研究者総覧 - 大阪大学

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節原　裕一

Setsuhara Yuuichi

節原　裕一

Setsuhara Yuuichi

接合科学研究所，教授

keyword プラズマエレクトロニクス，プラズマ理工学，非平衡材料プロセス，表界面制御

経歴 6

2004年7月～継続中

大阪大学　接合科学研究所　教授
2001年6月～ 2004年6月

京都大学　大学院工学研究科航空宇宙工学専攻　助教授
1996年5月～ 2001年5月

大阪大学　接合科学研究所　助手
1997年4月～ 1999年3月

通産省工業技術院　名古屋工業技術研究所　流動研究員（併任）
1997年2月～ 1997年2月

国際協力事業団　個別専門家
1991年4月～ 1996年5月

大阪大学　溶接工学研究所　助手

学歴 3

大阪大学　工学研究科　電気工学専攻博士後期課程

1988年4月～ 1991年3月
大阪大学　工学研究科　電磁エネルギー工学専攻博士前期課程

1986年4月～ 1988年3月
大阪大学　工学部　電気工学科

1982年4月～ 1986年3月

委員歴 16

大阪大学ナノ理工学人材育成産学コンソーシアム　社員

2009年～継続中
独立行政法人大学評価・学位授与機構　専門委員

2008年～継続中
応用物理学会　プラズマエレクトロニクス分科会幹事長

2020年4月～ 2022年3月
日本ＭＲＳ　常任理事

2008年～ 2017年
応用物理学会　プラズマエレクトロニクス分科会副幹事長

2014年4月～ 2016年3月
表面技術協　理事

2013年～ 2014年
表面技術協会　関西支部長

2013年～ 2014年
応用物理学会　プラズマエレクトロニクス分科会副幹事長

2007年4月～ 2009年3月
文部科学省　科学技術・学術審議会専門委員

2007年～ 2009年
応用物理学会　代議員

2005年～ 2007年
応用物理　編集委員

2004年～ 2005年
電気学会　プラズマイオン高度利用プロセス調査専門委員会幹事

2001年～ 2004年
表面技術協会　会誌編集委員会委員［学術関連企画小委員会］

2001年～ 2004年
応用物理学会　プラズマエレクトロニクス分科会幹事

2001年4月～ 2003年3月
日本真空協会　関西支部幹事

2000年～ 2001年
応用物理学会　プラズマエレクトロニクス分科会幹事

1997年4月～ 1999年3月

所属学会 7

日本ＭＲＳ
日本真空学会
溶接学会
日本航空宇宙学会
表面技術協会
応用物理学会
スマートプロセス学会

研究内容・専門分野 1

ナノテク・材料 / 薄膜、表面界面物性 /

受賞 17

論文賞

都甲将, 奥村賢直, 鎌滝晋礼, 竹中弘祐, 古閑一憲, 白谷正治, 節原裕一　（一社）スマートプロセス学会　2025年4月
接合科学共同利用・共同研究賞(令和6年度)

内田儀一郎, 都甲将, 竹中弘祐, 節原裕一　大阪大学接合科学研究所　2024年9月
第20回(2022年秋季) 応用物理学会 Poster Award

竹中弘祐, 都甲将, 節原裕一　応用物理学会　2022年11月
Best Review賞

内田儀一郎、池田純一郎、竹中弘祐、節原裕一　（一社）スマートプロセス学会　2021年4月
The Best Short Presentation Awards

Kosuke Takenaka, Hiroyuki Hirayama, Tomoki Fujimura, Yuji Hayashi, Akinori Ebe, Yuichi Setsuhara　2021年3月
ICMaSS2019/ iLIM-s Outstanding Presentation Award

Hiroyuki Hirayama, Kosuke Takenaka, Yuichi Setsuhara　ICMaSS2019　2019年11月
フロンティア材料研究所学術賞

節原裕一　フロンティア材料研究所　2018年9月
Best presentation award

Giichiro Uchida, Taiki Ito, Kosuke Takenaka, Junichiro Ikeda, Yuichi Setsuhara　ISPlasma2017/IC-PLANTS2017　2017年3月
Participants' Poster Prize

G. Uchida, A. Nakajima, T. Ito, K. Takenaka, T. Kawasaki, K. Koga, M. Shiratani, Y. Setsuhara　6th International Conference on Plasma Medicine　2016年9月
2015年応用物理学会秋季学術講演会 Poster Award

竹中弘祐, 内田儀一郎, 節原裕一　応用物理学会　2015年9月
第5回グローバルCOE プログラム「構造・機能先進材料デザイン教育研究拠点」シンポジウム最優秀ポスター賞

趙研, 竹中弘祐, 節原裕一　グローバルCOE プログラム「構造・機能先進材料デザイン教育研究拠点」　2012年3月
高温学会平成23年度論文賞

趙研, 節原裕一, 竹中弘祐, 白谷正治, 関根誠, 堀勝　高温学会　2012年3月
論文賞

節原裕一　（社）高温学会　2012年3月
第12回プラズマ材料科学賞（奨励部門）

節原裕一　（独）日本学術振興会プラズマ材料科学第153委員会　2010年7月
第3回グローバルCOE プログラム「構造・機能先進材料デザイン教育研究拠点」シンポジウム優秀ポスター賞

趙研, 節原裕一　グローバルCOE プログラム「構造・機能先進材料デザイン教育研究拠点」　2010年3月
Invited Presentation Award, Interfinish 2008 World Interfinish Congress & Exposition

Yuichi Setsuhara　The Korean Institute of Surface Engineering　2008年6月
岡田記念溶接振興会岡田奨励賞

節原裕一　岡田記念溶接振興会　1994年4月

論文 240

Influence of pre-treatment with non-thermal atmospheric pressure plasma on bond strength of TP340 titanium-PEEK direct bonding

Kosuke Takenaka, Soutaro Nakamoto, Ryosuke Koyari, Akiya Jinda, Susumu Toko, Giichiro Uchida, Yuichi Setsuhara

The International Journal of Advanced Manufacturing Technology　Vol. 134　No. 3-4　p. 1637-1644　2024年8月7日　研究論文（学術雑誌）
Effect of Atmospheric Pressure Nonequilibrium Plasma Pretreatment of Polyethylene/Polypropylene on Epoxy Adhesively Bonded Joints

Kosuke Takenaka, Ryosuke Koyari, Shunsho Shigemori, Giichiro Uchida, Yuichi Setsuhara

PLASMA PROCESSES AND POLYMERS　Vol. 22　No. 10　2025年10月　研究論文（学術雑誌）
Low-temperature deposition of crystalline IGZO films using high-power pulsed magnetron sputtering

Kosuke Takenaka, Taketo Nagata, Kazuya Ota, Yuichi Setsuhara, Takayuki Ohta

JOURNAL OF APPLIED PHYSICS　Vol. 138　No. 8　2025年8月28日　研究論文（学術雑誌）
Effective use of molecular sieves for methanation with plasma catalysis

Susumu Toko, Kosuke Takenaka, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani, Masakuni Ozawa, Yuichi Setsuhara

Japanese Journal of Applied Physics　Vol. 64　No. 7　p. 076003-076003　2025年7月1日　研究論文（学術雑誌）
Photocatalytic decomposition of methylene blue using a zinc–tungsten oxide compound prepared by co-sputtering and calcination

Sho Kakuta, Kosuke Takenaka, Makoto Takahashi, Yuichi Setsuhara, Takeru Okada

Japanese Journal of Applied Physics　Vol. 64　No. 4　p. 04SP07-04SP07　2025年4月1日　研究論文（学術雑誌）
Microstructure and surface/interface characterization of TiO2-pillared mica for photocatalytic acetaldehyde degradation

Masakuni Ozawa, Hidetomo Matui, Yuichi Setsuhara

Hybrid Advances　Vol. 10　p. 100435-100435　2025年3月　研究論文（学術雑誌）
出版者・発行元：Elsevier BV
Hydrogen-included plasma-assisted reactive sputtering for conductivity control of ultra-wide bandgap amorphous gallium oxide

Kosuke Takenaka, Hibiki Komatsu, Taichi Sagano, Keisuke Ide, Susumu Toko, Takayoshi Katase, Toshio Kamiya, Yuichi Setsuhara

Japanese Journal of Applied Physics　Vol. 63　No. 4　p. 04SP65-04SP65　2024年4月1日　研究論文（学術雑誌）
Improving the efficiency of CO2 methanation using a combination of plasma and molecular sieves

Susumu Toko, Takamasa Okumura, Kunihiro Kamataki, Kosuke Takenaka, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani, Yuichi Setsuhara

Results in Surfaces and Interfaces　Vol. 14　p. 100204-100204　2024年2月　研究論文（学術雑誌）
Stability and gap states of amorphous In-Ga-Zn-Ox thin film transistors: Impact of sputtering configuration and post-annealing on device performance

Kosuke Takenaka, Shota Nunomura, Yuji Hayashi, Hibiki Komatsu, Susumu Toko, Hitoshi Tampo, Yuichi Setsuhara

Thin Solid Films　Vol. 790　p. 140203-140203　2024年2月　研究論文（学術雑誌）
プラズマ触媒作用を用いた二酸化炭素還元反応の促進に関する基礎研究

Susumu TOKO, Takamasa OKUMURA, Kunihiro KAMATAKI, Kosuke TAKENAKA, Kazunori KOGA, Masaharu SHIRATANI, Yuichi SETSUHARA

Journal of Smart Processing　Vol. 13　No. 1　p. 31-36　2024年1月10日　研究論文（学術雑誌）
出版者・発行元：Sumart Processing Society for Minerals, Environment and Energy
Influence of pre-treatment using non-thermal atmospheric pressure plasma jet on aluminum alloy A1050 to PEEK direct joining with hot-pressing process

Kosuke Takenaka, Akiya Jinda, Soutaro Nakamoto, Ryosuke Koyari, Susumu Toko, Giichiro Uchida, Yuichi Setsuhara

The International Journal of Advanced Manufacturing Technology　Vol. 130　No. 3-4　p. 1925-1933　2023年12月15日　研究論文（学術雑誌）
Improving bonding strength by non-thermal atmospheric pressure plasma-assisted technology for A5052/PEEK direct joining

Kosuke Takenaka, Akiya Jinda, Soutaro Nakamoto, Ryosuke Koyari, Susumu Toko, Giichiro Uchida, Yuichi Setsuhara

The International Journal of Advanced Manufacturing Technology　Vol. 130　No. 1-2　p. 903-913　2023年12月6日　研究論文（学術雑誌）
Direct bonding of stainless steel and PEEK using non-thermal atmospheric pressure plasma-assisted joining technology

Kosuke Takenaka, Akiya Jinda, Soutaro Nakamoto, Susumu Toko, Giichiro Uchida, Yuichi Setsuhara

Journal of Manufacturing Processes　Vol. 105　p. 276-281　2023年11月　研究論文（学術雑誌）
Contribution of active species generated in plasma to CO₂ methanation

Susumu Toko, Taiki Hasegawa, Takamasa Okumura, Kunihiro Kamataki, Kosuke Takenaka, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani, Yuichi Setsuhara

Japanese Journal of Applied Physics　Vol. 62　No. SL　p. SL1023-SL1023　2023年7月3日　研究論文（学術雑誌）
Improving the efficiency of Sabatier reaction through H2O removal with low-pressure plasma catalysis Taiki

Susumu Toko, Taiki Haseagawa, Takamasa Okumura, Kunihiro Kamataki, Kosuke Takenaka, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani, Yuichi Setsuhara

Japanese Journal of Applied Physics　Vol. 62　p. SL1028-SL1028　2023年7月　研究論文（学術雑誌）
Analysis of oxygen-based species introduced during plasma assisted reactive processing of a-IGZO films

Japanese Journal of Applied Physics　Vol. 62　No. SL　2023年6月　研究論文（学術雑誌）
Analysis of residual oxygen during a-IGZO thin film formation by plasma-assisted reactive sputtering using a stable isotope

Kosuke Takenaka, Masashi Endo, Hiroyuki Hirayama, Susumu Toko, Giichiro Uchida, Akinori Ebe, Yuichi Setsuhara

Vacuum　Vol. 215　2023年6月　研究論文（学術雑誌）
Optical emission spectroscopy study in CO₂ methanation with plasma

Susumu Toko, Taiki Hasegawa, Takamasa Okumura, Kunihiro Kamataki, Kosuke Takenaka, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani, Yuichi Setsuhara

Japanese Journal of Applied Physics　Vol. 62　No. SI　p. SI1008-SI1008　2023年4月19日　研究論文（学術雑誌）
Plasma processing technique by combination of plasma-assisted reactive sputtering and plasma annealing for uniform electrical characteristics of InGaZnO thin film transistors formed on large-area substrates

Kosuke Takenaka, Tomoki Yoshitani, Masashi Endo, Hiroyuki Hirayama, Susumu Toko, Giichiro Uchida, Akinori Ebe, Yuichi Setsuhara

Japanese Journal of Applied Physics　Vol. 62　No. SI　p. SI1005/1-SI1005/9　2023年3月　研究論文（学術雑誌）
Development of a non-thermal atmospheric pressure plasma-assisted technology for the direct joining of metals with dissimilar materials

Kosuke Takenaka, Rikuro Machida, Tetsuya Bono, Akiya Jinda, Susumu Toko, Giichiro Uchida, Yuichi Setsuhara

Journal of Manufacturing Processes　Vol. 75　p. 664-669　2022年3月　研究論文（学術雑誌）
Nanostructured Ge and GeSn films by high-pressure He plasma sputtering for high-capacity Li ion battery anodes

Giichiro Uchida, Kenta Nagai, Yuma Habu, Junki Hayashi, Yumiko Ikebe, Mineo Hiramatsu, Ryota Narishige, Naho Itagaki, Masaharu Shiratani, Yuichi Setsuhara

Scientific Reports　Vol. 12　No. 1　2022年2月2日　研究論文（学術雑誌）
Effect of gas flow rate and discharge volume on CO2 methanation with plasma catalysis

Susumu Toko, Masashi Ideguchi, Taiki Haseagawa, Takamasa Okumura, Kunihiro Kamataki, Kosuke Takenaka, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani, Yuichi Setsuhara

Japanese Journal of Applied Physics　Vol. 61　No. SI　2022年1月　研究論文（学術雑誌）
Morphological control of nanostructured Ge films in high Ar-gas-pressure plasma sputtering process for Li ion batteries

Junki Hayashi, Kenta Nagai, Yuma Habu, Yumiko Ikebe, Mineo Hiramatsu, Ryota Narishige, Naho Itagaki, Masaharu Shiratani, Yuichi Setsuhara, Giichiro Uchida

Japanese Journal of Applied Physics　Vol. 61　No. SA　p. SA1002-SA1002　2021年12月15日　研究論文（学術雑誌）
Effects of surrounding gas on plasma-induced downward liquid flow

Toshiyuki Kawasaki, Keisuke Nishida, Giichiro Uchida, Fumiaki Mitsugi, Kosuke Takenaka, Kazunori Koga, Yuichi Setsuhara, Masaharu Shiratani

Japanese Journal of Applied Physics　Vol. 59　No. SH　2020年5月1日　研究論文（学術雑誌）
High-rate deposition of silicon nitride thin films using plasma-assisted reactive sputter deposition

Kosuke Takenaka, Yuichi Setsuhara, Jeon Geon Han, Giichiro Uchida, Akinori Ebe

Thin Solid Films　Vol. 685　p. 306-311　2019年9月　研究論文（学術雑誌）
出版者・発行元：Elsevier BV
Droplet-Vaporization Behavior during Plasma-Assisted Mist Chemical Vapor Deposition of Zinc Oxide Films

Kosuke Takenaka, Yuichi Setsuhara

Plasma Sources Science & Technology　Vol. 28　p. 065015/1-065015/8　2019年6月　研究論文（学術雑誌）
Low-temperature formation of high-mobility a-InGaZnOx films using plasma-enhanced reactive processes

Kosuke Takenaka, Masashi Endo, Hiroyuki Hirayama, Giichiro Uchida Akinori Ebe, Yuichi Setsuhara

Japanese Journal of Applied Physics　Vol. 58　p. 090605/1-090605/5　2019年6月　研究論文（学術雑誌）
Decomposition and oxidation of methionine and tryptophan following irradiation with a nonequilibrium plasma jet and applications forkilling cancer cells

Giichiro Uchida, Yusuke Mino, Tensho Suzuki, Jun-ichiro Ikeda, Takashi Suzuki, Kosuke Takenaka, Yuichi Setsuhara

Scientific Reports　Vol. 9　p. 6625/1-6625/17　2019年4月　研究論文（学術雑誌）
Effects of post-deposition plasma treatments on stability of amorphous InGaZnOx thin-film transistors prepared with plasma-assisted reactive magnetron sputtering

K. Takenaka, M. Endo, G. Uchida, Y. Setsuhara

Japanese Journal of Applied Physics　Vol. 58　No. 2s　p. SAAC03/1-SAAC03/5　2019年2月　研究論文（学術雑誌）
Influence of deposition condition on electrical properties of a-IGZO films deposited by plasma-enhanced reactive sputtering

Kosuke Takenaka, Masashi Endo, Giichiro Uchida, Akinori Ebe, Yuichi Setsuhara

Journal of Alloys and Compounds　Vol. 772　p. 642-649　2019年1月　研究論文（学術雑誌）
出版者・発行元：Elsevier BV
The effect of the H<inf>2</inf>/(H<inf>2</inf> + Ar) flow-rate ratio on hydrogenated amorphous carbon films grown using Ar/H<inf>2</inf>/C<inf>7</inf>H<inf>8</inf> plasma chemical vapor deposition

Taojun Fang, Kenji Yamaki, Kazunori Koga, Daisuke Yamashita, Hyunwoong Seo, Naho Itagaki, Masaharu Shiratani, Kosuke Takenaka, Yuichi Setsuhara

Thin Solid Films　Vol. 660　No. 8　p. 891-898　2018年8月30日　研究論文（学術雑誌）
Plasma-enhanced reactive linear sputtering source for formation of silicon-based thin films

K. Takenaka, Y. Setsuhara, J. G. Han, G. Uchida, A. Ebe

Review of Scientific Instruments　Vol. 89　No. 8　p. 083902/1-083902/6　2018年8月　研究論文（学術雑誌）
Effect of a plasma-activated medium produced by direct irradiation on cancer cell killing

G. Uchida, T. Ito, J. Ikeda, T. Suzkuki, K. Takenaka, Y. Setsuhara

Japanese Journal of Applied Physics　Vol. 57　No. 9　p. 096201-1-096201-6　2018年7月　研究論文（学術雑誌）
Fabrication of high-performance InGaZnOx thin film transistors based on control of oxidation using a low-temperature plasma

Kosuke Takenaka, Masashi Endo, Giichiro Uchida, Yuichi Setsuhara

Applied Physics Letters　Vol. 112　No. 15　p. 152103/1-152103/3　2018年4月9日　研究論文（学術雑誌）
出版者・発行元：American Institute of Physics Inc.
Low-temperature formation of c-axis-oriented aluminum nitride thin films by plasma-assisted reactive pulsed-DC magnetron sputtering

Kosuke Takenaka, Yoshikatsu Satake, Giichiro Uchida, Yuichi Setsuhara

Japanese Journal of Applied Physics　Vol. 57　No. 1　p. 01AD06-1-01AD06-5　2018年1月1日　研究論文（国際会議プロシーディングス）
出版者・発行元：Japan Society of Applied Physics
Selective production of reactive oxygen and nitrogen species in the plasma-treated water by using a nonthermal high-frequency plasma jet

Giichiro Uchida, Kosuke Takenaka, Keigo Takeda, Kenji Ishikawa, Masaru Hori, Yuichi Setsuhara

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS　Vol. 57　No. 1　p. 0102B4-1-0102B4-6　2018年1月　研究論文（学術雑誌）
Development of a non-equilibrium 60 MHz plasma jet with a long discharge plume

Giichiro Uchida, Kazufumi Kawabata, Taiki Ito, Kosuke Takenaka, Yuichi Setsuhara

JOURNAL OF APPLIED PHYSICS　Vol. 122　No. 3　p. 033301-1-033301-8　2017年7月　研究論文（学術雑誌）
Control of reactive oxygen and nitrogen species production in liquid by nonthermal plasma jet with controlled surrounding gas

Taiki Ito, Giichiro Uchida, Atsushi Nakajima, Kosuke Takenaka, Yuichi Setsuhara

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS　Vol. 56　No. 1　p. 01AC06-1-01AC06-6　2017年1月　研究論文（学術雑誌）
Effects of Working Pressure on the Physical Properties of a-InGaZnOx Films Formed Using Inductively Coupled Plasma-Enhanced Reactive Sputtering Deposition

Kosuke Takenaka, Keitaro Nakata, Giichiro Uchida, Yuichi Setsuhara, Akinori Ebe

IEEE TRANSACTIONS ON PLASMA SCIENCE　Vol. 44　No. 12　p. 3099-3106　2016年12月　研究論文（学術雑誌）
Effects of nonthermal plasma jet irradiation on the selective production of H2O2 and NO2- in liquid water

Giichiro Uchida, Atsushi Nakajima, Taiki Ito, Kosuke Takenaka, Toshiyuki Kawasaki, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani, Yuichi Setsuhara

JOURNAL OF APPLIED PHYSICS　Vol. 120　No. 20　p. 203302-1-203302-9　2016年11月　研究論文（学術雑誌）
Low-temperature atmospheric-pressure plasma sources for plasma medicine

Yuichi Setsuhara

ARCHIVES OF BIOCHEMISTRY AND BIOPHYSICS　Vol. 605　p. 3-10　2016年9月　研究論文（学術雑誌）
Effects of deposition rate and ion bombardment on properties of a-C:H films deposited by H-assisted plasma CVD method

Xiao Dong, Kazunori Koga, Daisuke Yamashita, Hyunwoong Seo, Naho Itagaki, Masaharu Shiratani, Yuichi Setsuhara, Makoto Sekine, Masaru Hori

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS　Vol. 55　No. 1　p. 01AA11-1-01AA11-7　2016年1月　研究論文（学術雑誌）
Process controllability of inductively coupled plasma-enhanced reactive sputter deposition for the fabrication of amorphous InGaZnOx channel thin-film transistors

Kosuke Takenaka, Keitaro Nakata, Hirofumi Otani, Soichiro Osaki, Giichiro Uchida, Yuichi Setsuhara

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS　Vol. 55　No. 1　2016年1月　研究論文（学術雑誌）
Influence of voltage pulse width on the discharge characteristics in an atmospheric dielectric-barrier-discharge plasma jet

Giichiro Uchida, Kosuke Takenaka, Yuichi Setsuhara

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS　Vol. 55　No. 1　2016年1月　研究論文（学術雑誌）
Gas Flow Rate Dependence of the Discharge Characteristics of a Plasma Jet Impinging Onto the Liquid Surface

Giichiro Uchida, Atsushi Nakajima, Kosuke Takenaka, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani, Yuichi Setsuhara

IEEE TRANSACTIONS ON PLASMA SCIENCE　Vol. 43　No. 12　p. 4081-4087　2015年12月　研究論文（学術雑誌）
Analysis of Dynamic Discharge Characteristics of Plasma Jet Based on Voltage and Current Measurements Using a Metal Plate

Yuichi Setsuhara, Giichiro Uchida, Kazufumi Kawabata, Atsushi Nakajima, Kosuke Takenaka

IEEE TRANSACTIONS ON PLASMA SCIENCE　Vol. 43　No. 11　p. 3821-3826　2015年11月　研究論文（学術雑誌）
Effects of gas flow on oxidation reaction in liquid induced by He/O-2 plasma-jet irradiation

Atsushi Nakajima, Giichiro Uchida, Toshiyuki Kawasaki, Kazunori Koga, Thapanut Sarinont, Takaaki Amano, Kosuke Takenaka, Masaharu Shiratani, Yuichi Setsuhara

JOURNAL OF APPLIED PHYSICS　Vol. 118　No. 4　p. 043301-1-043301-9　2015年7月　研究論文（学術雑誌）
Low-temperature formation of amorphous InGaZnOx films with inductively coupled plasma-enhanced reactive sputter deposition

Kosuke Takenaka, Ken Cho, Yasufumi Ohchi, Hirofumi Otani, Giichiro Uchida, Yuichi Setsuhara

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS　Vol. 54　No. 6　2015年6月　研究論文（学術雑誌）
Effects of discharge voltage waveform on the discharge characteristics in a helium atmospheric plasma jet

Giichiro Uchida, Kosuke Takenaka, Yuichi Setsuhara

JOURNAL OF APPLIED PHYSICS　Vol. 117　No. 15　p. 153301-1-153301-6　2015年4月　研究論文（学術雑誌）
Plasma Interaction with Organic Molecules in Liquid as Fundamental Processes in Plasma Medicine

Kosuke Takenaka, Atsushi Miyazaki, Hiroya Abe, Giichiro Uchida, Yuichi Setsuhara

JOURNAL OF NANOSCIENCE AND NANOTECHNOLOGY　Vol. 15　No. 3　p. 2120-2124　2015年3月　研究論文（学術雑誌）
Influence of He Gas Flow Rate on Optical Emission Characteristics in Atmospheric Dielectric-Barrier-Discharge Plasma Jet

Giichiro Uchida, Kosuke Takenaka, Kazufumi Kawabata, Yuichi Setsuhara

IEEE TRANSACTIONS ON PLASMA SCIENCE　Vol. 43　No. 3　p. 737-744　2015年3月　研究論文（学術雑誌）
Atmospheric-Pressure Plasma Interaction with Soft Materials as Fundamental Processes in Plasma Medicine

Kosuke Takenaka, Atsushi Miyazaki, Giichiro Uchida, Yuichi Setsuhara

JOURNAL OF NANOSCIENCE AND NANOTECHNOLOGY　Vol. 15　No. 3　p. 2115-2119　2015年3月　研究論文（学術雑誌）
Dynamic Properties of Helium Atmospheric Dielectric-Barrier-Discharge Plasma Jet

Giichiro Uchida, Kosuke Takenaka, Atsushi Miyazaki, Kazufumi Kawabata, Yuichi Setsuhara

JOURNAL OF NANOSCIENCE AND NANOTECHNOLOGY　Vol. 15　No. 3　p. 2324-2329　2015年3月　研究論文（学術雑誌）
Atmospheric-Pressure Gas-Breakdown Characteristics with a Radio-Frequency Voltage

Giichiro Uchida, Kosuke Takenaka, Atsushi Miyazaki, Yuichi Setsuhara

JOURNAL OF NANOSCIENCE AND NANOTECHNOLOGY　Vol. 15　No. 3　p. 2192-2196　2015年3月　研究論文（学術雑誌）
Molecular-structure variation of biomolecules irradiated with atmospheric-pressure plasma through plasma/liquid interface

Kosuke Takenaka, Atushi Miyazaki, Kazufumi Kawabata, Giichiro Uchida, Yuichi Setsuhara

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS　Vol. 54　No. 1　2015年1月　研究論文（学術雑誌）
Effects of driving voltage frequency on the discharge characteristics of atmospheric dielectric-barrier-discharge plasma jet

Giichiro Uchida, Kosuke Takenaka, Kazufumi Kawabata, Atsushi Miyazaki, Yuichi Setsuhara

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS　Vol. 53　No. 11　2014年11月　研究論文（学術雑誌）
Molecular-structure variation of organic materials irradiated with atmospheric pressure plasma

K. Takenaka, A. Miyazaki, Y. Setsuhara

Journal of Physics: Conference Series　Vol. 518　2014年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Plasma-Enhanced Reactive Magnetron Sputtering Assisted with Inductively Coupled Plasma for Reactivity-Controlled Deposition of Microcrystalline Silicon Thin Films

Kosuke Takenaka, Yuichi Setsuhara, Akinori Ebe

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS　Vol. 52　No. 11　2013年11月　研究論文（学術雑誌）
Plasma Interactions with Organic Materials in Liquid through Plasma/Liquid Interface

Kosuke Takenaka, Yuichi Setsuhara

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS　Vol. 52　No. 11　2013年11月　研究論文（学術雑誌）
Deposition and characterization of a- and μc-Si:H thin films by ICP-CVD system with internal antennas

J.H. Hsieh, H.C. Liang, Y. Setsuhara, C. Li

Surface and Coatings Technology　Vol. 231　p. 550-556　2013年9月25日　研究論文（学術雑誌）
Plasma interaction with Zn nano layer on organic materials for analysis of early stage of inorganic/organic hybrid multi-layer formation

Ken Cho, Kosuke Takenaka, Yuichi Setsuhara

SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY　Vol. 228　p. S271-S275　2013年8月　研究論文（学術雑誌）
Mass density control of carbon films deposited by H-assisted plasma CVD method

Tatsuya Urakawa, Hidehumi Matsuzaki, Daisuke Yamashita, Giichiro Uchida, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani, Yuichi Setsuhara, Makoto Sekine, Masaru Hori

SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY　Vol. 228　p. S15-S18　2013年8月　研究論文（学術雑誌）
Plasma interactions with aminoacid (l-alanine) as a basis of fundamental processes in plasma medicine

Yuichi Setsuhara, Ken Cho, Masaharu Shiratani, Makoto Sekine, Masaru Hori

Current Applied Physics　Vol. 13　No. 1　p. S59-S63　2013年3月20日　研究論文（学術雑誌）
Surface roughness development on ArF-photoresist studied by beam-irradiation of CF4 plasma

Takuya Takeuchi, Kenji Ishikawa, Yuichi Setsuhara, Keigo Takeda, Hiroki Kondo, Makoto Sekine, Masaru Hori

JOURNAL OF PHYSICS D-APPLIED PHYSICS　Vol. 46　No. 10　2013年3月　研究論文（学術雑誌）
H2/N2 plasma etching rate of carbon films deposited by H-assisted plasma CVD

Tatsuya Urakawa, Ryuhei Torigoe, Hidefumi Matsuzaki, Daisuke Yamashita, Giichiro Uchida, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani, Yuichi Setsuhara, Keigo Takeda, Makoto Sekine, Masaru Hori

Jpn. J. Appl. Phys.　No. 52　2013年1月15日
Plasma-Assisted Mist Chemical Vapor Deposition of Zinc Oxide Films Using Solution of Zinc Acetate

Kosuke Takenaka, Yusuke Okumura, Yuichi Setsuhara

Japanese Journal of Applied Physics　Vol. 52　No. 1S　p. 01AC11-01AC11　2013年1月1日　研究論文（学術雑誌）
Investigations on plasma-biomolecules interactions as fundamental process for plasma medicine

Kosuke Takenaka, Ken Cho, Yuichi Setsuhara, Masaharu Shiratani, Makoto Sekine, Masaru Hori

Journal of Physics: Conference Series　Vol. 441　No. 1　2013年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
出版者・発行元：Institute of Physics Publishing
H-2/N-2 Plasma Etching Rate of Carbon Films Deposited by H-Assisted Plasma Chemical Vapor Deposition

Tatsuya Urakawa, Ryuhei Torigoe, Hidefumi Matsuzaki, Daisuke Yamashita, Giichiro Uchida, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani, Yuichi Setsuhara, Keigo Takeda, Makoto Sekine, Masaru Hori

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS　Vol. 52　No. 1　2013年1月　研究論文（学術雑誌）
Investigation of chemical bonding states at interface of Zn/organic materials for analysis of early stage of inorganic/organic hybrid multi-layer formation

Ken Cho, Kosuke Takenaka, Yuichi Setsuhara, Masaharu Shiratani, Makoto Sekine, Masaru Hori

THIN SOLID FILMS　Vol. 523　p. 15-19　2012年11月　研究論文（学術雑誌）
Low-Temperature Deposition of Zinc Oxide Film by Plasma-Assisted Mist Chemical Vapor Deposition

Kosuke Takenaka, Yusuke Okumura, Yuichi Setsuhara

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS　Vol. 51　No. 8　p. 08HF05-1-08HF05-4　2012年8月　研究論文（学術雑誌）
Low-Temperature Growth of Zinc Oxide Films from Zinc Acetate Solution Using Plasma-Assisted Mist Chemical Vapor Deposition

Kosuke Takenaka, Yusuke Okumura, Yuichi Setsuhara

Transactions of the Materials Research Society of Japan　Vol. 37　No. 2　p. 173-176　2012年6月　研究論文（学術雑誌）
出版者・発行元：The Materials Research Society of Japan
Characterization of inductively coupled RF plasmas for plasma-assisted mist CVD of ZnO films

Kosuke Takenaka, Yusuke Okumura, Yuichi Setsuhara

INTERNATIONAL SYMPOSIUM ON MATERIALS SCIENCE AND INNOVATION FOR SUSTAINABLE SOCIETY: ECO-MATERIALS AND ECO-INNOVATION FOR GLOBAL SUSTAINABILITY (ECO-MATES 2011)　Vol. 379　p. 012031-1-012031-6　2012年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Effects of Irradiation with Ions and Photons in Ultraviolet-Vacuum Ultraviolet Regions on Nano-Surface Properties of Polymers Exposed to Plasmas

Ken Cho, Kosuke Takenaka, Yuichi Setsuhara, Masaharu Shiratani, Makoto Sekine, Masaru Hori

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS　Vol. 51　No. 1　p. 01AJ02-1-01AJ02-5　2012年1月　研究論文（学術雑誌）
フレキシブルデバイス創製に向けたプラズマ−ソフトマテリアル相互作用の解析

趙研, 節原裕一, 竹中弘祐, 白谷正治, 関根誠, 堀勝

高温学会誌　Vol. 37　No. 6　p. 289-297　2011年11月　研究論文（学術雑誌）
出版者・発行元：High Temperature Society of Japan
Effects of photoirradiation in UV and VUV regions during plasma exposure to polymers

Ken Cho, Yuichi Setsuhara, Kosuke Takenaka, Masaharu Shiratani, Makoto Sekine, Masaru Hori

THIN SOLID FILMS　Vol. 519　No. 20　p. 6810-6814　2011年8月　研究論文（学術雑誌）
Plasma processing of soft materials for development of flexible devices

Yuichi Setsuhara, Ken Cho, Kosuke Takenaka, Masaharu Shiratani, Makoto Sekine, Masaru Hori

THIN SOLID FILMS　Vol. 519　No. 20　p. 6721-6726　2011年8月　研究論文（学術雑誌）
Combinatorial analyses of plasma-polymer interactions

Yuichi Setsuhara, Ken Cho, Kosuke Takenaka, Masaharu Shiratani, Makoto Sekine, Masaru Hori

SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY　Vol. 205　p. S484-S489　2011年7月　研究論文（学術雑誌）
Nano-Surface Modification of Silicon with Ultra-Short Pulse Laser Process

Yuichi Setsuhara, Masaki Hashida

TECHNOLOGY EVOLUTION FOR SILICON NANO-ELECTRONICS　Vol. 470　p. 117-+　2011年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Combinatorial analysis of plasma-polymer interactions for formation of inorganic-soft materials hybrid structure

Kosuke Takenaka, Ken Cho, Yuichi Setsuhara, Masaharu Shiratani, Makoto Sekine, Masaru Hori

Trans. JWRI　Vol. 39　No. 2　p. 250-252　2010年12月　研究論文（大学，研究機関等紀要）
Effects of photon irradiation in UV and VUV regions during plasma processing of organic materials

Ken Cho, Kosuke Takenaka, Yuichi Setsuhara, Masaharu Shiratani, Makoto Sekine, Masaru Hori

Trans. JWRI　Vol. 39　No. 2　p. 298-300　2010年12月　研究論文（大学，研究機関等紀要）
Photon-induced phonon excitation process as low-temperature nonequillibrium nano-surface modification of silicon

Yuichi Setsuhara, Masaki Hashida

SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY　Vol. 205　No. 7　p. 1826-1829　2010年12月　研究論文（学術雑誌）
Nano-crystalline silicon thin films grown by the inductively coupled plasma assisted CFUBM at low temperature

Kyung S. Shin, Yoon S. Choi, In S. Choi, Y. Setsuhara, Jeon G. Han

SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY　Vol. 205　p. S227-S230　2010年12月　研究論文（学術雑誌）
Low-damage plasma processing of polymers for development of organic-inorganic flexible devices

Yuichi Setsuhara, Ken Cho, Kosuke Takenaka, Masaharu Shiratani, Makoto Sekine, Masaru Hori

SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY　Vol. 205　p. S355-S359　2010年12月　研究論文（学術雑誌）
Advanced research and development for plasma processing of polymers with combinatorial plasma-process analyzer

Yuichi Setsuhara, Ken Cho, Kosuke Takenaka, Masaharu Shiratani, Makoto Sekine, Masaru Hori

THIN SOLID FILMS　Vol. 518　No. 22　p. 6320-6324　2010年9月　研究論文（学術雑誌）
X-Ray photoelectron spectroscopy analysis of plasma-polymer interactions for development of low-damage plasma processing of soft materials

Yuichi Setsuhara, Ken Cho, Masaharu Shiratani, Makoto Sekine, Masaru Hori

THIN SOLID FILMS　Vol. 518　No. 22　p. 6492-6495　2010年9月　研究論文（学術雑誌）
Combinatorial Analysis of Plasma–Surface Interactions of Poly(ethylene terephthalate) with X-ray Photoelectron Spectroscopy

Kosuke Takenaka, Ken Cho, Yuichi Setsuhara, Masaharu Shiratani, Makoto Sekine, Masaru Hori

Japanese Journal of Applied Physics　Vol. 49　No. 8S1　p. 08JA02-08JA02　2010年8月1日　研究論文（学術雑誌）
出版者・発行元：IOP Publishing
Etching characteristics of organic low-k films interpreted by internal parameters employing a combinatorial plasma process in an inductively coupled H-2/N-2 plasma

Chang Sung Moon, Keigo Takeda, Makoto Sekine, Yuichi Setsuhara, Masaharu Shiratani, Masaru Hori

JOURNAL OF APPLIED PHYSICS　Vol. 107　No. 11　p. 113310-1-113310-8　2010年6月　研究論文（学術雑誌）
Surface loss probabilities of H and N radicals on different materials in afterglow plasmas employing H-2 and N-2 mixture gases

Chang Sung Moon, Keigo Takeda, Seigo Takashima, Makoto Sekine, Yuichi Setsuhara, Masaharu Shiratani, Masaru Hori

JOURNAL OF APPLIED PHYSICS　Vol. 107　No. 10　p. 103310-1-103310-7　2010年5月　研究論文（学術雑誌）
Low-damage surface modification of polymethylmethacrylate with argon-oxygen mixture plasmas driven by multiple low-inductance antenna units

Yuichi Setsuhara, Ken Cho, Kosuke Takenaka, Masaharu Shiratani, Makoto Sekine, Masaru Hori, Eiji Ikenaga, Shigeaki Zaima

Thin Solid Films　Vol. 518　No. 13　p. 3561-3565　2010年4月　研究論文（学術雑誌）
High performance of compact radical monitoring probe in H-2/N-2 mixture plasma

Chang Sung Moon, Keigo Takeda, Seigo Takashima, Makoto Sekine, Yuichi Setsuhara, Masaharu Shiratani, Masaru Hori

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B　Vol. 28　No. 2　p. L17-L20　2010年3月　研究論文（学術雑誌）
X-ray photoelectron spectroscopy for analysis of plasma-polymer interactions in Ar plasmas sustained via RF inductive coupling with low-inductance antenna units

Yuichi Setsuhara, Ken Cho, Masaharu Shiratani, Makoto Sekine, Masaru Hori

Thin Solid Films　Vol. 518　p. 3555-3560　2010年3月　研究論文（学術雑誌）
High performance of compact radical monitoring probe in H2 / N2 mixture plasma

Chang Sung Moon, Keigo Takeda, Seigo Takashima, Makoto Sekine, Yuichi Setsuhara, Masaharu Shiratani, Masaru Hori

Journal of Vacuum Science and Technology B:Nanotechnology and Microelectronics　Vol. 28　No. 2　p. L17-L20　2010年　研究論文（学術雑誌）
出版者・発行元：AVS Science and Technology Society
PLASMA-ENHANCED NANOPARTICLES-BEAM DEPOSITION FOR HIGH-RATE FORMATION OF NANOCOMPOSITE FILMS

Kosuke Takenaka, Yuki Nakajima, Yuichi Setsuhara, Hiroya Abe, Kiyoshi Nogi

CHARACTERIZATION AND CONTROL OF INTERFACES FOR HIGH QUALITY ADVANCED MATERIALS III　Vol. 219　p. 293-+　2010年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
DEVELOPMENT OF A COMBINATORIAL PLASMA PROCESS ANALYZER FOR ADVANCED R&D OF NEXT GENERATION NANODEVICE FABRICATION

Kosuke Takenaka, Ken Cho, Yuichi Setsuhara, Masaharu Shiratani, Makoto Sekine, Masaru Hori

CHARACTERIZATION AND CONTROL OF INTERFACES FOR HIGH QUALITY ADVANCED MATERIALS III　Vol. 219　p. 279-+　2010年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
HARD X-RAY PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY ANALYSIS FOR ORGANIC-INORGANIC HYBRID MATERIALS FORMATION

Ken Cho, Kosuke Takenaka, Yuichi Setsuhara, Masaharu Shiratani, Makoto Sekine, Masaru Hori, Eiji Ikenaga, Hiroki Kondo, Osamu Nakatsuka, Shigeaki Zaima

CHARACTERIZATION AND CONTROL OF INTERFACES FOR HIGH QUALITY ADVANCED MATERIALS III　Vol. 219　p. 183-+　2010年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Polycarbonate Surface Treatment by Using an Inductively-Coupled Plasma

Tae J. Byun, Kyung S. Shin, Youn J. Kim, Jeon G. Han, Y. Setsuhara

JOURNAL OF THE KOREAN PHYSICAL SOCIETY　Vol. 55　No. 5　p. 1785-1789　2009年11月　研究論文（学術雑誌）
Combinatorial Plasma Etching Process

Chang Sung Moon, Keigo Takeda, Makoto Sekine, Yuichi Setsuhara, Masaharu Shiratani, Masaru Hori

APPLIED PHYSICS EXPRESS　Vol. 2　No. 9　2009年9月　研究論文（学術雑誌）
Surface Modification of Polyimide for Improving Adhesion Strength by Inductively Coupled Plasma

Tae Joon Byun, Sung Il Kim, Youn Joon Kim, Yoon Suk Choi, In Sik Choi, Yuichi Setsuhara, Jeon Geon Han

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS　Vol. 48　No. 8　p. 08HL01-1-08HL01-4　2009年8月　研究論文（学術雑誌）
Development of density-inclination plasmas for analysis of plasma nano-processes via combinatorial method

Y. Setsuhara, K. Nagao, M. Shiratani, M. Sekine, M. Hori

Thin Solid Films　Vol. 518　p. 1020-1023　2009年8月　研究論文（学術雑誌）
Plasma surface treatment of polymers with inductivity-coupled RF plasmas driven by low-inductance antenna units

Y. Setsuhara, K. Cho, K. Takenaka, A. Ebe, M. Shiratani, M. Sekine, M. Hori, E.. Ikeitaga, H. Kondo, O. Nakatsuka, S. Zaima

Thin Solid Films　Vol. 518　p. 1006-1011　2009年6月　研究論文（学術雑誌）
Substrate temperature dependence of deposition profile of plasma CVD carbon films in trenches

Jun Umetsu, Kazuhiko Inoue, Takuya Nomura, Hidefumi Matsuzaki, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani, Yuichi Setsuhara, Makoto Sekine, Masaru Hori

Journal of Plasma and Fusion Research Series　Vol. 8　2009年
Radial-Profile Control of Cylindrical Plasma Source With Multiple Low-Inductance Antenna Units

Kosuke Takenaka, Yuichi Setsuhara, Kazuaki Nishisaka, Akinori Ebe

PLASMA PROCESSES AND POLYMERS　Vol. 6　No. S1　p. S278-S281　2009年　研究論文（学術雑誌）
Large-area and low-damage processes for hybrid flexible device fabrications with reactive high-density plasmas driven by multiple low-inductance antenna modules

Yuichi Setsuhara, Kosuke Takenaka, Ken Cho, Jeon G. Han

Journal of Physics: Conference Series　Vol. 165　p. 12042-1-12042-6　2009年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
出版者・発行元：Institute of Physics Publishing
Magnetron sputtered Si-B-C-N films with high oxidation resistance and thermal stability in air at temperatures above 1500℃

Jaroslav Vlcek, Stanislav Hreben, Jiri Kalas, Jiri Capek, Petr Zeman, Radomir Cerstvy, Vratislav Perina, Yuichi Setsuhara

J. Vac. Sci. Technol. A　Vol. 26　No. 5　p. 1101-1108　2008年9月　研究論文（学術雑誌）
Interface structures of microcrystalline silicon films deposited with inductively coupled plasmas using internal low-inductance antenna units

Hirokazu Kaki, Eiji Takahashi, Tsukasa Hayashi, Kiyoshi Ogata, Akinori Ebe, Kosuke Takenaka, Yuichi Setsuhara

Surface and Coatings Technology　Vol. 202　p. 5672-5675　2008年9月　研究論文（学術雑誌）
Corrosion Resistance of Plasma-Oxidized Stainless Steel

Jiro Okado, Ken Okada, Asahiko Ishiyama, Yuichi Setsuhara, Kosuke Takenaka

Surface and Coatings Technology　Vol. 202　p. 5595-5598　2008年9月　研究論文（学術雑誌）
Large-Area Low-Damage Plasma Sources Driven by Multiple Low-Inductance-Antenna Modules for Next-Generation Flat-Panel Display Processes

Yuichi Setsuhara, Kosuke Takenaka, Akinori Ebe

Surface and Coatings Technology　Vol. 202　p. 5225-5229　2008年9月　研究論文（学術雑誌）
Uniformity of 500-mm Cylindrical Plasma Source Sustained with Multiple Low-Inductance Antenna Units

Yuichi Setsuhara, Daisuke Tsukiyama, Kosuke Takenaka

Surface and Coatings Technology　Vol. 202　p. 5238-5241　2008年9月　研究論文（学術雑誌）
Modification of Yttrium-Iron-Oxide Nanoparticle Films Using Inductively-Coupled Plasma Annealing

Kosuke Takenaka, Hiroaki Nakayama, Yuichi Setsuhara, Hiroya Abe, Kiyoshi Nogi

Surface and Coatings Technology　Vol. 202　p. 5336-5338　2008年9月　研究論文（学術雑誌）
Discharge Profiles of Internal-Antenna-Driven Inductively-Coupled Plasmas

Yuichi Setsuhara, Takashi Sera, Kosuke Takenaka

Surface and Coatings Technology　Vol. 202　p. 5234-5237　2008年9月　研究論文（学術雑誌）
Properties of Argon/Oxygen Mixture Plasmas Driven by Multiple Internal-Antenna Units

Yuichi Setsuhara, Kosuke Takenaka, Akinori Ebe, Jeon G. Han

Surface and Coatings Technology　Vol. 202　p. 5230-5233　2008年9月　研究論文（学術雑誌）
Properties of argon/oxygen mixture plasmas driven by multiple internal-antenna units

Yuichi Setsuhara, Kosuke Takenaka, Akinori Ebe, Jeon G. Han

SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY　Vol. 202　No. 22-23　p. 5230-5233　2008年8月　研究論文（学術雑誌）
Large-area low-damage plasma sources driven by multiple low-inductance-antenna modules for next-generation flat-panel display processes

Yuichi Setsuhara, Kosuke Takenaka, Akinori Ebe

SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY　Vol. 202　No. 22-23　p. 5225-5229　2008年8月　研究論文（学術雑誌）
Discharge profiles of internal-antenna-driven inductively-coupled plasmas

Yuichi Setsuhara, Takashi Sera, Kosuke Takenaka

SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY　Vol. 202　No. 22-23　p. 5234-5237　2008年8月　研究論文（学術雑誌）
Uniformity of 500-mm cylindrical plasma source sustained with multiple low-inductance antenna units

Yuichi Setsuhara, Daisuke Tsukiyama, Kosuke Takenaka

SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY　Vol. 202　No. 22-23　p. 5238-5241　2008年8月　研究論文（学術雑誌）
Modification of yttrium-iron-oxide nanoparticle films using inductively-coupled plasma annealing

Kosuke Takenaka, Hiroaki Nakayama, Yuichi Setsuhara, Hiroya Abe, Kiyoshi Nogi

SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY　Vol. 202　No. 22-23　p. 5336-5338　2008年8月　研究論文（学術雑誌）
Corrosion resistance of plasma-oxidized stainless steel

Jiro Okado, Ken Okada, Asahiko Ishiyama, Yuichi Setsuhara, Kosuke Takenaka

SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY　Vol. 202　No. 22-23　p. 5595-5598　2008年8月　研究論文（学術雑誌）
Simulation-Aided Designing of Meter-Scale Large-Area Plasma Source with Multiple Low-Inductance Antenna Modules

Yuichi Setsuhara, Daisuke Tsukiyama, Kosuke Takenaka, Koichi Ono

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS　Vol. 47　No. 8　p. 6903-6906　2008年8月　研究論文（学術雑誌）
Characterization of Ion Energy Distribution in Inductively Coupled Argon Plasmas Sustained with Multiple Internal-Antenna Units

Kosuke Takenaka, Yuichi Setsuhara, Kazuaki Nishisaka, Akinori Ebe

Japanese Journal of Applied Physics　Vol. 47　No. 8S2　p. 6900-6900　2008年8月1日　研究論文（学術雑誌）
Mechanical milling with capacitively coupled plasma for surface modification of particulate materials

Jun-ichi Noma, Hiroya Abe, Kosuke Takenaka, Yuichi Setsuhara, Makio Naito

SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY　Vol. 202　No. 22-23　p. 5347-5349　2008年8月　研究論文（学術雑誌）
Meters-Scale Ultra-Large-Area Plasma-Source Designs Employing Multiple Low-Inductance -Antenna Modules

Yuichi Setsuhara, Daisuke Tsukiyama, Kosuke Takenaka, Akinori Ebe

Full-Papers CD of the 18th International Symposium on Plasma Chemistry　p. 30P-77-1-30P-77-4　2007年8月　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Characterization of Argon/Oxygen Mixture Plasmas Driven by Multiple Internal-Antenna Units

Kosuke Takenaka, Yuichi Setsuhara, Kazuaki Nishisaka, Akinori Ebe, Yong-Mo Kim, Jeon G. Han

Full-Papers CD of the 18th International Symposium on Plasma Chemistry　p. 30P-76-1-30P-76-4　2007年8月　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Meters-Scale Large-Area Plasma Sources with Multiple Low-Inductance Antenna Units for Next-Generation Flat-Panel Display Processing

Daisuke Tsukiyama, Kosuke Takenaka, Yuichi Setsuhara, Kazuaki Nishisaka, Akinori Ebe

Transactions of the Materials Research Society of Japan　Vol. 32　p. 497-500　2007年4月　研究論文（学術雑誌）
Modification of nanoparticle films with inductively-coupled high-pressure RF plasmas

Kosuke Takenaka, Hiroaki Nakayama, Yuichi Setsuhara, Hiroya Abe, Kiyoshi Nogi

Transactions of the Materials Research Society of Japan　Vol. 32　p. 505-508　2007年4月　研究論文（学術雑誌）
Effect of Pressure on Inductively-Coupled Plasmas Sustained with Multiple Low-Inductance Internal-Antenna Units

Kosuke Takenaka, Yuichi Setsuhara, Kazuaki Nishisaka, Akinori Ebe

Transactions of the Materials Research Society of Japan　Vol. 32　p. 493-496　2007年4月　研究論文（学術雑誌）
Plasma Profiles of Inductively Coupled Plasmas Sustained with Low-Inductance Internal Antenna

Kosuke Takenaka, Takashi Sera, Akinori Ebe, Yuichi Setsuhara

PLASMA PROCESSES AND POLYMERS　Vol. 4　p. S1013-S1016　2007年4月　研究論文（学術雑誌）
Properties of Inductively-Coupled Plasmas Driven by Multiple Low-Inductance Internal-Antenna Units

Kosuke Takenaka, Yuichi Setsuhara, Kazuaki Nishisaka, Akinori Ebe

PLASMA PROCESSES AND POLYMERS　Vol. 4　p. S1009-S1012　2007年4月　研究論文（学術雑誌）
Production and Control of Large-Area Plasmas for Meters-Scale Flat-Panel-Display Processing with Multiple Low-Inductance Antenna Modules

Yuichi Setsuhara, Kosuke Takenaka, Akinori Ebe, Kazuaki Nishisaka

PLASMA PROCESSES AND POLYMERS　Vol. 4　p. S628-S632　2007年4月　研究論文（学術雑誌）
Large-Area and High-Speed Deposition of Microcrystalline Silicon Film by Inductive Coupled Plasma using Internal Low-Inductance Antenna

Eiji Takahashi, Yasuaki Nishigami, Atsushi Tomyo, Masaki Fujiwara, Hirokazu Kaki, Kiyoshi Kubota, Tsukasa Hayashi, Kiyoshi Ogata, Akinori Ebe, Yuichi Setsuhara

Japanese Journal of Applied Physics　Vol. 46　No. 3S　p. 1280-1280　2007年3月1日　研究論文（学術雑誌）
Development of large area plasma reactor using multiple low-inductance antenna modules for flat panel display processing

Y. Setsuhara, K. Takenaka, A. Ebe, K. Nishisaka

Solid State Phenomena　Vol. 127　p. 239-244　2007年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
出版者・発行元：Trans Tech Publications Ltd
Development of inductively-coupled RF plasma source for carbon alignment film deposition

T. Matsumoto, Y. Kinoshita, Y. Matsuda, Y. Andoh, Y. Setsuhara, Y. Iimura

IDW '07: PROCEEDINGS OF THE 14TH INTERNATIONAL DISPLAY WORKSHOPS, VOLS 1-3　p. 541-+　2007年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Ultrafast phase transition of Si by femtosecond laser pulse irradiation - art. no. 63463S

Masayuki Fujita, Yusaku Izawa, Masaki Hashida, Yuichi Setsuhara, Yasukazu Izawa, Chiyoe Yamanaka

XVI International Symposium on Gas Flow, Chemical Lasers, and High-Power Lasers, Pts 1 and 2　Vol. 6346　p. S3463-S3463　2007年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Ultra-large area RF plasma sources employing multiple low-inductance internal-antenna modules for flat panel display processing

Yuichi Setsuhara, Kosuke Takenaka, Daisuke Tsukiyama, Kazuaki Nishisaka, Akinori Ebe

PRICM 6: SIXTH PACIFIC RIM INTERNATIONAL CONFERENCE ON ADVANCED MATERIALS AND PROCESSING, PTS 1-3　Vol. 561-565　p. 1237-1240　2007年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
PROPERTIES OF INDUCTIVETY-COUPLED RF PLASMAS SUSTAINED WITH INTERNAL ANTENNA FOR DEPOSITION OF CARBON-RELATED FILMS

Kosuke Takenaka, Yuichi Setsuhara, Kazuaki Nishisaka, Akinori Ebe

CHARACTERIZATION AND CONTROL OF INTERFACES FOR HIGH QUALITY ADVANCED MATERIALS II　Vol. 198　p. 413-+　2007年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Development of large area plasma reactor using multiple low-inductance antenna modules for flat panel display processing

Y. Setsuhara, K. Takenaka, A. Ebe, K. Nishisaka

DESIGNING OF INTERFACIAL STRUCTURES IN ADVANCED MATERIALS AND THEIR JOINTS　Vol. 127　p. 239-+　2007年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Ultrathin amorphous Si layer formation by femtosecond laser pulse irradiation

Yusaku Izawa, Yasukazu Izawa, Yuichi Setsuhara, Masaki Hashida, Ryuichiro Sasaki, Hiroyuki Nagai, Makoto Yoshida

APPLIED PHYSICS LETTERS　Vol. 90　No. 4　p. 044107-1-044107-2　2007年1月　研究論文（学術雑誌）
Effects of Antenna Size and Configurations in Large-Area RF Plasma Production with Internal Low-Inductance Antenna Units

Hiroshige Deguchi, Hitoshi Yoneda, Kenji Kato, Kiyoshi Kubota, Tsukasa Hayashi, Kiyoshi Ogata, Akinori Ebe, Kosuke Takenaka, Yuichi Setsuhara

Japanese Journal of Applied Physics　Vol. 45　No. 10S　p. 8042-8042　2006年10月1日　研究論文（学術雑誌）
Characterization of inductively-coupled RF plasma sources with multiple low-inductance antenna units

Kosuke Takenaka, Yuichi Setsuhara, Kazuaki Nishisaka, Akinori Ebe, Shinya Sugiura, Kazuo Takahashi, Koichi Ono

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS BRIEF COMMUNICATIONS & REVIEW PAPERS　Vol. 45　No. 10B　p. 8046-8049　2006年10月　研究論文（学術雑誌）
Surface Modification of Nanopowder by Milling under Electric Discharge

Hiroya Abe, Akira Kondo, Kosuke Takenaka, Yuichi Setsuhara, Makio Naito

Advances in Science and Technology　Vol. 45　p. 363-367　2006年9月　研究論文（学術雑誌）
Ablation and amorphization of crystalline Si by femtosecond and picosecond laser irradiation

Yusaku Izawa, Yuichi Setuhara, Masaki Hashida, Masayuki Fujita, Yasukazu Izawa

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS BRIEF COMMUNICATIONS & REVIEW PAPERS　Vol. 45　No. 7　p. 5791-5794　2006年7月　研究論文（学術雑誌）
Development of Large Area Plasma Reactor Using Multiple Low-Inductance Antenna Modules for Flat Panel Display Processing

Y.Setsuhara, K.Takenaka, A.Ebe, K.Nishisaka

Proceedings of InternationalWorkshop on Designing of Interfacial Structrures in Advanced Materials and their Joints　p. 17-17　2006年5月　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Novel ICP plasma source for large area CVD processing

Y. Setsuhara, K. Takenaka, A. Ebe, K. Nishisaka

The 3rd International Workshop on Advanced Plasma Processing and Diagnostics　p. 3-3　2006年4月　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Microwave-sustained miniature plasmas for an ultra small thruster

Yoshinori Takao, Kouichi Ono, Kazuo Takahashi, Yuichi Setsuhara

Thin Solid Films　Vol. 506-507　p. 592-596　2006年4月　研究論文（学術雑誌）
Properties of Inductively-Coupled RF Plasma Sources with Multiple Low-Inductance Antenna Modules

Kosuke Takenaka, Yuichi Setsuhara, Kazuaki Nishisaka, Akinori Ebe, Shinya Sugiura, Kazuo Takahashi, Koichi Ono

Proceedings of the 6th International Conference on Reactive Plasmas and 23rd Symposium on Plasma Processing　p. 183-184　2006年1月　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Development of Meters-Scale Large-Area RF Plasma Sources with Control Capabilities of Power Deposition Profiles

Yuichi Setsuhara, Akinori Ebe, Kazuaki Nishisaka, Kosuke Takenaka

Proceedings of the 6th International Conference on Reactive Plasmas and 23rd Symposium on Plasma Processing　p. 179-180　2006年1月　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Direct deposition of microcrystalline Si films on large size glass substrate by internal ICP source

E. Takahashi, H. Kaki, M. Fujiwara, Y. Nishigami, K. Kubota, T. Hayashi, K. Ogata, A. Ebe, Y. Setsuhara

Transactions of the Materials Research Society of Japan, Vol 31, No 2　Vol. 31　No. 2　p. 507-510　2006年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Properties of inductively coupled hydrogen plasmas sustained with multiple low-inductance internal-antenna units

Kosuke Takenaka, Yuichi Setsuhara, Kazuaki Nishisaka, Akinori Ebe

Transactions of the Materials Research Society of Japan, Vol 31, No 2　Vol. 31　No. 2　p. 511-514　2006年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
New quaternary SI-B-C-N films prepared by reactive magnetron sputtering

J. Vlcek, S. Potocky, J. Houska, P. Zeman, V. Perina, Y. Setsuhara

Transactions of the Materials Research Society of Japan, Vol 31, No 2　Vol. 31　No. 2　p. 447-451　2006年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Development of Meters-Scale/Large-Area Inductively Coupled Plasma Sources with Integrated Control of Multiple Low-Inductance Internal-Antenna Modules

Y.Setsuhara, K.Takenaka, K.Nishisaka, A.Ebe

The 16th Symposium of The Materials Research Society of Japan (MRS-J)　2005年12月　研究論文（その他学術会議資料等）
Potential Distributions and Ionic Behaviors during Electrophoretic Deposition of Ceramics Films in Nanoparticles-Dispersed Liquid

T.Sano, K.Takenaka, Y.Setsuhara, K.Sato, H.Abe, K.Nogi

The 16th Symposium of The Materials Research Society of Japan (MRS-J)　2005年12月　研究論文（その他学術会議資料等）
Reactive magnetron sputtering of hard Si-B-C-N films with a high-temperature oxidation resistance

Jaroslav Vlcek, Stepan Potocky, Jiri Cizek, Jiri Houska, Martin Kormunda, Petr Zeman, Vratislav Perina, Josef Zemek, Yuichi Setsuhara, Seiji Konuma

J. Vac. Sci. Technol.　Vol. A23　No. 6　p. 1513-1522　2005年10月　研究論文（学術雑誌）
Etching characteristics of high-k dielectric HfO2 thin films in inductively coupled fluorocarbon plasmas

Kazuo Takahashi, Kouichi Ono, Yuichi Setsuhara

J. Vac. Sci. Technol.　Vol. A23　No. 6　p. 1691-1697　2005年10月　研究論文（学術雑誌）
出版者・発行元：AIP Publishing
Characterization of Amorphous Hydrogenated Carbon Formed by Low-pressure Inductively Coupled Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition Using Multiple Low-Inductance Antenna Units

Osamu Tsuda, Masatou Ishihara, Yoshinoi Koga, Shuzo Fujiwara, Yuichi Setsuhara, Naoyuki Sato

J. Phys. Chem. B　Vol. 109　No. 11　p. 4917-4922　2005年2月　研究論文（学術雑誌）
Surface modification of crystalline Si irradiated by femtosecond laser pulses

Yu Izawa, M. Fujita, Y. Setsuhara, M. Hashida, Y. Izawa

Conference on Lasers and Electro-Optics Europe - Technical Digest　2005年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
誘導結合型フルオロカーボンプラズマを用いた高誘電率HfO2薄膜のエッチング

高橋和生, 斧高一, 節原裕一

表面技術　Vol. 55　No. 12　p. 793-799　2004年12月　研究論文（学術雑誌）
出版者・発行元：表面技術協会
低インダクタンス内部アンテナ方式ICP源によるポリシリコン薄膜の合成

濱岡陽介, 三宅正司, 稲実宏, 渡邉哲也, 江部明憲, 庄司多津男, 節原祐一

高温学会誌　Vol. 30　No. 1　p. 27-27　2004年1月30日
Characterization of porosity and dielectric constant of fluorocarbon porous films synthesized by using plasma-enhanced chemical vapor deposition and solvent process

K. Takahashi, T. Mitamura, K. Ono, Y. Setsuhara, A. Itoh, K. Tachibana

Appl. Phys. Lett. 82, pp. 2476-2478 (2003).　Vol. 82　No. 15　p. 2476-2478　2003年12月　研究論文（学術雑誌）
Mechanical properties of zirconium films prepared by ion-beam assisted deposition

A. Mitsuo, T. Mori, Y. Setsuhara, S. Miyake, T. Aizawa

Nucl. Instrum. Meth. B 206, pp. 366-370 (2003).　2003年4月　研究論文（学術雑誌）
Tribological Property of CeO₂Films Prepared by Ion-Beam-Assisted Deposition

Ippei Shimizu, Yuichi Setsuhara, Shoji Miyake, Jindrich Musil, Hidenori Saitou, Masao Kumagai

Japanese Journal of Applied Physics　Vol. 42　No. Part 1, No. 2A　p. 634-639　2003年2月15日　研究論文（学術雑誌）
出版者・発行元：IOP Publishing
Performance of inductively coupled fluorocarbon plasmas in etching of HfO2 thin films as a high-k gate insulating material

Takahashi, K, Ono, K, Setsuhara, Y

Proc. of 2003 Int. Symp. on Dry Process, Tokyo, Japan　p. 247-252　2003年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Gas phase nucleation of diamond in non-thermal fluorocarbon dusty plasmas

Takahashi, K, Ono, K, Setsuhara, Y, Okano, T, Kouzaki, T

Abstracts and Full Paper CD of 16th Int. Symp. on Plasma Chemistry, Taormina, Italy　p. Po.10.33-3 pages　2003年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Particle-in-cell simulation of ion thruster with multiple plasma channels extracted from high-density helicon plasma source

Yamamoto, H, Setsuhara, Y, Takahashi, K, Ono, K

Abstracts and Full Paper CD of 16th Int. Symp. on Plasma Chemistry, Taormina, Italy　p. Po.5.45-6 pages　2003年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Plasma chemical behavior of reaction products during inductively coupled CF4 plasma etching of Si and SiO2

Fujikake, I, Ono, K, Takahashi, K, Setsuhara, Y

Abstracts and Full Paper CD of 16th Int. Symp. on Plasma Chemistry, Taormina, Italy　p. Po6.33-6 pages　2003年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Development of internal-antenna-driven large-area RF plasma sources using multiple low-inductance antenna units

Y. Setsuhara, T. Shoji, A. Ebe, S. Baba, N. Yamamoto, K. Takahashi, K. Ono, S. Miyake

Surface and Coatings Technology　Vol. 174-175　p. 33-39　2003年　研究論文（学術雑誌）
出版者・発行元：Elsevier
プラズマＣＶＤと溶媒処理を用いたフルオロカーボン系多孔質構造Low-K薄膜の作成

高橋和生, 三田村崇司, 斧高一, 節原裕一

表面技術 53, PP.857-859 (2002).　Vol. 53　No. 12　p. 857-859　2002年12月
出版者・発行元：The Surface Finishing Society of Japan
Morphology and Microstructure of Hard and Superhard Zr–Cu–N Nanocomposite Coatings

Jindrich Musil, Jaroslav Vlcek, Petr Zeman, Yuichi Setsuhara, Shoji Miyake, Seiji Konuma, Masao Kumagai, Christian Mitterer

Japanese Journal of Applied Physics　Vol. 41　No. Part 1, No. 11A　p. 6529-6533　2002年11月15日　研究論文（学術雑誌）
出版者・発行元：IOP Publishing
低インダクタンス内部アンテナを用いた誘導結合プラズマによる多結晶シリコン膜の形成

稲実宏, 馬場創, 江部明憲, 三宅正司, 庄司多津男, 節原裕一

高温学会誌　Vol. 28　No. 4　2002年7月22日
Synthesis of microcrystalline silicon films by plasma enhanced chemical vapor deposition using multiple inductively-coupled-plasma modules with low-inductance antenna

A. Ebe, H. Inami, S. Baba, N. Yamamoto, Y. Setsuhara, T. Shoji, S. Miyake

2002 International Microprocesses and Nanotechnology Conference, MNC 2002　2002年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
出版者・発行元：Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.
Development of large-scale inductively coupled plasma source with multiple internal antennas units for synthesis of microcrystalline silicon films

S. Baba, N. Yamamoto, H. Inami, A. Ebe, Y. Setsuhara, T. Shoji, S. Miyake

2002 International Microprocesses and Nanotechnology Conference, MNC 2002　2002年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
出版者・発行元：Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.
Production mechanism and chemical structure of dust particles in fluorocarbon plasmas

K Takahashi, K Ono, Y Setsuhara

DUSTY PLASMAS IN THE NEW MILLENNIUM　Vol. 649　p. 446-449　2002年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Fundamental study of ion irradiation effects on the columnar growth of chromium films prepared by ion beam and vapor deposition

N. Kuratani, A. Ebe, K. Ogata, I. Shimizu, Y. Setsuhara, S. Miyake

J. Vac. Sci. Technol. A. 19 (1), pp. 153-157 (2001).　2001年4月　研究論文（学術雑誌）
Development of internal-antenna-driven large-volume RF plasma sources for plasma-based ion implantation

Y. Setsuhara, S. Miyake, Y. Sakawa, T. Shoji

Surf. Coat. Technol. 136, pp. 60-64 (2001).　2001年4月　研究論文（学術雑誌）
Synthesis of carbon nitride films by high-density helicon wave-excited plasma sputtering

Y. Setsuhara, Y. Sakawa, T. Shoji, M. Kumagai, S. Miyake

Surf. Coat. Technol. 142-144, pp. 874-880 (2001).　2001年4月　研究論文（学術雑誌）
Improved anti-wear performance of nanostructured titanium boron nitride coatings

J. L. He, S. Miyake, Y. Setsuhara, I. Shimizu, M. Suzuki, K. Numata, H. Saito

Wear 249, pp. 498-502 (2001).　2001年4月　研究論文（学術雑誌）
Structure refinement and hardness enhancement of titanium nitride films by addition of copper

J. L. He, Y. Setsuhara, I. Shimizu, S. Miyake

Surface and Coatings Technology　Vol. 137　No. 1　p. 38-42　2001年　研究論文（学術雑誌）
Effects of Ion-Beam-Irradiation on Morphology and Densification of CeO₂ Films Prepared by Ion-Beam-Assisted Deposition

Ippei Shimizu, Yuichi Setsuhara, Shoji Miyake, Hidenori Saitou, Masao Kumagai

Japanese Journal of Applied Physics　Vol. 39　No. 7R　p. 4138-4138　2000年7月1日　研究論文（学術雑誌）
出版者・発行元：IOP Publishing
イオンビーム支援蒸着法を用いたCeO2薄膜合成におけるモルフォロジーに及ぼすイオン照射効果

志水一平, 節原裕一, 斉藤英純, 熊谷正夫, 三宅正司

高温学会誌 26, No.5, pp. 211-218 (2000).　2000年5月　研究論文（学術雑誌）
Development of High Density RF Plasma and Application to PVD

S. Miyake, Y. Setsuhara, Y. Sakawa, T. Shoji

Surf. Coat. Technol. 131, pp.171-176 (2000).　2000年4月　研究論文（学術雑誌）
Intrenal-antenna driven inductive RF discharges for development of large-area high-density plasma sources with supressed electrostatic coupling

S. Miyake, Y. Setsuhara, Y. Sakawa, T. Shoji

Vacuum 59, pp. 472-478 (2000).　2000年4月　研究論文（学術雑誌）
酸化物薄膜創成におけるミラー型ECRプラズマに及ぼすRFバイアス効果

馬場創, 節原裕一, 三宅正司

高温学会誌　Vol. 26　No. 1　p. 64-14　2000年1月20日
Influence of ion energy and arrival rate on x-ray crystallographic properties of thin ZrOx films prepared on Si(111) substrate by ion-beam assisted deposition

M. Matsuoka, S. Isotani, J. F.D. Chubaci, S. Miyake, Y. Setsuhara, K. Ogata, N. Kuratani

Journal of Applied Physics　Vol. 88　No. 6　p. 3773-3775　2000年　研究論文（学術雑誌）
出版者・発行元：American Institute of Physics Inc.
Preparation of aluminum oxide films by ion beam assisted deposition

I. Shimizu, Y. Setsuhara, S. Miyake, M. Kumagai, K. Ogata, M. Kohata, K. Yamaguchi

Surface and Coatings Technology　Vol. 131　No. 1-3　p. 187-191　2000年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Synthesis of CeO2 Films by Ion Beam Assisted Deposition

I. Shimizu, M. Kumagai, H. Saito, Y. Setsuhara, Y. Makino, S. Miyake

Ion Implantation Technology-98 ed. by J. Matsuo, G. Takaoka and I. Yamada (IEEE Inc., New Jersey, 1999) pp. 943-946.　1999年12月　研究論文（学術雑誌）
Properties of Cubic Boron Nitride Films Prepared by Ion Beam Assisted Deposition

M. Kumagai, S. Konuma, Y. Setsuhara, S. Miyake, K. Ogata, M. Kohata

Ion Implantation Technology-98 ed. by J. Matsuo, G. Takaoka and I. Yamada (IEEE Inc., New Jersey, 1999) pp. 1140-1143.　1999年12月　研究論文（学術雑誌）
Formation of b-SiC Thin Layers by Implantation of Carbon Ions into Silicon by Using MEVVA Ion Source

S. Yonekubo, Y. Setsuhara, S. Miyake, M. Kumagai, B. Kyoh

Ion Implantation Technology-98 ed. by J. Matsuo, G. Takaoka and I. Yamada (IEEE Inc., New Jersey, 1999) pp. 1090-1092.　1999年12月　研究論文（学術雑誌）
Studies on Magnetron Sputtering Assisted by Inductively Coupled RF Plasma for Enhanced Metal Ionization

Masahiro Yamashita, Yuichi Setsuhara, Shoji Miyake, Masao Kumagai, Tatsuo Shoji, Jindrich Musil

Japanese Journal of Applied Physics　Vol. 38　No. 7S　p. 4291-4291　1999年7月1日　研究論文（学術雑誌）
出版者・発行元：IOP Publishing
Production of Inductively-Coupled Large-Diameter Plasmas with Internal Antenna

Yuichi Setsuhara, Shoji Miyake, Yoichi Sakawa, Tatsuo Shoji

Japanese Journal of Applied Physics　Vol. 38　No. 7S　p. 4263-4263　1999年7月1日　研究論文（学術雑誌）
出版者・発行元：IOP Publishing
Sintering of Al2O3-ZrO2 composites using millimeter-wave radiation

Y Makino, T Ohmae, Y Setsuhara, S Miyake, S Sano

SCIENCE OF ENGINEERING CERAMICS II　Vol. 2　p. 41-44　1999年　研究論文（学術雑誌）
Millimeter-wave sintering of Si3N4

T Ueno, S Kinoshita, Y Setsuhara, Y Makino, S Miyake, S Sano, H Saito

SCIENCE OF ENGINEERING CERAMICS II　Vol. 2　p. 45-48　1999年　研究論文（学術雑誌）
Properties of cubic boron nitride films with buffer layer control for stress relaxation using ion-beam-assisted deposition

Y. Setsuhara, M. Kumagai, M. Suzuki, T. Suzuki, S. Miyake

Surface and Coatings Technology　Vol. 116-119　p. 100-107　1999年　研究論文（学術雑誌）
出版者・発行元：Elsevier B.V.
Formation of carbon nitride films by reactive high-density plasma sputtering with excitation of m=0 mode helicon wave

S. Miyake, Y. Setsuhara, K. Shibata, M. Kumagai, Y. Sakawa, T. Shoji

Surface and Coatings Technology　Vol. 116-119　p. 11-17　1999年　研究論文（学術雑誌）
出版者・発行元：Elsevier B.V.
CeO₂薄膜合成におけるイオン照射効果

志水一平, 節原裕一, 三宅正司, 熊谷正夫, 斉藤英純

高温学会誌　Vol. 24　No. 4　1998年7月
IBAD法によって作成した(Ti_1-x,Al_x)N薄膜の構造と経年変化

鈴木常生, 巻野勇喜雄, 節原裕一, 三宅正司, SAMANDI M

高温学会誌　Vol. 24　No. 4　1998年7月
ヘリコン波励起高密度プラズマスパッタリングを用いたCN薄膜の合成

柴田邦雄, 節原裕一, 三宅正司, 坂和洋一, 庄司多津男

高温学会誌　Vol. 24　No. 4　1998年7月
28GHzミリ波加熱による窒化珪素の焼結と物性

上野敏之, 木下秀一, 巻野勇喜雄, 節原裕一, 三宅正司, 佐野三郎, 斎藤英純

高温学会誌　Vol. 24　No. 4　1998年7月
Phase variation and properties of (Ti, Al)N films prepared by ion beam assisted deposition

Y Setsuhara, T Suzuki, Y Makino, S Miyake, T Sakata, H Mori

SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY　Vol. 97　No. 1-3　p. 254-258　1997年12月　研究論文（学術雑誌）
Inductively coupled reactive high-density plasmas designed for sputter deposition

S Miyake, Y Setsuhara, JQ Zhang, M Kamai, B Kyoh

SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY　Vol. 97　No. 1-3　p. 768-772　1997年12月　研究論文（学術雑誌）
Formation of Carbon Nitride Films by Helicon Wave Plasma Enhanced DC Sputtering

Jin Quin Zhang, Yuichi Setsuhara, Shoji Miyake Kyoh

Japanese Journal of Applied Physics　Vol. 36　No. 11R　p. 6894-6894　1997年11月1日　研究論文（学術雑誌）
出版者・発行元：IOP Publishing
Measurements of Ion Energy Distribution Functions in an Radio Frequency Plasma Excited with an m = 0 Mode Helical Antenna and Thin Film Preparation

Yasunori Ohtsu Yasunori Ohtsu, Gen Tochitani Gen Tochitani, Hiroharu Fujita Hiroharu Fujita, Jinqiu Zhang Jinqiu Zhang, Yuichi Setsuhara Yuichi Setsuhara, Shoji Miyake Shoji Miyake

Japanese Journal of Applied Physics　Vol. 36　No. 7S　p. 4620-4620　1997年7月1日　研究論文（学術雑誌）
出版者・発行元：IOP Publishing
Inductively-Coupled-Plasma-Assisted Planar Magnetron Discharge for Enhanced Ionization of Sputtered Atoms

Yuichi Setsuhara, Masayoshi Kamai, Shoji Miyake Musil

Japanese Journal of Applied Physics　Vol. 36　No. 7S　p. 4568-4568　1997年7月1日　研究論文（学術雑誌）
出版者・発行元：IOP Publishing
Ion Assisted Deposition of Crystalline TiNi Thin Films by Electron Cyclotron Resonance Plasma Enhanced Sputtering

Martin Mišina Martin Mišina, Yuichi Setsuhara Yuichi Setsuhara, Shoji Miyake Shoji Miyake

Japanese Journal of Applied Physics　Vol. 36　No. 6R　p. 3629-3629　1997年6月1日　研究論文（学術雑誌）
出版者・発行元：IOP Publishing
Exposure of spacecraft insulators to energetic ions

LL Zhang, H Tahara, L Yasui, T Yoshikawa

7TH INTERNATIONAL SYMPOSIUM ON MATERIALS IN SPACE ENVIRONMENT　Vol. 399　p. 113-117　1997年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
イオンビーム支援蒸着法によって合成した(Ti, Al)N薄膜の微細構造と特性

鈴木常生, 節原裕一, 三宅正司, 巻野勇喜雄, 坂田孝夫, 森博太郎

第5回エレクトロニクスにおけるマイクロ接合・実装技術シンポジウム論文集, (1997) pp. 127-130.　1997年1月　研究論文（学術雑誌）
Interface structure between polyimide film substrate and copper film prepared by ion beam and vapor deposition (IVD) method

Akinori Ebe, Eiji Takahashi, Naoto Kuratani, Satoshi Nishiyama, Osamu Imai, Kiyoshi Ogata, Yuichi Setsuhara, Shoji Miyake

Nuclear Instruments and Methods in Physics Research, Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms　Vol. 121　No. 1-4　p. 207-211　1997年　研究論文（学術雑誌）
出版者・発行元：Elsevier
Properties of depth-profile controlled boron nitride films prepared by ion-beam assisted deposition

M. Kumagai, M. Suzuki, T. Suzuki, Y. Tanaka, Y. Setsuhara, S. Miyake, K. Ogata, M. Kohata, K. Higeta, T. Einishi, Y. Suzuki, Y. Shimoitani, Y. Motonami

Nuclear Instruments and Methods in Physics Research, Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms　Vol. 127-128　p. 977-980　1997年　研究論文（学術雑誌）
出版者・発行元：Elsevier
Interfacial structure control of cubic boron nitride films prepared by ion-beam assisted deposition

Y. Setsuhara, T. Suzuki, Y. Tanaka, S. Miyake, M. Suzuki, M. Kumagai, K. Ogata, M. Kohata, K. Higeta, T. Einishi, Y. Suzuki, Y. Shimoitani, Y. Motonami

Nuclear Instruments and Methods in Physics Research, Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms　Vol. 127-128　p. 851-856　1997年　研究論文（学術雑誌）
出版者・発行元：Elsevier
Electron cyclotron resonance plasma enhanced direct current sputtering discharge with magnetic-mirror plasma confinement

M. Mišina, Y. Setsuhara, S. Miyake

Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films　Vol. 15　No. 4　p. 1922-1928　1997年　研究論文（学術雑誌）
出版者・発行元：American Institute of Physics Inc.
Improvement of Adhesion to Polyimide Substrates of Copper Film Prepared by Ion Beam and Vapor Deposition (IVD) Method

A. Ebe, E.Takahashi, Y. Iwamoto, N. Kuratani, S. Nishiyama, O. Imai, K. Oagata, Y. Setsuhara, S. Miyake

Thin Solid Films 281-282, pp. 356-359 (1996).　1996年12月　研究論文（学術雑誌）
Effects of ion energy and arrival rate on the composition of zirconium oxide films prepared by ion-beam assisted deposition

M. Matsuoka, S. Isotani, S. Miyake, Y. Setsuhara, K. Ogata, N. Kuratani

Journal of Applied Physics　Vol. 80　No. 2　p. 1177-1181　1996年7月15日　研究論文（学術雑誌）
出版者・発行元：AIP Publishing
Synthesis of (Ti,Al)N films by ion beam assisted deposition (Reprinted from Nuclear Instruments and Methods in Physics Research B, vol 106, pg 120-125, 1995)

Y Setsuhara, T Suzuki, Y Makino, S Miyake, T Sakata, H Mori

ION BEAM MODIFICATION OF MATERIALS　p. 120-125　1996年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Microwave plasma sintering of alumina

DL Johnson, HH Su

MICROWAVE PROCESSING OF MATERIALS V　Vol. 430　p. 629-634　1996年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Advanced ceramics sintering using high-power millimeter-wave radiation

Y Setsuhara, M Kamai, S Kinoshita, N Abe, S Miyake, T Saji

MICROWAVE PROCESSING OF MATERIALS V　Vol. 430　p. 533-538　1996年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Prediction of single phase formation of nitrides assisted by energetic particle bombardment

Y Makino, Y Setsuhara, S Miyake

ION BEAM MODIFICATION OF MATERIALS　p. 736-739　1996年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Study of crystallization of copper films prepared by ion beam and vapour deposition method on polyimide substrates

A Ebe, E Takahashi, N Kuratani, S Nishiyama, O Imai, K Ogata, Y Setsuhara, S Miyake

ION BEAM MODIFICATION OF MATERIALS　p. 777-780　1996年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
A study of ion implantation induced variation of crystalline phase of boron nitride

M Kumagai, M Ohkubo, K Ogata, K Higeta, Y Shimoitani, Y Shimizu, M Satou, Y Setsuhara, S Miyake

ION BEAM MODIFICATION OF MATERIALS　p. 1081-1084　1996年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
The synthesis of TiB2 films by ion beam assisted deposition

Y Wang, Y Setsuihara, S Miyake

ION BEAM MODIFICATION OF MATERIALS　p. 744-747　1996年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Characterization of helicon wave plasma designed for direct current sputtering

J. Q. Zhang, Y. Setsuhara, T. Ariyasu, S. Miyake

Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films　Vol. 14　No. 4　p. 2163-2168　1996年　研究論文（学術雑誌）
出版者・発行元：American Institute of Physics Inc.
Synthesis of(Ti, Al)N films by ion beam assisted deposition

Y Setsuhara, T Suzuki, Y Makino, S Miyake, T Sakata, H Mori

NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS　Vol. 106　No. 1-4　p. 120-125　1995年12月　研究論文（学術雑誌）
Exposure of space material insulators to energetic ions

Hirokazu Tahara, Lulu Zhang, Miki Hiramatsu, Toshiaki Yasui, Takao Yoshikawa, Yuichi Setsuhara, Shoji Miyake

Journal of Applied Physics　Vol. 78　No. 6　p. 3719-3723　1995年　研究論文（学術雑誌）
Microwave Sintering of Slip Cast Formed ZrO2-3 mol%Y2O3 Green Body

Saburo Sano, Kiichi Oda, Yasuo Shibasaki, Kenichi Koizumi, Tomoya Matayoshi, Yuichi Setsuhara, Shoji Miyake

Journal of the Japan Society of Powder and Powder Metallurgy　Vol. 42　No. 6　p. 767-770　1995年　研究論文（学術雑誌）
Microstructure of titanium oxide films synthesized by ion bem dynamic mixing

Y. Makino, Y. Setsuhara, S. Miyake

Nucl. Instrum. Meth. B91, pp. 696-700 (1994).　1994年12月　研究論文（学術雑誌）
低ソーダアルミナのマイクロ波プラズマ焼結

佐野三郎, 小田喜一, 芝崎靖雄, 又吉智也, 香山泰成, 節原裕一, 三宅正司

粉体および粉末冶金　Vol. 41　No. 6　p. 739-741　1994年2月1日　研究論文（学術雑誌）
Synthesis of Ti-Al alloys by ion-beam-enhanced deposition

Y. Setsuhara, H. Ohsako, Y. Makino, S. Miyake

Surface and Coatings Technology　Vol. 66　No. 1-3　p. 495-498　1994年　研究論文（学術雑誌）
CERAMIC SINTERING BY HIGH-POWER MICROWAVE PLASMA

Y SETSUHARA, R OHNISHI, S MIYAKE

FIRST INTERNATIONAL CONFERENCE ON PROCESSING MATERIALS FOR PROPERTIES　p. 709-712　1993年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Synthesis of aluminum oxide thin films by ion beam and vapor deposition technology

K. Ogata, K. Yamaguchi, S. Kiyama, H. Hirano, S. Shimizu, M. Kohata, T. Miyano, Y. Setsuhara, S. Miyake

Nuclear Inst. and Methods in Physics Research, B　Vol. 80-81　No. 2　p. 1423-1426　1993年　研究論文（学術雑誌）
Titanium oxide films prepared by dynamic ion mixing

Y. Setsuhara, H. Aoki, S. Miyake, A. Chayahara, M. Satou

Nuclear Inst. and Methods in Physics Research, B　Vol. 80-81　No. 2　p. 1406-1408　1993年　研究論文（学術雑誌）
High Density Compression of Hollow Pellet by Gekko XII at Osaka

T.Yamanaka, S.Nakai, K.Mima, Y.Izawa, Y.Kato, K.Nishihara, T.Sasaki, M.Nakatsuka, M.Yamanaka, H.Azechi, T.Jitsuno, T.Norimatsu, K.A.Tanaka, N.Miyanaga, M.Nakai, M.Takagi, M.Katayama, H.Nakaishi, Y.Setsuhara, A.Nishiguchi, T.Kanabe, C.Yamanaka

Particle Accelerators 37-39, pp.543-555 (1992).　1992年12月　研究論文（学術雑誌）
Rutile-type TiO2 formation by ion beam dynamic mixing

S. Miyake, K. Honda, T. Kohno, Y. Setsuhara, M. Satou, A. Chayahara

Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films　Vol. 10　No. 5　p. 3253-3259　1992年9月1日　研究論文（学術雑誌）
出版者・発行元：American Vacuum Society
イオンダイナミックミキシング法によるTiO₂薄膜合成

節原裕一, 高野哲太郎, 青木哲匡, 三宅正司

材料とプロセス　Vol. 5　No. 2　1992年3月
Comparison of ion-implantation-induced damage in narrow-gap (0.1 eV) Hgi_xCdxTe and Hg1-xZnxTe

S. Mivake, K. Honda, T. Kohno, Y. Setsuhara

Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films　Vol. 10　No. 5　p. 3253-3259　1992年　研究論文（学術雑誌）
HIGH-DENSITY COMPRESSION EXPERIMENTS AND REACTOR DESIGN AT ILE, OSAKA

Y KITAGAWA, K MIMA, H AZECHI, H TAKABE, S NAKAI, C YAMANAKA

INERTIAL CONFINEMENT FUSION　p. 94-107　1992年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
HIGH-DENSITY COMPRESSION EXPERIMENTS AT ILE, OSAKA

AZECHI H, JITSUNO T, KANABE T, KATAYAMA M, MIMA K, MIYANAGA N, NAKAI M, NAKAI S, NAKAISHI H, NAKATSUKA M, NISHIGUCHI A, NORRAYS PA, SETSUHARA Y, TAKAGI M, YAMANAKA M

Laser and Particle Beams　Vol. 9　No. 2　p. 193-207　1991年
HIGH-DENSITY COMPRESSION OF HOLLOW-SHELL TARGET BY GEKKO XII AND LASER FUSION-RESEARCH AT ILE, OSAKA-UNIVERSITY

S NAKAI, K MIMA, M YAMANAKA, H AZECHI, N MIYANAGA, A NISHIGUCHI, H NAKAISHI, YW CHEN, Y SETSUHARA, PA NORREYS, T YAMANAKA, K NISHIHARA, KA TANAKA, M NAKAI, R KODAMA, M KATAYAMA, Y KATO, H TAKABE, H NISHIMURA, H SHIRAGA, T ENDO, K KONDO, M NAKATSUKA, T SASAKI, T JITSUNO, K YOSHIDA, T KANABE, A YOKOTANI, T NORIMATSU, M TAKAGI, H KATAYAMA, Y IZAWA, C YAMANAKA

LASER INTERACTION AND RELATED PLASMA PHENOMENA, VOL 9　Vol. 9　p. 25-67　1991年　研究論文（国際会議プロシーディングス）
Six hundred times solid density compression of directly driven hollow shell pellets

S.Nakai, K.Mima, T.Yamanaka, Y.Izawa, Y.Kato, K.Nishmura, T.Sasaki, M.Nakatsuka, M.Yamanaka, H.Azechi, T.Jitsuno, T.Norimatsu, K.A.Tanaka, N.Miyanaga, M.Nakai, M.Takagi, Y.-W.Chen, H.Katayama, M.Katayama, R.Kodama, H.Nakaishi, Y.Setsuhara, A.Nishiguchi, T.Kanabe, C.Yamanaka

Plasma Physics and Controled Nuclear Fusion Research 3 (IAEA Press, Washington, DC, 1990) pp. 29-39.　1990年12月　研究論文（学術雑誌）
SECONDARY NUCLEAR-FUSION REACTIONS AS EVIDENCE OF ELECTRON DEGENERACY IN HIGHLY COMPRESSED FUSION FUEL

Y SETSUHARA, H AZECHI, N MIYANAGA, H FURUKAWA, R ISHIZAKI, K NISHIHARA, M KATAYAMA, A NISHIGUCHI, K MIMA, S NAKAI

LASER AND PARTICLE BEAMS　Vol. 8　No. 4　p. 609-620　1990年　研究論文（学術雑誌）
X-ray and particle diagnostics of a high-density plasma by laser implosion (invited)

M. Nakai, M. Yamanaka, H. Azechi, Y. W. Chen, T. Jitsuno, M. Katayama, M. Mima, N. Miyanaga, H. Nakaishi, M. Nakatsuka, A. Nishiguchi, P. A. Norreys, Y. Setsuhara, M. Takagi, T. Norimatsu, T. Yamanaka, C. Yamanaka, S. Nakai

Review of Scientific Instruments　Vol. 61　No. 10　p. 3235-3240　1990年　研究論文（学術雑誌）
An Automated Analysis System for Proton Etched Tracks in CR-39

H. Azechi, Y. Setsuhara, M. Yamanaka, S. Morinobu

Ionizing Radiation 16, pp. 95-100 (1989).　1989年12月　研究論文（学術雑誌）
DIRECT AREAL DENSITY-MEASUREMENT BY ACTIVATION TECHNIQUE FOR PLASTIC HOLLOW SHELL IMPLOSION EXPERIMENTS

H NAKAISHI, N MIYANAGA, Y SETSUHARA, H AZECHI, M TAKAGI, M SAITO, M YAMANAKA, T YAMANAKA, S NAKAI, K KOBAYASHI, KIMURA, I

APPLIED PHYSICS LETTERS　Vol. 55　No. 20　p. 2072-2074　1989年11月　研究論文（学術雑誌）
DEVELOPMENT OF WOLTER TYPE-1 REPLICATED X-RAY OPTICS FOR LASER FUSION

HASHIMOTO H, KAMIGAKI K, AOKI S, SETSUHARA Y, AZECHI H, YAMANAKA M, YAMANAKA T, IZAWA Y, YAMANAKA C

BULLETIN OF THE JAPAN SOCIETY OF PRECISION ENGINEERING 22 (3), pp. 177-182 (1988).　1988年12月　研究論文（学術雑誌）
Imaging characteristics of a replicated wolter type. I. X-ray mirror designed for laser plasma diagnostics

Sadao Aoki, Munehisa Shiozawa, Keiji Kamigaki, Hiroshi Hashimoto, Masahiko Kokaji, Yuichi Setsuhara, Hiroshi Azechi, Masanobu Yamanaka, Tatsuhiko Yamanaka, Yasukazu Izawa, Chiyoe Yamanaka

Japanese Journal of Applied Physics　Vol. 26　No. 6R　p. 952-954　1987年　研究論文（学術雑誌）

MISC 347

プラズマ支援反応性スパッタリングによる新規酸化物半導体薄膜形成技術の開発

節原裕一

東京科学大学総合研究院フロンティア材料研究所共同利用研究報告書　Vol. 2024　2025年
プラズマ支援反応性スパッタリングを用いた酸化物半導体の低温形成

竹中弘祐, 太田貴之, 節原裕一

電子情報通信学会技術研究報告(Web)　Vol. 125　No. 91(SDM2025 25-31)　2025年
大気圧プラズマ表面処理技術の最新動向大気圧非平衡プラズマジェットを用いた有機材料と金属材料の直接接合

節原裕一, 竹中弘祐, 内田儀一郎

表面技術　Vol. 76　No. 1　p. 27-33　2025年1月1日　記事・総説・解説・論説等（学術雑誌）
プラズマ支援反応性パルスDCスパッタリングを用いたa-IGZO薄膜の特性制御

竹中弘祐, 上田拓海, 都甲将, 江部明憲, 節原裕一

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 71st　2024年
大気圧高周波プラズマジェットを用いた表面処理によるエンジニアリングプラスチックと金属の異材接合

竹中弘祐, 小鑓亮輔, 重森俊祥, 中本壮太郎, 陣田尭哉, 都甲将, 内田儀一郎, 節原裕一

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 71st　2024年
プラズマを用いたCO₂のメタン化におけるモレキュラーシーブの活用

都甲将, 奥村賢直, 鎌滝晋礼, 竹中弘祐, 古閑一憲, 白谷正治, 節原裕一

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 71st　2024年
プラズマ支援メタネーションにおけるモレキュラーシーブの役割

都甲将, 奥村賢直, 鎌滝晋礼, 竹中弘祐, 古閑一憲, 白谷正治, 節原裕一

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 85th　2024年
大気圧プラズマジェットによる異種基板の直接接合

竹中弘祐, 内田儀一郎, 節原裕一

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 85th　2024年
大電力パルスマグネトロンスパッタを用いた結晶性IGZOの成膜

永田健人, 太田和哉, 竹中弘祐, 節原裕一, 太田貴之

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 85th　2024年
プラズマ支援反応性プロセスを用いた酸化物半導体薄膜形成

竹中弘祐, 節原裕一, 江部明憲

真空ジャーナル　No. 186　2023年10月1日　記事・総説・解説・論説等（商業誌、新聞、ウェブメディア）
プラズマ支援反応性スパッタリングによるアモルファス酸化ガリウム薄膜形成

竹中弘祐, 小松響, 藤村知輝, 都甲将, 井手啓介, 江部明憲, 神谷利夫, 節原裕一

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 70th　2023年　講演資料等（セミナー，チュートリアル，講習，講義他）
大気圧非平衡プラズマジェットを用いた有機材料-金属異材接合技術の開発

竹中弘祐, 中本壮太郎, 小鑓亮輔, 都甲将, 内田儀一郎, 節原裕一

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 70th　2023年
大気圧非平衡RFプラズマジェット照射が金属-有機材料異材直接接合に与える影響

竹中弘祐, 中本壮太郎, 小鑓亮輔, 都甲将, 内田儀一郎, 節原裕一

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 84th　2023年
プラズマを用いたCO₂の水素還元における選択性の制御

都甲将, 奥村賢直, 鎌滝晋礼, 竹中弘祐, 古閑一憲, 白谷正治, 節原裕一

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 84th　2023年
高移動度IGZO薄膜トランジスタの大面積均一形成に向けたプラズマ支援反応性プロセスの開発

竹中弘祐, 吉谷友希, 都甲将, 内田儀一郎, 江部明憲, 節原裕一

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 69th　2022年
プラズマ触媒作用を用いたCO₂メタネーションにおける振動回転励起CO分子の役割

都甲将, 出口雅志, 長谷川大樹, 奥村賢直, 鎌滝晋礼, 竹中弘祐, 古閑一憲, 白谷正治, 節原裕一

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 69th　2022年
プラズマ支援ミストCVDによる3次元ナノ構造酸化亜鉛薄膜形成に向けたプラズマ中の液滴蒸発挙動の解析

竹中弘祐, 都甲将, 節原裕一

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 83rd　2022年
プラズマ触媒作用を用いたCO₂メタネーションのためのゼロ次元シミュレーション

都甲将, 長谷川大樹, 奥村賢直, 鎌滝晋礼, 竹中弘祐, 古閑一憲, 白谷正治, 節原裕一

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 83rd　2022年
反応性プラズマプロセスを用いた高性能IGZO薄膜トランジスタの低温形成

竹中弘祐, 林祐仁, 都甲将, 江部明憲, 節原裕一

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 83rd　2022年
大気圧低温プラズマジェット照射溶液によるがん細胞殺傷に関する研究

内田儀一郎, 池田純一郎, 竹中弘祐, 節原裕一

スマートプロセス学会学術講演会講演概要　Vol. 2021　2021年
反応性プラズマプロセスを用いた高移動度IGZO薄膜トランジスタの低温形成(III)

竹中弘祐, 平山裕之, 藤村知輝, 林祐仁, 内田儀一郎, 江部明憲, 節原裕一

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 68th　2021年
ミストを用いたプラズマ支援反応性プロセスによる機能性酸化物薄膜の形成

竹中弘祐, 節原裕一

スマートプロセス学会誌　Vol. 10　No. 1　2021年　記事・総説・解説・論説等（学術雑誌）
プラズマ支援反応性プロセスによるアモルファスInGaZnO_x薄膜形成

竹中弘祐, 内田儀一郎, 江部明憲, 節原裕一

応用物理　Vol. 90　No. 1　2021年　記事・総説・解説・論説等（学術雑誌）
反応性プラズマプロセスを用いた高移動度IGZO薄膜トランジスタの低温形成(IV)

竹中弘祐, 林祐仁, 小松響, 都甲将, 内田儀一郎, 江部明憲, 節原裕一

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 82nd　2021年
プラズマ触媒反応において触媒が二酸化炭素リサイクリングのエネルギーコストに与える影響

都甲将, 出口雅志, 長谷川大樹, 鎌滝晋礼, 竹中弘祐, 古閑一憲, 白谷正治, 節原裕一

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 82nd　2021年
非平衡プラズマが拓くパラダイム-薄膜トランジスタ形成から医療,異材接合まで-

竹中弘祐, 節原裕一, 内田儀一郎, 江部明憲

生産と技術　Vol. 72　No. 4　p. 15-19　2020年9月　記事・総説・解説・論説等（学術雑誌）
プラズマ入射束制御技術を用いた酸化・窒化による機能性材料の形成

竹中弘祐, 内田儀一郎, 節原裕一, 岡田健

東北大学流体科学研究所共同利用・共同研究拠点流体科学国際研究教育拠点活動報告書　Vol. 2018　2020年
反応性プラズマプロセスを用いた高移動度IGZO薄膜トランジスタの低温形成(II)

節原裕一, 竹中弘祐, 平山裕之, 内田儀一郎, 江部明憲

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 67th　2020年
大気圧低温プラズマジェット照射溶液によるがん細胞殺傷に関する研究

内田儀一郎, 池田純一郎, 竹中弘祐, 節原裕一

スマートプロセス学会誌　Vol. 9　No. 3　2020年　記事・総説・解説・論説等（学術雑誌）
プラズマ支援反応性プロセスを用いた機能性酸化物薄膜の形成

竹中弘祐, 節原裕一

溶接学会誌　Vol. 89　No. 7　p. 6-9　2020年　記事・総説・解説・論説等（学術雑誌）
出版者・発行元：Japan Welding Society
大気圧非平衡プラズマによる水中活性種の生成・制御

節原裕一, 節原裕一, 内田儀一郎, 竹中弘祐

金属　Vol. 89　No. 6　2019年6月1日　記事・総説・解説・論説等（学術雑誌）
大気圧非平衡Heプラズマジェットと溶液との相互作用に関する可視化研究

内田儀一郎, 竹中弘祐, 川崎敏之, 古閑一憲, 白谷正治, 節原裕一

スマートプロセス学会誌　Vol. 8　No. 2　p. 58‐63-63　2019年3月10日
プラズマ支援ミストCVDにおけるプラズマ中の液滴蒸発挙動

竹中弘祐, 節原裕一

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 66th　2019年
プラズマ支援反応性プロセスを用いた大面積基板へのIGZO薄膜トランジスタの形成

節原裕一, 竹中弘祐, 吉谷友希, 平山裕之, 遠藤雅, 内田儀一郎, 江部明憲

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 66th　2019年
スパッタリングプロセスを用いた新規アモルファス酸化物半導体の創成

節原裕一

東京工業大学科学技術創成研究院フロンティア材料研究所共同利用研究報告書　Vol. 2018　2019年
プラズマ支援ミストCVDにおけるプラズマ中の液滴蒸発挙動(II)

竹中弘祐, 節原裕一

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 80th　2019年
反応性プラズマプロセスを用いた高移動度IGZO薄膜トランジスタの低温形成

節原裕一, 竹中弘祐, 平山裕之, 遠藤雅, 内田儀一郎, 江部明憲

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 80th　2019年
プラズマジェット照射が誘起する液体流に雰囲気ガスが与える影響

川崎敏之, 川口諒, 西田佳祐, 間結夏, 内田儀一郎, 竹中弘祐, 古閑一憲, 節原裕一, 白谷正治

静電気学会講演論文集　Vol. 2018　2018年
プラズマ誘起流のPIV法による定量解析-照射距離が与える影響-

川口諒, 西田佳祐, 間結夏, 内田儀一郎, 竹中弘祐, 古閑一憲, 節原裕一, 白谷正治, 川崎敏之

電気・情報関係学会九州支部連合大会講演論文集(CD-ROM)　Vol. 71st　2018年
プラズマ誘起流のPIV法による定量解析-酸素添加の影響-

間結夏, 川口諒, 西田佳祐, 内田儀一郎, 竹中弘祐, 古閑一憲, 節原裕一, 白谷正治, 川崎敏之

電気・情報関係学会九州支部連合大会講演論文集(CD-ROM)　Vol. 71st　2018年
プラズマ誘起流のPIV法による定量解析-水質の影響-

西田佳祐, 川口諒, 間結夏, 内田儀一郎, 竹中弘祐, 古閑一憲, 節原裕一, 白谷正治, 川崎敏之

電気・情報関係学会九州支部連合大会講演論文集(CD-ROM)　Vol. 71st　2018年
プラズマ支援反応性プロセスを用いた高移動度IGZO薄膜の低温形成

節原裕一, 遠藤雅, 竹中弘祐, 内田儀一郎, 江部明憲

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 65th　2018年
プラズマ支援反応性パルスDCスパッタリングによるC軸配向窒化アルミニウム薄膜の形成

竹中弘祐, 吉谷友希, 内田儀一郎, 節原裕一

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 65th　2018年
非平衡プラズマジェットと溶液中アミノ酸との相互作用に関する研究

内田儀一郎, 美濃祐資, 鈴木天翔, 竹中弘祐, 節原裕一

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 65th　2018年
様々なプラズマ照射条件で作製したプラズマ活性培養液のがん細胞殺傷効果

内田儀一郎, 池田純一郎, 鈴木天翔, 竹中弘祐, 節原裕一

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 79th　2018年
プラズマ支援反応性スパッタ製膜を用いた高移動度IGZO薄膜トランジスタの形成(III)

竹中弘祐, 遠藤雅, 吉谷友希, 内田儀一郎, 江部明憲, 節原裕一

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 79th　2018年
プラズマジェット照射によって液状ターゲットに供給されるROSの二次元分布に周囲ガスが与える影響

足立拓也, 阿南翔太, 山ノ内翔太, 内田儀一朗, 竹中弘祐, 古閑一憲, 節原裕一, 白谷正治, 川崎敏之

電気・情報関係学会九州支部連合大会講演論文集(CD-ROM)　Vol. 70th　2017年
非平衡プラズマジェット照射による溶液中RNS生成におけるアミノ酸の寄与

内田儀一郎, 伊藤泰喜, 美濃裕資, 竹中弘祐, 節原裕一

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 64th　2017年
プラズマ支援反応性スパッタ製膜を用いた高移動度IGZO薄膜トランジスタの形成

節原裕一, 遠藤雅, 竹中弘祐, 内田儀一郎, 江部明憲

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 64th　2017年
プラズマ支援反応性スパッタ製膜による窒化アルミニウム薄膜の形成

竹中弘祐, 佐竹義旦, 内田儀一郎, 節原裕一

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 64th　2017年
長尺高周波非平衡プラズマジェットの開発

内田儀一郎, 伊藤泰喜, 竹中弘祐, 節原裕一

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 78th　2017年
プラズマ支援パルスDCマグネトロンスパッタリングによる結晶化窒化アルミニウム薄膜の低温形成

竹中弘祐, 佐竹義旦, 内田儀一郎, 節原裕一

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 78th　2017年
プラズマ支援反応性スパッタ製膜を用いた高移動度IGZO薄膜トランジスタの形成(II)

節原裕一, 遠藤雅, 竹中弘祐, 内田儀一郎, 江部明憲

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 78th　2017年
プラズマ支援反応性スパッタリングを用いたアモルファスIGZO薄膜トランジスタの低温形成

節原裕一, 中田慶太郎, 佐竹義且, 竹中弘祐, 内田儀一郎, 江部明憲

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 63rd　2016年
周辺雰囲気ガス制御型プラズマジェット照射による溶液中活性酸素・窒素種生成

内田儀一郎, 中島厚, 伊藤泰喜, 竹中弘祐, 節原裕一

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 63rd　2016年
大気圧プラズマジェット照射による培地中ROS,RNS生成制御

内田儀一郎, 伊藤泰喜, 竹中弘祐, 池田純一郎, 節原裕一

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 77th　2016年
周辺ガス制御型大気圧プラズマジェット照射による純水中RNS/ROS濃度比制御

伊藤泰喜, 内田儀一郎, 竹中弘祐, 池田純一郎, 節原裕一

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 77th　2016年
プラズマを重畳した反応性パルススパッタリングによる窒化物薄膜の低温形成

竹中弘祐, 佐竹義旦, 内田儀一郎, 節原裕一

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 77th　2016年
SPATIO-TEMPORAL BEHAVIORS OF ATMOSPHERIC-PRESSURE PLASMA JETS FOR INVESTIGATION OF REACTIVE-SPECIES PRODUCTION IN LIQUID

Y. Setsuhara, A. Nakajima, G. Uchida, T. Ito, K. Takenaka, J. Ikeda

2016 43RD IEEE INTERNATIONAL CONFERENCE ON PLASMA SCIENCE (ICOPS)　2016年　研究発表ペーパー・要旨（国際会議）
Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitride and Nanomaterials FOREWORD

Wakahara Akihiro, Nakatsuka Osamu, Sasaki Minoru, Terashima Kazuo, Amano Hiroshi, Egawa Takashi, Fujiwara Yasufumi, Hiramatsu Mineo, Ichino Ryoichi, Inoue Yasushi, Ito Masafumi, Kasu Makoto, Kondo Hiroki, Miyazaki Seiichi, Sawada Kazuaki, Sekine Makoto, Setsuhara Yuichi, Shiratani Masaharu, Takikawa Hirofumi, Watanabe Yoshimi

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS　Vol. 55　No. 1　2016年1月
Discharge Conditions of a Non-Thermal Plasma Jet in Helium, Surrounded by Flows of Nitrogen-Oxygen Mixtures of Various Proportions

Ito Taiki, Nakajima Atsushi, Setsuhara Yuichi, Takenaka Kosuke, Uchida Giichiro

Transactions of JWRI　Vol. 44　No. 2　p. 5-7　2015年12月
出版者・発行元：大阪大学接合科学研究所
Raman Spectroscopy of a-C:H Films Deposited Using Ar + H2+ C7H8 Plasma CVD

X. Dong, K. Koga, D. Yamashita, H. Seo, N. Itagaki, M. Shiratani, Y. Setsuhara, M. Sekine, M. Hori

Proc. 68th GEC/9th ICRP/33rd SPP　Vol. 60　No. 9　2015年10月1日　研究発表ペーパー・要旨（全国大会，その他学術会議）
Effects of discharge voltage on the characteristics of a-C:H films prepared by H-assisted Plasma CVD method

X. Dong, K. Koga, D. Yamashita, H. Seo, N. Itagaki, M. Shiratani, Y. Setsuhara, M. Sekine, M. Hori

Trans. Mater. Res. Soc. Jpn.　Vol. 40　No. 2　2015年7月1日　研究発表ペーパー・要旨（全国大会，その他学術会議）
Emission spectroscopy of Ar + H-2+ C7H8 plasmas: C7H8 flow rate dependence and pressure dependence

X. Dong, K. Koga, D. Yamashita, H. Seo, N. Itagaki, M. Shiratani, Y. Setsuhara, M. Sekine, M. Hori

J. Phys. : Conf. Series (SPSM26)　Vol. 518　No. 1　2015年6月1日　研究発表ペーパー・要旨（全国大会，その他学術会議）
Deposition of Carbon Films on PMMA Using H-assisted Plasma CVD

X. Dong, R. Torigoe, K. Koga, G. Uchida, M. Shiratani, N. Itagaki, Y. Setsuhara, K. Takenaka, M. Sekine, M. Hori

Jpn. Phys. Soc. Conf. Proc (APPC12)　Vol. 1　2015年3月1日　研究発表ペーパー・要旨（全国大会，その他学術会議）
大気圧プラズマジェット放電特性に及ぼす放電電圧パルス幅の効果

内田儀一郎, 竹中弘祐, 川端一史, 節原裕一

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 62nd　2015年
プラズマ支援反応性スパッタリング法を用いたアモルファスIGZO薄膜の低温形成とその特性評価

節原裕一, 陶山悠太郎, 中田慶太郎, 竹中弘祐, 内田儀一郎, 江部明憲

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 62nd　2015年
気液界面を介した大気圧非平衡プラズマ照射が液体中のアミノ酸へ与える影響

竹中弘祐, 内田儀一郎, 川端一史, 中島厚, 阿部浩也, 節原裕一

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 62nd　2015年
液面に入射するプラズマジェットの放電特性と動的挙動

内田儀一郎, 中島厚, 竹中弘祐, 古閑一憲, 白谷正治, 節原裕一

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 76th　2015年
プラズマ支援ミスト化学気相堆積におけるミストが製膜形状に与える影響

竹中弘祐, 内田儀一郎, 節原裕一

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 76th　2015年
大気圧He/O₂プラズマジェット照射による液中活性酸素種生成に及ぼすガス流パターンの効果

中島厚, 内田儀一郎, 川崎敏之, 古閑一憲, SARINONT Thapanut, 天野孝昭, 竹中弘祐, 白谷正治, 節原裕一

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 76th　2015年
プラズマ医療装置に求められている要素と世界動向

節原裕一, 内田儀一郎, 竹中弘祐, 竹田圭吾, 石川健治, 堀勝

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 76th　2015年
FOREWORD Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitride and Nanomaterials

Satoshi Kamiyama, Yasufumi Fujiwara, Mineo Hiramatsu, Masafumi Ito, Toshiro Kaneko, Makoto Kasu, Hideto Miyake, Keiji Nakamura, Kazuaki Sawada, Makoto Sekine, Yuichi Setsuhara, Tatsuru Shirafuji, Hirofumi Takikawa, Kazuo Terashima, Akihiro Wakahara, Yoshimi Watanabe

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS　Vol. 53　No. 11　2014年11月　その他
Plasma Sources in Thin Film Deposition

Y. Setsuhara

Comprehensive Materials Processing　Vol. 4　p. 307-324　2014年5月
出版者・発行元：Elsevier Ltd
プラズマを用いたソフトマテリアルプロセス技術の展開~低温・低ダメージの材料プロセスからプラズマ医療~

節原裕一

スマートプロセス学会誌　Vol. 3　No. 1　p. 23-29　2014年1月20日
出版者・発行元：Smart Processing Society for Materials, Environment & Energy (High Temperature Society of Japan)
低インダクタンスアンテナ(LIA)を用いた単結晶シリコン太陽電池用大面積プラズマCVD装置の開発

杉本克雄, 大澤篤史, 米山典孝, 河野元宏, 江部明憲, 節原裕一

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 61st　2014年
気液界面を介した大気圧非平衡プラズマと液体中有機物との相互作用

竹中弘祐, 宮崎敦史, 川端一史, 内田儀一郎, 阿部浩也, 節原裕一

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 61st　2014年
大気圧誘電体バリア放電プラズマジェットにおける反応性粒子生成挙動-放電周波数に対す効果-

内田儀一郎, 竹中弘祐, 宮崎敦史, 川端一史, 節原裕一, 竹田圭吾, 石川健治, 堀勝

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 61st　2014年
高品質半導体薄膜作製のためのプラズマ支援反応性スパッタリングプロセスの高度制御

節原裕一, 竹中弘祐, 大崎創一郎, 陶山悠太郎, 大谷浩史, 金井厚毅, 江部明憲

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 61st　2014年
大気圧プラズマ支援による酸化亜鉛薄膜の形成に向けたプラズマ/ミスト相互作用の解析

竹中弘祐, 内田儀一郎, 節原裕一

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 75th　2014年
大気圧高周波放電プラズマの動的特性

内田儀一郎, 川端一史, 竹中弘祐, 節原裕一

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 75th　2014年
気液界面を介した大気圧非平衡プラズマと生体分子との相互作用

竹中弘祐, 川端一史, 宮崎敦史, 阿部浩也, 内田儀一郎, 節原裕一

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 75th　2014年
Investigation of plasma-organic materials interaction in aqueous solution with atmospheric pressure plasmas

K. Takenaka, A. Miyazaki, Y. Setsuhara

26TH SYMPOSIUM ON PLASMA SCIENCES FOR MATERIALS (SPSM26)　Vol. 518　2014年
プラズマとソフトマテリアルとの相互作用―低ダメージの表面プロセスからプラズマ医療にわたる基礎過程―

節原裕一

表面技術　Vol. 64　No. 12　p. 628-633　2013年12月1日
出版者・発行元：The Surface Finishing Society of Japan
Plasma Interactions with Biological Molecules in Aqueous Solution

Yuichi Setsuhara, Atsushi Miyazaki, Kosuke Takenaka, Masaru Hori

MRS Proc 1598　2013年11月28日　速報，短報，研究ノート等（学術雑誌）
プラズマ医療の基礎過程としての気液界面を介したプラズマと液体中有機物との相互作用

竹中弘祐, 節原裕一

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 60th　2013年
プラズマビーム照射したGaAs表面のIn situ分析

PARK Jongyun, 竹内拓也, 石川健治, 節原裕一, 竹田圭吾, 近藤博基, 関根誠, 堀勝

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 60th　2013年
高品質半導体薄膜作製のためのプラズマ支援反応性スパッタリングプロセスの高度制御性

節原裕一, 竹中弘祐, 大谷浩史, 金井厚毅, 江部明憲

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 60th　2013年
プラズマプロセスによるArFフォトレジスト表面凹凸の解析

竹内拓也, 石川健治, 節原裕一, 竹田圭吾, 近藤博基, 関根誠, 堀勝

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 60th　2013年
高品質半導体薄膜作製のためのプラズマ支援反応性スパッタリングプロセスの高度制御

節原裕一, 竹中弘祐, 大谷浩史, 金井厚毅, 大崎創一郎, 江部明憲

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 74th　2013年
プラズマ支援ミストCVDによる微小凹凸構造を有した酸化亜鉛薄膜形成

竹中弘祐, 節原裕一

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 74th　2013年
Advanced materials design via low-damage plasma processes

Yuichi Setsuhara

Progress in Advanced Structural and Functional Materials Design　p. 225-236　2013年1月1日
出版者・発行元：Springer Japan
革新的プラズマ科学の新潮流プラズマ異方性化学気相堆積法による硬質カーボン薄膜の低温製膜

古閑一憲, 白谷正治, 節原裕一, 関根誠, 堀勝

化学工業　Vol. 63　No. 12　p. 908-912　2012年12月1日
出版者・発行元：小峰工業出版
Pressure dependence of carbon film deposition using H-assisted plasma CVD

X. Dong, K. Koga, D. Yamashita, H. Seo, N. Itagaki, M. Shiratani, K. Takenaka, Y. Setsuhara, M. Sekine, M. Hori

Proc. 8th Int. Conf. Reactive Plasmas　2012年2月1日　研究発表ペーパー・要旨（全国大会，その他学術会議）
Effects of Irradiation with Ions and Photons in Ultraviolet--Vacuum Ultraviolet Regions on Nano-Surface Properties of Polymers Exposed to Plasmas

Ken Cho, Kosuke Takenaka, Yuichi Setsuhara, Masaharu Shiratani, Makoto Sekine, Masaru Hori

Jpn. J. Appl. Phys.　No. 51　2012年1月25日　速報，短報，研究ノート等（学術雑誌）
有機材料エッチングによる電界電子放出ナノピラーの作成

鈴木俊哉, MALINOWSKI Arkadiusz, 竹田圭吾, 竹田圭吾, 近藤博基, 石川健治, 節原裕一, 節原裕一, 白谷正治, 白谷正治, 関根誠, 関根誠, 堀勝, 堀勝

応用物理学関係連合講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 59th　2012年
H₂/N₂プラズマ中のラジカル密度へ前のプロセスが与える影響

鈴木俊哉, 竹田圭吾, 竹田圭吾, 近藤博基, 石川健治, 節原裕一, 節原裕一, 白谷正治, 白谷正治, 関根誠, 関根誠, 堀勝, 堀勝

応用物理学関係連合講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 59th　2012年
プラズマ支援反応性スパッタリング法による透明アモルファス酸化物半導体薄膜トランジスタ低温形成技術の開発

節原裕一, CHO Ken, 大地康史, 竹中弘祐, 江部明憲

応用物理学関係連合講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 59th　2012年
プラズマ支援ミストCVDを用いた酸化亜鉛薄膜形成におけるプラズマ照射の効果

竹中弘祐, 奥村祐介, 節原裕一

応用物理学関係連合講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 59th　2012年
プラズマ異方性CVDカーボン膜の硬度のイオンエネルギー依存性

浦川達也, 鳥越隆平, SEO H., 内田儀一郎, 板垣奈穂, 板垣奈穂, 古閑一憲, 古閑一憲, 白谷正治, 白谷正治, 節原裕一, 節原裕一, 関根誠, 関根誠, 堀勝, 堀勝

応用物理学関係連合講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 59th　2012年
フレキシブルデバイス創製に向けたプラズマ-ソフトマテリアル相互作用の解析

趙研, 節原裕一, 竹中弘祐, 白谷正治, 関根誠, 堀勝

スマートプロセス学会総合学術講演会講演概要　Vol. 2012　2012年
有機材料エッチングによる電界電子放出ナノピラーの作成(II)

鈴木俊哉, MALINOWSKI Arkadiusz, 竹田圭吾, 竹田圭吾, 近藤博基, 石川健治, 節原裕一, 節原裕一, 白谷正治, 白谷正治, 関根誠, 関根誠, 堀勝, 堀勝

応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 73rd　2012年
プラズマ支援ミストCVDを用いた酸化亜鉛薄膜の形成と表面形状評価

竹中弘祐, 奥村祐介, 節原裕一

応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 73rd　2012年
プラズマ支援反応性スパッタリング法を用いた長尺基板対応大面積プラズマスパッタシステムの開発

竹中弘祐, 節原裕一, 江部明憲

応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 73rd　2012年
塩素イオンの照射によるGaAs表面特性の変化

PARK Jongyun, 竹内拓也, CAO Jiadong, 石川健治, 節原裕一, 竹田圭吾, 近藤博基, 関根誠, 堀勝

応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 73rd　2012年
プラズマ異方性CVDによる窒化レジスト上への硬質カーボン膜の製膜

鳥越隆平, 浦川達也, 山下大輔, 内田儀一郎, 古閑一憲, 白谷正治, 節原裕一, 関根誠, 堀勝

応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 73rd　2012年
表面機能化プロセス

節原裕一

高温学会誌　Vol. 37　No. 6　p. 271-271　2011年11月20日
Effects of substrate bias voltage on plasma anisotropic CVD of carbon using H-assisted plasma CVD reactor

T. Urakawa, H. Matsuzaki, D. Yamashita, G. Uchida, K. Koga, M. Shiratani, Y. Setsuhara, M. Sekine, M. Hori

Proc. Intern. Symp. on Dry Process　Vol. 33　2011年11月　研究発表ペーパー・要旨（全国大会，その他学術会議）
Investigation of plasma interactions with organic semiconductors for fabrication of flexible electronics devices

K. Cho, K. Takenaka, Y. Setsuhara, M. Shiratani, M. Sekine, M. Hori

Proc. Intern. Symp. on Dry Process　Vol. 33　2011年11月　研究発表ペーパー・要旨（全国大会，その他学術会議）
Optical emission spectroscopy of Ar+H2+ C7H8 discharges for anisotropic plasma CVD of carbon

T. Urakawa, H. Matsuzaki, D. Yamashita, G. Uchida, K. Koga, M. Shiratani, Y. Setsuhara, M. Sekine, M. Hori

Proc. Intern. Symp. on Dry Process　Vol. 33　2011年11月　研究発表ペーパー・要旨（全国大会，その他学術会議）
Self-organized carbon Mk formation on the top surface of fine trenches using a low temperature plasma anisotropic CVD for depositing fine organic structure

K. Koga, T. Urakawa, G. Uchida, H. Seo, K. Kamataki, N. Itagaki, M. Shiratani, Y. Setsuhara, M. Sekine, M. Hori

Proc. Plasma Conf. 2011　2011年11月　速報，短報，研究ノート等（学術雑誌）
実用化プロセスにおけるプラズマ源の革新~平行平板プラズマ源から新プラズマ源へ~6.低インダクタンス内部アンテナを用いたプラズマ源の開発と反応性プラズマプロセスへの展開

節原裕一

プラズマ・核融合学会誌　Vol. 87　No. 1　p. 24-33　2011年1月25日
出版者・発行元：プラズマ・核融合学会
気相中に導入した酢酸亜鉛のプラズマ照射による酸化亜鉛形成

竹中弘祐, 奥村祐介, 節原裕一

応用物理学関係連合講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 58th　2011年
プラズマを用いた無機/有機積層構造の形成初期過程における界面の化学結合状態分析

趙研, 節原裕一, 竹中弘祐, 白谷正治, 関根誠, 堀勝, 趙研, 節原裕一, 竹中弘祐, 白谷正治, 関根誠, 堀勝

応用物理学関係連合講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 58th　2011年
プラズマCVDで製膜したトレンチ基板上の炭素系薄膜の製膜速度の主放電電力依存性

浦川達也, 野村卓矢, 松崎秀文, 山下大輔, 内田儀一郎, 古閑一憲, 古閑一憲, 白谷正治, 白谷正治, 節原裕一, 節原裕一, 関根誠, 関根誠, 堀勝, 堀勝

応用物理学関係連合講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 58th　2011年
埋込型低インダクタンスアンテナを用いた高周波プラズマ源の開発と大面積・低ダメージ反応性プロセスへの応用

節原裕一, 趙研, 竹中弘祐, 江部明憲

応用物理学関係連合講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 58th　2011年
真空一貫プロセスによるGaNプラズマビームエッチング及び水素ラジカルダメージ層除去とその表面反応機構の解明

CHEN Sh., LU Y., 米谷亮祐, 竹田圭吾, 石川健治, 近藤博基, 加納浩之, 徳田豊, 関根誠, 関根誠, 節原裕一, 江川孝志, 天野浩, 堀勝, 堀勝

応用物理学関係連合講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 58th　2011年
無機/有機積層構造形成初期過程における界面の化学結合状態分析

CHO Ken, CHO Ken, 節原裕一, 節原裕一, 竹中弘祐, 竹中弘祐, 白谷正治, 白谷正治, 関根誠, 関根誠, 堀勝, 堀勝

応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 72nd　2011年
埋込型低インダクタンスアンテナによるプラズマ生成技術の開発と大面積・低ダメージ反応性プロセスへの応用

節原裕一, 趙研, 竹中弘祐, 江部明憲

応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 72nd　2011年
酢酸亜鉛を含むミストを用いたプラズマ支援CVDによる酸化亜鉛薄膜形成

竹中弘祐, 奥村祐介, 節原裕一

応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 72nd　2011年
微細溝への炭素薄膜の製膜形状制御における水素フラックスの効果

浦川達也, 鳥越隆平, 松崎秀文, 山下大輔, 内田儀一郎, 古閑一憲, 白谷正治, 節原裕一, 関根誠, 堀勝, 古閑一憲, 白谷正治, 節原裕一, 関根誠, 堀勝

応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 72nd　2011年
有機材料の超微細エッチングにおける白金微粒子の側壁保護作用に関する研究

鈴木俊哉, 竹田圭吾, 竹田圭吾, 近藤博基, 石川健治, 節原裕一, 節原裕一, 白谷正治, 白谷正治, 関根誠, 関根誠, 堀勝, 堀勝

応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 72nd　2011年
コンビナトリアルによるプラズマ科学の構築と有機材料の超微細加工への展開

堀勝, 堀勝, 関根誠, 関根誠, 竹田圭吾, 竹田圭吾, 白谷正冶, 白谷正冶, 節原裕一, 節原裕一

真空に関する連合講演会講演予稿集　Vol. 52nd　2011年
プラズマCVDカーボン膜の硬度の基板バイアス依存性

鳥越隆平, 浦川達也, 松崎秀文, 山下大輔, 内田儀一郎, 古閑一憲, 古閑一憲, 白谷正治, 白谷正治, 節原裕一, 節原裕一, 関根誠, 関根誠, 堀勝, 堀勝

応用物理学会九州支部学術講演会講演予稿集　Vol. 37　2011年
Substrate temperature dependence of feature profile of carbon films on substrate with submicron trenches

Takuya Nomura, Tatsuya Urakawa, Yuki Korenaga, Daisuke Yamashita, Hidefumi Matsuzaki, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani, Yuichi Setsuhara, Makoto Sekine, Masaru Hori

IEEE Region 10 Annual International Conference, Proceedings/TENCON　p. 2213-2215　2010年12月1日
Deposition profile control of carbon films on patterned substrates using a hydrogen-assisted plasma CVD method

Takuya Nomura, Kazunori Koga, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani, Masaharu Shiratani, Yuichi Setsuhara, Yuichi Setsuhara, Makoto Sekine, Makoto Sekine, Masaru Hori, Masaru Hori

Materials Research Society Symposium Proceedings　Vol. 1222　p. 203-207　2010年8月30日
プラズマ・プロセス技術

畠山力三, 節原裕一, 大岩徳久, 関根誠, 豊田浩孝, 中石雅文, 中村敏浩, 中川秀夫, 永津雅章, 中村圭二, 檜森慎司, 小田昭紀, 林信哉, 明石治朗, 菅原広剛, 吉村智, 平田孝道, 一木隆範, 野崎智洋, 佐野紀彰, 木下啓蔵, 白井肇, 古閑一憲, 土澤泰, 神谷利夫, 白藤立, 辰巳哲也, 米倉和賢, 森川康宏, 根岸伸幸, 高橋和生, 秋元健司, 江利口浩二, 太田貴之, 奥村智洋, 上坂裕之, 佐藤孝紀, 布村正太, 長谷川明広, 柳生義人, 白谷正治, 金子俊郎, 大竹浩人

應用物理　Vol. 79　No. 8　p. 717-719　2010年8月10日
出版者・発行元：応用物理学会
研究開発の効率を飛躍的に高めるコンビ名とリアルプラズマ解析装置

白谷正治, 節原裕一, 関根誠, 堀勝

化学工業　Vol. 60　No. 5　2010年5月　記事・総説・解説・論説等（学術雑誌）
誘導結合型H₂/N₂プラズマによる有機low-k薄膜のための小型コンビナトリアルプラズマエッチングプロセス

堀勝, 堀勝, MOON Chang S., 竹田圭吾, 関根誠, 関根誠, 節原裕一, 節原裕一, 白谷正治, 白谷正治, 石川健治, 近藤博基

応用物理学関係連合講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 57th　2010年
プラズマ技術の新しい挑戦研究開発の効率を飛躍的に高めるコンビナトリアルプラズマ解析装置

白谷正治, 節原裕一, 関根誠, 堀勝

化学工業　Vol. 61　No. 5　2010年
低温・低ダメージプラズマプロセスによる無機/有機ハイブリッド積層構造の形成

竹中弘祐, 竹中弘祐, CHO Ken, CHO Ken, 節原裕一, 節原裕一, 白谷正治, 白谷正治, 関根誠, 関根誠, 堀勝, 堀勝

応用物理学関係連合講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 57th　2010年
低温・低ダメージプラズプロセスの開発に向けたプラズマ・ポリマー相互作用のナノ表面解析

CHO Ken, CHO Ken, 竹中弘祐, 竹中弘祐, 節原裕一, 節原裕一, 白谷正治, 白谷正治, 関根誠, 関根誠, 堀勝, 堀勝

応用物理学関係連合講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 57th　2010年
コンビナトリアルプラズマプロセス解析装置を用いたプラズマ・ポリマー相互作用の解析(III)

節原裕一, 節原裕一, CHO Ken, CHO Ken, 竹中弘祐, 竹中弘祐, 白谷正治, 白谷正治, 関根誠, 関根誠, 堀勝, 堀勝

応用物理学関係連合講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 57th　2010年
Ar+H₂+C₇H₈プラズマの電子密度計測

野村卓矢, 是永有輝, 松崎秀文, 古閑一憲, 古閑一憲, 白谷正治, 白谷正治, 節原裕一, 節原裕一, 関根誠, 関根誠, 堀勝, 堀勝

応用物理学関係連合講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 57th　2010年
プラズマCVD炭素薄膜の製膜形状の基板温度依存性

野村卓矢, 浦川達也, 是永有輝, 山下大輔, 松崎秀文, 古閑一憲, 古閑一憲, 白谷正治, 白谷正治, 節原裕一, 節原裕一, 関根誠, 関根誠, 堀勝, 堀勝

応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 71st　2010年
プラズマによるGaNエッチング損傷と反応機構の解析

CHEN Sh., 米谷亮祐, 竹田圭吾, 石川健治, 近藤博基, 加納浩之, 徳田豊, 関根誠, 関根誠, 節原裕一, 江川孝志, 天野浩, 堀勝, 堀勝

応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 71st　2010年
高精度Cl₂プラズマビームを用いたGaNエッチング表面反応の解明

米谷亮祐, CHEN Sh., 竹田圭吾, 竹田圭吾, 石川健治, 近藤博基, 関根誠, 関根誠, 節原裕一, 江川孝志, 天野浩, 堀勝, 堀勝

応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 71st　2010年
Ar+H₂+C₇H₈プラズマの水素発光強度計測

野村卓矢, 浦川達也, 山下大輔, 松崎秀文, 内田儀一郎, 古閑一憲, 白谷正治, 節原裕一, 関根誠, 堀勝

応用物理学会九州支部学術講演会講演予稿集　Vol. 36　2010年
プラズマCVDカーボン膜の堆積速度の基板配置位置依存性

浦川達也, 野村卓矢, 松崎秀文, 山下大輔, 内田儀一郎, 古閑一憲, 古閑一憲, 白谷正治, 白谷正治, 節原裕一, 節原裕一, 関根誠, 関根誠, 堀勝, 堀勝

応用物理学会九州支部学術講演会講演予稿集　Vol. 36　2010年
異方性プラズマCVDで堆積したカーボン膜のエッチングレート

山下大輔, 浦川達也, 野村卓矢, 内田儀一郎, 古閑一憲, 古閑一憲, 白谷正治, 白谷正治, 節原裕一, 節原裕一, 関根誠, 関根誠, 堀勝, 堀勝

応用物理学会九州支部学術講演会講演予稿集　Vol. 36　2010年
コンビナトリアルプラズマプロセス解析装置を用いたプラズマ・ポリマー相互作用の解析(IV)

竹中弘祐, 竹中弘祐, CHO Ken, CHO Ken, 節原裕一, 節原裕一, 白谷正治, 白谷正治, 関根誠, 関根誠, 堀勝, 堀勝

応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 71st　2010年
X線光電子分光によるプラズマ-ソフト材料相互作用の解析-UV-VUV領域の発光がナノ表面に及ぼす影響-

CHO Ken, CHO Ken, 竹中弘祐, 竹中弘祐, 節原裕一, 節原裕一, 白谷正治, 白谷正治, 関根誠, 関根誠, 堀勝, 堀勝

応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 71st　2010年
コンビナトリアルプラズマプロセス解析装置の創製-傾斜分布プラズマの特性-

竹中弘祐, 竹中弘祐, 節原裕一, 節原裕一, 白谷正治, 白谷正治, 関根誠, 関根誠, 堀勝, 堀勝

応用物理学関係連合講演会講演予稿集　Vol. 56th　No. 1　2009年
C₇H₈+H₂+Ar混合プラズマにおけるC,CH,C₂発光強度のガス流量比依存性

梅津潤, 井上和彦, 野村卓矢, 松崎秀文, 古閑一憲, 古閑一憲, 白谷正治, 白谷正治, 節原裕一, 節原裕一, 関根誠, 関根誠, 堀勝, 堀勝

応用物理学関係連合講演会講演予稿集　Vol. 56th　No. 1　2009年
コンビナトリアルプラズマプロセス解析装置を用いたプラズマ・ポリマー相互作用の解析

趙研, 竹中弘祐, 竹中弘祐, 節原裕一, 節原裕一, 白谷正治, 白谷正治, 関根誠, 関根誠, 堀勝, 堀勝

応用物理学関係連合講演会講演予稿集　Vol. 56th　No. 1　2009年
機能性ナノコンポジットの形成のための気相分散ナノ粒子堆積法の開発

竹中弘祐, 中嶋悠揮, 節原裕一

応用物理学会学術講演会講演予稿集　Vol. 70th　No. 1　2009年
X線光電子分光法を用いたプラズマ・ソフトマテリアル相互作用に関するナノ表面分析

CHO Ken, CHO Ken, 節原裕一, 節原裕一, 白谷正治, 白谷正治, 関根誠, 関根誠, 堀勝, 堀勝, 池永英司, 中塚理, 財満鎮明

応用物理学会学術講演会講演予稿集　Vol. 70th　No. 1　2009年
プラズマCVD炭素薄膜のトレンチへの製膜形状のガス流量比-入射イオンエネルギーマッピング

野村卓矢, 是永有輝, 梅津潤, 古閑一憲, 古閑一憲, 白谷正治, 白谷正治, 節原裕一, 節原裕一, 関根誠, 関根誠, 堀勝, 堀勝

応用物理学会学術講演会講演予稿集　Vol. 70th　No. 1　2009年
コンビナトリアルプラズマプロセス解析装置を用いたプラズマ・ポリマー相互作用の解析(2)

節原裕一, 節原裕一, CHO Ken, CHO Ken, 竹中弘祐, 竹中弘祐, 白谷正治, 白谷正治, 関根誠, 関根誠, 堀勝, 堀勝

応用物理学会学術講演会講演予稿集　Vol. 70th　No. 1　2009年
デスクトップ型コンビナトリアルプラズマナノプロセス解析装置の創成(II)

MOON Chang S., 竹田圭吾, 関根誠, 関根誠, 節原裕一, 節原裕一, 白谷正治, 白谷正治, 堀勝, 堀勝

応用物理学会学術講演会講演予稿集　Vol. 70th　No. 1　2009年
炭素系薄膜のトレンチ基板上への製膜形状のイオンエネルギー依存性

野村卓矢, 是永有輝, 古閑一憲, 古閑一憲, 白谷正治, 白谷正治, 節原裕一, 節原裕一, 関根誠, 関根誠, 堀勝, 堀勝

応用物理学会九州支部学術講演会講演予稿集　Vol. 35　2009年
プラズマCVD炭素系薄膜のトレンチ基板上への製膜形状のガス流量比依存性

是永有輝, 野村卓矢, 古閑一憲, 古閑一憲, 白谷正治, 白谷正治, 節原裕一, 節原裕一, 関根誠, 関根誠, 堀勝, 堀勝

応用物理学会九州支部学術講演会講演予稿集　Vol. 35　2009年
プラズマと電磁波の相互作用の新規応用空間的,時間的デザインが拓く新機能 4 マルチ低インダクタンス内部アンテナを用いた次世代メートル級大面積プロセスに向けたプラズマ生成制御技術

節原裕一

プラズマ・核融合学会誌　Vol. 84　No. 4　p. 193-198　2008年4月25日
出版者・発行元：プラズマ・核融合学会
マルチアンテナ型RFプラズマによるメートル級大面積での低ダメージプロセスと制御

節原裕一, 竹中弘祐, 江部明憲

日本機械学会関東支部第14期総会講演会講演論文集　p. 391-392　2008年3月
コンビナトリアルプラズマプロセス解析装置の創製-傾斜分布プラズマの設計と制御-

節原裕一, 節原裕一, 長尾勝久, 竹中弘祐, 竹中弘祐, 白谷正治, 白谷正治, 関根誠, 関根誠, 堀勝, 堀勝

応用物理学関係連合講演会講演予稿集　Vol. 55th　No. 1　2008年
コンビナトリアルプラズマ解析装置の創製:トレンチ基板上へのカーボン薄膜のコンフォーマル堆積

梅津潤, 古閑一憲, 古閑一憲, 白谷正治, 白谷正治, 節原裕一, 節原裕一, 関根誠, 関根誠, 堀勝, 堀勝

応用物理学関係連合講演会講演予稿集　Vol. 55th　No. 1　2008年
マルチ内部アンテナ型ICP生成におけるアンテナ近接配置の効果

竹中弘祐, 節原裕一, 江部明憲

応用物理学関係連合講演会講演予稿集　Vol. 55th　No. 1　2008年
デスクトップ型コンビナトリアルプラズマナノプロセス解析装置の創成(I)

MOON Chang S., 竹田圭吾, 高島成剛, 関根誠, 関根誠, 節原裕一, 節原裕一, 白谷正治, 白谷正治, 堀勝, 堀勝

応用物理学関係連合講演会講演予稿集　Vol. 55th　No. 1　2008年
イオン・ラジカルフラックスによるトレンチ基板へのカーボン薄膜堆積形状制御

梅津潤, 井上和彦, 野村卓矢, 古閑一憲, 古閑一憲, 白谷正治, 白谷正治, 節原裕一, 節原裕一, 関根誠, 関根誠, 堀勝, 堀勝

応用物理学会学術講演会講演予稿集　Vol. 69th　No. 1　2008年
マルチ低インダクタンスアンテナで生成した誘導結合プラズマによるポリマーの低ダメージプロセス

竹中弘祐, 竹中弘祐, 趙研, 節原裕一, 節原裕一, 江部明憲, HAN Jeon G.

応用物理学会学術講演会講演予稿集　Vol. 69th　No. 1　2008年
H₂/N₂プラズマ中における水素および窒素ラジカルの表面損失確率計測

MOON Chag S., 竹田圭吾, 高島成剛, 林俊雄, 関根誠, 関根誠, 節原裕一, 節原裕一, 白谷正治, 白谷正治, 堀勝, 堀勝

応用物理学会学術講演会講演予稿集　Vol. 69th　No. 1　2008年
コンビナトリアルプラズマプロセス解析装置の創製傾斜分布プラズマの生成と制御

節原裕一, 節原裕一, 竹中弘祐, 竹中弘祐, 白谷正治, 白谷正治, 関根誠, 関根誠, 堀勝, 堀勝

応用物理学会学術講演会講演予稿集　Vol. 69th　No. 1　2008年
硬X線光電子分光法によるポリマーのプラズマ照射損傷に関するナノ表面分析

趙研, 竹中弘祐, 竹中弘祐, 節原裕一, 節原裕一, 近藤博基, 中塚理, 池永英司, 財満鎮明

応用物理学会学術講演会講演予稿集　Vol. 69th　No. 1　2008年
H原子源付プラズマCVD装置におけるトルエンプラズマの分光計測

井上和彦, 梅津潤, 野村卓矢, 古閑一憲, 古閑一憲, 白谷正治, 白谷正治, 節原裕一, 節原裕一, 関根誠, 関根誠, 堀勝, 堀勝

応用物理学会九州支部学術講演会講演予稿集　Vol. 34　2008年
炭素系薄膜のトレンチ基板上への製膜速度のアスペクト比・基板温度依存性

野村卓矢, 梅津潤, 井上和彦, 松崎秀文, 古閑一憲, 古閑一憲, 白谷正治, 白谷正治, 節原裕一, 関根誠, 節原裕一, 関根誠, 堀勝, 堀勝

応用物理学会九州支部学術講演会講演予稿集　Vol. 34　2008年
内部アンテナを用いて生成した誘導結合プラズマの構造

竹中弘祐, 世良崇, 節原裕一, 江部明憲

応用物理学関係連合講演会講演予稿集　Vol. 54th　No. 1　2007年
マルチ内部アンテナを用いてアルゴン酸素混合気体中で生成した誘導結合プラズマの特性

竹中弘祐, 節原裕一, 江部明憲, KIM Yong-Mo, HAN Jeon G.

応用物理学関係連合講演会講演予稿集　Vol. 54th　No. 1　2007年
マルチ内部アンテナ型誘導結合放電で生成したアルゴン酸素混合プラズマの特性

竹中弘祐, 節原裕一, 江部明憲, KIM Yong-Mo, HAN Jeon G.

応用物理学会学術講演会講演予稿集　Vol. 68th　No. 1　2007年
マルチ内部アンテナで生成したアルゴン酸素混合プラズマによるポリマーの表面改質

節原裕一, 竹中弘祐, 江部明憲, KIM Yong-Mo, HAN Jeon G.

応用物理学会学術講演会講演予稿集　Vol. 68th　No. 1　2007年
マルチ内部アンテナを用いて生成した誘導結合プラズマのイオンエネルギー分布

節原裕一, 竹中弘祐, 江部明憲, 西坂和晃

応用物理学関係連合講演会講演予稿集　Vol. 54th　No. 1　2007年
マルチ低インダクタンスアンテナモジュールによるメートルサイズを越える大面積高周波プラズマ源の設計

節原裕一, 築山大輔, 竹中弘祐, 江部明憲

第24回プラズマプロセッシング研究会プロシーディングス　p. 61-62　2007年1月
低インダクタンス内部アンテナで生成した500 mm 径円筒プラズマの均一性

築山大輔, 竹中弘祐, 節原裕一, 江部明憲

第24回プラズマプロセッシング研究会プロシーディングス　p. 63-64　2007年1月
マルチ内部アンテナを用いた誘導結合プラズマ中のイオンエネルギー分布

竹中弘祐, 節原裕一, 西坂和晃, 江部明憲

第24回プラズマプロセッシング研究会プロシーディングス　p. 65-66　2007年1月
マルチ内部アンテナを用いて生成したAr+O2 プラズマの特性

竹中弘祐, 節原裕一, 江部明憲, Kim Yong-Mo, Han Jeon G

第24回プラズマプロセッシング研究会プロシーディングス　p. 67-68　2007年1月
内部アンテナ型誘導結合プラズマにおける電位形成

世良崇, 竹中弘祐, 江部明憲, 節原裕一

第24回プラズマプロセッシング研究会プロシーディングス　p. 69-70　2007年1月
微粉砕中でのプラズマ発生とナノ粒子表面改質

野間淳一, 阿部浩也, 竹中弘祐, 節原裕一, 内藤牧男

第24回プラズマプロセッシング研究会プロシーディングス　p. 5-6　2007年1月
高気圧誘導結合RFプラズマを用いたイットリウム鉄ガーネットナノ粒子薄膜の相構造制御

節原裕一, 中山浩明, 竹中弘祐, 阿部浩也, 野城清

第24回プラズマプロセッシング研究会プロシーディングス　p. 111-112　2007年1月
フェムト秒レーザーを用いた半導体微細加工

井澤友策, 節原裕一, 藤田雅之, 井澤靖和

レーザー学会研究会報告 = Reports on the Topical meeting of the Laser Society of Japan　Vol. 343　p. 19-25　2006年2月15日
フェムト秒パルスによる半導体Siの表面改質

藤田雅之, 井澤友策, 橋本昌樹, 節原裕一, 井澤靖和

ILT年報　Vol. 2006　2006年
内部アンテナ型誘導結合プラズマ生成におけるアンテナ周辺構造とプラズマ分布の相関

世良崇, 竹中弘祐, 節原裕一, 江部明憲

応用物理学会学術講演会講演予稿集　Vol. 67th　No. 1　2006年
Siのフェムト秒レーザー加工におけるPump-Probe時間分解測定

井沢友策, 節原裕一, 藤田雅之, 井沢靖和

応用物理学関係連合講演会講演予稿集　Vol. 53rd　No. 3　2006年
低インダクタンス型内部アンテナを用いた誘導結合プラズマの特性

世良崇, 竹中弘祐, 節原裕一

応用物理学関係連合講演会講演予稿集　Vol. 53rd　No. 1　2006年
フェムト秒レーザー励起によるシリコンの相転移に関する研究

井沢友策, 節原裕一, 藤田雅之, 井沢靖和

応用物理学関係連合講演会講演予稿集　Vol. 53rd　No. 3　2006年
高気圧誘導結合プラズマを用いた気相中でのナノ粒子改質(II)

中山浩明, 竹中弘祐, 節原裕一, 阿部浩也, 野城清

応用物理学会学術講演会講演予稿集　Vol. 67th　No. 1　2006年
マルチ低インダクタンスアンテナによるメートル級大面積プラズマの生成と制御

節原裕一, 竹中弘祐, 江部明憲, 西坂和晃, 高橋英治, 林司, 緒方潔

応用物理学関係連合講演会講演予稿集　Vol. 53rd　2006年
低インダクタンス型マルチ内部アンテナを用いた誘導結合プラズマによるa-C:H膜堆積

竹中弘祐, 節原裕一, 江部明憲, 西坂和晃

応用物理学会学術講演会講演予稿集　Vol. 67th　No. 1　2006年
低インダクタンス型マルチ内部アンテナを用いた誘導結合高周波プラズマ中のラジカル計測

竹中弘祐, 節原裕一, 江部明憲, 西坂和晃

応用物理学関係連合講演会講演予稿集　Vol. 53rd　No. 1　2006年
高気圧誘導結合プラズマを用いた気相中でのナノ粒子改質

中山浩明, 竹中弘祐, 節原裕一, 阿部浩也, 野城清

応用物理学関係連合講演会講演予稿集　Vol. 53rd　No. 1　2006年
表面分光の最前線 : さらなる高分解能を目指して

長谷川哲也, 内田建, 節原裕一, 田尾本昭

應用物理　Vol. 74　No. 10　p. 1304-1304　2005年10月10日
プラズマ生成の原理と実際

節原裕一

第12回プラズマエレクトロニクスサマースクールテキスト（応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会）　p. 1-20　2005年8月
メートルサイズの大面積プロセスに向けたプラズマ技術

節原裕一, 江部明憲

表面技術　Vol. 56　No. 5　p. 268-275　2005年5月
出版者・発行元：The Surface Finishing Society of Japan
次世代メートルサイズ大面積プロセス用プラズマ源

節原裕一

プラズマ・核融合学会誌　Vol. 81　No. 2　p. 85-93　2005年2月25日
出版者・発行元：社団法人プラズマ・核融合学会
低エネルギー密度領域におけるフェムト秒レーザーと単結晶Siの相互作用

井沢友策, 節原裕一, 藤田雅之, 中井光男, 乗松孝好

応用物理学会学術講演会講演予稿集　Vol. 66th　No. 3　2005年
メートル級大面積プラズマ制御のためのマルチ内部アンテナモジュールの開発(II)

節原裕一, 竹中弘祐, 江部明憲, 西坂和晃

応用物理学会学術講演会講演予稿集　Vol. 66th　No. 1　2005年
メートル級大面積プラズマ制御のためのマルチ内部アンテナモジュールの開発

節原裕一, 江部明憲, 西坂和晃, 杉浦慎哉, 高橋和生, 斧高一

応用物理学関係連合講演会講演予稿集　Vol. 52nd　No. 1　2005年
低インダクタンス型マルチ内部アンテナを用いたRFプラズマ源の特性

竹中弘祐, 節原裕一, 江部明憲, 西坂和晃, 杉浦慎哉, 高橋和生, 斧高一

応用物理学会学術講演会講演予稿集　Vol. 66th　No. 1　2005年
フェムト秒レーザー加工の新領域

藤田雅之, 井沢友策, 橋田昌樹, 節原裕一, 井沢靖和

ILT年報　Vol. 2005　2005年
"特集/エレクトロニクス産業を支える表面技術"の企画に当たって

井手本康, 節原裕一, 川島敏, 鷹野一朗, 清川肇, 野田和彦, 柴田隆行, 八木裕

表面技術 = The Journal of the Surface Finishing Society of Japan　Vol. 55　No. 12　p. 752-752　2004年12月1日
誘導結合型フルオロカーポンプラズマを用いた高誘電率HfO₂薄膜のエッチング

高橋和生, 斧高一, 節原裕一

表面技術　Vol. 55　No. 12　p. 793-799　2004年12月1日
出版者・発行元：表面技術協会
低インダクタンスマルチアンテナを利用した低圧ICP-CVDによるa-C:Hの3次元コーティング

津田統, 石原正統, 田中章浩, 古賀義紀, 佐藤直幸, 節原裕一

ダイヤモンドシンポジウム講演要旨集　Vol. 18th　2004年
High-kゲート絶縁膜材料の誘導結合型プラズマにおけるエッチング特性(III)

高橋和生, 斧高一, 節原裕一

応用物理学関係連合講演会講演予稿集　Vol. 51st　No. 1　2004年
超小型衛星用推進器のためのマイクロ波励起超小型プラズマ源の解析

鷹尾祥典, 斧高一, 高橋和生, 節原裕一

応用物理学関係連合講演会講演予稿集　Vol. 51st　No. 1　2004年
超短パルスレーザーを用いた次世代半導体接合形成に関する研究

節原裕一, 藤田雅之

大阪大学レーザーエネルギー学研究センター共同研究成果報告書　Vol. 2003　2004年
低インダクタンス型マルチ内部アンテナを用いたメートル級大面積プラズマ源の開発

節原裕一, 杉浦慎哉, 中村浩樹, 高橋和生, 斧高一, 江部明憲

応用物理学関係連合講演会講演予稿集　Vol. 51st　No. 1　2004年
マイクロ波励起超小型プラズマ源の発光分光測定

鷹尾祥典, 斧高一, 高橋和生, 節原裕一

応用物理学会学術講演会講演予稿集　Vol. 65th　No. 1　2004年
低インダクタンス内部アンテナを用いた誘導結合型放電によるメートル級大面積高密度プラズマ生成

節原裕一

大阪大学接合科学研究所共同研究報告　Vol. 2003　2004年
High-kゲート絶縁膜材料の誘導結合型プラズマにおけるエッチング特性(IV)

高橋和生, 斧高一, 節原裕一

応用物理学会学術講演会講演予稿集　Vol. 65th　No. 1　2004年
くらべてみよう 87 プラズマ

節原裕一

表面技術　Vol. 54　No. 10　p. 674-676　2003年10月1日
プラズマイオンプロセスを用いた表面改質

節原裕一

プラズマ・核融合学会プラズマ若手夏の学校テキスト　Vol. 42nd　p. 55-74　2003年8月4日
低インダクタンス内部アンテナを用いた誘導結合プラズマによるポリシリコン薄膜の形成 (3)

浜岡陽介, 稲実宏, 渡辺哲也, 江部明憲, 三宅正司, 庄司多津男, 節原裕一, 桐村浩哉, 緒方潔

応用物理学会学術講演会講演予稿集　Vol. 64th　No. 1　2003年
メートル級大面積高密度プラズマ生成のための低インダクタンス内部アンテナ駆動型高周波プラズマ源

節原裕一

大阪大学接合科学研究所共同研究報告　Vol. 2002　2003年
低インダクタンス内部アンテナを用いた誘導結合型RFプラズマにおける電子加速特性の粒子解析

杉浦慎哉, 節原裕一, 高橋和生, 斧高一

応用物理学関係連合講演会講演予稿集　Vol. 50th　No. 1　2003年
High-kゲート絶縁膜材料の誘導結合型プラズマにおけるエッチング特性

高橋和生, 斧高一, 藤掛功, 節原裕一, 北川智洋

応用物理学関係連合講演会講演予稿集　Vol. 50th　No. 1　2003年
超短パルスレーザー誘起断熱量子過程による次世代半導体接合形成に関する研究

節原裕一, 橋田昌樹, 藤田雅之

大阪大学レーザー核融合研究センター共同研究成果報告書　Vol. 2002　2003年
PICシミュレーションによるヘリコン波励起プラズマ源を用いたイオン推進機の解析

山本紘史, 節原裕一, 高橋和生, 斧高一

応用物理学関係連合講演会講演予稿集　Vol. 50th　No. 1　2003年
低インダクタンス内部アンテナを用いた誘導結合型RFプラズマの分布解析

杉浦慎哉, 節原裕一, 高橋和生, 斧高一, 江部明憲, 三宅正司

応用物理学会学術講演会講演予稿集　Vol. 64th　No. 1　2003年
軸対称表面波励起マイクロプラズマスラスター

鷹尾祥典, 斧高一, 高橋和生, 節原裕一

宇宙輸送シンポジウム平成14年度　2003年
マイクロ波を用いた軸対称表面波励起マイクロプラズマ源

鷹尾祥典, 斧高一, 高橋和生, 節原裕一

応用物理学関係連合講演会講演予稿集　Vol. 50th　No. 1　2003年
高密度ヘリコン波励起プラズマ源を用いたイオン推進機の性能解析

山本紘史, 節原裕一, 高橋和生, 斧高一

応用物理学会学術講演会講演予稿集　Vol. 64th　No. 1　2003年
表面波励起プラズマを用いたマイクロプラズマスラスタの推進特性解析

鷹尾祥典, 斧高一, 高橋和生, 節原裕一

応用物理学会学術講演会講演予稿集　Vol. 64th　No. 1　2003年
大気圧・液中プラズマの基礎と先端技術への応用まとめ(課題と展望)

節原裕一

応用物理学関係連合講演会講演予稿集　Vol. 50th　2003年
サブ100nm世代のゲート電極加工におけるエッチング形状制御

佐野敦, 斧高一, 高橋和生, 節原裕一

応用物理学関係連合講演会講演予稿集　Vol. 50th　No. 1　2003年
プラズマエッチングにおける反応生成物の再イオン化の影響

藤掛功, 斧高一, 高橋和生, 節原裕一

応用物理学関係連合講演会講演予稿集　Vol. 50th　No. 1　2003年
低インダクタンス内部アンテナを用いた誘導結合プラズマによるポリシリコン薄膜の形成 (2)

浜岡陽介, 山本直樹, 稲実宏, 馬場創, 江部明憲, 三宅正司, 庄司多津男, 節原裕一

応用物理学関係連合講演会講演予稿集　Vol. 50th　No. 1　2003年
High-kゲート絶縁膜材料の誘導結合型プラズマにおけるエッチング特性 (II)

高橋和生, 斧高一, 節原裕一

応用物理学会学術講演会講演予稿集　Vol. 64th　No. 1　2003年
プラズマCVDと溶媒処理を用いたフルオロカーボン系多孔質構造Low‐K薄膜の作成

高橋和生, 三田村崇司, 斧高一, 節原裕一

表面技術　Vol. 53　No. 12　p. 857-859　2002年12月1日
出版者・発行元：The Surface Finishing Society of Japan
フェムト秒レーザーによる物質プロセッシング

橋田昌樹, 藤田雅之, 節原裕一

光学　Vol. 31　No. 8　p. 621-628　2002年8月10日
出版者・発行元：応用物理学会分科会日本光学会
基板表面の反応層および保護膜堆積層の進展を考慮したエッチング形状シミュレーション

佐野敦, 斧高一, 高橋一生, 節原裕一

応用物理学会学術講演会講演予稿集　Vol. 63rd　No. 1　2002年
低インダクタンス型マルチ内部アンテナユニットを用いた大面積プラズマ源の開発

節原裕一, 高橋和生, 斧高一, 庄司多津男, 馬場創, 稲実宏, 江部明憲, 山本直樹, 三宅正司

応用物理学会学術講演会講演予稿集　Vol. 63rd　No. 1　2002年
低インダクタンス内部アンテナを用いた誘導結合プラズマによるポリシリコン薄膜の形成

江部明憲, 稲実宏, 馬場創, 三宅正司, 庄司多津男, 節原裕一

応用物理学会学術講演会講演予稿集　Vol. 63rd　No. 1　2002年
低インダクタンスマルチアンテナユニットを用いた大容積RFプラズマ生成

節原裕一, 高橋和生, 斧高一, 庄司多津男

応用物理学関係連合講演会講演予稿集　Vol. 49th　No. 1　2002年
低インダクタンス型内部アンテナユニットを用いた大容積誘導結合RFプラズマ源の開発

節原裕一

大阪大学接合科学研究所共同研究報告　Vol. 2001　2002年
プラズマCVDと溶媒処理を用いた低誘電率フルオロカーボン多孔質膜の形成

高橋和生, 三田村崇司, 斧高一, 節原裕一

応用物理学関係連合講演会講演予稿集　Vol. 49th　No. 2　2002年
マルチ内部アンテナ方式大面積誘導結合型プラズマの生成

山本直樹, 馬場創, 稲実宏, 江部明憲, 三宅正司, 庄司多津男, 節原裕一

応用物理学会学術講演会講演予稿集　Vol. 63rd　No. 1　2002年
フルオロカーボンプラズマにおいて発生した気相成長ダイヤモンドナノ粒子の解析

高橋和生, 斧高一, 節原裕一, 岡野哲之

応用物理学会学術講演会講演予稿集　Vol. 63rd　No. 1　2002年
超短パルスレーザー誘起断熱量子過程による次世代半導体接合形成に関する研究

節原裕一, 高橋和生, 斧高一, 橋田昌樹, 藤田雅之, 足立智

大阪大学レーザー核融合研究センター共同研究成果報告書　Vol. 2001　2002年
マルチ内部アンテナ方式を用いた大面積誘導結合型プラズマによるポリシリコン薄膜合成

馬場創, 山本直樹, 稲実宏, 江部明憲, 三宅正司, 庄司多津男, 節原裕一

応用物理学会学術講演会講演予稿集　Vol. 63rd　No. 1　2002年
小型マイクロ波励起表面波プラズマ源

鷹尾祥典, 斧高一, 高橋和生, 節原裕一

応用物理学会学術講演会講演予稿集　Vol. 63rd　No. 1　2002年
プラズマエッチングにおける反応生成物のプラズマへの影響

藤掛功, 斧高一, 高橋和生, 節原裕一

応用物理学会学術講演会講演予稿集　Vol. 63rd　No. 1　2002年
今三次元‐プラズマイオンによる表面の改質とプロセス 3 プラズマ源の開発

節原裕一

電気学会誌　Vol. 121　No. 5　p. 308-311　2001年5月1日
出版者・発行元：The Institute of Electrical Engineers of Japan
PVDにおけるサブサーフェス

節原裕一

応用物理学関係連合講演会講演予稿集　Vol. 48th　2001年
Coherent phonon excitation as nonequilibrium dopant activation process for ultra-shallow junction formation (proceedings)

Y. Setsuhara, B. Mizuno, M. Takase, M. Hashida, M. Fujita, S. Adachi

Extended abstracts of The 2nd International Workshop on Junction Technology, 2, 103-106　2001年
イオンビーム支援蒸着法を用いたCeO₂薄膜合成におけるモルフォロジーに及ぼすイオン照射効果

志水一平, 節原裕一, 斎藤英純, 熊谷正夫, 三宅正司

高温学会誌　Vol. 26　No. 5　p. 211-218　2000年9月20日
出版者・発行元：高温学会
低インダクタンス内部アンテナを用いた大口径誘導結合ＲＦプラズマ生成

節原裕一, 三宅正司, 坂和洋一, 庄司多津男

電気学会プラズマ研究会資料　2000年4月
ヘリコン波励起型反応性高密度プラズマスパッタリングによる超硬質窒化物薄膜合成(2)

高木義幸, 節原裕一, 三宅正司, 熊谷正夫, 坂和洋一, 庄司多津男

応用物理学関係連合講演会講演予稿集　Vol. 47th　No. 1　2000年
低インダクタンス内部アンテナを用いた大口径RFプラズマ生成

節原裕一, 高木義幸, 三宅正司, 坂和洋一, 庄司多津男

応用物理学関係連合講演会講演予稿集　Vol. 47th　No. 1　2000年
酸化物薄膜合成におけるミラー型ECRプラズマへのRFスパッタリングの影響

馬場創, 節原裕一, 三宅正司

応用物理学関係連合講演会講演予稿集　Vol. 47th　No. 1　2000年
低インダクタンス内部アンテナを用いた大口径RFプラズマ生成(2)

節原裕一, 高木義幸, 三宅正司, 坂和洋一, 庄司多津男

応用物理学会学術講演会講演予稿集　Vol. 61st　No. 1　2000年
真空容器内蔵型ヘリコン波励起反応性高密度プラズマスパッタ装置の開発

高木義幸, 節原裕一, 三宅正司, 坂和洋一, 庄司多津男, 熊谷正夫

応用物理学会学術講演会講演予稿集　Vol. 61st　No. 1　2000年
高密度プラズマスパッタリングによる窒化炭素薄膜合成

節原裕一, 柴田邦雄, 三宅正司

熱源センターだより　No. 15　p. 18-19　1999年3月
Double Half Loop内部アンテナを用いた大口径RFプラズマの生成

節原裕一, 三宅正司, 坂和洋一, 庄司多津男

応用物理学関係連合講演会講演予稿集　Vol. 46th　No. 1　1999年
ICP支援型マグネトロンスパッタリングによるLSI用Cu配線材の形成

山下昌宏, 節原裕一, 三宅正司, 斎藤英純, 熊谷正夫

応用物理学会学術講演会講演予稿集　Vol. 60th　No. 1　1999年
ヘリコン波励起高密度プラズマの空間構造

大津康徳, 林信哉, 藤田寛治, 柴田邦雄, 藤本健作, 節原裕一, 三宅正司

応用物理学関係連合講演会講演予稿集　Vol. 46th　No. 1　1999年
イオンビーム支援蒸着法により作製したCeO₂薄膜のトライボロジー特性

志水一平, 節原裕一, 三宅正司, 斎藤英純, 熊谷正夫

応用物理学会学術講演会講演予稿集　Vol. 60th　No. 2　1999年
中間層による応力緩和を施した多結晶cBN薄膜の特性

節原裕一, 板垣肇, 三宅正司, 鈴木操, 熊谷正夫

応用物理学会学術講演会講演予稿集　Vol. 60th　No. 2　1999年
Double Half-Loop内部アンテナを用いた大口径RFプラズマの生成 (2)

節原裕一, 高木義幸, 三宅正司, 坂和洋一, 庄司多津男

応用物理学会学術講演会講演予稿集　Vol. 60th　No. 1　1999年
ヘリコン波励起型反応性高密度プラズマスパッタリングによる超硬質窒化物薄膜合成

節原裕一, 三宅正司, 熊谷正夫, 坂和洋一, 庄司多津男

応用物理学会学術講演会講演予稿集　Vol. 60th　No. 1　1999年
ペロブスカイト型酸化物薄膜創成におけるミラー型ECRプラズマスパッタリングのプラズマ特性

馬場創, 節原裕一, 三宅正司

応用物理学会学術講演会講演予稿集　Vol. 60th　No. 1　1999年
IBAD法を用いた多結晶cBN薄膜合成

節原裕一, 熊谷正夫, 鈴木常生, 三宅正司

第5回エレクトロニクスにおけるマイクロ接合・実装技術シンポジウム論文集, (1999) pp. 275-280.　1999年1月
イオン・プラズマプロセスによるほう素,炭素,窒素系超硬質薄膜の合成

節原裕一, 三宅正司

応用物理　Vol. 67　No. 6　p. 659-663　1998年6月
出版者・発行元：The Japan Society of Applied Physics
イオンビーム支援蒸着法を用いたcBN薄膜形成

節原裕一, 鈴木常生, 三宅正司, 鈴木操, 熊谷正夫

応用物理学関係連合講演会講演予稿集　Vol. 45th　No. 2　1998年
ICP支援型マグネトロンスパッタリングの研究 III

中本洋平, 節原裕一, 三宅正司

応用物理学関係連合講演会講演予稿集　Vol. 45th　No. 1　1998年
ヘリコン波励起型反応性高密度プラズマスパッタリングの研究

柴田邦雄, 節原裕一, 三宅正司, 坂和洋一, 庄司多津男

応用物理学関係連合講演会講演予稿集　Vol. 45th　No. 1　1998年
CeO₂薄膜合成におけるイオン照射効果

志水一平, 節原裕一, 三宅正司, 斎藤英純, 熊谷正夫

応用物理学会学術講演会講演予稿集　Vol. 59th　No. 2　1998年
窒化ケイ素セラミックスのミリ波プロセシングによる合成

上野敏之, 巻野勇喜雄, 節原裕一, 三宅正司, 木下秀一, 佐野三郎, 斉藤英純

日本金属学会講演概要　Vol. 123rd　1998年
イオンビーム支援蒸着法による(Ti,Al)N薄膜の構造と特性

鈴木常生, 節原裕一, 巻野勇喜雄, 三宅正司, SAMANDI M

応用物理学関係連合講演会講演予稿集　Vol. 45th　No. 2　1998年
イオンビーム支援蒸着法によって作成した(Ti_1-x,Al_x)N薄膜の構造と相不安定性

鈴木常生, 巻野勇喜雄, 節原裕一, 三宅正司, SAMANDI M

日本金属学会講演概要　Vol. 123rd　1998年
ミリ波帯ジャイロトロンによるAl₂O₃-ZrO₂セラミックスの合成

大前暢, 巻野勇喜雄, 節原裕一, 三宅正司

熱源センターだより　No. 14　1998年
イオンビーム支援蒸着法による立方晶窒化ほう素薄膜形成と界面制御

節原裕一, 鈴木常生, 三宅正司

熱源センターだより　No. 14　1998年
導波管定在波法による20~1000°Cにおけるジルコニアのマイクロ波反射係数測定

佐野三郎, 小田喜一, 節原裕一, 三宅正司

日本セラミックス協会秋季シンポジウム講演予稿集　Vol. 11th　1998年
28GHzミリ波を用いた窒化ケイ素の焼結

上野敏之, 巻野勇喜雄, 節原裕一, 三宅正司, 木下秀一, 佐野三郎, 斉藤英純

日本セラミックス協会秋季シンポジウム講演予稿集　Vol. 11th　1998年
セラミックス電磁プロセシングの動向ミリ波によるセラミックス加熱・焼結

節原裕一

ニューセラミックス　Vol. 10　No. 10　p. 9-16　1997年10月
出版者・発行元：ティ-・アイ・シィ-
Influence of Ion Irradiation on Crystalline Phases of Oxide Films(Materials, Metallurgy & Weldability)

MAKINO Yukio, SETSUHARA Yuichi, MIYAKE Shoji, SHIBATA Kazuo

Transactions of JWRI　Vol. 26　No. 1　p. 77-80　1997年7月
出版者・発行元：大阪大学接合科学研究所
イオン照射を利用した成膜プロセスの評価法

節原裕一, 三宅正司

溶接学会誌　Vol. 66　No. 3　p. 151-155　1997年4月
出版者・発行元：JAPAN WELDING SOCIETY
内部アンテナを用いた誘導結合型大口径プラズマの生成

三宅正司, 柴田邦雄, 節原裕一, 坂和洋一, 圧司多津男

応用物理学会学術講演会講演予稿集　Vol. 58th　No. 1　1997年
ICP支援型マグネトロンスパッタリングの研究 II

節原裕一, 中本洋平, 釜井正善, 三宅正司

応用物理学会学術講演会講演予稿集　Vol. 58th　No. 1　1997年
イオンビーム支援蒸着法による窒化ほう素薄膜の研究 (1) 中間層による応力緩和

節原裕一, 鈴木常生, 田中イーリス, 三宅正司, 鈴木操, 熊谷正夫, 緒方潔, 木幡護

応用物理学関係連合講演会講演予稿集　Vol. 44th　No. 2　1997年
大電流パルス通電法によるセラミックス焼結プロセスの評価

巻野勇喜雄, 釜井正善, 節原裕一, 大前暢, 三宅正司

日本セラミックス協会年会講演予稿集　Vol. 1997　1997年
解離性気体中のヘリコン波プラズマの特性

三宅正司, 節原裕一, 柴田邦雄, 坂和洋一, 庄司多津男

応用物理学会学術講演会講演予稿集　Vol. 58th　No. 1　1997年
28GHzミリ波を用いた窒化ケイ素の焼結における助剤添加量の最適化

木下秀一, 大前暢, 遠藤靖雄, 佐野三郎, 節原裕一, 三宅正司

日本セラミックス協会年会講演予稿集　Vol. 1997　1997年
電磁加熱法を用いたセラミックス焼結

木下秀一, 釜井正善, 節原裕一, 三宅正司

熱源センターだより　No. 13　1997年
IBAD法による高機能窒化物薄膜合成と界面制御

鈴木常生, 節原裕一, 三宅正司

熱源センターだより　No. 13　1997年
326 c-BN薄膜合成におけるイオンビームを用いた界面制御

鈴木常生, 節原裕一, Tanaka Yris, 三宅正司, 熊谷正夫, 鈴木操

溶接学会全国大会講演概要　No. 60　p. 154-155　1997年
出版者・発行元：溶接学会
イオンビーム照射による窒化硼素の相転移 : 低圧相から高圧相へ

節原, 裕一, 鈴木, 常生, 三宅, 正司

大阪大学低温センターだより　Vol. 96　p. 14-18　1996年10月
出版者・発行元：大阪大学低温センター
234 ヘリコンプラズマスパッタリングによるCN_x薄膜合成

張津秋, 節原裕一, 三宅正司

溶接学会全国大会講演概要　No. 59　p. 184-185　1996年9月5日
出版者・発行元：社団法人溶接学会
ヘリコン波励起プラズマスパッタリングによるCN_x薄膜合成

張津秋, 瀬渡直樹, 節原裕一, 姜文圭, 三宅正司

電気学会研究会資料. PST, プラズマ研究会　Vol. 1996　No. 9　p. 81-86　1996年2月9日
ICP支援型マグネトロンスパッタリングの研究

前田和昭, 節原裕一, 釜井正善, 三宅正司, 高木憲一

応用物理学関係連合講演会講演予稿集　Vol. 43rd　No. 1　1996年
各種イオンビーム成膜法で作製したTiO_x薄膜の光電流特性の比較検討

笹瀬雅人, 節原裕一, 三宅潔, 鷹野一朗, 三宅正司, 磯部昭二

応用物理学関係連合講演会講演予稿集　Vol. 43rd　No. 2　1996年
イオンビーム支援蒸着法による窒化ほう素薄膜の研究 (IV) 熱的安定性・化学的安定性

栄西俊彦, 鈴木雄二郎, 樋下田和也, 鈴木操, 熊谷正夫, 木幡護, 緒方潔, 節原裕一, 三宅正司

応用物理学関係連合講演会講演予稿集　Vol. 43rd　No. 2　1996年
バンドパラメーターによる擬2元系窒化物のB1型/B4型結晶構造変態の予測

巻野勇喜雄, 節原裕一, 三宅正司

日本金属学会講演概要　Vol. 119th　1996年
イオンビーム支援蒸着法による窒化ほう素薄膜の研究 (III) 薄膜の構造とトライボロジー特性

鈴木常生, 節原裕一, 緒方潔, 高橋英治, 薮田湖納美, 熊谷正夫, 木幡護, 下井谷良信, 本並義弘

応用物理学関係連合講演会講演予稿集　Vol. 43rd　No. 2　1996年
高電流・高速イオン注入の組み合せによる低温過程での鉄シリサイドの生成

薮田湖納美, 熊谷正夫, 庄司隆史, 節原裕一, 三宅正司

応用物理学関係連合講演会講演予稿集　Vol. 43rd　No. 2　1996年
解離性気体中におけるm=0モードアンテナ励起RFプラズマの特性 (III)

杉山裕一, 節原裕一, 瀬渡直樹, ZHANG J, 三宅正司, 坂和洋一, 庄司多津男

応用物理学関係連合講演会講演予稿集　Vol. 43rd　No. 1　1996年
イオンビームダイナミックミキシング法による(Ti,Al)N薄膜合成

節原裕一, 鈴木常生, 三宅正司

熱源センターだより　No. 12　1996年
マイクロ波複合加熱によるジルコニア焼結

三宅正司, 木下秀一, 釜井正善, 節原裕一

熱源センターだより　No. 12　1996年
Helicon Wave Plasma Enhanced Sputtering and Application to Synthesis of Carbon Nitride Films(Physics, Process, Instrument & Measurements)

SETO Naoki, KAMAI Masayoshi, MIYAKE Shoji, SETSUHARA Yuichi, ZHANG Jinqiu

Transactions of JWRI　Vol. 24　No. 2　p. 17-22　1995年12月
出版者・発行元：大阪大学溶接工学研究所
低エネルギー窒素イオン照射による窒化ほう素の相変換効果

節原裕一, 鈴木常生, 三宅正司

表面改質　No. 2　p. 5-7　1995年9月
イオン・ビーム照射によるBNの結晶構造の変化

熊谷正夫, 大久保昌和, 緒方潔, 樋下田和也, 下井谷良信, 清水洋一, 佐藤守, 節原裕一, 三宅正司

応用物理学関係連合講演会講演予稿集　Vol. 42nd　No. Pt 2　1995年
解離性気体中におけるm=0モードアンテナ励起RFプラズマの特性 (II)

節原裕一, 釜井正善, ZHANG J, 三宅正司, 坂和洋一, 庄司多津男

応用物理学会学術講演会講演予稿集　Vol. 56th　No. 1　1995年
解離性気体中におけるm=0モードアンテナ励起RFプラズマの特性

節原裕一, 木田幸生, 釜井正善, 三宅正司, 坂和洋一, 庄司多津男

応用物理学関係連合講演会講演予稿集　Vol. 42nd　No. Pt 1　1995年
イオンビーム支援蒸着法による光学膜コーティング (大阪大学レーザー核融合研究センターS)

柴田一男, 節原裕一, 三宅正司

大阪大学レーザー核融合研究センター共同研究成果報告書　Vol. 1995　1995年
RFプラズマ支援スパッタリングによるCN薄膜合成

ZHANG J, 山中隆弘, 節原裕一, 釜井正善, 三宅正司, 坂和洋一, 庄司多津男

応用物理学関係連合講演会講演予稿集　Vol. 42nd　No. Pt 1　1995年
IBAD法によるBN薄膜合成における成長過程の観察

節原裕一, 橋本英夫, 大橋一史, 鈴木常生, 三宅正司, 坂田孝夫, 森博太郎

応用物理学関係連合講演会講演予稿集　Vol. 42nd　No. Pt 2　1995年
結晶構造マップによる擬2元系準安定IBADおよびPVD窒化物相の形成予測

巻野勇喜雄, 節原裕一, 三宅正司

応用物理学会学術講演会講演予稿集　Vol. 56th　No. 2　1995年
IBAD法による(Ti,Al)N薄膜の特性

鈴木常生, 節原裕一, 巻野勇喜男, 三宅正司, 坂田孝夫, 森博太郎

応用物理学関係連合講演会講演予稿集　Vol. 42nd　No. Pt 2　1995年
RF結合マグネトロンスパッタリングの研究

三宅正司, 節原裕一

熱源センターだより　No. 11　1995年
泥しょう鋳込み法により作製したZrO₂‐3 mol%Y₂O₃成形体のマイクロ波焼結

佐野三郎, 小田喜一, 芝崎靖雄, 小泉憲一, 又吉智也, 節原裕一, 三宅正司

粉体および粉末冶金　Vol. 42　No. 6　p. 767-770　1995年
イオンビーム支援蒸着法により形成した(Ti,Al)系薄膜の構造

節原裕一, 鈴木常生, 巻野勇喜雄, 三宅正司, 森博太郎

応用物理学会学術講演会講演予稿集　Vol. 55th　No. 2　1994年
イオンビーム支援蒸着法によるTiB₂薄膜の形成

節原裕一, 三宅正司, WANG Y

応用物理学会学術講演会講演予稿集　Vol. 55th　No. 2　1994年
RFプラズマ支援による低圧/高速スパッタリングの研究

節原裕一, 釜井正善, 三宅正司, 坂和洋一, 庄司多津男, 高木憲一, ZHANG J

応用物理学関係連合講演会講演予稿集　Vol. 41st　No. Pt 2　1994年
イオンビームミキシング法によるTi-Al系薄膜の形成

大迫一, 佐本寛孝, 節原裕一, 巻野勇喜男, きょう文圭, 三宅正司

応用物理学関係連合講演会講演予稿集　Vol. 41st　No. Pt 2　1994年
RFプラズマ支援スパッタリングの研究

ZHANG J, 山中隆弘, 節原裕一, 釜井正善, 三宅正司, 坂和洋一, 庄司多津男

応用物理学会学術講演会講演予稿集　Vol. 55th　No. 1　1994年
イオンビーム支援蒸着法によるTi-Al系金属間化合物薄膜の合成

巻野勇喜雄, 節原裕一, 大迫一, 三宅正司

日本金属学会講演概要　Vol. 115th　1994年
泥しょう鋳込み法による作製したZrO₂-3mol%Y₂O₃成形体のマイクロ波焼結

佐野三郎, 小田喜一, 芝崎靖雄, 小泉憲一, 又吉智也, 節原裕一, 三宅正司

粉体粉末冶金協会講演概要集　Vol. 1994　1994年
ミリ波ビームを利用したジルコニア焼結

三宅正司, 節原裕一

熱源センターだより　No. 10　1994年
誘導結合型プラズマスパッタリングの研究

ZHANG J Q, 山中隆弘, 節原裕一, 釜井正善, 三宅正司

溶接学会全国大会講演概要　No. 55　1994年
RF・DC複合高速スパッタリングの研究

三宅正司, 節原裕一

熱源センターだより　No. 10　1994年
Ti-Al Alloy Films Synthesized by Ion-Beam-Enhanced Deposition(Physics, Process, Instrument & Measurements)

MAKINO Yukio, SAMOTO Hirotaka, KYOU Bunkei, MIYAKE Shoji, SETSUHARA Yuichi, OHSAKO Hajime

Transactions of JWRI　Vol. 22　No. 2　p. 215-218　1993年12月
出版者・発行元：大阪大学溶接工学研究所
Inductively Coupled RF Discharges Using Helical Antennas(Physics, Process, Instruments & Measurements)

SETSUHARA Yuichi, UEDA Kunitsugu, MUSIL Jindrich, ARIYASU Tomio, MIYAKE Shoji

Transactions of JWRI　Vol. 22　No. 1　p. 1-5　1993年8月
出版者・発行元：大阪大学
Application o f Microwave Thermal Plasma to Ceramics Sintering(Physics, Process, Instruments & Measurements)

MIYAKE Shoji, OHNISHI Ryosuke, SETSUHARA Yuichi, YAMADA Sumasu

Transactions of JWRI　Vol. 22　No. 1　p. 31-35　1993年8月
出版者・発行元：大阪大学
イオンビームミキシングによる酸化アルミニウム薄膜の諸特性

緒方潔, 山口浩一, 木山精一, 平野均, 清水重雄, 木幡譲, 節原裕一, 三宅正司

応用物理学会学術講演会講演予稿集　Vol. 54th　No. 2　1993年
低ソーダアルミナのマイクロ波プラズマ焼結

佐野三郎, 小田喜一, 芝崎靖雄, 又吉智也, 香山泰成, 節原裕一, 三宅正司

粉体粉末冶金協会講演概要集　Vol. 1993　1993年
ヘリカルアンテナを用いたRF(13.56MHz)プラズマの生成 II

節原裕一, 釜井正善, 三宅正司

応用物理学会学術講演会講演予稿集　Vol. 54th　No. 1　1993年
ヘリカルアンテナを用いたRF(13.56MHz)プラズマの生成

上田邦嗣, 中本善直, MUSIL J, 節原裕一, 有安富雄, 三宅正司

応用物理学関係連合講演会講演予稿集　Vol. 40th　No. Pt 1　1993年
イオンビームミキシングによる酸化物薄膜合成とその特性

節原裕一, 青木啓匡, 大迫一, 三宅正司

溶接学会全国大会講演概要　No. 53　1993年
マイクロ波を利用したセラミックス焼結の研究

節原裕一, 大西亮介, 又吉智也, 三宅正司

溶接学会全国大会講演概要　No. 53　1993年
イオンビームミキシングによるルチル型TiO₂薄膜合成

三宅正司, 節原裕一

熱源センターだより　No. 9　1993年
ミリ波ビームによるアルミナ焼結実験

三宅正司, 節原裕一

熱源センターだより　No. 9　1993年
ECRプラズマCVD法によるa-Si:H薄膜の合成

節原裕一, 三宅正司, CHEN W

プラズマ・核融合学会年会予稿集　Vol. 9th　1992年
FABRY-PEROT干渉計を用いたECRプラズマにおける温度計測(II)

節原裕一, 吉永淳, 有安富雄, 三宅正司, CHEN W

応用物理学関係連合講演会講演予稿集　Vol. 39th　No. Pt 1　1992年
ダイナッミックミキシング法によるTiO₂薄膜の特性 (3)

高野哲太郎, 青木啓匡, 節原裕一, 茶屋原昭義, 佐藤守, 三宅正司

応用物理学関係連合講演会講演予稿集　Vol. 39th　No. Pt 2　1992年
高エネルギー密度ミリ波ビームを用いたセラミックス加熱

三宅正司, 節原裕一

熱源センターだより　No. 8　1992年
FABRY-PEROT干渉計を用いたECRプラズマにおける温度計測

吉永淳, 節原裕一, 有安富雄, 三宅正司, CHEN W

応用物理学会学術講演会講演予稿集　Vol. 52nd　No. 1　1991年
高密度爆縮プラズマにおけるフェルミ縮退の観測

節原裕一, 畦地宏, 宮永憲明, 大脇成晴, 古河裕之, 西原功修, 高木勝, 実野孝久, 中井貞雄

プラズマ・核融合学会年会予稿集　Vol. 8th　1991年
ECRプロセスプラズマ中のイオン種の測定

上田邦嗣, 節原裕一, 三宅正司, CHEN W

応用物理学会学術講演会講演予稿集　Vol. 52nd　No. 1　1991年
ダイナミックミキシング法によるTiO₂薄膜の特性 (2)

高野哲太郎, 節原裕一, 茶屋原昭義, 佐藤守, 三宅正司

応用物理学会学術講演会講演予稿集　Vol. 52nd　No. 2　1991年
高密度圧縮と電子縮退の検証

畦地宏, 節原裕一, 大脇成晴, 宮永憲明, 片山誠, 高木勝, 実野孝久, 西口彰夫, 中井貞雄

日本物理学会講演概要集(分科会)　Vol. 1991　No. Spring Pt 4　1991年
26a-D-6 衝撃波観測によるレーザー照射不均一の熱緩和の計測

加道雅孝, 節原裕一, 中井光男, 片山誠, 西口彰夫, 三間国興, 中井貞雄, T M, 山本英俊, Vick D, 児玉了祐, 塚本雅裕, 田中和夫, 宮永憲明, 望月康史, 畦地宏

春の分科会講演予稿集　Vol. 1991　No. 0　1991年
出版者・発行元：一般社団法人日本物理学会
26a-D-7 SiドープターゲトによるX線先行加熱の計測

山本英俊, 片山誠, 中井光男, 西口彰夫, 三間国興, 中井貞雄, T M, 加道雅孝, Vick D, 児玉了祐, 塚本雅裕, 田中和夫, 宮永憲明, 畦地宏, 節原裕一

春の分科会講演予稿集　Vol. 1991　No. 0　1991年
出版者・発行元：一般社団法人日本物理学会
3a-T-3 2次核融合反応を用いた、高密度爆縮プラズマにおける電子縮退の検証

節原裕一, 畦地宏, 宮永憲明, 大脇成晴, 小林伸次, 片山誠, 高木勝, 実野孝久, 古河裕之, 西原功修, 三間圀興, 中井貞雄

秋の分科会講演予稿集　Vol. 1990　No. 4　p. 188-188　1990年9月12日
出版者・発行元：一般社団法人日本物理学会
ランダム位相光によるプラスチックシェル爆縮

中石博之, 宮永憲明, 畦地宏, 節原裕一, 片山誠, 高木勝, 実野孝久, 西口彰夫, 中井貞雄

レーザー学会学術講演会年次大会講演予稿集　Vol. 10th　1990年
CR‐39のプロトントラック自動解析機について

あぜ地宏, 節原裕一, 山中正宣, 森信俊平

放射線　Vol. 16　No. 1　p. 95-100　1989年8月
レーザーエネルギー応用

三間圀興, 西口彰夫, Norreys P. A, 西村博明, 中石博之, 陳延偉, 節原裕一, 島田義則, 山中千代衛, 宮崎誠, 橋田昌樹, 中井貞雄, 首藤智一, 小坂学, 多田昭史, 阪部周二, 三間圀興, 近藤公伯, 小林尚志, 杉本耕一, 中西淑人, 遠藤琢磨, 山中正宣, 白神宏之, 高部英明, 加藤議章, 児玉了祐, 田中和夫, 中井光男, 加道雅孝, 冨田律也, 乗松好孝, 片山秀史, 実野孝久, 金辺忠, 西原功修, 山中龍彦, 椿原啓, 久保宇市, 真野豊司, 乗松孝好, 加藤義章, 井澤靖和, 足立智, 中塚正大, 仁木秀明, 黄国安, 加藤修司, 岡田芳樹, 里岡栄, 武内一夫, 和田一洋, 荒谷昌輝, 吉田国雄, 畦地宏, 宮永憲明, 高木勝

レーザー研究　Vol. 17　No. 0　p. 127-135,144　1989年
出版者・発行元：一般社団法人レーザー学会
Wolter Type1レプリカX線光学素子の開発

橋本洋, 神垣恵治, 青木貞雄, 節原裕一, あぜ地宏, 山中正宣, 山中龍彦, 井沢靖和, 山中千代衛

精密工学会誌　Vol. 54　No. 2　p. 299-304　1988年2月
出版者・発行元：公益社団法人精密工学会
レーザーエネルギー応用

疇地宏, 宮永憲明, 中石博之, 陳延偉, 節原裕一, 村上匡旦, 山中正宣, 西原功修, 高部英明, 三間圀興, 山中千代衛, 中井貞雄, 中井光男, 島田耕治, 西村博明, 近藤公伯, 白神宏之, 加藤義章, 遠藤琢磨, 中西淑人, 矢部孝, 大山俊之, 横田千秋, 西沢博, 小林雅義, 石井忠浩, 武内一夫, 乗松孝好, 真野豊司, 片山秀史, 児玉了祐, 西野嘉也, 田中和夫, 高木勝, 椿原啓, 久保宇市, 実野孝久, 金辺忠, 横谷篤至, 佐々木孝友, 吉田国雄, 中塚正大, 植田憲一, 宅間宏, 笹川照夫, 川原章裕, 小原實, 北川米喜, 中山師生, 澤井清信, 三問圀興, 畦地宏, 大東延久, 松本孝之, 南畑毅, 奥村夏彦, 宮本照雄, 仁木秀明, 井澤靖和, 仲俊博, 小坂学, 橋田昌樹, 阪部周二, 山中龍彦, 望月孝晏, 多田昭史, 平原猛

レーザー研究　Vol. 16　No. Supplement　p. 101-103,108　1988年
出版者・発行元：一般社団法人レーザー学会
27p-LK-6 磁気熱絶縁型慣性核融合(MICF) : 中性子発生実験(プラズマ物理・核融合(レーザー))

大道博行, 加藤義章, 白神宏之, 遠藤琢磨, 北川米喜, 三浦永祐, 中塚正大, 実野孝久, 山中千代衛, Mグループ, GODグループ, 山中正宜, Tグループ, Cグループ, 長谷川晃, 三間圀興, 西原功修, 宮永憲明, 乗松孝好, 高木勝, 中井貞雄, 節原裕一

年会講演予稿集　Vol. 42　No. 0　p. 138-138　1987年
出版者・発行元：一般社団法人日本物理学会
X線マイクロスコープの開発

節原裕一, あぜ地宏, 山中正宣, 山中竜彦, 井沢靖和, 青木貞雄, 塩沢崇久, 神垣恵治, 橋本洋

電子通信学会技術研究報告　Vol. 86　No. 64　p. 79-84(ED86-26)-84　1986年6月19日
出版者・発行元：一般社団法人映像情報メディア学会

著書 11

Novel Structured Metallic and Inorganic Materials

Yuichi Setsuhara, Toshio Kamiya, Shin-ichi Yamaura

Springer　2019年7月　学術書

ISBN: 9789811376108
Plasma Medical Science

Yuichi Setsuhara, Giichiro Uchida, Kosuke Takenaka

Elsevier　2018年7月　教科書・概説・概論

ISBN: 9780128150047
Comprehensive Materials Processing

Yuichi Setsuhara

Elsevier　2014年6月　学術書

ISBN: 9780080965321
Справочник по технологии наночастиц ( Nanoparticle Technology Handbook )

Yuichi Setsuhara

Научный мир ( Scientific World Publishing House )　2013年5月　学術書

ISBN: 9785915222310
Progress in Advanced Structural and Functional Materials Design

Yuichi Setsuhara

Springer　2013年1月　学術書

ISBN: 9784431540632
Nanoparticle Technology Handbook (Second Edition)

Yuichi Setsuhara

ELSEVIER　2012年5月　学術書

ISBN: 9780444563361
究極のかたちをつくる粉が織り成す次世代モノづくり

内藤牧男, 節原裕一, 大原智, 佐藤和好, 桐原聡秀, 茅原弘毅, 近藤勝義

日刊工業新聞社　2009年5月　学術書

ISBN: 9784526062773
Nanoparticle Technology Handbook

Yuichi Setsuhara

ELSEVIER　2007年11月　学術書

ISBN: 9780444531223
Designing of Interfacial Structures in Advanced Materials and their Joints ed. By M. Naka

Y. Setsuhara, K. Takenaka, A. Ebe, K. Nishisaka

Trans Tech Publications　2007年3月　学術書

ISBN: 9783908451334
ナノパーティクルテクノロジーハンドブック

節原裕一

日刊工業新聞社　2006年4月　学術書

ISBN: 9784526056642
セラミックスの高速焼結技術

分担執筆

（株）ティー・アイ・シィー　1998年10月　学術書

講演・口頭発表等 92

Low-temperature Formation of High-Mobility In GaZnOx Thin-Film Transistors by Plasma-Enhanced Reactive Processes

7th Global Nanotechnology Congress and Expo　2019年12月
Reactive plasma processes for formation of high-mobility IGZO thin-film transistors

21st International Conference on Advanced Energy Materials and Research　2019年7月
Low-temperature formation of high-mobility InGaZnOx thin film transistor by ICP-enhanced reactive plasma processes Yuichi Setsuhara

The 15th International Symposium on Sputtering and Plasma Processes (ISSP2019)　2019年6月
ICP-Enhanced Reactive Plasma Processes for Low-Temperature Formation of High-Mobility Oxide Semiconductor TFT

The 5th Asian Workshop on Applied Plasma Science and Engineering 2019 (APSE2019)　2019年1月
低ダメージ大面積プロセス対応プラズマ生成・制御技術の開発

2018年度フロンティア材料研究所学術賞受賞記念講演会・若手教員講演会　2018年9月
Low-Temperature Formation of High-Mobility IGZO Thin Film Transistor by Advanced Reactive Sputter Deposition Enhanced with ICP

International Conference on Processing & Manufacturing of Advanced Materials Processing, Fabrication, Properties, Applications (THERMEC’2018)　2018年7月
プラズマ支援反応性プロセスを用いた高移動度IGZO薄膜の低温形成

第65回応用物理学会春季学術講演会　2018年3月
Plasma-Enhanced Reactive Processes for Low-Temperature Formation of High-Mobility IGZO Thin Film Transistor and Functional Films for Solar Cells

5th Japan-Korea Joint Symposium on Advanced Solar Cells 2018 and 2nd International Symposium on Energy Research and Application　2018年2月
Low-Temperature Formation of High-Mobility IGZO Thin Film Transistor by Advanced Reactive Sputter Deposition Enhanced with ICP

Frontiers in Materials Processing Applications, Research and Technology　2017年7月
ICP-Enhanced Reactive Sputter Deposition for Low-Temperature Formation of High-Mobility IGZO Thin Films Transistor Yuichi Setsuhara

The 22nd Korea-Japan Workshop on Advanced Plasma Processes and Diagnostics and The 9th Workshop for NU-SKKU Joint Institute for Plasma-Nano Materials　2017年4月
（特別講演）大気圧プラズマの現状と将来展望

日本学術振興会プラズマ材料科学第153委員会プラズマ材料科学スクール　2017年2月
Characterization of atmospheric-pressure plasma jets and interaction with liquid for control of reactive species in plasma-activated aqueous solutions

International Conference on Plasma Medical Science Innovation (ICPMSI) 2017　2017年2月
Plasma-Liquid Interactions with Atmospheric-Pressure Plasma Jets for Controlling Reactive Species in Plasma-Activated Aqueous Solutions

The 3rd International Workshop on Advanced Plasma Technology and Applications　2017年1月
有機材料表面の機能化−有機材料の低ダメージプロセス−

平成28年度(第32回)新材料・新技術利用研究会　2016年9月
高密度プラズマの基礎から応用まで

日本学術振興会透明酸化物光・電子材料第166委員会第72回研究会　2016年7月
セッション３：共同利用・共同研究賞受賞講演司会

第13回産学連携シンポジウム　2016年5月
Spatio-temporal Behaviors of Atmospheric-pressure Dielectric Barrier Discharge Plasma Jets for Reactive Interactions with Materials

9th International Conference on Processing & Manufacturing of Advanced Materials (THERMEC'2016)　2016年5月
Dynamical Behaviors and Plasma-Liquid Interactions of Atmospheric-Pressure Dielectric-Barrier-Discharge Plasma Jets

The 2nd Asian International Workshop on Advanced Plasma Technology and Applications Major Topics: Plasma Technology for Agriculture, Bio and Medicine　2016年2月
Dynamical Characterizations of Atmospheric-Pressure Plasma Jets as Evaluation Protocols for Plasma Medicine

The 21st Korea-Japan Workshop on Advanced Plasma Processes and Diagnostics & The Workshop for NU-SKKU Joint Institute for Plasma-Nano Material　2015年10月
プラズマ医療装置に求められている要素と世界動向

第76回応用物理学会学術講演会　2015年9月
プラズマ支援反応性スパッタ製膜プロセスによるIGZO薄膜デバイス低温形成

第27回酸化物半導体討論会　2015年5月
Spatio-temporal behaviors of atmospheric-pressure discharges

The 20th Workshop on Advanced Plasma Processes and Diagnostics & The 7th Workshop on NU-SKKU Joint Institute for Plasma-Nano Materials　2015年1月
Discharge Characteristics and Dynamics of Atmospheric Pressure Plasmas for Plasma Medicine

19th Korea-Japan Workshop on Advanced Plasma Processes and Diagnostics & 6th Workshop for NU-SKKU Joint Institute for Plasma-Nano Materials　2014年6月
低ダメージプロセスに向けたプラズマ技術−フレキシブルデバイスからプラズマ医療−

日本真空学会スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会（SP部会）第138回定例研究会　2014年6月
RF plasma sources for PECVD and soft-material processes

The International Symposium on Plasma-Nano Materials and Processes　2014年4月
Dynamics and Reactive Particle Generation in Atmospheric-Pressure Discharge as a Basis for Plasma Medicine

18th International Workshop on Advanced Plasma Processing and Diagnostics　2014年2月
Advanced reactive sputter deposition system enhanced with ICPs driven by new type of low-inductance antenna modules

International Conference on Processing & Manufacturing of Advanced Materials (THERMEC'2013)　2013年12月
ソフトマテリアル−プラズマ相互作用と低ダメージプロセス（無機 /有機積層デバイスからプラズマ医療）

日本真空学会11月研究例会・スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会（SP部会）第135回定例研究会　2013年11月
Characterization of Atmospheric-Pressure Discharge and its Interaction with Soft Materials as a Basis for Plasma Medicine

International Conference on Surface Engineering (ICSE 2013)　2013年11月
Development of advanced ICP-enhanced reactive sputter deposition technologies for flexible devices

The workshop of the Joint Institute for Plasma Nano Materials (IPNM)　2013年10月
プラズマが拓く未来社会 −先端的ものづくりから先進医療まで −

平成25年度三津田学問探訪（広島県立呉三津田高等学校)　2013年9月
医療プラズマ源の創成に向けたプラズマ−生体分子相互作用の究明と放電制御

新学術領域研究「プラズマ医療科学の創成」第2回公開シンポジウム　2013年9月
Plasma Interactions with Soft Materials in Air and Liquid

3rd International Symposium for Plasma Biosciences (ISPB2013-3)　2013年6月
Plasma Interactions with Soft Materials in Air and Liquid

The 17th Korea-Japan Workshop on Advanced Plasma Process and Diagnostics & 4th Workshop for NU-SKKU Joint Institute for Plasma-Nano Materials Abstract　2013年5月
Characteristics of Atmospheric Pressure Discharge and Interactions with Soft Materials

The 16th International Workshop on Advanced Plasma Processing and Diagnostics　2013年1月
高度時空間制御による生体適合放電生成の基盤確立と革新的医療プラズマ源の創成

新学術領域研究「プラズマ医療科学の創成」第1回公開シンポジウム　2012年9月
Plasma Interactions with Soft-Materials as a Basis of Fundamental Processes for Plasma Medicine

The 2nd International Symposium for Plasma Biosciences　2012年8月
Plasma Interactions with Soft Materials as a Basis for Plasma Medicine

International Workshop on Advanced Plasma Technology for Green Energy and Biomedical Applications (APT2012)　2012年8月
Plasma-Enhanced Reactive Sputter Deposition with Low-Inductance Antenna for Low-Temperature Fabrication of Flexible Photovoltaic Devices

The 6th International Conference on Technological Advances of Thin Films & Surface Coatings　2012年7月
Process Control Capabilities of ICP-Enhanced Sputter Discharge for Reactive Large-Area Deposition of Functional Films

The 15th Korea-Japan Workshop for Advanced Plasma Process and Diagnostics　2012年6月
Formation of 10-nm Organic Pillars by Plasma Etch with Pt particles masks

The 15th Korea-Japan Workshop for Advanced Plasma Process and Diagnostics　2012年6月
ICP-Assisted Reactive Sputter-Deposition with Inner-Type Low-Inductance Antenna (LIA)

The 14th International Workshop on Advanced Plasma Processing andDiagnostics, The 2nd Workshop for NU-SKKU Joint Institute for Plasma-NanoMaterials　2012年1月
Plasma-Assisted Deposition of Functional Thin Films and Process Analyses for Development of Flexible Electronics

IUMRS-ICA 2011 12th International Conference in Asia　2011年9月
Development of Plasma-Enhanced Reactive Large-Area Processes

Advanced Plasma Technology for Green Energy and Biomedical Apllications　2011年8月
Development of Inner-Type ICPs for Reactive Large-Area Processes

The 13th International Workshop on Advanced Plasma Processing and Diagnostics　2011年7月
Development of ICP-assisted sputter process for large-area production of thin-film solar cells

2011 International Workshop on Environment and Resources　2011年6月
Combinatorial Plasma-Process Analyses for Advanced Inorganic/Organic Device Formation

6th China International Conference on Surface Engineering (ICSE) 2011　2011年5月
Materials joining technologies and interface science for integration of novel structured metallic and inorganic materials

Visual-JW2010　2010年11月
Plasma Processing of Soft Materials for Development of Flexible Electronics

10th Asia Pacific Conference on Plasma Science and Technology (APCPST) and 23rd Symposium on Plasma Science for Materials(SPSM)　2010年7月
Soft Plasma Processing Science for Flexible Electronics

The 11th International Workshop on Advanced Plasma Processing and Diagnostics　2010年7月
Advanced plasma technology for large area deposition

2010 International Workshop on Environment and Resources　2010年5月
Soft Materials Processing Technologies for Flexible Electronics

The 10th International Workshop of Advanced Plasma Processing and Diagnostics　2010年1月
Production and Control of Inductively-Coupled Plasmas with Multiple Low-Inductance Antenna Modules for Large-Area and Low-Damage Processes of Next-Generation Devices

JSPS-KOSEF Asian Core Program The Fifth Japan-Korea Workshop on Metallic Glasses　2009年10月
Low-Damage and Large-Area Plasma Processing of Organic-Inorganic Hybrid Materials for Development of Flexible Devices

7th Asian-European International Conference on Plasma Surface Engineering (AEPSE 2009)　2009年9月
Advanced Research and Development for Plasma Processing of Polymers with Combinatorial Plasma-Process Analyzer

The 2nd International Conference on Microelectronics and Plasma Technology (ICMAP 2009)　2009年9月
Low-Damage Plasma Processing of Thin Films on Polymers For Flexible Device Fabrications

International Conference on PROCESSING & MANUFACTURING OF ADVANCED MATERIALS　2009年8月
Analyses of Plasma-Materials Interactions for Development of Advanced Devices

The 7th Korea-Japan Workshop on Thin Film and Plasma Process for Green Technology Advanced Plasma Diagnostics for Plasma-Nano Processing　2009年7月
Low Energetic Ion Bombardment on Polymer Surfaces

The 8th International Workshop of Advanced Plasma Processing and Diagnostics　2009年1月
Combinatorial Plasma-Process Analyzer for Development of Plasma Nano-Fabrication Processes

The 2nd International Conference on Plasma Nano Technology & Science(IC-PLANTS 2009)　2009年1月
Low-Damage Processing of Polymers with Reactive High-Density Plasmas Driven by Multiple Low-Inductance Antenna Modules

The Eleventh International Conference on Plasma Surface Engineering(PSE2008)　2008年9月
Development of Combinatorial Plasma Process Analyzer for Advanced Materials Processing

ICPP2008 Satellite Meeting on Plasma Physics and Advanced Applications in ASO　2008年9月
Nano-Surface Processing of Polymers with Low-Damage Reactive High-Density Plasmas for Flexible Electronics

The 7th Korea-Japan Workshop on Plasma Technology　2008年7月
Low-Temperature and Nano-Surface Modification of Materials with Low-Damage Plasma and Femtosecond Laser-Induced Processes

Interfinish 2008 17th World Interfinish Congress and Exposition　2008年6月
Synthesis of poly-Si thin film by large area ICP plasma processing

Workshop on Thin Film Solar Cells and Fuel Cells　2008年4月
マルチアンテナ型RFプラズマによるメートル級大面積での低ダメージプロセスと制御

（社）日本機械学会関東支部第14期総会講演会基調講演　2008年3月
Low-Temperature and Nano-Surface Materials Modification with Low-Damage Plasma and Laser-Induced Phonon Excitation Processes

The 6th International Workshop on Advanced Plasma Processing and Diagnostics & The 3rd Plasma Application Monodzukuri (PLAM)　2008年1月
プラズマ生成の原理と実際

（社）表面技術協会第21回「ナノテク部会」研究会　2007年11月
Low-Temperature and Nano-Surface Modification of Materials with Low-Damage Plasma and Photon-Induced Phonon Excitation Processes

The international workshop on advanced thin films and surface technology　2007年11月
Large-area Low-damage Plasma Sources Driven by Multiple Low-inductance-antenna Modules for Next-generation Flat-panel and Polymer Processes

The Sixth Asian-European International Conference on Plasma Surface Engineering　2007年9月
Plasma sources for advanced processing

10th Latin American Course on Plasma Processing　2007年8月
Control Capabilities of Inductively-Coupled RF Plasmas Driven by Multiple Low-Inductance Antenna Modules for Low-Damage Large-Area Processing - Ion Energy Distributions and Spatio-Temporal Profiles -

The 5th International Symposium on Advanced Plasma Processes and Diagnostics & The 1st International Symposium on Flexible Electronics Technology　2007年4月
高密度・大面積プラズマを用いた炭素系薄膜形成技術の開発

財団法人神奈川科学技術アカデミー分科会講演会　2007年3月
Ion Energy Distributions and Large-Area Deposition of Thin Films Employing ICP Plasmas with Multiple Low-Inductance Antenna Modules

The 4th Int. Workshop on Adv. Plasma Processing and Diagnostics & Thin Film Technology for Electronic Materials　2006年12月
Large-Area Plasma Sources with Multiple Low-Inductance Antenna Modules for Next-Generation Low-Damage Flat-Panel Display Processing

The 6th Korea-Japan Symposium on Plasma and Thin Film Technology　2006年10月
Development of Internal-Antenna-Driven RF Plasma Sources for Ultra-Large-Area Deposition of Carbon-Related Films

11th Int. Conf. s on Modern Materials and Technologies　2006年6月
Novel ICP Plasma Source for Large Area CVD Processing

The 3rd Int. Workshop on Adv. Plasma Processing and Diagnostics　2006年4月
Development of large area plasma based on plasma science and its application to μ-cSi formation

The 2nd Korea-Japan Workshop on Advanced Plasma Processing and Diagnostics　2005年12月
Profile-Controlled Ultra-Large-Area Plasma Source for Meters Scale Processing by Independently-Operated Multiple Low-Inductance Antenna Units

5th Asian-European Int. Conf. Plasma Surface Eng.　2005年9月
PLASMA SOURCES FOR ADVANCED PROCESSING

The 8th Latin American Course on Plasma Processing of Materials　2005年8月
Large area high-density plasma source for high rate deposition of micro-crystalline Si film

Korea-Japan Workshop on Advanced Plasma Processing and Diagnostics　2005年4月
次世代メートル級大面積プロセスプラズマ源の開発

第46回（平成16年度第2回）表面改質技術研究委員会　2004年10月
低インダクタンス内部アンテナを用いた次世代メートル級大面積プラズマ源の開発

平成16年度第2回表面物性研究会　2004年10月
プラズマイオンプロセスを用いた表面改質

第42回プラズマ若手夏の学校　2003年8月
高密度プラズマを用いたイオン化スパッタプロセスによる機能性薄膜形成技術の課題と展望

名古屋大学２１世紀ＣＯＥシンポジウム「プラズマが拓くナノ情報デバイスの世界的拠点形成に向けて」　2003年3月
超短パルスレーザー照射による次世代半導体接合形成

第３回フェムト秒超加工研究会　2002年11月
低温結晶化のための低ポテンシャル高密度プラズマおよびフォノン励起プロセスの開発

平成14年度東北大学電気通信研究所共同プロジェクト研究会　2002年10月
低インダクタンス型マルチ内部アンテナを用いた大面積ＲＦ誘導結合プラズマ源の開発

応用物理学会九州支部講演会　2002年6月
低インダクタンスマルチアンテナユニットを用いた大面積高密度ＲＦプラズマ源の開発

東北大学流体科学研究所・特別講演会　2002年6月
波動励起による反応性高密度プラズマ生成とスパッタ成膜への応用

第９回日本表面科学会関西支部セミナー　2001年10月
非平衡材料プロセスを用いた超硬質窒化物薄膜合成

日本真空協会関西支部平成12年度第１回研究例会　2000年10月
イオン・プラズマプロセスを用いたＢＣＮ系超硬質窒化物薄膜合成

応用物理学会関西支部セミナー　2000年3月
イオンビーム支援蒸着法による(Ti,Al)系薄膜の構造制御

日本真空協会関西支部平成6年度第１回研究例会　1994年10月

特許・実用新案・意匠 179

樹脂材と金属材との接合体およびその製造方法

内田儀一郎, 節原裕一, 竹中弘祐

特許第7239134号

出願日:2018/05/18

登録日:2023/03/06
プラズマ生成装置及びこれを用いたプラズマ生成方法

節原裕一, 内田儀一郎, 竹中弘祐

特許第6991543号

出願日:2017/03/30

登録日:2021/12/10
Thin film-forming sputtering systems

Yuichi Setsuhara, Akinori Ebe, Jeon Geon Han

特許番号 EP 2345750 B1 (欧州)

出願日:2009/08/25

登録日:2019/01/02
Sputtering thin film forming apparatus

Yuichi Setsuhara, Akinori Ebe

特許番号 CN 103764868 B (中国)

出願日:2011/08/30

登録日:2017/10/24
Plasma processing apparatus

Yuichi Setsuhara, Eiichi Nishimura, Akinori Ebe

特許番号 KR 10-1743306 B1 (韓国)

出願日:2010/03/10

登録日:2017/05/29
Plasma processing apparatus

Yuichi Setsuhara, Akinori Ebe

特許番号 KR 10-1725564 B1 (韓国)

出願日:2010/03/10

登録日:2017/04/05
Plasma processing device

Yuichi Setsuhara, Akinori Ebe

特許番号 TW I559819 B (台湾)

出願日:2011/09/09

登録日:2016/11/21
An antenna for a plasma processing apparatus, and a plasma processing apparatus using the same

Yuichi Setsuhara, Akinori Ebe

特許番号 TW I556690 B (台湾)

出願日:2011/08/30

登録日:2016/11/01
Sputtering film forming device

Yuichi Setsuhara, Akinori Ebe

特許番号 TW I553138 B (台湾)

出願日:2011/08/30

登録日:2016/10/11
High frequency antenna unit and plasma processing apparatus

Yuichi Setsuhara, Akinori Ebe

特許番号 CN 101971715 B (中国)

出願日:2009/03/03

登録日:2016/09/28
Plasma treatment device

Yuichi Setsuhara, Akinori Ebe

特許番号 CN 103155103 B (中国)

出願日:2011/08/02

登録日:2016/06/18
Plasma processing device

Yuichi Setsuhara, Eiichi Nishisaka, Akinori Ebe

特許番号 TW I536872 B (台湾)

出願日:2010/03/11

登録日:2016/06/01
High frequency antenna unit and plasma processing apparatus

Yuichi Setsuhara, Akinori Ebe

特許番号 KR 10-1594636 B1 (韓国)

出願日:2009/03/03

登録日:2016/02/05
Plasma processing device

Yuichi Setsuhara, Akinori Ebe

特許番号 TW I515760 B (台湾)

出願日:2011/08/02

登録日:2016/01/01
Plasma processing apparatus

Yuichi Setsuhara, Akinori Ebe

特許番号 CN 103202105 B (中国)

出願日:2011/09/09

登録日:2015/11/25
Thin-film forming sputtering system

Yuichi Setsuhara, Akinori Ebe, Jeon Geon Han

特許番号 CN 102144044 B (中国)

出願日:2009/08/25

登録日:2015/11/25
Plasma processing apparatus

Yuichi Setsuhara, Akinori Ebe

特許番号 KR 10-1570277 B1 (韓国)

出願日:2011/09/09

登録日:2015/11/12
Plasma treatment device

Yuichi Setsuhara, Akinori Ebe

特許番号 KR 10-1523893 B1 (韓国)

出願日:2011/08/02

登録日:2015/11/12
Sputtering apparatus for forming a thin film

Yuichi Setsuhara, Akinori Ebe

特許番号 TW I495743 B (台湾)

出願日:2009/08/28

登録日:2015/08/11
High frequency antenna unit and plasma processing device

Yuichi Setsuhara, Akinori Ebe

特許番号 TW I494031 B (台湾)

出願日:2009/03/04

登録日:2015/07/21
Radio-frequency antenna unit and plasma processing apparatus

Yuichi Setsuhara, Akinori Ebe

特許番号 PCT/JP2009/000956 (米国)

出願日:2009/03/03

登録日:2015/07/07
イオン源

節原裕一, 石川健治, 堀勝, 江部明憲, 田昭治

特許第5754579号

出願日:2010/08/06

登録日:2015/06/05
プラズマ処理装置

節原裕一, 江部明憲

特許第5735232号

出願日:2010/08/02

登録日:2015/04/24
Plasma processing apparatus

Yuichi Setsuhara, Eiichi Nishimura, Akinori Ebe

特許番号 EP 2408275 B1 (欧州)

出願日:2010/03/10

登録日:2015/03/11
Plasma processing apparatus

Yuichi Setsuhara, Eiichi Nishimura, Akinori Ebe

特許番号 CN 102349357 B (中国)

出願日:2010/03/10

登録日:2015/03/11
スパッタリング薄膜形成装置

節原裕一, 江部明憲, ハンジェオング

特許第5702143号

出願日:2009/08/25

登録日:2015/02/27
Plasma processing apparatus

Yuichi Setsuhara, Akinori Ebe

特許番号 CN 102349356 B (中国)

出願日:2010/03/10

登録日:2015/01/28
プラズマ処理装置用アンテナ及び該アンテナを用いたプラズマ処理装置

節原裕一

特許第5684483号

出願日:2010/02/26

登録日:2015/01/23
Plasma processing apparatus

Yuichi Setsuhara, Akinori Ebe, Eiji Ino, Shinichiro Ishihara, Hajime Ashida, Akira Watanabe

特許番号 US 8,931,433 B2 (米国)

出願日:2008/11/12

登録日:2015/01/13
THIN-FILM FORMING SPUTTERING SYSTEM

Yuichi Setsuhara, Akinori Ebe, Jeon Geon Han

特許番号 US 8,916,034 B2 (米国)

出願日:2009/08/25

登録日:2014/12/23
Plasma generation device, plasma control method, and substrate manufacturing method

Shoji Miyake, Akinori Ebe, Tatsuo Shoji, Yuichi Setsuhara

特許番号 EP 1575343 B1 (欧州)

出願日:2003/12/12

登録日:2014/12/11
Plasma processing device

Yuichi Setsuhara,他

特許番号 TW I463923 B (台湾)

出願日:2008/11/13

登録日:2014/12/01
プラズマ処理装置

節原裕一, 江部明憲

特許第5635367号

出願日:2010/10/29

登録日:2014/10/24
Plasma generator, plasma control method and method of producing substrate

Shoji Miyake, Akinori Ebe, Tatsuo Shoji, Yuichi Setsuhara

特許番号 EP 2259663 B1 (欧州)

出願日:2003/12/12

登録日:2014/10/01
Plasma generator

Yuichi Setsuhara, Tatsuo Shoji, Masayoshi Kamai

特許番号 EP 2565903 B1 (欧州)

出願日:2004/01/15

登録日:2014/09/10
Plasma processing device

Yuichi Setsuhara, Akinori Ebe

特許番号 TW I450644 B (台湾)

出願日:2008/11/13

登録日:2014/08/21
選択成膜方法、成膜装置、及び構造体

白谷正治, 古閑一憲, 堀勝, 関根誠, 節原裕一

特許第5594773号

出願日:2010/09/30

登録日:2014/08/15
Plasma generation device

Yuichi Setsuhara, Tatsuo Shoji, Masayoshi Kamai

特許番号 EP 1589793 B1 (欧州)

出願日:2004/01/15

登録日:2014/06/04
スパッタリング薄膜形成装置

節原裕一, 江部明憲

特許第5475506号

出願日:2010/02/26

登録日:2014/02/14
プラズマ処理装置

節原裕一, 江部明憲

特許第5462369号

出願日:2013/03

登録日:2014/01/24
Plasma processing apparatus

Yuichi Setsuhara, Akinori Ebe

特許番号 TW I418263 B (台湾)

出願日:2010/03/11

登録日:2013/12/01
プラズマ処理装置

節原裕一

特許第5400434号

出願日:2009/03/11

登録日:2013/11/01
Plasma processing apparatus

Yuichi Setsuhara, Akinori Ebe, Eiji Ino, Shinichiro Ishihara, Hajime Ashida, Akira Watanabe

特許番号 CN 101855707 B (中国)

出願日:2008/11/12

登録日:2013/09/25
Plasma generator, plasma control method and method of producing substrate

Shoji Miyake, Akinori Ebe, Tatsuo Shoji, Yuichi Setsuhara

特許番号 US 8,444,806 B2 (米国)

出願日:2010/07/14

登録日:2013/05/21
Plasma generation device, plasma control method and substrate manufacturing method

Shoji Miyake, Akinori Ebe, Tatsuo Shoji, Yuichi Setsuhara

特許番号 TW I391035 B (台湾)

出願日:2003/12/11

登録日:2013/03/21
プラズマ生成方法及び装置並びにプラズマ処理装置

節原裕一、他

特許第5162108号

出願日:2006/06/29

登録日:2012/12/21
プラズマ処理装置

節原裕一, 江部明憲

特許第5138342号

出願日:2007/11/14

登録日:2012/11/22
Plasma generating method, plasma generating apparatus, and plasma processing apparatus

Yuichi Setsuhara,他

特許番号 TW I377877 B (台湾)

出願日:2007/02/16

登録日:2012/11/21
Plasma generation device, plasma control method, and substrate manufacturing method

Shoji Miyake, Akinori Ebe, Tatsuo Shoji, Yuichi Setsuhara

特許番号 KR 10-1199995 B1 (韓国)

出願日:2003/12/12

登録日:2012/11/05
Plasma generation device, plasma control method, and substrate manufacturing method

Shoji Miyake, Akinori Ebe, Tatsuo Shoji, Yuichi Setsuhara

特許番号 KR 10-1199994 B1 (韓国)

出願日:2003/12/12

登録日:2012/11/05
半導体物質の表面改質方法、半導体装置の製造方法

節原裕一

特許第5095073号

出願日:2004/04/28

登録日:2012/09/28
Plasma generation device, plasma control method, and substrate manufacturing method

Shoji Miyake, Akinori Ebe, Tatsuo Shoji, Yuichi Setsuhara

特許番号 KR 10-1186822 B1 (韓国)

出願日:2003/12/12

登録日:2012/09/28
Plasma generation device, plasma control method and substrate manufacturing method

Akinori Ebe, Shoji Miyake, Tatsuo Shoji, Yuichi Setsuhara

特許番号 TW I368463 B (台湾)

出願日:2003/12/11

登録日:2012/07/11
Plasma generation device, plasma control method and substrate manufacturing method

Akinori Ebe, Shoji Miyake, Tatsuo Shoji, Yuichi Setsuhara

特許番号 TW I362901 B (台湾)

出願日:2003/12/11

登録日:2012/04/21
Plasma generation device, plasma control method, and substrate manufacturing method

Shoji Miyake, Akinori Ebe, Tatsuo Shoji, Yuichi Setsuhara

特許番号 CN 101128083 B (中国)

出願日:2003/12/12

登録日:2012/04/11
Plasma generation device, plasma control method, and substrate manufacturing method

Shoji Miyake, Akinori Ebe, Tatsuo Shoji, Yuichi Setsuhara

特許番号 CN 101128084 B (中国)

出願日:2003/12/12

登録日:2011/12/14
シリコンドット形成方法及びシリコンドット形成装置

高橋英治, 三上隆司, 岸田茂明, 加藤健治, 東名敦志, 林司, 緒方潔, 節原裕一

特許第4879959号

出願日:2008/12/04

登録日:2011/12/09
Plasma generation device, plasma control method, and substrate manufacturing method

Shoji Miyake, Akinori Ebe, Tatsuo Shoji, Yuichi Setsuhara

特許番号 KR 10-1090726 B1 (韓国)

出願日:2003/12/12

登録日:2011/12/01
緻密な硬質薄膜の形成装置及び硬質薄膜の形成方法

阿川義昭, 内藤哲郎, 節原裕一, 坂和洋一

特許第4871442号

出願日:2000/09/12

登録日:2011/11/25
シリコンドット形成方法及びシリコンドット形成装置

高橋英治, 三上隆司, 岸田茂明, 加藤健治, 東名敦志, 林司, 緒方潔, 節原裕一

特許第4864071号

出願日:2008/12/04

登録日:2011/11/18
高周波電力供給装置およびプラズマ発生装置

節原裕一

特許第4852140号

出願日:2009/12/28

登録日:2011/10/28
シリコンドット形成装置

高橋英治, 三上隆司, 岸田茂明, 加藤健治, 東名敦志, 林司, 緒方潔, 節原裕一

特許第4800374号

出願日:2008/12/04

登録日:2011/08/12
シリコンドット形成方法及びシリコンドット形成装置

高橋英治, 三上隆司, 岸田茂明, 加藤健治, 東名敦志, 林司, 緒方潔, 節原裕一

特許第4800375号

出願日:2008/12/04

登録日:2011/08/12
Silicon dot forming method and silicon dot forming apparatus

Yuichi Setsuhara,他

特許番号 US 7,988,835 B2 (米国)

出願日:2006/09/12

登録日:2011/08/02
Plasma producing method and apparatus as well as plasma processing apparatus

Yuichi Setsuhara,他

特許番号 TW I338538 B (台湾)

出願日:2006/10/18

登録日:2011/03/01
高密度へリコンプラズマを利用した緻密な硬質薄膜の形成装置及び形成方法

節原裕一, 阿川義昭, 大庭昌俊, 伊藤光貴

特許第4677123号

出願日:2001/05/31

登録日:2011/02/04
Plasma producing method and apparatus as well as plasma processing apparatus

Yuichi Setsuhara,他

特許番号 US 7,880,392 B2 (米国)

出願日:2006/10/26

登録日:2011/02/01
プラズマ処理装置

節原裕一, 江部明憲

特許第4621287号

出願日:2009/03/11

登録日:2010/11/05
Plasma generator, plasma control method, and method of producing substrate

Shoji Miyake, Akinori Ebe, Tatsuo Shoji, Yuichi Setsuhara

特許番号 US 7,785,441 B2 (米国)

出願日:2003/12/12

登録日:2010/08/31
不純物活性化方法、半導体装置の製造方法

節原裕一

特許第5302937号

出願日:2010/07/20

登録日:2010/07/20
Plasma producing method and apparatus as well as plasma processing apparatus

Yuichi Setsuhara,他

特許番号 TW I324027 B (台湾)

出願日:2006/10/18

登録日:2010/04/21
Plasma producing method and apparatus as well as plasma processing apparatus

Yuichi Setsuhara,他

特許番号 TW I324026 B (台湾)

出願日:2006/10/18

登録日:2010/04/21
プラズマ発生装置

節原裕一

特許第4451392号

出願日:2004/01/15

登録日:2010/02/05
Plasma generating device, plasma control method, and substrate manufacturing method

Shoji Miyake, Akinori Ebe, Tatsuo Shoji, Yuichi Setsuhara

特許番号 CN 100546005 C (中国)

出願日:2003/12/12

登録日:2009/09/30
HIGH FREQUENCY POWER SUPPLY DEVICE AND PLASMA GENERATOR

Yuichi Setsuhara, Tatsuo Shoji, Masayoshi Kamai

特許番号 US 7,567,037 B2 (米国)

出願日:2004/01/15

登録日:2009/07/28
Plasma generator

Shoji Miyake, Tatsuo Shoji, Yuichi Setsuhara

特許番号 CA 2432068 C (Canada)

出願日:2000/12/27

登録日:2008/10/07
Plasma generation device, plasma control method, and substrate manufacturing method

Shoji Miyake, Akinori Ebe, Tatsuo Shoji, Yuichi Setsuhara

特許番号 CN 100413382 C(中国)

出願日:2003/12/12

登録日:2008/08/20
Plasma producing method and apparatus as well as plasma processing apparatus

Yuichi Setsuhara,他

特許番号 KR 10-0812746 B1 (韓国)

出願日:2006/10/26

登録日:2008/03/05
High frequency power supply device and plasma generator

Yuichi Setsuhara, Tatsuo Shoji, Masayoshi Kamai

特許番号 KR 10-0783983 B1 (韓国)

出願日:2004/01/15

登録日:2007/12/03
プラズマ処理装置

節原裕一, 江部明憲, 井野英二, 石原伸一郎, 芦田肇, 渡邉亮

特許第5329796号

出願日:2007/11/14

登録日:2007/11/14
Plasma producing method and apparatus as well as plasma processing apparatus

Yuichi Setsuhara,他

特許番号 KR 10-0773591 B1 (韓国)

出願日:2006/10/26

登録日:2007/10/30
プラズマ生成装置

庄司多津男, 節原裕一, 江部明憲, 三宅正司

特許第3920209号

出願日:2002/12/16

登録日:2007/02/23
RF power supply and plasma source apparatus

Yuichi Setsuhara, Tatsuo Shoji, Masayoshi Kamai

特許番号 TW I266361 B (台湾)

出願日:2004/01/16

登録日:2006/11/11
Plasma generator

Shoji Miyake, Tatsuo Shoji, Yuichi Setsuhara

特許番号 US 7,098,599 B2 (米国)

出願日:2000/12/27

登録日:2006/08/29
プラズマ発生装置

三宅正司, 庄司多津男, 節原裕一

特許第3836866号

出願日:2005/09/05

登録日:2006/08/04
プラズマ発生装置

三宅正司, 庄司多津男, 節原裕一

特許第3836636号

出願日:1999/07/27

登録日:2006/08/04
プラズマ装置及びプラズマ処理基体

三宅正司, 江部明憲, 庄司多津男, 節原裕一

特許第3751909号

出願日:2002/07/01

登録日:2005/12/16
プラズマ生成装置

節原裕一, 庄司多津男, 江部明憲, 三宅正司

特許第3618333号

出願日:2002/12/16

登録日:2004/11/19
高周波アンテナユニット及びプラズマ処理装置

節原裕一, 江部明憲

特許第5749769号

出願日:2013/07/26
プラズマ処理装置

江部明憲, 節原裕一

出願日:2011/02/15
弾性表面波霧化装置

石上陽平, 岡野正紀, 節原裕一

出願日:2011/01/21
プラズマ処理装置

節原裕一, 江部明憲

出願日:2011/09/09
プラズマ処理装置

節原裕一, 江部明憲

出願日:2010/10/29
プラズマ処理装置

節原裕一, 西村栄一, 江部明憲
プラズマ生成方法及びプラズマ生成装置並びにプラズマ処理装置

節原裕一

出願日:2005/10
プラズマ生成方法及びプラズマ生成装置並びにプラズマ処理装置

節原裕一

出願日:2005/10
プラズマ生成方法及び装置並びにプラズマ処理装置

節原裕一

出願日:2005/10
プラズマ生成方法及び装置並びにプラズマ処理装置

節原裕一

出願日:2005/10
プラズマ生成方法及び装置並びにプラズマ処理装置

加藤健治, 出口洋成, 米田均, 久保田清, 江部明憲, 節原裕一
緻密な硬質薄膜の形成装置及び硬質薄膜の形成方法

阿川義昭, 内藤哲郎, 節原裕一, 坂和洋一

出願日:2000/09
プラズマ発生装置並びにこの装置を利用した緻密な硬質薄膜の形成装置及び硬質薄膜の形成方法

阿川義昭, 内藤哲郎, 節原裕一, 坂和洋一

特開2002-85963

出願日:2000/09
Thin film-forming sputtering device

Yuichi Setsuhara, Akinori Ebe, Jeon Geon Han

出願日:2016/07/21
Plasma processing device

Yuichi Setsuhara, Akinori Ebe

出願日:2013/08/29
高周波アンテナユニット及びプラズマ処理装置

節原裕一, 江部明憲

出願日:2013/07/26
Plasma processing apparatus

Yuichi Setsuhara, Akinori Ebe

出願日:2011/09/09
PLASMA PROCESSING APPARATUS

Yuichi Setsuhara, Akinori Ebe

出願日:2011/09/09
Sputtering thin film forming apparatus

Yuichi Setsuhara, Akinori Ebe

出願日:2011/08/30
Sputtering thin film forming apparatus

Yuichi Setsuhara, Akinori Ebe

出願日:2011/08/30
Sputtering thin film forming apparatus

Yuichi Setsuhara, Akinori Ebe

出願日:2011/08/30
Sputtering thin film forming apparatus

Yuichi Setsuhara, Akinori Ebe

出願日:2011/08/30
Thin-film formation sputtering device

Yuichi Setsuhara, Akinori Ebe

出願日:2011/08/30
Sputtering thin film forming apparatus

Yuichi Setsuhara, Akinori Ebe

出願日:2011/08/30
Plasma processing device

Yuichi Setsuhara, Akinori Ebe

出願日:2011/08/02
Plasma processing device

Yuichi Setsuhara, Akinori Ebe

出願日:2011/08/02
Plasma treatment device

Yuichi Setsuhara, Akinori Ebe

特許番号 KR 10-1454132 B1 (韓国)

出願日:2011/08/02
Plasma treatment device

Yuichi Setsuhara, Akinori Ebe

出願日:2011/08/02
Thin-film solar cell and semiconductor device

Yuichi Setsuhara, Akinori Ebe

出願日:2011/08/02
プラズマ処理装置

節原裕一

出願日:2011/08
薄膜太陽電池及び半導体デバイス

節原裕一

出願日:2011/08
プラズマ処理装置

江部明憲, 節原裕一

出願日:2011/02/15
弾性表面波霧化装置

石上陽平, 岡野正紀, 節原裕一

出願日:2011/01/21
選択成膜方法、成膜装置、及び構造体

節原裕一

出願日:2010/09
プラズマ処理装置

節原裕一

出願日:2010/09
プラズマ装置

節原裕一他

出願日:2010/08/24
薄膜太陽電池及び半導体デバイス

節原裕一, 江部明憲

出願日:2010/08/02
イオン源

節原裕一

出願日:2010/08
不純物活性化方法、半導体装置の製造方法

節原裕一

出願日:2010/07
Plasma processing apparatus

Yuichi Setsuhara, Eiichi Nishimura, Akinori Ebe

出願日:2010/03/10
Plasma processing apparatus

Yuichi Setsuhara, Akinori Ebe

出願日:2010/03/10
Plasma processing apparatus

Yuichi Setsuhara, Akinori Ebe

出願日:2010/03/10
Plasma processing apparatus

Yuichi Setsuhara, Akinori Ebe

出願日:2010/03/10
Plasma processing apparatus

Yuichi Setsuhara, Eiichi Nishimura, Akinori Ebe

出願日:2010/03/10
プラズマ処理装置

節原裕一

出願日:2010/03
プラズマ処理装置

節原裕一

出願日:2010/03
シリコン薄膜形成装置

節原裕一

出願日:2010/02
THIN FILM-FORMING SPUTTERING DEVICE

Yuichi Setsuhara, Akinori Ebe, Jeon Geon Han

出願日:2009/08/25
スパッタリング薄膜形成装置

節原裕一

出願日:2009/08
SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD

節原裕一

出願日:2009/05
High frequency antenna unit and plasma processing apparatus

Yuichi Setsuhara, Akinori Ebe

出願日:2009/03/03
高周波アンテナ及びプラズマ処理装置

節原裕一

出願日:2009/03
コンビナトリアル式プラズマプロセス試験方法及び傾斜プラズマ発生装置

節原裕一

出願日:2009/03
プラズマ処理装置

節原裕一

出願日:2009/03
基板処理装置及び基板処理方法

節原裕一, 他

出願日:2009/02/17
Plasma processing apparatus

Yuichi Setsuhara, Akinori Ebe, Eiji Ino, Shinichiro Ishihara, Hajime Ashida, Akira Watanabe

出願日:2008/11/12
Plasma processing apparatus

Yuichi Setsuhara, Akinori Ebe, Eiji Ino, Shinichiro Ishihara, Hajime Ashida, Akira Watanabe

出願日:2008/11/12
プラズマ処理装置

節原裕一

出願日:2008/11
プラズマ処理装置

節原裕一

出願日:2008/11
プラズマ処理装置

節原裕一

出願日:2008/11
スパッタリング薄膜形成装置

節原裕一, 江部明憲, Han Jeon Geon

出願日:2008/08/28
薄膜製造装置、太陽電池製造装置、薄膜製造方法及び太陽電池製造方法

節原裕一, 井野英二, 石原俊一, 渡邉亮

出願日:2008/05/09
薄膜製造装置、薄膜製造方法、薄膜太陽電池製造装置及び薄膜太陽電池製造方法

節原裕一, 井野英二, 石原俊一, 渡邉亮

出願日:2008/04/28
薄膜製造装置及び薄膜太陽電池製造装置

節原裕一, 井野英二, 石原俊一, 渡邉亮

出願日:2008/04/28
コンビナトリアル式プラズマプロセス試験方法及び傾斜プラズマ発生装置

堀勝, 関根誠, 節原裕一, 白谷正治

出願日:2008/03/26
コンビナトリアル式プラズマ試験方法及び傾斜プラズマ発生装置

堀勝, 関根誠, 節原裕一, 白谷正治

出願日:2008/03
高周波アンテナユニット及びプラズマ処理装置

節原裕一, 江部明憲

出願日:2008/03
高周波電力供給装置及びプラズマ発生装置

節原裕一, 庄司多津男, 釜井正善

出願日:2007/12
プラズマ処理装置

節原裕一, 江部明憲

出願日:2007/11
プラズマ処理装置

節原裕一, 江部明憲, 井野英二, 石原伸一郎, 芦田肇, 渡邉亮

出願日:2007/11
プラズマ生成方法及びプラズマ生成装置並びにプラズマ処理装置

出口洋成, 加藤健治, 米田均, 江部明憲, 節原裕一

出願日:2006/02/20
プラズマ生成方法及びプラズマ生成装置並びにプラズマ処理装置

出口洋成, 米田均, 加藤健治, 江部明憲, 節原裕一

出願日:2006/02/20
プラズマ生成方法及び装置並びにプラズマ処理装置

米田均, 出口洋成, 加藤健治, 節原裕一

出願日:2005/10/27
固体試料の表面改質方法、不純物活性化方法、半導体装置の製造方法

節原裕一, 橋田昌樹, 藤田雅之

出願日:2004/04/28
固体試料の表面改質方位法、不純物活性化方法、半導体装置の製造方法

節原裕一, 橋田昌樹, 藤田雅之

特願2004-134000

出願日:2004/04
HIGH FREQUENCY POWER SUPPLY DEVICE AND PLASMA GENERATOR

Yuichi Setsuhara, Tatsuo Shoji, Masayoshi Kamai

出願日:2004/01/15
プラズマ発生装置

節原裕一

特許第4451392号

出願日:2004/01
Plasma generation device, plasma control method, and substrate manufacturing method

Shoji Miyake, Akinori Ebe, Tatsuo Shoji, Yuichi Setsuhara

出願日:2003/12/12
Plasma generation device, plasma control method, and substrate manufacturing method

Shoji Miyake, Akinori Ebe, Tatsuo Shoji, Yuichi Setsuhara

出願日:2003/12/12
プラズマ生成装置

庄司多津男, 節原裕一, 江部明憲, 三宅正司

出願日:2003/01/23
高周波電力供給装置およびプラズマ発生装置

節原裕一, 庄司多津男, 釜井正善

出願日:2003/01/16
プラズマ生成装置

節原裕一, 庄司多津男, 江部明憲, 三宅正司

出願日:2002/12/16
高密度へリコンプラズマを利用した緻密な硬質薄膜の形成装置及び形成方法

節原裕一, 阿川義昭, 大庭昌俊

出願日:2001/05/31
Plasma generator

Shoji Miyake, Tatsuo Shoji, Yuichi Setsuhara

出願日:2000/12/27
プラズマ発生装置並びにこの装置を利用した緻密な硬質薄膜の形成装置及び硬質薄膜の形成方法

阿川義昭, 内藤哲郎, 節原裕一, 坂和洋一

出願日:2000/09/12
プラズマ発生装置並びにこの装置を利用した緻密な硬質薄膜の形成装置及び硬質薄膜の形成方法

阿川義昭, 内藤哲郎, 節原裕一, 坂和洋一

出願日:2000/09/05
固体試料のアニール方法および半導体不純物ドーピング層形成方法

節原裕一, 水野文二, 高瀬道彦, 足立智

出願日:2000/05/26
固体試料のアニール方法および半導体不純物ドーピング層形成方法

節原裕一, 水野文二, 高瀬道彦, 足立智

特開2001-338894

出願日:2000/05
プラズマ発生装置

三宅正司, 庄司多津男, 節原裕一

特開2001-35697

出願日:1999/07
高密度ミリ波によるセラミックスの製造方法及び装置

三宅正司, 節原裕一

出願日:1992/09/01
高出力ミリ波によるセラミックスの製造方法及び装置

三宅正司, 節原裕一

特開平6-87663

出願日:1992/09

機関リポジトリ 24

大阪大学の学術機関リポジトリ（OUKA）に掲載されているコンテンツ

Effect of Atmospheric Pressure Nonequilibrium Plasma Pretreatment of Polyethylene/Polypropylene on Epoxy Adhesively Bonded Joints

Takenaka Kosuke, Koyari Ryosuke, Shigemori Shunsho, Uchida Giichiro, Setsuhara Yuichi

Plasma Processes and Polymers　Vol. 22　No. 10　2025年8月18日
Influence of pre-treatment with non-thermal atmospheric pressure plasma on bond strength of TP340 titanium-PEEK direct bonding

Takenaka Kosuke, Nakamoto Soutaro, Koyari Ryosuke, Jinda Akiya, Toko Susumu, Uchida Giichiro, Setsuhara Yuichi

International Journal of Advanced Manufacturing Technology　Vol. 134　No. 3-4　p. 1637-1644　2024年9月1日
Influence of pre-treatment using non-thermal atmospheric pressure plasma jet on aluminum alloy A1050 to PEEK direct joining with hot-pressing process

Takenaka Kosuke, Jinda Akiya, Nakamoto Soutaro, Koyari Ryosuke, Toko Susumu, Uchida Giichiro, Setsuhara Yuichi

International Journal of Advanced Manufacturing Technology　Vol. 130　p. 1925-1933　2024年1月1日
Discharge Conditions of a Non-Thermal Plasma Jet in Helium, Surrounded by Flows of Nitrogen-Oxygen Mixtures of Various Proportions

Uchida Giichiro, Ito Taiki, Takenaka Kosuke, Setsuhara Yuichi, Nakajima Atsushi

Transactions of JWRI　Vol. 44　No. 2　p. 5-7　2015年12月
Effects of photon irradiation in UV and VUV regions during plasma processing of organic materials

Cho Ken, Takenaka Kosuke, Setsuhara Yuichi, Shiratani Masaharu, Sekine Makoto, Hori Masaru

Transactions of JWRI　Vol. 39　No. 2　p. 298-300　2010年12月
Combinatorial analysis of plasma-polymer interactions for formation of inorganic-soft materials hybrid structure

Takenaka Kosuke, Cho Ken, Setsuhara Yuichi, Shiratani Masaharu, Sekine Makoto, Hori Masaru

Transactions of JWRI　Vol. 39　No. 2　p. 250-252　2010年12月
Materials joining technologies and interface science for integration of novel structured metallic and inorganic materials

Setsuhara Yuichi, Nakata Kazuhiro

Transactions of JWRI　Vol. 39　No. 2　p. 259-261　2010年12月
Development of a Meters-Scale Large Area Plasma Reactor Using Multiple Low-Inductance Antenna Modules for Giant Electronics Processing

Setsuhara Yuichi, Ono Kouichi, Ebe Akinori

Transactions of JWRI　Vol. 36　No. 2　p. 95-97　2007年12月
Zr-based Hydrogen Absorbing Films Prepared by Ion Beam Assisted Deposition(Physics, Processes, Instruments & Measurements)

Nishimiya Nobuyuki, Setsuhara Yuichi, Miyake Shoji

Transactions of JWRI　Vol. 30　No. 2　p. 33-38　2001年12月
Mechanical Property of Dissimilar Material Nanocomposites Prepared by Ion Beam Assisted Sputtering Process(Physics, Processes, Instruments & Measurements)

He Jianli, Setsuhara Yuichi, Shimizu Ippei, Miyake Shoji

Transactions of JWRI　Vol. 29　No. 1　p. 9-13　2000年7月
Influence of Ion Irradiation on Crystalline Phases of Oxide Films(Materials, Metallurgy & Weldability)

Miyake Shoji, Shibata Kazuo, Makino Yukio, Setsuhara Yuichi

Transactions of JWRI　Vol. 26　No. 1　p. 77-80　1997年7月
イオンビーム照射による窒化硼素の相転移 : 低圧相から高圧相へ

節原裕一, 鈴木常生, 三宅正司

大阪大学低温センターだより　Vol. 96　p. 14-18　1996年10月
Metallization on Polyimide Film by Ion and Vapor Deposition (IVD) Method(Physics, Processes, Instruments & Measurements)

Ebe Akinori, Setsuhara Yuichi, Miyake Shoji

Transactions of JWRI　Vol. 25　No. 1　p. 25-30　1996年7月
Use of Focused High-Power 60-GHz Radiation Beams for Advanced Sintering of Ceramics(Physics, Processes, Instruments & Measurements)

Kamai Masayoshi, Setsuhara Yuichi, Kinoshita Shichi, Abe Nobuyuki, Miyake Shoji

Transactions of JWRI　Vol. 25　No. 1　p. 31-36　1996年7月
Helicon Wave Plasma Enhanced Sputtering and Application to Synthesis of Carbon Nitride Films(Physics, Process, Instrument & Measurements)

Zhang Jinqiu, Seto Naoki, Kamai Masayoshi, Setsuhara Yuichi, Miyake Shoji

Transactions of JWRI　Vol. 24　No. 2　p. 17-22　1995年12月
Effect of Magnetic Mirror Plasma Confinement on Microwave Electron Cyclotron Resonance/D.C. Discharge for Low Pressure Sputtering(Physics, Process, Instrument & Measurements)

Misina Martin, Setsuhara Yuichi, Miyake Shoji

Transactions of JWRI　Vol. 24　No. 2　p. 11-16　1995年12月
Properties of (Ti, Al) N films prepared by ion beam assisted deposition(Physics, Process, Instrument & Measurements)

Suzuki Tsuneo, Setsuhara Yuichi, Makino Yukio, Miyake Shoji, Sakata Takao, Mori Hirotaro

Transactions of JWRI　Vol. 24　No. 1　p. 31-37　1995年7月
Formation and Structure of Crystalline Phase TiB₂ Films by Ion Beam Assisted Deposition(Physics, Process, Instrument & Measurements)

Wang Yu, Setsuhara Yuichi, Miyake Shoji

Transactions of JWRI　Vol. 23　No. 1　p. 7-11　1994年6月
Ti-Al Alloy Films Synthesized by Ion-Beam-Enhanced Deposition(Physics, Process, Instrument & Measurements)

Setsuhara Yuichi, Ohsako Hajime, Samoto Hirotaka, Makino Yukio, Kyou Bunkei, Miyake Shoji

Transactions of JWRI　Vol. 22　No. 2　p. 215-218　1993年12月
Application o f Microwave Thermal Plasma to Ceramics Sintering(Physics, Process, Instruments & Measurements)

Miyake Shoji, Ohnishi Ryosuke, Setsuhara Yuichi, Yamada Sumasu

Transactions of JWRI　Vol. 22　No. 1　p. 31-35　1993年8月
Inductively Coupled RF Discharges Using Helical Antennas(Physics, Process, Instruments & Measurements)

Setsuhara Yuichi, Ueda Kunitsugu, Musil Jindrich, Ariyasu Tomio, Miyake Shoji

Transactions of JWRI　Vol. 22　No. 1　p. 1-5　1993年8月
Heating and Sintering of Alumina using High-Power Pulsed 60-GHz Gyrotron(Physics, Process, Instruments & Measurements)

Setsuhara Yuichi, Tabata Yuji, Ohnishi Ryosuke, Miyake Shoji

Transactions of JWRI　Vol. 21　No. 2　p. 181-186　1992年12月
Ion and Neutral Particle Diagnostics in Reactive ECR Plasma(Physics, Process, Instruments & Measurements)

Chen Wei, Yoshinaga Jun, Setsuhara Yuichi, Miyake Shoji

Transactions of JWRI　Vol. 20　No. 2　p. 203-209　1991年12月
核融合反応粒子を用いた高密度爆縮プラズマの診断に関する研究

節原裕一