vol. Vol.20, pp.867-870/,　1996年
光散乱法によるナノメータオーダの粒径測定法の開発(第4報) -- 光電子増倍管出力特性の定式化とダイナミックレンジの改善法 --

精密工学会誌, Vol.62, No.8, pp.1198-1202　Vol. Vol.62, No.8, pp.1198-1202/,　1996年
First-principles Analysis of Removal Mechanism in EEM(Elastic Emission Machining)

Proceedings of 1996 the Japan-China Bilateral Symposium on Advanced Manufacturing Engineering, pp.60-64　Vol. pp.60-64　1996年
Polishing of Si Wafer by Plasma CVM(Chemical Vaporization Machining)

Proceedings of 1996 the Japan-China Bilateral Symposium on Advanced Manufacturing Engineering, pp.65-68　Vol. pp.65-68　1996年
Slicing of Silicon by Plasma CVM(Chemical Vaporization Machining)

Proceedings of 1996 the Japan-China Bilateral Symposium on Advanced Manufacturing Engineering, pp.69-72　Vol. pp.69-72　1996年
First-principles Analysis of Chemical Reactions between Metal Oxide Fine Powders and Si(100) Surface in EEM(Elastic Emission Machining)

Vol. Vol.20, pp.867-870　1996年
Designing a New Apparatus for Measuring Particle Sizes of Nanometer Order by Light-scattering (4th Report) -- Formation for Output Characteristics of Photomultiplier and Improvement of Dynamic Range --

Vol. Vol.62, No.8, pp.1198-1202　1996年
A Method for Measuring Particle Sizes of Nanometer Order by Light-Scattering

1996年
First-principles Analysis of Chemical Reactions between Metal Oxide Fine Powders and Si(100) Surface in EEM(Elastic Emission Machining)

Vol. Vol.20, pp.867-870/,　1996年
First-principles Analysis of Removal Mechanism in EEM(Elastic Emission Machining)

Proceedings of 1996 the Japan-China Bilateral Symposium on Advanced Manufacturing Engineering, pp.60-64　Vol. pp.60-64　1996年
Polishing of Si Wafer by Plasma CVM(Chemical Vaporization Machining)

Vol. pp.65-68　1996年
Slicing of Silicon by Plasma CVM(Chemical Vaporization Machining)

Vol. pp.69-72　1996年
Laser Beam Intensity Profile Transformation with a Fabricated Mirror

Koshichi Nemoto(Center Research Institute of Electric Power Industry, Takashi Fujii(Center Research Institute of Electric Power Industry, Naohiko Goto(Center Research Institute of Electric Power Industry, Hideo Takino(Nikon Corporation, Teruki Kobayashi(Nikon Corporation, Norio Shibata(Nikon Corporation, Kazuya Yamamura, Yuzo Mori

APPLIED OPTICS, Vol.36, No.3, pp.551-557　Vol. 36　No. 3　p. 551-557　1996年1月
First-principles Analysis of Chemical Reactions between Metal Oxide Fine Powders and Si(100) Surface in EEM(Elastic Emission Machining)

Transactions of the Materials Research Society of Japan　Vol. 20　1996年
A Method for Measuring Particle Sizes of Nanometer Order by Light-Scattering

Proceedings of 1996 The Japan-China Bilateral Symposium on Advanced Manufacturing Engineering　1996年
First-principles analysis of Removal Mechanism in EEM(Elastic Emission Machining)

Proceedings of 1996 The Japan-China Bilateral Symposium on Advanced Manufacturing Engineering　1996年
Slicing of Silicon by Plasma CVM(Chemical Vaporization Machining)

Proceedings of 1996 The Japan-China Bilateral Symposium on Advanced Manufacturing　1996年
Polishing of Si Water by Plasma CVM(Chmical Vaporization Machining)

Proceedings of 1996 The Japan-China Bilateral Symposium on Advanced Manufacturing　1996年
プラズマCVM(Chemical Vaporization Machining)における加工現象の第一原理分子動力学シミュレーション(第5報)-Si表面とハロゲン原子の相互作用の解析(その3)-

山村和也, 佐野泰久, 山内和人, 広瀬喜久治, 後藤英和, 坂本正雄, 森勇藏

精密工学会大会学術講演会講演論文集　Vol. 1995　No. 2　p. 625-626　1995年9月1日
プラズマCVMによる水晶の加工

池田勝, 冨田佳宏, 江田和生, 山村和也, 森勇蔵

電子情報通信学会総合大会講演論文集　Vol. 1995　p. 383-383　1995年3月27日
出版者・発行元：一般社団法人電子情報通信学会
光反射率スペクトルによるSi自然酸化表面の酸化膜厚およびひずみの計測

森勇藏, 片岡俊彦, 遠藤勝義, 山内和人, 稲垣耕司, 山村和也, 広瀬喜久治

精密工学会誌　Vol. 61　No. 3　p. 396-400　1995年
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
Plasma CVM (Chemical Vaporization Machining)の開発

生産と技術, Vol.47, No.1, pp.39-43　Vol. Vol.47, No.1, pp.39-43　1995年
Plasma CVM (Chemical Vaporization Machining)の開発

生産と技術, Vol.47, No.1, pp.39-43　Vol. Vol.47, No.1, pp.39-43/,　1995年
Development of Plasma CVM (Chemical Vaporization Machining)

Vol. Vol.47, No.1, pp.39-43　1995年
Plasma CVM (Chemical Vaporization Machining)の開発

山村和也, 森勇藏

生産と技術, Vol.47, No.1, pp.39-43　Vol. Vol.47, No.1, pp.39-43/,　1995年1月
Development of Plasma CVM (Chemical Vaporization Machining)

The Production and Technique　Vol. 47　No. 1　1995年
Thickness and Strain Measurement of Native Oxide on Si Surface by Photo-reflectance Spectra

Journal of the Japan Society for Precision Engineering　Vol. 61　No. 6　1995年
A New Apparatus for Measuring Particle Sizes of the Order of Nanometer (2nd Report) -Evaluation of Measuring System by using Standard Partides-

Hiroshi AN, Yuzo MORI, Tosihiko KATAOKA, Katsuyoshi ENDO, Kohji INAGAKI, Kazuya YAMAMURA, Kazuto YAMAUCHI, Takashige FUKUIKE

Int. J. Japan Soc. Prec. Eng. 28 (1994) 356-361.　Vol. 28 356-361　1994年12月
出版者・発行元：International Journal of The Japan Society for Precision Engineering
A NEW APPARATUS FOR MEASURING PARTICLE SIZES OF THE ORDER OF NANOMETER (2ND REPORT) - EVALUATION OF MEASURING SYSTEM BY USING STANDARD PARTICLES

H AN, Y MORI, T KATAOKA, K ENDO, K INAGAKI, K YAMAMURA, K YAMAUCHI, T FUKUIKE

INTERNATIONAL JOURNAL OF THE JAPAN SOCIETY FOR PRECISION ENGINEERING　Vol. 28　No. 4　p. 356-361　1994年12月
光反射率スペクトルによる超精密加工表面の評価法の開発

森勇藏, 片岡俊彦, 遠藤勝義, 山内和人, 稲垣耕司, 山村和也, 広瀬喜久治

精密工学会誌　1994年9月
出版者・発行元：精密工学会誌
光反射率スペクトルによる超精密加工表面の評価法の開発

精密工学会誌　1994年
光反射率スペクトルによる超精密加工表面の評価法の開発

森勇藏, 片岡俊彦, 遠藤勝義, 山内和人, 稲垣耕司, 山村和也, 広瀬喜久治

精密工学会誌　Vol. 60　No. 9　p. 1360-1364　1994年
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
Development of Measuring Systemn for Ultra-precision Machined Surface by Photo-reflectance Spectra

1994年
Development of Measuring Systemn for Ultra-precision Machined Surface by Photo-reflectance Spectra

Yuzo MORI, Toshihiko KATAOKA, Katsuyoshi ENDO, Kazuto YAMAUCHI, Kohji INAGAKI, Kazuya YAMAMURA, Kikuji HIROSE

Journal of the Japan Society for Precision Engineering　Vol. 60　No. 9　p. 1360-1364　1994年
Plasma CVM (Chemical Vaporization Machining) - An Ultra Precision Machining with High Pressure Reactive Plasma-

Y.Mori, K.Yamamura, K.Yamauchi, K.Yoshii, T.Kataoka, K.Endo, K.Inagaki, H.Kakiuchi

TECHNOLOGY RERORTS OF THE OSAKA UNIVERSITY, 43, 261-266 (1993)　Vol. 43, 261-266　p. 261-261　1993年10月
光散乱法によるナノメータオーダの粒径測定法の開発(第3報)-標準微粒子による粒径測定法の評価-

森勇蔵, 安弘, 片岡俊彦, 遠藤勝義, 稲垣耕司, 山内和人, 山村和也, 福池敬重

59/7,1121　Vol. 59　No. 7　p. 1121-1126　1993年7月
出版者・発行元：精密工学会誌
Low Temperature Growth of Polycrystalline Silicon Films by Plasma Chemical Vapor Deposition under Higher Pressure than Atmospheric Pressure

H.Kawabe, Y.Mori, K.Yoshii, T.Kataoka, K.Yasutake, K.Endo, K.Yamauchi, K.Yamamura, H.Kakiuchi

Proceeding of 7th International Precision Engineering Seminar, 554-565 (1993)　Vol. 554-565　1993年5月
Plasma CVM (chemical vaporization machining) -- A Chemical Machining Method With Equal Performances to Conventional Mechanical Methods from the Sense of Removal Rates and Spatial Resolutions

Y.Mori, K.Yamamura, K.Yamauchi, K.Yoshii, T.Kataoka, K.Endo, K.Inagaki, H.Kakiuchi

Proceeding of 7th International Precision Engineering Seminar, 78-87 (1993)　Vol. 78　1993年5月
Low Temperature Growth of Polycrystalline Silicon Films by Plasma Chemical Vapor Deposition under Higher Pressure than Atmospheric Pressure

Proceeding of 7th International Precision Engineering Seminar, 554-565 (1993)　Vol. 554-565　1993年
Plasma CVM (Chemical Vaporization Machining) - An Ultra Precision Machining with High Pressure Reactive Plasma-

TECHNOLOGY RERORTS OF THE OSAKA UNIVERSITY, 43, 261-266 (1993)　Vol. 43, 261-266/,　1993年
Plasma CVM (chemical vaporization machining) -- A Chemical Machining Method With Equal Performances to Conventional Mechanical Methods from the Sense of Removal Rates and Spatial Resolutins

Proceeding of 7th International Precision Engineering Seminar, 78-87 (1993)　Vol. 78-87　1993年
光散乱法によるナノメータオーダの粒径測定法の開発(第3報)-標準微粒子による粒径測定法の評価-

森勇蔵, 安弘, 片岡俊彦, 遠藤勝義, 稲垣耕司, 山内和人, 山村和也, 福池敬重

59/7,1121　Vol. 59　No. 7　p. 1121-1126　1993年
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
Plasma CVM (Chemical Vaporization Machining) - An Ultra Precision Machining with High Pressure Reactive Plasma-

Vol. 43, 261-266　1993年
光散乱法によるナノメータオーダの粒径測定法の開発(第3報) : 標準微粒子による粒径測定法の評価

森勇蔵, 安弘, 片岡俊彦, 遠藤勝義, 稲垣耕司, 山内和人, 山村和也, 福池敬重

精密工学会誌　Vol. 59　No. 7　p. 1121-1126　1993年
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
Plasma CVM (Chemical Vaporization Machining) - An Ultra Precision Machining with High Pressure Reactive Plasma-

Vol. 43, 261-266/,　1993年
Low Temperature Growth of Polycrystalline Silicon Films by Plasma Chemical Vapor Deposition under Higher Pressure than Atmospheric Pressure

Vol. 554-565　1993年
Plasma CVM (chemical vaporization machining) -- A Chemical Machining Method With Equal Performances to Conventional Mechanical Methods from the Sense of Removal Rates and Spatial Resolutins

Vol. 78-87　1993年
Designing a New Apparatus for Measuring Particle Sizes of Nanometer Order by light-scattering (3rd Report) -Evaluation of Measuring System by using Standard Particles-

Journal of the Japan Society for Precision Engineering　Vol. 59　No. 7　p. 1121-1126　1993年
Designing a New Apparatus for Measuring Particle Sizes of Nanometer Order by light-scattering (3rd Report) -Evaluation of Measuring System by using Standard Particles-

Journal of the Japan Society for Precision Engineering-　Vol. 59　No. 7　p. 1121-1126　1993年
Low Temperature Growth of Polycrystalline Silicon Films by Plasma Chemical Vapor Deposition under Higher Pressure than Atmospheric Pressure

Proc. 7th Int. Prec. Eng. Seminar　1993年
Plasma CVM (chemical vaporization machining): An ultra precision machining technique using high-pressure reactive plasma

Y. Mori, K. Yamamura, K. Yamauchi, K. Yoshii, T. Kataoka, K. Endo, K. Inagaki, H. Kakiuchi

Nanotechnology　Vol. 4　No. 4　p. 225-229　1993年
Plasma CVM(Chemical Vaporization Machining) - An Ultra Precision Machining with High Pressure Reactive Plasma-

Y. Mori, K. Yamamura, K. Yamauchi, K. Yoshii, T. Kataoka, K. Endo, K. Inagaki, H. Kakiuchi

Program and Abstracts of The 3rd International Conference on Nanotechnology (1992) 26-27.　Vol. 26-27　1992年9月
出版者・発行元：The 3rd International Conterence on Nanotechnology Abstract
プラズマCVM(Chemical Vaporization Machining)-セラミックス材料の加工特性-

1992年
プラズマCVM(Chemical Vaporization Machining)-セラミックス材料の加工特性-

山村和也

1992年
出版者・発行元：1992年精密工学会春季大会学術講演会講演論文集
Plasma CVM(Chemical Vaporization Machining) - An Ultra Precision Machining with High Pressure Reactive Plasma-

Program and Abstracts of The 3rd International Conference on Nanotechnology (1992) 26-27.　Vol. 26-27　1992年
Plasma CVM(Chemical Vaporization Machining) - An Ultra Precision Machining with High Pressure Reactive Plasma-

Vol. 26-27　1992年
Plasma CVM (Chemical Vapolization Machining) -An Ultra Precision Machining with High Pressure Reactive Plasma

Tehnology Reports of the Osaka University　Vol. 43　No. 2156　p. 261-266　1992年
Plasma CVM(Chemical Vaporization Machining) - An Ultra Precision Machining with High Pressure Reactive Plasma-

The 3rd International Conterence on Nanotechnology Abstract　1992年
Ultra-Smooth Surface Machining by Means of Atomistic Processes‐EEM(Elastic Emission Machining) and CVM(Chemical Vaporization Machining)

Yuzo Mori, Kazuto Yamauchi, Kazuya Yamamura, Toshihiko Kataoka, Katsuyoshi Endo

Proc.14th Symposium on ULSI ultra clean technology‐Advanced Semiconductor Manufacturing System‐(1991) 123-140.　Vol. 123-140　1991年10月
プラズマCVM(Chemical Vaporization Machining)の開発

山村和也

1991年
出版者・発行元：1991年精密工学会春季大会学術講演会講演論文集
プラズマCVM(Chemical Vaporization Machining)の開発

1991年
Ultra-Smooth Surface Machining by Means of Atomistic Processes‐EEM(Elastic Emission Machining) and CVM(Chemical Vaporization Machining)

Proc.14th Symposium on ULSI ultra clean technology‐Advanced Semiconductor Manufacturing System‐(1991) 123-140.　Vol. 123-140　1991年
Ultra-Smooth Surface Machining by Means of Atomistic Processes‐EEM(Elastic Emission Machining) and CVM(Chemical Vaporization Machining)

Vol. 123-140　1991年
Ultra-Smooth Surface machining by Means of Atomistic Processes - EEM (Elastic Emission Machining) and CVM (chemical Vaporization Machining)-

1991年

著書 17

接着界面解析と次世代接着接合技術

大久保雄司, 山村和也

(株)エヌ･ティー･エス、東京　2022年10月
Chapter 41. Plasma-Based Nanomanufacturing Under Atmospheric Pressure, Handbook of Manufacturing Engineering and Technology

K. Yamamura, Y. Sano

Springer　2014年10月　学術書

ISBN: 9781447146698
超精密加工と表面科学原子レベルの生産技術

山村和也他

大阪大学出版会　2014年3月　教科書・概説・概論
精密加工と微細構造の形成技術, 第1章第2節[9], プラズマ援用研磨による SiCのスクラッチフリー・ダメージフリー仕上げ

山村和也

技術情報協会　2013年7月　学術書

ISBN: 9784861044830
大気圧プラズマの生成制御と応用技術改訂版第6章第3節プラズマCVMによる超精密形状創成とプラズマ援用研磨による表面仕上げ

山村和也, 佐野泰久, 森勇藏

サイエンス&テクノロジー　2012年3月　学術書

ISBN: 9784864280396
Generation and Applications of Atmospheric Pressure Plasmas, Chapter 15. Ultra precision machining using plasma chemical vaporization machining (CVM)

K. Yamamura, Y. Sano, Y. Mori

Nova Science Publishers　2011年4月　学術書

ISBN: 9781612097176
Crystal Growth Technology (Chapter 18; Crystal Machining Using Atmospheric Pressure Plasma)

Yasuhisa Sano, Kazuya Yamamura, Kazuto Yamauchi

WILEY-VCH　2010年9月　学術書

ISBN: 9783527325931
次世代パワー半導体－省エネルギー社会に向けたデバイス開発の最前線－第1章第1節2 PCVMを用いたSiC基板の薄化

佐野泰久, 山村和也, 山内和人

(株)エヌ・ティー・エス　2009年10月　学術書
大気圧プラズマ基礎と応用 6.7.5 マイクロ／ナノ加工日本学術振興会プラズマ材料科学第153委員会

佐野泰久, 山村和也, 山内和人

オーム社　2009年10月　学術書

ISBN: 9784274207600
ウエットエッチングのメカニズムと処理パラメータの最適化,第1章第10節ローカルウエットエッチング法による光学素子の高精度加工

山村和也

サイエンス&テクノロジー　2008年7月　学術書

ISBN: 9784903413471
Crystal Growth Technology (Chapter 19; Plasma Chemical Vaporization Machining and Elastic Emission Machining)

Yasuhisa Sano, Kazuya Yamamura, Hidekazu Mimura, Kazuto Yamauchi, Yuzo Mori

Wiley-VCH　2008年3月　学術書

ISBN: 9783527317622
大気圧プラズマの生成制御と応用技術, 第13節プラズマCVMによる超精密加工

山村和也, 佐野泰久, 森勇藏

サイエンス＆テクノロジー　2006年11月　学術書

ISBN: 4903413136
Crystal Growth Technology(Plasma-CVM(Chemical Vaporization Machining))

Yuzo Mori, Kazuya Yamamura, Yasuhisa Sano

John Wiley & Sons　2003年10月　学術書
加工技術データファイル基礎編（特殊加工）、5.7プラズマＣＶＭ

森勇藏, 山村和也, 佐野泰久

（財）機械振興協会技術研究所　2003年6月　学術書
精密加工の最先端技術、第８章Ⅳ、「プラズマＣＶＭの加工特性と表面物性」

森勇藏, 山村和也

工業調査会　1996年3月　学術書
精密加工の最先端技術

工業調査会　1996年
Advanced Ultraprecision Technology

1996年

作品 38

フッ素樹脂を絶縁被覆材料とする無電解銅めっきシールド超極細同軸ケーブルの開発

2012年～
フッ素樹脂を絶縁被覆材料とする無電解銅めっきシールド超極細同軸ケーブルの開発

2011年～
プラズマ援用加工を用いた難加工材料の高品位仕上げプロセスの開発

2011年～
高性能パワーデバイスのための原子スケールで平坦なダメージフリーSiCウエハの作製

2011年～
中性子集光用非球面スーパーミラーデバイスの開発

2010年～
大気圧プラズマを援用した難加工材料の高能率・高品位加工プロセスの開発

2010年～
高臨界角スーパーミラーを用いた多重チャネル中性子収束デバイスの研究

2010年～
高精度ビーム集光による角度発散型中性子反射法の開発

2010年～
大気圧プラズマ照射を援用したパワーデバイス用単結晶SiC基板の高品位加工プロセスの開発

2010年～
グローバルCOE 高機能化原子制御製造プロセス教育研究拠点

2010年～
大気圧プラズマを援用した金型用難加工材料の高能率・高品位加工プロセスの開発

2010年～
大気圧プラズマ液相堆積法によるフッ素ポリマー表面の高密着性極薄銅メタライジング

2009年～
中性子集光用非球面スーパーミラーデバイスの開発

2009年～
高臨界角スーパーミラーを用いた多重チャネル中性子収束デバイスの研究

2009年～
触媒フリー・無電解銅めっきプロセスの開発とPTFE基板の素子化

2009年～
大気開放プラズマを用いた無歪高能率ナノ精度形状創成プロセスの開発

2009年～
グローバルCOE 高機能化原子制御製造プロセス教育研究拠点

2009年～
Development of aspherical supermirror devices for neutron focusing

2009年～
大気開放型プラズマプロセスを用いた水晶ウエハの高能率ダメージレス厚み均一化加工技術の開発

2008年～
グローバルCOE 高機能化原子制御製造プロセス教育研究拠点

2008年～
触媒フリー・無電解銅めっきプロセスの開発とPTFE基板の素子化

2008年～
数値制御ローカルウエットエッチングによる次世代高速・低消費電力デバイス用SOIウエハの超高精度仕上げ加工

2008年～
大気開放プラズマを用いた無歪高能率ナノ精度形状創成プロセスの開発

2008年～
高能率ナノ精度形状創成のための2ステップ数値制御ローカルウエットエッチングプロセスの開発

2008年～
高臨界角スーパーミラーを用いた多重チャネル中性子収束デバイスの研究

2008年～
液晶用メーター超級大型フォトマスク基板の高精度・高能率作製プロセスの開発

2008年～
数値制御ローカルウエットエッチングによる新しい高能率・高精度形状創成プロセスの開発

2008年～
Center of Excellence for Atomically Controlled Fabrication Technology

2008年～
数値制御LWEによる超大型フォトマスク基板の低コスト・高精度仕上げ加工プロセスの開発

2007年～
液晶用メーター超級大型フォトマスク基板の高精度・高能率作製プロセスの開発

2007年～
数値制御ローカルウエットエッチングによる新しい高能率・高精度形状創成プロセスの開発

2007年～
数値制御LWEによる超大型フォトマスク基板の低コスト・高精度仕上げ加工プロセスの開発

2006年～
数値制御ローカルウエットエッチングによる新しい高能率・高精度形状創成プロセスの開発

2006年～
液晶用メーター超級大型フォトマスク基板の高精度・高能率作製プロセスの開発

2006年～
高精度X線ミラーの超精密加工と形状計測に関する研究

2004年～
原子論的生産技術の創出拠点

2004年～
超高精度X線ミラー作製による高分解能硬X線顕微鏡の開発

2004年～
高精度X線ミラーの超精密過去と形状計測の関する研究

2004年～

特許・実用新案・意匠 23

金属含有膜付き誘電体基材の製造方法

大久保雄司, 山村和也, 小玉欣典, 澤田公平, 久保田和宏

特許第6564283号

出願日:2015/08

登録日:2019/08
誘電体基材表面の金属化方法及び金属膜付き誘電体基材

山村和也, 大久保雄司, 佐藤悠, 疋田真也

特許第6551391号

出願日:2015/02

登録日:2019/07
陽極酸化を援用した研磨方法

山村和也

特許第6329655号

出願日:2017/02

登録日:2018/04
誘電体基材表面の触媒フリー金属化方法及び金属膜付き誘電体基材

是津信行, 山村和也

特許第5721254号

出願日:2010/09

登録日:2015/04
フッ素系樹脂材料の表面改質方法及びフッ素系樹脂材料と金属材料の積層体

是津信行, 山村和也

特許第5645163号

出願日:2011/01

登録日:2014/11
難加工材料の精密加工方法及びその装置

山村和也, 是津信行

特許第5614677号

出願日:2010/02

登録日:2014/09
誘電体機材表面の触媒フリー金属化方法及び金属膜付き誘電体基材

是津信行, 山村和也

特許第5360963号

出願日:2008/12

登録日:2013/09
粒子膜の製造装置、及び粒子膜の製造方法

是津信行, 山村和也, 真鍋享平

特許第5322245号

出願日:2010/02

登録日:2013/07
表面加工方法及び装置

山村和也

特許第5039939号

出願日:2006/01

登録日:2012/07
半導体ウエハ外周部の加工方法及びその装置

佐野泰久, 山村和也, 原英之, 加藤武寛

特許第4962960号

出願日:2007/08

登録日:2012/04
誘電体基板のパターン転写加工方法

森勇藏, 山村和也, 佐野泰久

特許第4665503号

出願日:2004/12

登録日:2011/01
表面改質成型体の製造方法

大久保雄司, 山村和也, 秋山大作, 東松逸朗, 斉藤知志

出願日:2018/05
表面処理方法及び装置

大下貴也, 上原剛, 青山哲平, 山村和也, 大久保雄司, 小玉欣典

出願日:2018/02
多成分材料のプラズマエッチング加工方法

山村和也, 大久保雄司, 孫栄硯

出願日:2018/02
表面改質成型体の製造方法、及び該表面改質成型体を用いた複合体の製造方法

山村和也, 大久保雄司, 石原健人, 柴原正文, 長谷朝博, 本田幸司

出願日:2015/09
陽極酸化を援用した形状創成エッチング法、研磨方法及び高精度形状創成方法

山村和也

出願日:2013/03
パルス幅変調電力制御を用いた局所プラズマ処理方法及びその装置

山村和也, 佐野泰久

出願日:2013/03
数値制御プラズマ処理方法及びその装置

山村和也, 境谷省吾, 舩戸大輔

出願日:2016/02
表面改質成型体の製造方法、及び該表面改質成型体を用いた複合体の製造方法

山村和也, 大久保雄司, 石原健人, 柴原正文, 長谷朝博, 本田幸司

出願日:2014/09
誘電体基材表面の金属化方法及び金属膜付き誘電体基材

山村和也, 大久保雄司, 佐藤悠, 疋田真也

出願日:2014/02
半導体記憶素子の製造方法

是津信行, 細井卓治, 山村和也

出願日:2009/07
粒子濃度の測定方法、粒子膜の製造方法、及び粒子膜の製造装置

是津信行, 山村和也, 真鍋亨平

出願日:2009/02
微粒子単層膜付き基板の製造方法及び微粒子単層膜

是津信行, 山村和也

出願日:2008/12

報道 16

PTFEの異材接着技術を開発人体や環境への負担減大阪大学

接着剤新聞

2019年1月
金属・フッ素樹脂接着剤なく貼る

日本経済新聞

2019年1月
「NEXTデバイス京セラ世界最小の水晶部品加工、プラズマ技術を応用」

日経産業新聞

2017年10月
フッ素樹脂、熱アシストプラズマ処理で高い接着性－阪大が解明

日刊工業新聞

2017年8月
「井上春成賞に2件」

日本経済新聞

2017年6月
フッ素樹脂の密着性、１年超持続−阪大、加熱プラズマ処理で成功

日刊工業新聞

2017年2月
フッ素樹脂と金属膜の強力接合阪大‐積水化学‐日油と共同 3年内めど実用化

化学工業日報

2016年10月
フッ素樹脂と金属膜プラズマ処理で接合阪大積水化学、日油と共同

化学工業日報

2016年1月
フッ素樹脂と金属膜強力接合技術を開発阪大など基板実用化目指す

日刊産業新聞

2016年1月
PTFE-銅・銀など簡易に高強度接合阪大

化学工業日報

2015年2月
接着剤使わず接合阪大フッ素樹脂とゴム

日経産業新聞

2014年9月
ウエハー平坦化大気圧プラズマ利用阪大、多様な基材に対応

化学工業日報

2014年8月
大阪大学フッ素と金属を密着高周波基板材に応用展開

半導体産業新聞

2014年3月
炭化ケイ素傷つけずに平滑に研磨プラズマ照射砥粒で同時処理

日刊工業新聞

2011年11月
世界最高性能の中性子集光技術－照射強度を50倍増強楕円面スーパーミラー開発－

科学新聞

2011年8月
表面を非接触超精密加工（微小な凹凸エッチング、阪大がシステム）

日刊工業新聞

2008年2月

学術貢献活動 51

公益社団法人砥粒加工学会関西地区部会会計監査

2019年4月～継続中
公益社団法人精密工学会フェロー

2017年3月～継続中
一般社団法人電気加工学会西日本支部（幹事）

2016年6月～継続中
一般社団法人電気加工学会（理事）

2016年6月～継続中
（社）精密工学会関西支部（商議員）

2006年5月～継続中
The 18th International Conference on Precision Engineering (ICPE2020) Program Chair

2019年10月～ 2020年11月
公益社団法人砥粒加工学会理事

2017年4月～ 2019年3月
（社）精密工学会関西支部（庶務幹事）

2010年4月～ 2018年3月
（社）精密工学会超精密加工専門委員会（幹事）

2010年12月～ 2013年1月
（社）精密工学会（校閲委員会委員）

2008年4月～ 2011年3月
（社）精密工学会（評議員）

2008年3月～ 2011年3月
（社）精密工学会関西支部（会計幹事）

2007年5月～ 2010年4月
（社）精密工学会（周年事業検討ワーキンググループ委員）

2006年7月～ 2009年9月
セミコンジャパン Inovation Village

SEMI

2016年12月～
18th CIRP Conference on Electro Physical and Chemical Machining (ISEM XVIII)

CIRP, JSEME

2016年4月～
SURTECH2016「表面技術要素展」

一般社団法人表面技術協会、日本鍍金材料協同組合、株式会社ICSコンベンションデザイン

2016年1月～
The 6th International Conference of Asian Society for Precision Engineering and Nanotechnology (ASPEN2015)

Harbin Institute of Technology

2015年8月～
SURTECH2015「表面技術要素展」

一般社団法人表面技術協会、日本鍍金材料協同組合、株式会社ICSコンベンションデザイン

2015年1月～
The 4th Asia Pacific Conference on Optics Manufacture 2014 (APCOM 2014)

Guangdong University of Technology & The Hong Kong Polytechnic University

2014年11月～
イノベーションジャパン

科学技術振興機構、新エネルギー・産業技術総合開発機構

2014年9月～
2014 International Conference on Machining, Materials and Mechanical Technologies(2014 IC3MT)

National Central University (NCU), Taiwan, Japan Society for Precision Engineering (JSPE), Japan

2014年8月～
The 15th International Conference on Precision Engineering (ICPE2014)

The Japan Society for Precision Engineering (JSPE)

2014年7月～
14th International Conference of the European Society for Precision Engineering and Nanotechnology

The European Society for Precision Engineering and Nanotechnology

2014年6月～
真空展

日本真空工業会、一般社団法人日本真空学会

2013年11月～
13th International Conference of the European Society for Precision Engineering and Nanotechnology

The European Society for Precision Engineering and Nanotechnology

2013年5月～
砥粒加工学会先進テクノフェアポスター展示(ATF2013)

2013年3月～
The 9th Cooperative and Joint international conference on Ultra-precision Machining Process in conjunction with The 7th Conference of Ultra-Precision (ELID) Technology Research Group

RIKEN, MFL, Committee of Precision Engineering & Micro-nano Technology of CPEI, Committee of Ultra-Precision (ELID) Technology Research Group (UPET)

2013年3月～
セミコンジャパン

SEMI

2012年12月～
The 9th CHINA-JAPAN International Conference on Ultra-Precision Machining

Zhejiang University of Technology, CMES, JSPE, RIKEN

2012年11月～
The 14th International Conference on Precision Engineering(ICPE2012)

Japan Society for Precision Engineering

2012年11月～
10th International Conference on Processing of Machining Technology (ICPMT2012)

Japan Society for Precision Engineering

2012年9月～
The 3rd Asia Pacific Conference on Optics Manufacture 2012 (APCOM 2012)

The Chinese Optical Society et al.

2012年8月～
セミコンジャパン

SEMI

2011年12月～
The 8th CHINA-JAPAN International Conference on Ultra-Precision Machining

Zhejiang University of Technology, CMES, JSPE, RIKEN

2011年11月～
4th International Conference of Asian Society for Precision Engineering and Nanotechnology(ASPEN2011)

The Hong Kong Polytechnic University

2011年11月～
Fourth International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology

The Osaka University Global COE Program "Atomically Controlled Fabrication Technology"

2011年10月～
セミコンジャパン

SEMI

2010年12月～
Third international symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology

The Osaka University Global COE Program "Atomically Controlled Fabrication Technology"

2010年11月～
2nd International Conference on Nanomanufacturing (nanoMan2010)

International Academy for Production Engineering (CIRP), etc.

2010年9月～
Second international symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology

The Osaka University Global COE Program "Atomically Controlled Fabrication Technology"

2009年11月～
3rd International Conference of Asian Society for Precision Engineering and Nanotechnology(ASPEN2009)

Japan Society for Precision Engineering

2009年11月～
International workshop on X-ray mirror design, and metrology

The Osaka University global COE "Atomically Controlled Fabrication Technology", and Grant-in-Aid for

2009年9月～
First International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology -Surface and Thin Film Processing-

The Global COE Program "Atomically Controlled Fabrication Technology"

2009年2月～
セミコンジャパン

SEMI

2008年12月～
nano tech 2008 国際ナノテクノロジー総合展・技術会議

nano tech 実行委員会

2008年2月～
セミコンジャパン

SEMI

2007年12月～
International 21st Century COE Symposium on Atomistic Fabrication Technology

The 21st Century COE Program “Atomistic Fabrication Technology”, Osaka University

2007年10月～
イノベーションジャパン

科学技術振興機構、NEDO

2007年9月～
モノづくり企業革新研究会

大阪商工会議所

2007年7月～
微細精密加工技術展

微細精密加工技術展2007実行委員会

2007年5月～
International 21st Century COE Symposium on Atomistic Fabrication Technology

The 21st Century COE Program “Atomistic Fabrication Technology” Osaka University

2006年10月～

機関リポジトリ 37

大阪大学の学術機関リポジトリ（OUKA）に掲載されているコンテンツ

接着剤レスでフッ素樹脂と超平滑Cu箔を強力接着 : Beyond 5G時代に必須の「基板」に

大久保雄司, 西野実沙, 山村和也

2021年9月3日
Atomic-scale insights into the origin of rectangular lattice in nanographene probed by scanning tunneling microscopy

Li Junhuan, Li Shaoxian, Higashi Tomoki, Kawai Kentaro, Inagaki Kouji, Yamamura Kazuya, Arima Kenta

Physical Review B　Vol. 103　No. 24　p. 245433-1-245433-9　2021年6月24日
Improvements in graphene growth on 4H-SiC(0001) using plasma induced surface oxidation

Minami Ouki, Ito Ryota, Hosoo Kohei, Ochi Makoto, Sano Yasuhisa, Kawai Kentaro, Yamamura Kazuya, Arima Kenta

Journal of Applied Physics　Vol. 126　No. 6　p. 065301-1-065301-10　2019年8月8日
Influence of air contamination during heat-assisted plasma treatment on adhesion properties of polytetrafluoroethylene (PTFE)

Ohkubo Yuji, Nakagawa Tetsuya, Endo Katsuyoshi, Yamamura Kazuya

RSC Advances　Vol. 9　No. 40　p. 22900-22906　2019年7月24日
世界初！接着剤レスでフッ素樹脂と金属・ガラスを接着 : シリコーン樹脂を接着剤代わりにする新接着技術

大久保雄司, 山村和也

2018年12月25日
Adhesive-free adhesion between heat-assisted plasma-treated fluoropolymers (PTFE, PFA) and plasma-jet-treated polydimethylsiloxane (PDMS) and its application

Ohkubo Yuji, Endo Katsuyoshi, Yamamura Kazuya

Scientific Reports　Vol. 8　2018年12月1日
Comparison between adhesion properties of adhesive bonding and adhesive-free adhesion for heat-assisted plasma-treated polytetrafluoroethylene (PTFE)

Ohkubo Yuji, Shibahara Masafumi, Nagatani Asahiro, Honda Koji, Endo Katsuyoshi, Yamamura Kazuya

Journal of Adhesion　Vol. 96　No. 8　p. 776-796　2018年9月10日
Surface Modification of Fluoropolymer Using Open-Air Plasma Treatment at Atmospheric Pressure with Ar, Ar＋O2, and Ar＋H2 for Application in HighAdhesion Metal Wiring Patterns

Kodama Yoshinori, Ohkubo Yuji, Oshita Takaya, Nakano Yoshinori, Uehara Tsuyoshi, Aoyama Teppei, Endo Katsuyoshi, Yamamura Kazuya

Journal of The Surface Finishing Society of Japan　Vol. 69　No. 4　p. 155-162　2018年4月1日
Effect of rubber compounding agent on adhesion strength between rubber and heat-assisted plasma-treated polytetrafluoroethylene (PTFE)

Ohkubo Yuji, Shibahara Masafumi, Ishihara Kento, Nagatani Asahiro, Honda Koji, Endo Katsuyoshi, Yamamura Kazuya

Journal of Adhesion　Vol. 95　No. 3　p. 242-257　2018年2月14日
Drastic Improvement in Adhesion Property of Polytetrafluoroethylene (PTFE) via Heat-Assisted Plasma Treatment Using a Heater

Ohkubo Yuji, Ishihara Kento, Shibahara Masafumi, Nagatani Asahiro, Honda Koji, Endo Katsuyoshi, Yamamura Kazuya

Scientific Reports　Vol. 7　2017年8月25日
低コストでプラズマ処理の表面改質能力を大幅向上 : ヒーター加熱の効果でフッ素樹脂と異種材料の強力接着を実現

大久保雄司, 山村和也

2017年8月24日
フッ素樹脂の表面改質状態を超長寿命化 : フッ素樹脂の利用用途の拡大に期待

大久保雄司, 山村和也

2017年1月25日
Adhesive-free adhesion between polytetrafluoroethylene (PTFE) and isobutylene-isoprene rubber (IIR): Via heat-assisted plasma treatment

Ohkubo Y., Ishihara K., Sato H., Shibahara M., Nagatani A., Honda K., Endo K., Yamamura Y.

RSC Advances　Vol. 7　No. 11　p. 6432-6438　2017年1月20日
接着剤なしでフッ素樹脂と異種材料を接合する技術

大久保雄司, 山村和也

ケミカルエンジニヤリング　Vol. 61　No. 12　p. 898-904　2016年12月
接着剤を使わずにフッ素樹脂と金属を強力にくっつける技術 : 大阪大学×積水化学工業×日油の協力体制で実用化を加速！

大久保雄司, 山村和也

2016年1月19日
大気圧プラズマを用いたフッ素樹脂と異種材料の革新的接合技術

大久保雄司, 山村和也

エレクトロニクス実装学会誌　Vol. 19　No. 2　p. 127-131　2016年
PTFEの用途を拡大する革新的な表面処理技術

大久保雄司, 山村和也

加工技術　Vol. 50　No. 6　p. 316-322　2015年6月
フッ素樹脂と金属膜の強力接着技術

大久保雄司, 山村和也

コンバーテック　Vol. 43　No. 2　p. 51-54　2015年2月
また困難を実現？！接着剤を使用せずフッ素樹脂とゴムを強力に接合 : 安全性の高いオイルフリーな注射器のピストンなどへの応用に期待

大久保雄司, 石原健人, 山村和也

2014年9月8日
困難をついに実現？！フッ素樹脂と金属膜を強力に接着させる技術を開発 : 省エネかつ処理スピードの速い高周波用プリント配線板材料への応用に期待

大久保雄司, 佐藤悠, 山村和也

2014年3月12日
触媒フリー無電解銅めっきプロセスによるフッ素樹脂表面の高密着性銅メタライジング

是津信行, 山村和也

大阪大学低温センターだより　Vol. 154　p. 20-26　2011年4月
Fabrication of ultrathin and highly uniform silicon on insulator by numerically controlled plasma chemical vaporization machining

Sano Yasuhisa, Yamamura Kazuya, Mimura Hidekazu, Yamauchi Kazuto, Mori Yuzo

Review of Scientific Instruments　Vol. 78　No. 8　2007年8月7日
Efficient focusing of hard x rays to 25 nm by a total reflection mirror

Mimura Hidekazu, Yumoto Hirokatsu, Matsuyama Satoshi, Sano Yasuhisa, Yamamura Kazuya, Mori Yuzo, Yabashi Makina, Nishino Yoshinori, Tamasaku Kenji, Ishikawa Tetsuya, Yamauchi Kazuto

Applied Physics Letters　Vol. 90　No. 5　2007年1月29日
Development of scanning x-ray fluorescence microscope with spatial resolution of 30 nm using Kirkpatrick-Baez mirror optics

Matsuyama S., Mimura H., Yumoto H., Sano Y., Yamamura K., Yabashi M., Nishino Y., Tamasaku K., Ishikawa T., Yamauchi K.

Review of Scientific Instruments　Vol. 77　No. 10　2006年10月11日
Development of mirror manipulator for hard-x-ray nanofocusing at sub-50-nm level

Matsuyama S., Mimura H., Yumoto H., Hara H., Yamamura K., Sano Y., Endo K., Mori Y., Yabashi M., Nishino Y., Tamasaku K., Ishikawa T., Yamauchi K.

Review of Scientific Instruments　Vol. 77　No. 9　2006年9月25日
Diffraction-limited two-dimensional hard-x-ray focusing at the 100 nm level using a Kirkpatrick-Baez mirror arrangement

Matsuyama S., Mimura H., Yumoto H., Yamamura K., Sano Y., Endo K., Mori Y., Nishino Y., Tamasaku K., Ishikawa T., Yabashi M., Yamauchi K.

Review of Scientific Instruments　Vol. 76　No. 8　2005年8月4日
Fabrication of elliptically figured mirror for focusing hard x rays to size less than 50 nm

Yumoto Hirokatsu, Mimura Hidekazu, Matsuyama Satoshi, Hara Hideyuki, Yamamura Kazuya, Sano Yasuhisa, Ueno Kazumasa, Endo Katsuyoshi, Mori Yuzo, Yabashi Makina, Nishino Yoshinori, Tamasaku Kenji, Ishikawa Tetsuya, Yamauchi Kazuto

Review of Scientific Instruments　Vol. 76　No. 6　2005年6月7日
Relative angle determinable stitching interferometry for hard x-ray reflective optics

Mimura Hidekazu, Yumoto Hirokatsu, Matsuyama Satoshi, Yamamura Kazuya, Sano Yasuhisa, Ueno Kazumasa, Endo Katsuyoshi, Mori Yuzo, Yabashi Makina, Tamasaku Kenji, Nishino Yoshinori, Ishikawa Tetsuya, Yamauchi Kazuto

Review of Scientific Instruments　Vol. 76　No. 4　2005年3月16日
Wave-optical and ray-tracing analysis to establish a compact two-dimensional focusing unit using K-B mirror arrangement

Matsuyama S., Mimura H., Yamamura K., Yumoto H., Sano Y., Endo K., Mori Y., Yabashi M., Tamasaku K., Nishino Y., Ishikawa T., Yamauchi K.

Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering　Vol. 5533　p. 181-191　2004年10月18日
数値制御プラズマCVMによる次世代超薄膜SOIウエハの製作

佐野泰久, 山村和也, 遠藤勝義, 森勇蔵

大阪大学低温センターだより　Vol. 125　p. 11-15　2004年1月
超高精度硬X線集光ミラーの製作とナノスペクトロスコピーへの応用

山村和也, 山内和人, 佐野泰久, 三村秀和, 遠藤勝義, 森勇蔵

大阪大学低温センターだより　Vol. 125　p. 4-10　2004年1月
Fabrication of elliptical mirror at nanometer-level accuracy for hard x-ray focusing by numerically controlled plasma chemical vaporization machining

Yamamura Kazuya, Yamauchi Kazuto, Mimura Hidekazu, Sano Yasuhisa, Saito Akira, Endo Katsuyoshi, Souvorov Alexei, Yabashi Makina, Tamasaku Kenji, Ishikawa Tetsuya, Mori Yuzo

Review of Scientific Instruments　Vol. 74　No. 10　p. 4549-4553　2003年10月
Microstitching interferometry for x-ray reflective optics

Yamauchi Kazuto, Yamamura Kazuya, Mimura Hidekazu, Sano Yasuhisa, Saito Akira, Ueno Kazumasa, Endo Katsuyoshi, Souvorov Alexei, Yabashi Makina, Tamasaku Kenji, Ishikawa Tetsuya, Mori Yuzo

Review of Scientific Instruments　Vol. 74　No. 5　p. 2894-2898　2003年5月
Ultraprecision Machining based on Physics and Chemistry

Mori Yuzo, Hirose Kikuji, Yamauchi Kazuto, Goto Hidekazu, Yamamura Kazuya, Sano Yasuhisa

Sensors and materials　Vol. 15　No. 1　p. 1-19　2003年
Nearly diffraction-limited line focusing of a hard-X-ray beam with an elliptically figured mirror

Yamauchi Kazuto, Yamamura Kazuya, Mimura Hidekazu, Sano Yasuhisa, Saito Akira, Souvorov Alexei, Yabashi Makina, Tamasaku Kenji, Ishikawa Tetsuya, Mori Yuzo

Journal of Synchrotron Radiation　Vol. 9　No. 5　p. 313-316　2002年9月
Deterministic retrieval of surface waviness by means of topography with coherent X-rays

Souvorov A., Yabashi M., Tamasaku K., Ishikawa T., Mori Y., Yamauchi K., Yamamura K., Saito A.

Journal of Synchrotron Radiation　Vol. 9　No. 4　p. 223-228　2002年7月
プラズマCVM(Chemical Vaporization Machining)による超精密加工に関する研究

山村和也