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節原　裕一
Setsuhara Yuuichi
節原　裕一
Setsuhara Yuuichi
機関リポジトリ
接合科学研究所，教授

keyword プラズマエレクトロニクス，プラズマ理工学，非平衡材料プロセス，表界面制御

機関リポジトリ

経歴 6

  1. 2004年7月 ～ 継続中
    大阪大学　接合科学研究所　教授

  2. 2001年6月 ～ 2004年6月
    京都大学　大学院工学研究科航空宇宙工学専攻　助教授

  3. 1996年5月 ～ 2001年5月
    大阪大学　接合科学研究所　助手

  4. 1997年4月 ～ 1999年3月
    通産省工業技術院　名古屋工業技術研究所　流動研究員併任

  5. 1997年2月 ～ 1997年2月
    国際協力事業団　個別専門家委嘱

  6. 1991年4月 ～ 1996年5月
    大阪大学　溶接工学研究所　助手

学歴 3

  1. 大阪大学　工学研究科　電気工学専攻 博士後期課程

    1988年4月 ～ 1991年3月

  2. 大阪大学　工学研究科　電磁エネルギー工学専攻 博士前期課程

    1986年4月 ～ 1988年3月

  3. 大阪大学　工学部　電気工学科

    1982年4月 ～ 1986年3月

所属学会 7

  1. 日本ＭＲＳ

  2. 日本真空学会

  3. 溶接学会

  4. 日本航空宇宙学会

  5. 表面技術協会

  6. 応用物理学会

  7. スマートプロセス学会

研究内容・専門分野 1

  1. ナノテク・材料 / 薄膜、表面界面物性 /

受賞 11

  1. フロンティア材料研究所学術賞

    節原 裕一　フロンティア材料研究所　2018年9月

  2. Best presentation award

    Giichiro Uchida, Taiki Ito, Kosuke Takenaka, Junichiro Ikeda, Yuichi Setsuhara　ISPlasma2017/IC-PLANTS2017　2017年3月

  3. Participants' Poster Prize

    G. Uchida, A. Nakajima, T. Ito, K. Takenaka, T. Kawasaki, K. Koga, M. Shiratani, Y. Setsuhara　6th International Conference on Plasma Medicine　2016年9月

  4. 2015年応用物理学会秋季学術講演会 Poster Award

    竹中 弘祐, 内田 儀一郎, 節原 裕一　応用物理学会　2015年9月

  5. 第5回グローバルCOE プログラム「構造・機能先進材料デザイン教育研究拠点」シンポジウム最優秀ポスター賞

    趙研, 竹中弘祐, 節原裕一　グローバルCOE プログラム「構造・機能先進材料デザイン教育研究拠点」　2012年3月

  6. 高温学会平成23年度論文賞

    趙研, 節原裕一, 竹中弘祐, 白谷正治, 関根誠, 堀勝　高温学会　2012年3月

  7. 論文賞

    節原 裕一　（社）高温学会　2012年3月

  8. 第12回プラズマ材料科学賞（奨励部門）

    節原 裕一　（独）日本学術振興会 プラズマ材料科学第153委員会　2010年7月

  9. 第3回グローバルCOE プログラム「構造・機能先進材料デザイン教育研究拠点」シンポジウム優秀ポスター賞

    趙研, 節原裕一　グローバルCOE プログラム「構造・機能先進材料デザイン教育研究拠点」　2010年3月

  10. Invited Presentation Award, Interfinish 2008 World Interfinish Congress & Exposition

    Yuichi Setsuhara　The Korean Institute of Surface Engineering　2008年6月

  11. 岡田記念溶接振興会岡田奨励賞

    節原裕一　岡田記念溶接振興会　1994年4月

論文 264

  1. Influence of pre-treatment with non-thermal atmospheric pressure plasma on bond strength of TP340 titanium-PEEK direct bonding

    Kosuke Takenaka, Soutaro Nakamoto, Ryosuke Koyari, Akiya Jinda, Susumu Toko, Giichiro Uchida, Yuichi Setsuhara

    The International Journal of Advanced Manufacturing Technology　2024年8月7日　研究論文（学術雑誌）

    出版者・発行元：Springer Science and Business Media LLC

  2. Photocatalytic decomposition of methylene blue using a zinc–tungsten oxide compound prepared by co-sputtering and calcination

    Sho Kakuta, Kosuke TAKENAKA, makoto Takahashi, Yuichi Setsuhara, Takeru Okada

    Japanese Journal of Applied Physics　2025年3月17日　研究論文（学術雑誌）

    出版者・発行元：IOP Publishing

  3. Microstructure and surface/interface characterization of TiO2-pillared mica for photocatalytic acetaldehyde degradation

    Masakuni Ozawa, Hidetomo Matui, Yuichi Setsuhara

    Hybrid Advances　Vol. 10　p. 100435-100435　2025年3月　研究論文（学術雑誌）

    出版者・発行元：Elsevier BV

  4. 大気圧プラズマ表面処理技術の最新動向 大気圧非平衡プラズマジェットを用いた有機材料と金属材料の直接接合

    節原裕一, 竹中弘祐, 内田儀一郎

    表面技術　Vol. 76　No. 1　2025年

  5. Hydrogen-included plasma-assisted reactive sputtering for conductivity control of ultra-wide bandgap amorphous gallium oxide

    Kosuke Takenaka, Hibiki Komatsu, Taichi Sagano, Keisuke Ide, Susumu Toko, Takayoshi Katase, Toshio Kamiya, Yuichi Setsuhara

    Japanese Journal of Applied Physics　Vol. 63　No. 4　p. 04SP65-04SP65　2024年4月1日　研究論文（学術雑誌）

    出版者・発行元：IOP Publishing

  6. Improving the efficiency of CO2 methanation using a combination of plasma and molecular sieves

    Susumu Toko, Takamasa Okumura, Kunihiro Kamataki, Kosuke Takenaka, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani, Yuichi Setsuhara

    Results in Surfaces and Interfaces　p. 100204-100204　2024年2月　研究論文（学術雑誌）

    出版者・発行元：Elsevier BV

  7. Stability and gap states of amorphous In-Ga-Zn-Ox thin film transistors: Impact of sputtering configuration and post-annealing on device performance

    Kosuke Takenaka, Shota Nunomura, Yuji Hayashi, Hibiki Komatsu, Susumu Toko, Hitoshi Tampo, Yuichi Setsuhara

    Thin Solid Films　Vol. 790　p. 140203-140203　2024年2月　研究論文（学術雑誌）

    出版者・発行元：Elsevier BV

  8. プラズマ触媒作用を用いた二酸化炭素還元反応の促進に関する基礎研究

    Susumu TOKO, Takamasa OKUMURA, Kunihiro KAMATAKI, Kosuke TAKENAKA, Kazunori KOGA, Masaharu SHIRATANI, Yuichi SETSUHARA

    Journal of Smart Processing　Vol. 13　No. 1　p. 31-36　2024年1月10日　研究論文（学術雑誌）

    出版者・発行元：Sumart Processing Society for Minerals, Environment and Energy

  9. Influence of pre-treatment using non-thermal atmospheric pressure plasma jet on aluminum alloy A1050 to PEEK direct joining with hot-pressing process

    Kosuke Takenaka, Akiya Jinda, Soutaro Nakamoto, Ryosuke Koyari, Susumu Toko, Giichiro Uchida, Yuichi Setsuhara

    The International Journal of Advanced Manufacturing Technology　Vol. 130　No. 3-4　p. 1925-1933　2023年12月15日　研究論文（学術雑誌）

    出版者・発行元：Springer Science and Business Media LLC

  10. Improving bonding strength by non-thermal atmospheric pressure plasma-assisted technology for A5052/PEEK direct joining

    Kosuke Takenaka, Akiya Jinda, Soutaro Nakamoto, Ryosuke Koyari, Susumu Toko, Giichiro Uchida, Yuichi Setsuhara

    The International Journal of Advanced Manufacturing Technology　Vol. 130　No. 1-2　p. 903-913　2023年12月6日　研究論文（学術雑誌）

    出版者・発行元：Springer Science and Business Media LLC

  11. Direct bonding of stainless steel and PEEK using non-thermal atmospheric pressure plasma-assisted joining technology

    Kosuke Takenaka, Akiya Jinda, Soutaro Nakamoto, Susumu Toko, Giichiro Uchida, Yuichi Setsuhara

    Journal of Manufacturing Processes　Vol. 105　p. 276-281　2023年11月　研究論文（学術雑誌）

    出版者・発行元：Elsevier BV

  12. プラズマ支援反応性プロセスを用いた酸化物半導体薄膜形成

    竹中弘祐, 節原裕一, 江部明憲

    真空ジャーナル　No. 186　2023年10月

  13. Contribution of active species generated in plasma to CO<inf>2</inf> methanation

    Susumu Toko, Taiki Hasegawa, Takamasa Okumura, Kunihiro Kamataki, Kosuke Takenaka, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani, Yuichi Setsuhara

    Japanese Journal of Applied Physics　Vol. 62　No. SL　2023年9月1日　研究論文（学術雑誌）

  14. Improving the efficiency of Sabatier reaction through H2O removal with low-pressure plasma catalysis Taiki

    Susumu Toko, Taiki Haseagawa, Takamasa Okumura, Kunihiro Kamataki, Kosuke Takenaka, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani, Yuichi Setsuhara

    Japanese Journal of Applied Physics　Vol. 62　p. SL1028-SL1028　2023年7月　研究論文（学術雑誌）

  15. Optical emission spectroscopy study in CO<inf>2</inf> methanation with plasma

    Susumu Toko, Taiki Hasegawa, Takamasa Okumura, Kunihiro Kamataki, Kosuke Takenaka, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani, Yuichi Setsuhara

    Japanese Journal of Applied Physics　Vol. 62　2023年7月1日　研究論文（学術雑誌）

  16. Analysis of oxygen-based species introduced during plasma assisted reactive processing of a-IGZO films

    Kosuke Takenaka, Hiroyuki Hirayama, Masashi Endo, Susumu Toko, Giichiro Uchida, Akinori Ebe, Yuichi Setsuhara

    Japanese Journal of Applied Physics　Vol. 62　2023年6月　研究論文（学術雑誌）

  17. Analysis of residual oxygen during a-IGZO thin film formation by plasma-assisted reactive sputtering using a stable isotope

    Kosuke Takenaka, Masashi Endo, Hiroyuki Hirayama, Susumu Toko, Giichiro Uchida, Akinori Ebe, Yuichi Setsuhara

    Vacuum　Vol. 215　2023年6月　研究論文（学術雑誌）

  18. Plasma processing technique by combination of plasma-assisted reactive sputtering and plasma annealing for uniform electrical characteristics of InGaZnO thin film transistors formed on large-area substrates

    Kosuke Takenaka, Tomoki Yoshitani, Masashi Endo, Hiroyuki Hirayama, Susumu Toko, Giichiro Uchida, Akinori Ebe, Yuichi Setsuhara

    Japanese Journal of Applied Physics　Vol. 62　p. SI1005/1-SI1005/9　2023年3月　研究論文（学術雑誌）

  19. Development of a non-thermal atmospheric pressure plasma-assisted technology for the direct joining of metals with dissimilar materials

    Kosuke Takenaka, Rikuro Machida, Tetsuya Bono, Akiya Jinda, Susumu Toko, Giichiro Uchida, Yuichi Setsuhara

    Journal of Manufacturing Processes　Vol. 75　p. 664-669　2022年3月　研究論文（学術雑誌）

    出版者・発行元：Elsevier BV

  20. Nanostructured Ge and GeSn films by high-pressure He plasma sputtering for high-capacity Li ion battery anodes

    Giichiro Uchida, Kenta Nagai, Yuma Habu, Junki Hayashi, Yumiko Ikebe, Mineo Hiramatsu, Ryota Narishige, Naho Itagaki, Masaharu Shiratani, Yuichi Setsuhara

    Scientific Reports　Vol. 12　No. 1　2022年2月2日　研究論文（学術雑誌）

    出版者・発行元：Springer Science and Business Media LLC

  21. Effect of gas flow rate and discharge volume on CO2 methanation with plasma catalysis

    Susumu Toko, Masashi Ideguchi, Taiki Haseagawa, Takamasa Okumura, Kunihiro Kamataki, Kosuke Takenaka, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani, Yuichi Setsuhara

    Japanese Journal of Applied Physics　2022年1月　研究論文（学術雑誌）

  22. Morphological control of nanostructured Ge films in high Ar-gas-pressure plasma sputtering process for Li ion batteries

    Junki Hayashi, Kenta Nagai, Yuma Habu, Yumiko Ikebe, Mineo Hiramatsu, Ryota Narishige, Naho Itagaki, Masaharu Shiratani, Yuichi Setsuhara, Giichiro Uchida

    Japanese Journal of Applied Physics　Vol. 61　No. SA　p. SA1002-SA1002　2021年12月15日　研究論文（学術雑誌）

    出版者・発行元：IOP Publishing

  23. ミストを用いたプラズマ支援反応性プロセスによる機能性酸化物薄膜の形成

    竹中弘祐, 節原裕一

    スマートプロセス学会誌　Vol. 10　No. 1　2021年

  24. プラズマ支援反応性プロセスによるアモルファスInGaZnOx薄膜形成

    竹中弘祐, 内田儀一郎, 江部明憲, 節原裕一

    応用物理　Vol. 90　No. 1　2021年

  25. Effects of surrounding gas on plasma-induced downward liquid flow

    Toshiyuki Kawasaki, Keisuke Nishida, Giichiro Uchida, Fumiaki Mitsugi, Kosuke Takenaka, Kazunori Koga, Yuichi Setsuhara, Masaharu Shiratani

    Japanese Journal of Applied Physics　Vol. 59　No. SH　2020年5月1日　研究論文（学術雑誌）

  26. 大気圧低温プラズマジェット照射溶液によるがん細胞殺傷に関する研究

    内田儀一郎, 池田純一郎, 竹中弘祐, 節原裕一

    スマートプロセス学会誌　Vol. 9　No. 3　2020年

  27. プラズマ支援反応性プロセスを用いた機能性酸化物薄膜の形成

    竹中弘祐, 節原裕一

    溶接学会誌　Vol. 89　No. 7　p. 6-9　2020年

    出版者・発行元：

  28. High-rate deposition of silicon nitride thin films using plasma-assisted reactive sputter deposition

    Kosuke Takenaka, Yuichi Setsuhara, Jeon Geon Han, Giichiro Uchida, Akinori Ebe

    Thin Solid Films　Vol. 685　p. 306-311　2019年9月　研究論文（学術雑誌）

    出版者・発行元：Elsevier BV

  29. Droplet-Vaporization Behavior during Plasma-Assisted Mist Chemical Vapor Deposition of Zinc Oxide Films

    Kosuke Takenaka, Yuichi Setsuhara

    Plasma Sources Science & Technology　Vol. 28　p. 065015/1-065015/8　2019年6月　研究論文（学術雑誌）

  30. Low-temperature formation of high-mobility a-InGaZnOx films using plasma-enhanced reactive processes

    Kosuke Takenaka, Masashi Endo, Hiroyuki Hirayama, Giichiro Uchida Akinori Ebe, Yuichi Setsuhara

    Japanese Journal of Applied Physics　Vol. 58　p. 090605/1-090605/5　2019年6月　研究論文（学術雑誌）

  31. 大気非平衡プラズマによる水中活性種の生成・制御

    節原 裕一, 内田 儀一郎, 竹中 弘祐

    金属　Vol. 89　No. 6　2019年5月

  32. Decomposition and oxidation of methionine and tryptophan following irradiation with a nonequilibrium plasma jet and applications forkilling cancer cells

    Giichiro Uchida, Yusuke Mino, Tensho Suzuki, Jun-ichiro Ikeda, Takashi Suzuki, Kosuke Takenaka, Yuichi Setsuhara

    Scientific Reports　Vol. 9　p. 6625/1-6625/17　2019年4月　研究論文（学術雑誌）

  33. 大気圧非平衡He プラズマジェットと溶液との相互作用に関する可視化研究

    内田 儀一郎, 竹中 弘祐, 川崎 敏之, 古閑 一憲, 白谷 正治, 節原 裕一

    スマートプロセス学会誌　Vol. 8　No. 2　p. 58-63　2019年3月

  34. Effects of post-deposition plasma treatments on stability of amorphous InGaZnOx thin-film transistors prepared with plasma-assisted reactive magnetron sputtering

    K. Takenaka, M. Endo, G. Uchida, Y. Setsuhara

    Japanese Journal of Applied Physics　Vol. 58　No. 2s　p. SAAC03/1-SAAC03/5　2019年2月　研究論文（学術雑誌）

  35. Influence of deposition condition on electrical properties of a-IGZO films deposited by plasma-enhanced reactive sputtering

    Kosuke Takenaka, Masashi Endo, Giichiro Uchida, Akinori Ebe, Yuichi Setsuhara

    Journal of Alloys and Compounds　Vol. 772　p. 642-649　2019年1月　研究論文（学術雑誌）

    出版者・発行元：Elsevier BV

  36. The effect of the H<inf>2</inf>/(H<inf>2</inf> + Ar) flow-rate ratio on hydrogenated amorphous carbon films grown using Ar/H<inf>2</inf>/C<inf>7</inf>H<inf>8</inf> plasma chemical vapor deposition

    Taojun Fang, Kenji Yamaki, Kazunori Koga, Daisuke Yamashita, Hyunwoong Seo, Naho Itagaki, Masaharu Shiratani, Kosuke Takenaka, Yuichi Setsuhara

    Thin Solid Films　Vol. 660　No. 8　p. 891-898　2018年8月30日　研究論文（学術雑誌）

  37. Plasma-enhanced reactive linear sputtering source for formation of silicon-based thin films

    K. Takenaka, Y. Setsuhara, J. G. Han, G. Uchida, A. Ebe

    Review of Scientific Instruments　Vol. 89　No. 8　p. 083902/1-083902/6　2018年8月　研究論文（学術雑誌）

  38. Effect of a plasma-activated medium produced by direct irradiation on cancer cell killing

    G. Uchida, T. Ito, J. Ikeda, T. Suzkuki, K. Takenaka, Y. Setsuhara

    Japanese Journal of Applied Physics　Vol. 57　No. 9　p. 096201-1-096201-6　2018年7月　研究論文（学術雑誌）

  39. Fabrication of high-performance InGaZnOx thin film transistors based on control of oxidation using a low-temperature plasma

    Kosuke Takenaka, Masashi Endo, Giichiro Uchida, Yuichi Setsuhara

    Applied Physics Letters　Vol. 112　No. 15　p. 152103/1-152103/3　2018年4月9日　研究論文（学術雑誌）

    出版者・発行元：American Institute of Physics Inc.

  40. Low-temperature formation of c-axis-oriented aluminum nitride thin films by plasma-assisted reactive pulsed-DC magnetron sputtering

    Kosuke Takenaka, Yoshikatsu Satake, Giichiro Uchida, Yuichi Setsuhara

    Japanese Journal of Applied Physics　Vol. 57　No. 1　p. 01AD06-1-01AD06-5　2018年1月1日　研究論文（国際会議プロシーディングス）

    出版者・発行元：Japan Society of Applied Physics

  41. Selective production of reactive oxygen and nitrogen species in the plasma-treated water by using a nonthermal high-frequency plasma jet

    Giichiro Uchida, Kosuke Takenaka, Keigo Takeda, Kenji Ishikawa, Masaru Hori, Yuichi Setsuhara

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS　Vol. 57　No. 1　p. 0102B4-1-0102B4-6　2018年1月　研究論文（学術雑誌）

  42. Development of a non-equilibrium 60 MHz plasma jet with a long discharge plume

    Giichiro Uchida, Kazufumi Kawabata, Taiki Ito, Kosuke Takenaka, Yuichi Setsuhara

    JOURNAL OF APPLIED PHYSICS　Vol. 122　No. 3　p. 033301-1-033301-8　2017年7月　研究論文（学術雑誌）

  43. Control of reactive oxygen and nitrogen species production in liquid by nonthermal plasma jet with controlled surrounding gas

    Taiki Ito, Giichiro Uchida, Atsushi Nakajima, Kosuke Takenaka, Yuichi Setsuhara

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS　Vol. 56　No. 1　p. 01AC06-1-01AC06-6　2017年1月　研究論文（学術雑誌）

  44. Effects of Working Pressure on the Physical Properties of a-InGaZnOx Films Formed Using Inductively Coupled Plasma-Enhanced Reactive Sputtering Deposition

    Kosuke Takenaka, Keitaro Nakata, Giichiro Uchida, Yuichi Setsuhara, Akinori Ebe

    IEEE TRANSACTIONS ON PLASMA SCIENCE　Vol. 44　No. 12　p. 3099-3106　2016年12月　研究論文（学術雑誌）

  45. Effects of nonthermal plasma jet irradiation on the selective production of H2O2 and NO2- in liquid water

    Giichiro Uchida, Atsushi Nakajima, Taiki Ito, Kosuke Takenaka, Toshiyuki Kawasaki, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani, Yuichi Setsuhara

    JOURNAL OF APPLIED PHYSICS　Vol. 120　No. 20　p. 203302-1-203302-9　2016年11月　研究論文（学術雑誌）

  46. Low-temperature atmospheric-pressure plasma sources for plasma medicine

    Yuichi Setsuhara

    ARCHIVES OF BIOCHEMISTRY AND BIOPHYSICS　Vol. 605　p. 3-10　2016年9月　研究論文（学術雑誌）

  47. Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitride and Nanomaterials FOREWORD

    Wakahara Akihiro, Nakatsuka Osamu, Sasaki Minoru, Terashima Kazuo, Amano Hiroshi, Egawa Takashi, Fujiwara Yasufumi, Hiramatsu Mineo, Ichino Ryoichi, Inoue Yasushi, Ito Masafumi, Kasu Makoto, Kondo Hiroki, Miyazaki Seiichi, Sawada Kazuaki, Sekine Makoto, Setsuhara Yuichi, Shiratani Masaharu, Takikawa Hirofumi, Watanabe Yoshimi

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS　Vol. 55　No. 1　2016年1月

  48. Effects of deposition rate and ion bombardment on properties of a-C:H films deposited by H-assisted plasma CVD method

    Xiao Dong, Kazunori Koga, Daisuke Yamashita, Hyunwoong Seo, Naho Itagaki, Masaharu Shiratani, Yuichi Setsuhara, Makoto Sekine, Masaru Hori

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS　Vol. 55　No. 1　p. 01AA11-1-01AA11-7　2016年1月　研究論文（学術雑誌）

  49. Process controllability of inductively coupled plasma-enhanced reactive sputter deposition for the fabrication of amorphous InGaZnOx channel thin-film transistors

    Kosuke Takenaka, Keitaro Nakata, Hirofumi Otani, Soichiro Osaki, Giichiro Uchida, Yuichi Setsuhara

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS　Vol. 55　No. 1　2016年1月　研究論文（学術雑誌）

  50. Influence of voltage pulse width on the discharge characteristics in an atmospheric dielectric-barrier-discharge plasma jet

    Giichiro Uchida, Kosuke Takenaka, Yuichi Setsuhara

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS　Vol. 55　No. 1　2016年1月　研究論文（学術雑誌）

  51. Gas Flow Rate Dependence of the Discharge Characteristics of a Plasma Jet Impinging Onto the Liquid Surface

    Giichiro Uchida, Atsushi Nakajima, Kosuke Takenaka, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani, Yuichi Setsuhara

    IEEE TRANSACTIONS ON PLASMA SCIENCE　Vol. 43　No. 12　p. 4081-4087　2015年12月　研究論文（学術雑誌）

  52. Analysis of Dynamic Discharge Characteristics of Plasma Jet Based on Voltage and Current Measurements Using a Metal Plate

    Yuichi Setsuhara, Giichiro Uchida, Kazufumi Kawabata, Atsushi Nakajima, Kosuke Takenaka

    IEEE TRANSACTIONS ON PLASMA SCIENCE　Vol. 43　No. 11　p. 3821-3826　2015年11月　研究論文（学術雑誌）

  53. Effects of gas flow on oxidation reaction in liquid induced by He/O-2 plasma-jet irradiation

    Atsushi Nakajima, Giichiro Uchida, Toshiyuki Kawasaki, Kazunori Koga, Thapanut Sarinont, Takaaki Amano, Kosuke Takenaka, Masaharu Shiratani, Yuichi Setsuhara

    JOURNAL OF APPLIED PHYSICS　Vol. 118　No. 4　p. 043301-1-043301-9　2015年7月　研究論文（学術雑誌）

  54. Low-temperature formation of amorphous InGaZnOx films with inductively coupled plasma-enhanced reactive sputter deposition

    Kosuke Takenaka, Ken Cho, Yasufumi Ohchi, Hirofumi Otani, Giichiro Uchida, Yuichi Setsuhara

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS　Vol. 54　No. 6　2015年6月　研究論文（学術雑誌）

  55. Low-temperature formation of amorphous InGaZnO

    Takenaka Kosuke, Cho Ken, Ohchi Yasufumi, Otani Hirofumi, Uchida Giichiro, Setsuhara Yuichi

    Jpn. J. Appl. Phys.　Vol. 54　No. 6　2015年5月28日

    出版者・発行元：Institute of Physics

  56. Effects of discharge voltage waveform on the discharge characteristics in a helium atmospheric plasma jet

    Giichiro Uchida, Kosuke Takenaka, Yuichi Setsuhara

    JOURNAL OF APPLIED PHYSICS　Vol. 117　No. 15　p. 153301-1-153301-6　2015年4月　研究論文（学術雑誌）

  57. Plasma Interaction with Organic Molecules in Liquid as Fundamental Processes in Plasma Medicine

    Kosuke Takenaka, Atsushi Miyazaki, Hiroya Abe, Giichiro Uchida, Yuichi Setsuhara

    JOURNAL OF NANOSCIENCE AND NANOTECHNOLOGY　Vol. 15　No. 3　p. 2120-2124　2015年3月　研究論文（学術雑誌）

  58. Influence of He Gas Flow Rate on Optical Emission Characteristics in Atmospheric Dielectric-Barrier-Discharge Plasma Jet

    Giichiro Uchida, Kosuke Takenaka, Kazufumi Kawabata, Yuichi Setsuhara

    IEEE TRANSACTIONS ON PLASMA SCIENCE　Vol. 43　No. 3　p. 737-744　2015年3月　研究論文（学術雑誌）

  59. Atmospheric-Pressure Plasma Interaction with Soft Materials as Fundamental Processes in Plasma Medicine

    Kosuke Takenaka, Atsushi Miyazaki, Giichiro Uchida, Yuichi Setsuhara

    JOURNAL OF NANOSCIENCE AND NANOTECHNOLOGY　Vol. 15　No. 3　p. 2115-2119　2015年3月　研究論文（学術雑誌）

  60. Dynamic Properties of Helium Atmospheric Dielectric-Barrier-Discharge Plasma Jet

    Giichiro Uchida, Kosuke Takenaka, Atsushi Miyazaki, Kazufumi Kawabata, Yuichi Setsuhara

    JOURNAL OF NANOSCIENCE AND NANOTECHNOLOGY　Vol. 15　No. 3　p. 2324-2329　2015年3月　研究論文（学術雑誌）

  61. Atmospheric-Pressure Gas-Breakdown Characteristics with a Radio-Frequency Voltage

    Giichiro Uchida, Kosuke Takenaka, Atsushi Miyazaki, Yuichi Setsuhara

    JOURNAL OF NANOSCIENCE AND NANOTECHNOLOGY　Vol. 15　No. 3　p. 2192-2196　2015年3月　研究論文（学術雑誌）

  62. Molecular-structure variation of biomolecules irradiated with atmospheric-pressure plasma through plasma/liquid interface

    Kosuke Takenaka, Atushi Miyazaki, Kazufumi Kawabata, Giichiro Uchida, Yuichi Setsuhara

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS　Vol. 54　No. 1　2015年1月　研究論文（学術雑誌）

  63. FOREWORD Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitride and Nanomaterials

    Satoshi Kamiyama, Yasufumi Fujiwara, Mineo Hiramatsu, Masafumi Ito, Toshiro Kaneko, Makoto Kasu, Hideto Miyake, Keiji Nakamura, Kazuaki Sawada, Makoto Sekine, Yuichi Setsuhara, Tatsuru Shirafuji, Hirofumi Takikawa, Kazuo Terashima, Akihiro Wakahara, Yoshimi Watanabe

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS　Vol. 53　No. 11　2014年11月

  64. Effects of driving voltage frequency on the discharge characteristics of atmospheric dielectric-barrier-discharge plasma jet

    Giichiro Uchida, Kosuke Takenaka, Kazufumi Kawabata, Atsushi Miyazaki, Yuichi Setsuhara

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS　Vol. 53　No. 11　2014年11月　研究論文（学術雑誌）

  65. Plasma Sources in Thin Film Deposition

    Y. Setsuhara

    Comprehensive Materials Processing　Vol. 4　p. 307-324　2014年5月　論文集(書籍)内論文

    出版者・発行元：Elsevier Ltd

  66. Investigation of plasma-organic materials interaction in aqueous solution with atmospheric pressure plasmas

    K. Takenaka, A. Miyazaki, Y. Setsuhara

    26TH SYMPOSIUM ON PLASMA SCIENCES FOR MATERIALS (SPSM26)　Vol. 518　2014年　研究論文（国際会議プロシーディングス）

  67. Molecular-structure variation of organic materials irradiated with atmospheric pressure plasma

    K. Takenaka, A. Miyazaki, Y. Setsuhara

    26TH SYMPOSIUM ON PLASMA SCIENCES FOR MATERIALS (SPSM26)　Vol. 518　2014年　研究論文（国際会議プロシーディングス）

  68. プラズマを用いたソフトマテリアルプロセスの展開〜低温・低ダメージの材料プロセスからプラズマ医療〜

    節原 裕一

    スマートプロセス学会誌　Vol. 3　No. 1　p. 23-29　2014年1月

  69. プラズマとソフトマテリアルとの相互作用 −低ダメージの表面プロセスからプラズマ医療にわたる基礎過程−

    節原 裕一

    表面技術　Vol. 64　No. 12　p. 628-633　2013年12月

  70. Plasma-Enhanced Reactive Magnetron Sputtering Assisted with Inductively Coupled Plasma for Reactivity-Controlled Deposition of Microcrystalline Silicon Thin Films

    Kosuke Takenaka, Yuichi Setsuhara, Akinori Ebe

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS　Vol. 52　No. 11　2013年11月　研究論文（学術雑誌）

  71. Plasma Interactions with Organic Materials in Liquid through Plasma/Liquid Interface

    Kosuke Takenaka, Yuichi Setsuhara

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS　Vol. 52　No. 11　2013年11月　研究論文（学術雑誌）

  72. Deposition and characterization of a- and μc-Si:H thin films by ICP-CVD system with internal antennas

    J.H. Hsieh, H.C. Liang, Y. Setsuhara, C. Li

    Surface and Coatings Technology　Vol. 231　p. 550-556　2013年9月25日　研究論文（学術雑誌）

  73. Plasma interaction with Zn nano layer on organic materials for analysis of early stage of inorganic/organic hybrid multi-layer formation

    Ken Cho, Kosuke Takenaka, Yuichi Setsuhara

    SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY　Vol. 228　p. S271-S275　2013年8月　研究論文（学術雑誌）

  74. Mass density control of carbon films deposited by H-assisted plasma CVD method

    Tatsuya Urakawa, Hidehumi Matsuzaki, Daisuke Yamashita, Giichiro Uchida, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani, Yuichi Setsuhara, Makoto Sekine, Masaru Hori

    SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY　Vol. 228　p. S15-S18　2013年8月　研究論文（学術雑誌）

  75. Plasma interactions with aminoacid (l-alanine) as a basis of fundamental processes in plasma medicine

    Yuichi Setsuhara, Ken Cho, Masaharu Shiratani, Makoto Sekine, Masaru Hori

    Current Applied Physics　Vol. 13　No. 1　p. S59-S63　2013年3月20日　研究論文（学術雑誌）

  76. Surface roughness development on ArF-photoresist studied by beam-irradiation of CF4 plasma

    Takuya Takeuchi, Kenji Ishikawa, Yuichi Setsuhara, Keigo Takeda, Hiroki Kondo, Makoto Sekine, Masaru Hori

    JOURNAL OF PHYSICS D-APPLIED PHYSICS　Vol. 46　No. 10　2013年3月　研究論文（学術雑誌）

  77. Advanced materials design via low-damage plasma processes

    Yuichi Setsuhara

    Progress in Advanced Structural and Functional Materials Design　p. 225-236　2013年1月1日　論文集(書籍)内論文

    出版者・発行元：Springer Japan

  78. Investigations on plasma-biomolecules interactions as fundamental process for plasma medicine

    Kosuke Takenaka, Ken Cho, Yuichi Setsuhara, Masaharu Shiratani, Makoto Sekine, Masaru Hori

    Journal of Physics: Conference Series　Vol. 441　No. 1　2013年　研究論文（国際会議プロシーディングス）

    出版者・発行元：Institute of Physics Publishing

  79. H-2/N-2 Plasma Etching Rate of Carbon Films Deposited by H-Assisted Plasma Chemical Vapor Deposition

    Tatsuya Urakawa, Ryuhei Torigoe, Hidefumi Matsuzaki, Daisuke Yamashita, Giichiro Uchida, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani, Yuichi Setsuhara, Keigo Takeda, Makoto Sekine, Masaru Hori

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS　Vol. 52　No. 1　2013年1月　研究論文（学術雑誌）

  80. Plasma-Assisted Mist Chemical Vapor Deposition of Zinc Oxide Films Using Solution of Zinc Acetate

    Kosuke Takenaka, Yusuke Okumura, Yuichi Setsuhara

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS　Vol. 52　No. 1　2013年1月　研究論文（学術雑誌）

  81. Investigation of chemical bonding states at interface of Zn/organic materials for analysis of early stage of inorganic/organic hybrid multi-layer formation

    Ken Cho, Kosuke Takenaka, Yuichi Setsuhara, Masaharu Shiratani, Makoto Sekine, Masaru Hori

    THIN SOLID FILMS　Vol. 523　p. 15-19　2012年11月　研究論文（学術雑誌）

  82. Low-Temperature Deposition of Zinc Oxide Film by Plasma-Assisted Mist Chemical Vapor Deposition

    Kosuke Takenaka, Yusuke Okumura, Yuichi Setsuhara

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS　Vol. 51　No. 8　p. 08HF05-1-08HF05-4　2012年8月　研究論文（学術雑誌）

  83. Low-Temperature Growth of Zinc Oxide Films from Zinc Acetate Solution Using Plasma-Assisted Mist Chemical Vapor Deposition

    Kosuke Takenaka, Yusuke Okumura, Yuichi Setsuhara

    Transactions of the Materials Research Society of Japan　Vol. 37　No. 2　p. 173-176　2012年6月　研究論文（学術雑誌）

    出版者・発行元：The Materials Research Society of Japan

  84. Characterization of inductively coupled RF plasmas for plasma-assisted mist CVD of ZnO films

    Kosuke Takenaka, Yusuke Okumura, Yuichi Setsuhara

    INTERNATIONAL SYMPOSIUM ON MATERIALS SCIENCE AND INNOVATION FOR SUSTAINABLE SOCIETY: ECO-MATERIALS AND ECO-INNOVATION FOR GLOBAL SUSTAINABILITY (ECO-MATES 2011)　Vol. 379　p. 012031-1-012031-6　2012年　研究論文（国際会議プロシーディングス）

  85. Effects of Irradiation with Ions and Photons in Ultraviolet-Vacuum Ultraviolet Regions on Nano-Surface Properties of Polymers Exposed to Plasmas

    Ken Cho, Kosuke Takenaka, Yuichi Setsuhara, Masaharu Shiratani, Makoto Sekine, Masaru Hori

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS　Vol. 51　No. 1　p. 01AJ02-1-01AJ02-5　2012年1月　研究論文（学術雑誌）

  86. フレキシブルデバイス創製に向けたプラズマ−ソフトマテリアル相互作用の解析

    趙 研, 節原 裕一, 竹中 弘祐, 白谷 正治, 関根 誠, 堀 勝

    高温学会誌　Vol. 37　No. 6　p. 289-297　2011年11月　研究論文（学術雑誌）

    出版者・発行元：High Temperature Society of Japan

  87. The 10th Asia-Pacific conference on Plasma Science and Technology (APCPST 2010): The 153rd symposium on Plasma Science for Materials (SPSM 2010)

    H. Y. Chae, Chin Wook Chung, J. W. Chung, M. P. Hong, J. H. Joo, H. J. Kim, D. H. Kim, E. Kusano, L. Overzet, Yi-Kang Pu, Y. Setsuhara, J. J. Shi, K. Terashima, T. Watanabe

    Thin Solid Films　Vol. 519　No. 20　p. 6637-6638　2011年8月1日　研究論文（学術雑誌）

  88. Effects of photoirradiation in UV and VUV regions during plasma exposure to polymers

    Ken Cho, Yuichi Setsuhara, Kosuke Takenaka, Masaharu Shiratani, Makoto Sekine, Masaru Hori

    THIN SOLID FILMS　Vol. 519　No. 20　p. 6810-6814　2011年8月　研究論文（学術雑誌）

  89. Plasma processing of soft materials for development of flexible devices

    Yuichi Setsuhara, Ken Cho, Kosuke Takenaka, Masaharu Shiratani, Makoto Sekine, Masaru Hori

    THIN SOLID FILMS　Vol. 519　No. 20　p. 6721-6726　2011年8月　研究論文（学術雑誌）

  90. Combinatorial analyses of plasma-polymer interactions

    Yuichi Setsuhara, Ken Cho, Kosuke Takenaka, Masaharu Shiratani, Makoto Sekine, Masaru Hori

    SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY　Vol. 205　p. S484-S489　2011年7月　研究論文（学術雑誌）

  91. Nano-Surface Modification of Silicon with Ultra-Short Pulse Laser Process

    Yuichi Setsuhara, Masaki Hashida

    TECHNOLOGY EVOLUTION FOR SILICON NANO-ELECTRONICS　Vol. 470　p. 117-+　2011年　研究論文（国際会議プロシーディングス）

  92. Combinatorial analysis of plasma-polymer interactions for formation of inorganic-soft materials hybrid structure

    Kosuke Takenaka, Ken Cho, Yuichi Setsuhara, Masaharu Shiratani, Makoto Sekine, Masaru Hori

    Trans. JWRI　Vol. 39　No. 2　p. 250-252　2010年12月　研究論文（大学，研究機関等紀要）

  93. Effects of photon irradiation in UV and VUV regions during plasma processing of organic materials

    Ken Cho, Kosuke Takenaka, Yuichi Setsuhara, Masaharu Shiratani, Makoto Sekine, Masaru Hori

    Trans. JWRI　Vol. 39　No. 2　p. 298-300　2010年12月　研究論文（大学，研究機関等紀要）

  94. Photon-induced phonon excitation process as low-temperature nonequillibrium nano-surface modification of silicon

    Yuichi Setsuhara, Masaki Hashida

    SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY　Vol. 205　No. 7　p. 1826-1829　2010年12月　研究論文（学術雑誌）

  95. Nano-crystalline silicon thin films grown by the inductively coupled plasma assisted CFUBM at low temperature

    Kyung S. Shin, Yoon S. Choi, In S. Choi, Y. Setsuhara, Jeon G. Han

    SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY　Vol. 205　p. S227-S230　2010年12月　研究論文（学術雑誌）

  96. Low-damage plasma processing of polymers for development of organic-inorganic flexible devices

    Yuichi Setsuhara, Ken Cho, Kosuke Takenaka, Masaharu Shiratani, Makoto Sekine, Masaru Hori

    SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY　Vol. 205　p. S355-S359　2010年12月　研究論文（学術雑誌）

  97. Advanced research and development for plasma processing of polymers with combinatorial plasma-process analyzer

    Yuichi Setsuhara, Ken Cho, Kosuke Takenaka, Masaharu Shiratani, Makoto Sekine, Masaru Hori

    THIN SOLID FILMS　Vol. 518　No. 22　p. 6320-6324　2010年9月　研究論文（学術雑誌）

  98. X-Ray photoelectron spectroscopy analysis of plasma-polymer interactions for development of low-damage plasma processing of soft materials

    Yuichi Setsuhara, Ken Cho, Masaharu Shiratani, Makoto Sekine, Masaru Hori

    THIN SOLID FILMS　Vol. 518　No. 22　p. 6492-6495　2010年9月　研究論文（学術雑誌）

  99. Etching characteristics of organic low-k films interpreted by internal parameters employing a combinatorial plasma process in an inductively coupled H-2/N-2 plasma

    Chang Sung Moon, Keigo Takeda, Makoto Sekine, Yuichi Setsuhara, Masaharu Shiratani, Masaru Hori

    JOURNAL OF APPLIED PHYSICS　Vol. 107　No. 11　p. 113310-1-113310-8　2010年6月　研究論文（学術雑誌）

  100. Surface loss probabilities of H and N radicals on different materials in afterglow plasmas employing H-2 and N-2 mixture gases

    Chang Sung Moon, Keigo Takeda, Seigo Takashima, Makoto Sekine, Yuichi Setsuhara, Masaharu Shiratani, Masaru Hori

    JOURNAL OF APPLIED PHYSICS　Vol. 107　No. 10　p. 103310-1-103310-7　2010年5月　研究論文（学術雑誌）

  101. Low-damage surface modification of polymethylmethacrylate with argon-oxygen mixture plasmas driven by multiple low-inductance antenna units

    Yuichi Setsuhara, Ken Cho, Kosuke Takenaka, Masaharu Shiratani, Makoto Sekine, Masaru Hori, Eiji Ikenaga, Shigeaki Zaima

    Thin Solid Films　Vol. 518　No. 13　p. 3561-3565　2010年4月　研究論文（学術雑誌）

  102. Combinatorial Analysis of Plasma-Surface Interactions of Polyethyleneterephthalate with X-ray Photoelectron Spectroscopy

    Kosuke Takenaka, Yuichi Setsuhara, Ken Cho, Masaharu Shiratani, Makoto Sekine, Masaru Hori

    Jpn. J. Appl. Phys.　Vol. 49　p. 08JA02-1-08JA02-4　2010年3月　研究論文（学術雑誌）

  103. High performance of compact radical monitoring probe in H-2/N-2 mixture plasma

    Chang Sung Moon, Keigo Takeda, Seigo Takashima, Makoto Sekine, Yuichi Setsuhara, Masaharu Shiratani, Masaru Hori

    JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B　Vol. 28　No. 2　p. L17-L20　2010年3月　研究論文（学術雑誌）

  104. X-ray photoelectron spectroscopy for analysis of plasma-polymer interactions in Ar plasmas sustained via RF inductive coupling with low-inductance antenna units

    Yuichi Setsuhara, Ken Cho, Masaharu Shiratani, Makoto Sekine, Masaru Hori

    Thin Solid Films　Vol. 518　p. 3555-3560　2010年3月　研究論文（学術雑誌）

  105. High performance of compact radical monitoring probe in H2 / N2 mixture plasma

    Chang Sung Moon, Keigo Takeda, Seigo Takashima, Makoto Sekine, Yuichi Setsuhara, Masaharu Shiratani, Masaru Hori

    Journal of Vacuum Science and Technology B:Nanotechnology and Microelectronics　Vol. 28　No. 2　p. L17-L20　2010年　研究論文（学術雑誌）

    出版者・発行元：AVS Science and Technology Society

  106. PLASMA-ENHANCED NANOPARTICLES-BEAM DEPOSITION FOR HIGH-RATE FORMATION OF NANOCOMPOSITE FILMS

    Kosuke Takenaka, Yuki Nakajima, Yuichi Setsuhara, Hiroya Abe, Kiyoshi Nogi

    CHARACTERIZATION AND CONTROL OF INTERFACES FOR HIGH QUALITY ADVANCED MATERIALS III　Vol. 219　p. 293-+　2010年　研究論文（国際会議プロシーディングス）

  107. DEVELOPMENT OF A COMBINATORIAL PLASMA PROCESS ANALYZER FOR ADVANCED R&D OF NEXT GENERATION NANODEVICE FABRICATION

    Kosuke Takenaka, Ken Cho, Yuichi Setsuhara, Masaharu Shiratani, Makoto Sekine, Masaru Hori

    CHARACTERIZATION AND CONTROL OF INTERFACES FOR HIGH QUALITY ADVANCED MATERIALS III　Vol. 219　p. 279-+　2010年　研究論文（国際会議プロシーディングス）

  108. HARD X-RAY PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY ANALYSIS FOR ORGANIC-INORGANIC HYBRID MATERIALS FORMATION

    Ken Cho, Kosuke Takenaka, Yuichi Setsuhara, Masaharu Shiratani, Makoto Sekine, Masaru Hori, Eiji Ikenaga, Hiroki Kondo, Osamu Nakatsuka, Shigeaki Zaima

    CHARACTERIZATION AND CONTROL OF INTERFACES FOR HIGH QUALITY ADVANCED MATERIALS III　Vol. 219　p. 183-+　2010年　研究論文（国際会議プロシーディングス）

  109. Polycarbonate Surface Treatment by Using an Inductively-Coupled Plasma

    Tae J. Byun, Kyung S. Shin, Youn J. Kim, Jeon G. Han, Y. Setsuhara

    JOURNAL OF THE KOREAN PHYSICAL SOCIETY　Vol. 55　No. 5　p. 1785-1789　2009年11月　研究論文（学術雑誌）

  110. Combinatorial Plasma Etching Process

    Chang Sung Moon, Keigo Takeda, Makoto Sekine, Yuichi Setsuhara, Masaharu Shiratani, Masaru Hori

    APPLIED PHYSICS EXPRESS　Vol. 2　No. 9　2009年9月　研究論文（学術雑誌）

  111. Surface Modification of Polyimide for Improving Adhesion Strength by Inductively Coupled Plasma

    Tae Joon Byun, Sung Il Kim, Youn Joon Kim, Yoon Suk Choi, In Sik Choi, Yuichi Setsuhara, Jeon Geon Han

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS　Vol. 48　No. 8　p. 08HL01-1-08HL01-4　2009年8月　研究論文（学術雑誌）

  112. Development of density-inclination plasmas for analysis of plasma nano-processes via combinatorial method

    Y. Setsuhara, K. Nagao, M. Shiratani, M. Sekine, M. Hori

    Thin Solid Films　Vol. 518　p. 1020-1023　2009年8月　研究論文（学術雑誌）

  113. Plasma surface treatment of polymers with inductivity-coupled RF plasmas driven by low-inductance antenna units

    Y. Setsuhara, K. Cho, K. Takenaka, A. Ebe, M. Shiratani, M. Sekine, M. Hori, E.. Ikeitaga, H. Kondo, O. Nakatsuka, S. Zaima

    Thin Solid Films　Vol. 518　p. 1006-1011　2009年6月　研究論文（学術雑誌）

  114. Radial-Profile Control of Cylindrical Plasma Source With Multiple Low-Inductance Antenna Units

    Kosuke Takenaka, Yuichi Setsuhara, Kazuaki Nishisaka, Akinori Ebe

    PLASMA PROCESSES AND POLYMERS　Vol. 6　No. S1　p. S278-S281　2009年　研究論文（学術雑誌）

  115. Large-area and low-damage processes for hybrid flexible device fabrications with reactive high-density plasmas driven by multiple low-inductance antenna modules

    Yuichi Setsuhara, Kosuke Takenaka, Ken Cho, Jeon G. Han

    Journal of Physics: Conference Series　Vol. 165　p. 12042-1-12042-6　2009年　研究論文（国際会議プロシーディングス）

    出版者・発行元：Institute of Physics Publishing

  116. Magnetron sputtered Si-B-C-N films with high oxidation resistance and thermal stability in air at temperatures above 1500℃

    Jaroslav Vlcek, Stanislav Hreben, Jiri Kalas, Jiri Capek, Petr Zeman, Radomir Cerstvy, Vratislav Perina, Yuichi Setsuhara

    J. Vac. Sci. Technol. A　Vol. 26　No. 5　p. 1101-1108　2008年9月　研究論文（学術雑誌）

  117. Interface structures of microcrystalline silicon films deposited with inductively coupled plasmas using internal low-inductance antenna units

    Hirokazu Kaki, Eiji Takahashi, Tsukasa Hayashi, Kiyoshi Ogata, Akinori Ebe, Kosuke Takenaka, Yuichi Setsuhara

    Surface and Coatings Technology　Vol. 202　p. 5672-5675　2008年9月　研究論文（学術雑誌）

  118. Corrosion Resistance of Plasma-Oxidized Stainless Steel

    Jiro Okado, Ken Okada, Asahiko Ishiyama, Yuichi Setsuhara, Kosuke Takenaka

    Surface and Coatings Technology　Vol. 202　p. 5595-5598　2008年9月　研究論文（学術雑誌）

  119. Large-Area Low-Damage Plasma Sources Driven by Multiple Low-Inductance-Antenna Modules for Next-Generation Flat-Panel Display Processes

    Yuichi Setsuhara, Kosuke Takenaka, Akinori Ebe

    Surface and Coatings Technology　Vol. 202　p. 5225-5229　2008年9月　研究論文（学術雑誌）

  120. Uniformity of 500-mm Cylindrical Plasma Source Sustained with Multiple Low-Inductance Antenna Units

    Yuichi Setsuhara, Daisuke Tsukiyama, Kosuke Takenaka

    Surface and Coatings Technology　Vol. 202　p. 5238-5241　2008年9月　研究論文（学術雑誌）

  121. Modification of Yttrium-Iron-Oxide Nanoparticle Films Using Inductively-Coupled Plasma Annealing

    Kosuke Takenaka, Hiroaki Nakayama, Yuichi Setsuhara, Hiroya Abe, Kiyoshi Nogi

    Surface and Coatings Technology　Vol. 202　p. 5336-5338　2008年9月　研究論文（学術雑誌）

  122. Discharge Profiles of Internal-Antenna-Driven Inductively-Coupled Plasmas

    Yuichi Setsuhara, Takashi Sera, Kosuke Takenaka

    Surface and Coatings Technology　Vol. 202　p. 5234-5237　2008年9月　研究論文（学術雑誌）

  123. Properties of Argon/Oxygen Mixture Plasmas Driven by Multiple Internal-Antenna Units

    Yuichi Setsuhara, Kosuke Takenaka, Akinori Ebe, Jeon G. Han

    Surface and Coatings Technology　Vol. 202　p. 5230-5233　2008年9月　研究論文（学術雑誌）

  124. Properties of argon/oxygen mixture plasmas driven by multiple internal-antenna units

    Yuichi Setsuhara, Kosuke Takenaka, Akinori Ebe, Jeon G. Han

    SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY　Vol. 202　No. 22-23　p. 5230-5233　2008年8月　研究論文（学術雑誌）

  125. Large-area low-damage plasma sources driven by multiple low-inductance-antenna modules for next-generation flat-panel display processes

    Yuichi Setsuhara, Kosuke Takenaka, Akinori Ebe

    SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY　Vol. 202　No. 22-23　p. 5225-5229　2008年8月　研究論文（学術雑誌）

  126. Discharge profiles of internal-antenna-driven inductively-coupled plasmas

    Yuichi Setsuhara, Takashi Sera, Kosuke Takenaka

    SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY　Vol. 202　No. 22-23　p. 5234-5237　2008年8月　研究論文（学術雑誌）

  127. Uniformity of 500-mm cylindrical plasma source sustained with multiple low-inductance antenna units

    Yuichi Setsuhara, Daisuke Tsukiyama, Kosuke Takenaka

    SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY　Vol. 202　No. 22-23　p. 5238-5241　2008年8月　研究論文（学術雑誌）

  128. Modification of yttrium-iron-oxide nanoparticle films using inductively-coupled plasma annealing

    Kosuke Takenaka, Hiroaki Nakayama, Yuichi Setsuhara, Hiroya Abe, Kiyoshi Nogi

    SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY　Vol. 202　No. 22-23　p. 5336-5338　2008年8月　研究論文（学術雑誌）

  129. Corrosion resistance of plasma-oxidized stainless steel

    Jiro Okado, Ken Okada, Asahiko Ishiyama, Yuichi Setsuhara, Kosuke Takenaka

    SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY　Vol. 202　No. 22-23　p. 5595-5598　2008年8月　研究論文（学術雑誌）

  130. Simulation-Aided Designing of Meter-Scale Large-Area Plasma Source with Multiple Low-Inductance Antenna Modules

    Yuichi Setsuhara, Daisuke Tsukiyama, Kosuke Takenaka, Koichi Ono

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS　Vol. 47　No. 8　p. 6903-6906　2008年8月　研究論文（学術雑誌）

  131. Characterization of Ion Energy Distribution in Inductively Coupled Argon Plasmas Sustained with Multiple Internal-Antenna Units

    Kosuke Takenaka, Yuichi Setsuhara, Kazuaki Nishisakai, Akinori Ebe

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS　Vol. 47　No. 8　p. 6900-6902　2008年8月　研究論文（学術雑誌）

  132. Mechanical milling with capacitively coupled plasma for surface modification of particulate materials

    Jun-ichi Noma, Hiroya Abe, Kosuke Takenaka, Yuichi Setsuhara, Makio Naito

    SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY　Vol. 202　No. 22-23　p. 5347-5349　2008年8月　研究論文（学術雑誌）

  133. マルチアンテナ型RFプラズマによるメートル級大面積での低ダメージプロセスと制御

    節原 裕一, 竹中 弘祐, 江部 明憲

    日本機械学会関東支部第14期総会講演会講演論文集　p. 391-392　2008年3月　研究論文（その他学術会議資料等）

  134. Meters-Scale Ultra-Large-Area Plasma-Source Designs Employing Multiple Low-Inductance -Antenna Modules

    Yuichi Setsuhara, Daisuke Tsukiyama, Kosuke Takenaka, Akinori Ebe

    Full-Papers CD of the 18th International Symposium on Plasma Chemistry　p. 30P-77-1-30P-77-4　2007年8月　研究論文（国際会議プロシーディングス）

  135. Characterization of Argon/Oxygen Mixture Plasmas Driven by Multiple Internal-Antenna Units

    Kosuke Takenaka, Yuichi Setsuhara, Kazuaki Nishisaka, Akinori Ebe, Yong-Mo Kim, Jeon G. Han

    Full-Papers CD of the 18th International Symposium on Plasma Chemistry　p. 30P-76-1-30P-76-4　2007年8月　研究論文（国際会議プロシーディングス）

  136. Meters-Scale Large-Area Plasma Sources with Multiple Low-Inductance Antenna Units for Next-Generation Flat-Panel Display Processing

    Daisuke Tsukiyama, Kosuke Takenaka, Yuichi Setsuhara, Kazuaki Nishisaka, Akinori Ebe

    Transactions of the Materials Research Society of Japan　Vol. 32　p. 497-500　2007年4月　研究論文（学術雑誌）

  137. Modification of nanoparticle films with inductively-coupled high-pressure RF plasmas

    Kosuke Takenaka, Hiroaki Nakayama, Yuichi Setsuhara, Hiroya Abe, Kiyoshi Nogi

    Transactions of the Materials Research Society of Japan　Vol. 32　p. 505-508　2007年4月　研究論文（学術雑誌）

  138. Effect of Pressure on Inductively-Coupled Plasmas Sustained with Multiple Low-Inductance Internal-Antenna Units

    Kosuke Takenaka, Yuichi Setsuhara, Kazuaki Nishisaka, Akinori Ebe

    Transactions of the Materials Research Society of Japan　Vol. 32　p. 493-496　2007年4月　研究論文（学術雑誌）

  139. Plasma Profiles of Inductively Coupled Plasmas Sustained with Low-Inductance Internal Antenna

    Kosuke Takenaka, Takashi Sera, Akinori Ebe, Yuichi Setsuhara

    PLASMA PROCESSES AND POLYMERS　Vol. 4　p. S1013-S1016　2007年4月　研究論文（学術雑誌）

  140. Properties of Inductively-Coupled Plasmas Driven by Multiple Low-Inductance Internal-Antenna Units

    Kosuke Takenaka, Yuichi Setsuhara, Kazuaki Nishisaka, Akinori Ebe

    PLASMA PROCESSES AND POLYMERS　Vol. 4　p. S1009-S1012　2007年4月　研究論文（学術雑誌）

  141. Production and Control of Large-Area Plasmas for Meters-Scale Flat-Panel-Display Processing with Multiple Low-Inductance Antenna Modules

    Yuichi Setsuhara, Kosuke Takenaka, Akinori Ebe, Kazuaki Nishisaka

    PLASMA PROCESSES AND POLYMERS　Vol. 4　p. S628-S632　2007年4月　研究論文（学術雑誌）

  142. Large-area and high-speed deposition of microcrystalline silicon film by inductive coupled plasma using internal low-inductance antenna

    Eiji Takahashi, Yasuaki Nishigami, Atsushi Tomyo, Masaki Fujiwara, Hirokazu Kaki, Kiyoshi Kubota, Tsukasa Hayashi, Kiyoshi Ogata, Akinori Ebe, Yuichi Setsuhara

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS BRIEF COMMUNICATIONS & REVIEW PAPERS　Vol. 46　No. 3B　p. 1280-1285　2007年3月　研究論文（学術雑誌）

  143. Development of large area plasma reactor using multiple low-inductance antenna modules for flat panel display processing

    Y. Setsuhara, K. Takenaka, A. Ebe, K. Nishisaka

    Solid State Phenomena　Vol. 127　p. 239-244　2007年　研究論文（国際会議プロシーディングス）

    出版者・発行元：Trans Tech Publications Ltd

  144. Development of inductively-coupled RF plasma source for carbon alignment film deposition

    T. Matsumoto, Y. Kinoshita, Y. Matsuda, Y. Andoh, Y. Setsuhara, Y. Iimura

    IDW '07: PROCEEDINGS OF THE 14TH INTERNATIONAL DISPLAY WORKSHOPS, VOLS 1-3　p. 541-+　2007年　研究論文（国際会議プロシーディングス）

  145. Ultrafast phase transition of Si by femtosecond laser pulse irradiation - art. no. 63463S

    Masayuki Fujita, Yusaku Izawa, Masaki Hashida, Yuichi Setsuhara, Yasukazu Izawa, Chiyoe Yamanaka

    XVI International Symposium on Gas Flow, Chemical Lasers, and High-Power Lasers, Pts 1 and 2　Vol. 6346　p. S3463-S3463　2007年　研究論文（国際会議プロシーディングス）

  146. マルチ低インダクタンスアンテナモジュールによるメートルサイズを越える大面積高周波プラズマ源の設計

    節原 裕一, 築山 大輔, 竹中 弘祐, 江部 明憲

    第24回プラズマプロセッシング研究会プロシーディングス　p. 61-62　2007年1月　研究論文（その他学術会議資料等）

  147. 低インダクタンス内部アンテナで生成した500 mm 径円筒プラズマの均一性

    築山 大輔, 竹中 弘祐, 節原 裕一, 江部 明憲

    第24回プラズマプロセッシング研究会プロシーディングス　p. 63-64　2007年1月　研究論文（その他学術会議資料等）

  148. マルチ内部アンテナを用いた誘導結合プラズマ中のイオンエネルギー分布

    竹中 弘祐, 節原 裕一, 西坂 和晃, 江部 明憲

    第24回プラズマプロセッシング研究会プロシーディングス　p. 65-66　2007年1月　研究論文（その他学術会議資料等）

  149. マルチ内部アンテナを用いて生成したAr+O2 プラズマの特性

    竹中 弘祐, 節原 裕一, 江部 明憲, Kim Yong-Mo, Han Jeon G

    第24回プラズマプロセッシング研究会プロシーディングス　p. 67-68　2007年1月　研究論文（その他学術会議資料等）

  150. 内部アンテナ型誘導結合プラズマにおける電位形成

    世良 崇, 竹中 弘祐, 江部 明憲, 節原 裕一

    第24回プラズマプロセッシング研究会プロシーディングス　p. 69-70　2007年1月　研究論文（その他学術会議資料等）

  151. 微粉砕中でのプラズマ発生とナノ粒子表面改質

    野間淳一, 阿部浩也, 竹中弘祐, 節原裕一, 内藤牧男

    第24回プラズマプロセッシング研究会プロシーディングス　p. 5-6　2007年1月　研究論文（その他学術会議資料等）

  152. 高気圧誘導結合RFプラズマを用いたイットリウム鉄ガーネットナノ粒子薄膜の相構造制御

    節原 裕一, 中山 浩明, 竹中 弘祐, 阿部 浩也, 野城 清

    第24回プラズマプロセッシング研究会プロシーディングス　p. 111-112　2007年1月　研究論文（その他学術会議資料等）

  153. Ultra-large area RF plasma sources employing multiple low-inductance internal-antenna modules for flat panel display processing

    Yuichi Setsuhara, Kosuke Takenaka, Daisuke Tsukiyama, Kazuaki Nishisaka, Akinori Ebe

    PRICM 6: SIXTH PACIFIC RIM INTERNATIONAL CONFERENCE ON ADVANCED MATERIALS AND PROCESSING, PTS 1-3　Vol. 561-565　p. 1237-1240　2007年　研究論文（国際会議プロシーディングス）

  154. PROPERTIES OF INDUCTIVETY-COUPLED RF PLASMAS SUSTAINED WITH INTERNAL ANTENNA FOR DEPOSITION OF CARBON-RELATED FILMS

    Kosuke Takenaka, Yuichi Setsuhara, Kazuaki Nishisaka, Akinori Ebe

    CHARACTERIZATION AND CONTROL OF INTERFACES FOR HIGH QUALITY ADVANCED MATERIALS II　Vol. 198　p. 413-+　2007年　研究論文（国際会議プロシーディングス）

  155. Development of large area plasma reactor using multiple low-inductance antenna modules for flat panel display processing

    Y. Setsuhara, K. Takenaka, A. Ebe, K. Nishisaka

    DESIGNING OF INTERFACIAL STRUCTURES IN ADVANCED MATERIALS AND THEIR JOINTS　Vol. 127　p. 239-+　2007年　研究論文（国際会議プロシーディングス）

  156. Ultrathin amorphous Si layer formation by femtosecond laser pulse irradiation

    Yusaku Izawa, Yasukazu Izawa, Yuichi Setsuhara, Masaki Hashida, Ryuichiro Sasaki, Hiroyuki Nagai, Makoto Yoshida

    APPLIED PHYSICS LETTERS　Vol. 90　No. 4　p. 044107-1-044107-2　2007年1月　研究論文（学術雑誌）

  157. Effects of antenna size and configurations in large-area RF plasma production with internal low-inductance antenna units

    Hiroshige Deguchi, Hitoshi Yoneda, Kenji Kato, Kiyoshi Kubota, Tsukasa Hayashi, Kiyoshi Ogata, Akinori Ebe, Kosuke Takenaka, Yuichi Setsuhara

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS BRIEF COMMUNICATIONS & REVIEW PAPERS　Vol. 45　No. 10B　p. 8042-8045　2006年10月　研究論文（学術雑誌）

  158. Characterization of inductively-coupled RF plasma sources with multiple low-inductance antenna units

    Kosuke Takenaka, Yuichi Setsuhara, Kazuaki Nishisaka, Akinori Ebe, Shinya Sugiura, Kazuo Takahashi, Koichi Ono

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS BRIEF COMMUNICATIONS & REVIEW PAPERS　Vol. 45　No. 10B　p. 8046-8049　2006年10月　研究論文（学術雑誌）

  159. Surface Modification of Nanopowder by Milling under Electric Discharge

    Hiroya Abe, Akira Kondo, Kosuke Takenaka, Yuichi Setsuhara, Makio Naito

    Advances in Science and Technology　Vol. 45　p. 363-367　2006年9月　研究論文（学術雑誌）

  160. Ablation and amorphization of crystalline Si by femtosecond and picosecond laser irradiation

    Yusaku Izawa, Yuichi Setuhara, Masaki Hashida, Masayuki Fujita, Yasukazu Izawa

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS BRIEF COMMUNICATIONS & REVIEW PAPERS　Vol. 45　No. 7　p. 5791-5794　2006年7月　研究論文（学術雑誌）

  161. Development of Internal-Antenna-Driven RF Plasma Sources for Ultra-Large-Area Deposition of Carbon-Related Films

    Y. Setsuhara, K. Takenaka

    11th International Conferences on Modern Materials and Technologies　2006年6月　研究論文（国際会議プロシーディングス）

  162. Development of Large Area Plasma Reactor Using Multiple Low-Inductance Antenna Modules for Flat Panel Display Processing

    Y.Setsuhara, K.Takenaka, A.Ebe, K.Nishisaka

    Proceedings of InternationalWorkshop on Designing of Interfacial Structrures in Advanced Materials and their Joints　p. 17-17　2006年5月　研究論文（国際会議プロシーディングス）

  163. Novel ICP plasma source for large area CVD processing

    Y. Setsuhara, K. Takenaka, A. Ebe, K. Nishisaka

    The 3rd International Workshop on Advanced Plasma Processing and Diagnostics　p. 3-3　2006年4月　研究論文（国際会議プロシーディングス）

  164. Microwave-sustained miniature plasmas for an ultra small thruster

    Yoshinori Takao, Kouichi Ono, Kazuo Takahashi, Yuichi Setsuhara

    Thin Solid Films　Vol. 506-507　p. 592-596　2006年4月　研究論文（学術雑誌）

  165. Properties of Inductively-Coupled RF Plasma Sources with Multiple Low-Inductance Antenna Modules

    Kosuke Takenaka, Yuichi Setsuhara, Kazuaki Nishisaka, Akinori Ebe, Shinya Sugiura, Kazuo Takahashi, Koichi Ono

    Proceedings of the 6th International Conference on Reactive Plasmas and 23rd Symposium on Plasma Processing　p. 183-184　2006年1月　研究論文（国際会議プロシーディングス）

  166. Development of Meters-Scale Large-Area RF Plasma Sources with Control Capabilities of Power Deposition Profiles

    Yuichi Setsuhara, Akinori Ebe, Kazuaki Nishisaka, Kosuke Takenaka

    Proceedings of the 6th International Conference on Reactive Plasmas and 23rd Symposium on Plasma Processing　p. 179-180　2006年1月　研究論文（国際会議プロシーディングス）

  167. Direct deposition of microcrystalline Si films on large size glass substrate by internal ICP source

    E. Takahashi, H. Kaki, M. Fujiwara, Y. Nishigami, K. Kubota, T. Hayashi, K. Ogata, A. Ebe, Y. Setsuhara

    Transactions of the Materials Research Society of Japan, Vol 31, No 2　Vol. 31　No. 2　p. 507-510　2006年　研究論文（国際会議プロシーディングス）

  168. Properties of inductively coupled hydrogen plasmas sustained with multiple low-inductance internal-antenna units

    Kosuke Takenaka, Yuichi Setsuhara, Kazuaki Nishisaka, Akinori Ebe

    Transactions of the Materials Research Society of Japan, Vol 31, No 2　Vol. 31　No. 2　p. 511-514　2006年　研究論文（国際会議プロシーディングス）

  169. New quaternary SI-B-C-N films prepared by reactive magnetron sputtering

    J. Vlcek, S. Potocky, J. Houska, P. Zeman, V. Perina, Y. Setsuhara

    Transactions of the Materials Research Society of Japan, Vol 31, No 2　Vol. 31　No. 2　p. 447-451　2006年　研究論文（国際会議プロシーディングス）

  170. Development of Meters-Scale/Large-Area Inductively Coupled Plasma Sources with Integrated Control of Multiple Low-Inductance Internal-Antenna Modules

    Y.Setsuhara, K.Takenaka, K.Nishisaka, A.Ebe

    The 16th Symposium of The Materials Research Society of Japan (MRS-J)　2005年12月　研究論文（その他学術会議資料等）

  171. Potential Distributions and Ionic Behaviors during Electrophoretic Deposition of Ceramics Films in Nanoparticles-Dispersed Liquid

    T.Sano, K.Takenaka, Y.Setsuhara, K.Sato, H.Abe, K.Nogi

    The 16th Symposium of The Materials Research Society of Japan (MRS-J)　2005年12月　研究論文（その他学術会議資料等）

  172. Reactive magnetron sputtering of hard Si-B-C-N films with a high-temperature oxidation resistance

    Jaroslav Vlcek, Stepan Potocky, Jiri Cizek, Jiri Houska, Martin Kormunda, Petr Zeman, Vratislav Perina, Josef Zemek, Yuichi Setsuhara, Seiji Konuma

    J. Vac. Sci. Technol.　Vol. A23　No. 6　p. 1513-1522　2005年10月　研究論文（学術雑誌）

  173. Etching characteristics of high-k dielectric HfO2 thin films in inductively coupled fluorocarbon plasmas

    Kazuo Takahashi, Kouichi Ono, Yuichi Setsuhara

    J. Vac. Sci. Technol.　Vol. A23　No. 6　p. 1691-1697　2005年10月　研究論文（学術雑誌）

    出版者・発行元：AIP Publishing

  174. プラズマ生成の原理と実際

    節原裕一

    第12回プラズマエレクトロニクスサマースクールテキスト（応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会）　p. 1-20　2005年8月

  175. メートルサイズの大面積プロセスに向けたプラズマ技術

    節原裕一, 江部明憲

    表面技術　Vol. 56　No. 5　p. 268-275　2005年5月

    出版者・発行元：The Surface Finishing Society of Japan

  176. Characterization of Amorphous Hydrogenated Carbon Formed by Low-pressure Inductively Coupled Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition Using Multiple Low-Inductance Antenna Units

    Osamu Tsuda, Masatou Ishihara, Yoshinoi Koga, Shuzo Fujiwara, Yuichi Setsuhara, Naoyuki Sato

    J. Phys. Chem. B　Vol. 109　No. 11　p. 4917-4922　2005年2月　研究論文（学術雑誌）

  177. 次世代メートルサイズ大面積プロセス用プラズマ源

    節原裕一

    プラズマ・核融合学会誌　Vol. 81　No. 2　p. 85-93　2005年2月

  178. Surface modification of crystalline Si irradiated by femtosecond laser pulses

    Yu Izawa, M. Fujita, Y. Setsuhara, M. Hashida, Y. Izawa

    Conference on Lasers and Electro-Optics Europe - Technical Digest　2005年　研究論文（国際会議プロシーディングス）

  179. 誘導結合型フルオロカーボンプラズマを用いた高誘電率HfO2薄膜のエッチング

    高橋和生, 斧 高一, 節原裕一

    表面技術　Vol. 55　No. 12　p. 793-799　2004年12月　研究論文（学術雑誌）

    出版者・発行元：表面技術協会

  180. Characterization of porosity and dielectric constant of fluorocarbon porous films synthesized by using plasma-enhanced chemical vapor deposition and solvent process

    K. Takahashi, T. Mitamura, K. Ono, Y. Setsuhara, A. Itoh, K. Tachibana

    Appl. Phys. Lett. 82, pp. 2476-2478 (2003).　Vol. 82　No. 15　p. 2476-2478　2003年12月　研究論文（学術雑誌）

  181. Tribological Property of CeO2 Films Prepared by Ion-Beam-Assisted Deposition

    Ippei Shimizu, Yuichi Setsuhara, Shoji Miyake, Jindrich Musil, Hidenori Saitou, Masao Kumagai

    Jpn. J. Appl. Phys. 42, pp. 634-639 (2003).　Vol. 42　No. 2　p. 634-639　2003年4月　研究論文（学術雑誌）

  182. Mechanical properties of zirconium films prepared by ion-beam assisted deposition

    A. Mitsuo, T. Mori, Y. Setsuhara, S. Miyake, T. Aizawa

    Nucl. Instrum. Meth. B 206, pp. 366-370 (2003).　2003年4月　研究論文（学術雑誌）

  183. Performance of inductively coupled fluorocarbon plasmas in etching of HfO2 thin films as a high-k gate insulating material

    Takahashi, K, Ono, K, Setsuhara, Y

    Proc. of 2003 Int. Symp. on Dry Process, Tokyo, Japan　p. 247-252　2003年　研究論文（国際会議プロシーディングス）

  184. Gas phase nucleation of diamond in non-thermal fluorocarbon dusty plasmas

    Takahashi, K, Ono, K, Setsuhara, Y, Okano, T, Kouzaki, T

    Abstracts and Full Paper CD of 16th Int. Symp. on Plasma Chemistry, Taormina, Italy　p. Po.10.33-3 pages　2003年　研究論文（国際会議プロシーディングス）

  185. Particle-in-cell simulation of ion thruster with multiple plasma channels extracted from high-density helicon plasma source

    Yamamoto, H, Setsuhara, Y, Takahashi, K, Ono, K

    Abstracts and Full Paper CD of 16th Int. Symp. on Plasma Chemistry, Taormina, Italy　p. Po.5.45-6 pages　2003年　研究論文（国際会議プロシーディングス）

  186. Plasma chemical behavior of reaction products during inductively coupled CF4 plasma etching of Si and SiO2

    Fujikake, I, Ono, K, Takahashi, K, Setsuhara, Y

    Abstracts and Full Paper CD of 16th Int. Symp. on Plasma Chemistry, Taormina, Italy　p. Po6.33-6 pages　2003年　研究論文（国際会議プロシーディングス）

  187. Development of internal-antenna-driven large-area RF plasma sources using multiple low-inductance antenna units

    Y. Setsuhara, T. Shoji, A. Ebe, S. Baba, N. Yamamoto, K. Takahashi, K. Ono, S. Miyake

    Surface and Coatings Technology　Vol. 174-175　p. 33-39　2003年　研究論文（学術雑誌）

    出版者・発行元：Elsevier

  188. フェムト秒レーザーによる物質プロセッシング

    橋田昌樹, 藤田雅之, 節原裕一

    光学 31, PP.621-628(2002).　Vol. 31　No. 8　p. 621-628　2002年12月

  189. プラズマＣＶＤと溶媒処理を用いたフルオロカーボン系多孔質構造Low-K薄膜の作成

    高橋和生, 三田村崇司, 斧 高一, 節原裕一

    表面技術 53, PP.857-859 (2002).　Vol. 53　No. 12　p. 857-859　2002年12月

    出版者・発行元：The Surface Finishing Society of Japan

  190. Morphology and Microstructure of Hard and Superhard Zr-Cu-N Nanocomposite Coatings

    Jindrich Musil, Jaroslav Vlcek, Petr Zeman, Yuichi Setsuhara, Shoji Miyake, Seiji Konuma, Masao Kumagai, Christian Mitte

    Jpn. J. Appl. Phys. 41, pp. 6529-6533 (2002).　Vol. 41　No. 11　p. 6529-6533　2002年4月　研究論文（学術雑誌）

  191. Synthesis of microcrystalline silicon films by plasma enhanced chemical vapor deposition using multiple inductively-coupled-plasma modules with low-inductance antenna

    A. Ebe, H. Inami, S. Baba, N. Yamamoto, Y. Setsuhara, T. Shoji, S. Miyake

    2002 International Microprocesses and Nanotechnology Conference, MNC 2002　2002年　研究論文（国際会議プロシーディングス）

    出版者・発行元：Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.

  192. Development of large-scale inductively coupled plasma source with multiple internal antennas units for synthesis of microcrystalline silicon films

    S. Baba, N. Yamamoto, H. Inami, A. Ebe, Y. Setsuhara, T. Shoji, S. Miyake

    2002 International Microprocesses and Nanotechnology Conference, MNC 2002　2002年　研究論文（国際会議プロシーディングス）

    出版者・発行元：Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.

  193. Production mechanism and chemical structure of dust particles in fluorocarbon plasmas

    K Takahashi, K Ono, Y Setsuhara

    DUSTY PLASMAS IN THE NEW MILLENNIUM　Vol. 649　p. 446-449　2002年　研究論文（国際会議プロシーディングス）

  194. 今三次元−プラズマイオンによる表面改質とプロセス−３ プラズマ源の開発

    節原裕一

    電気学会誌 121, pp.308-311(2001).　2001年12月

  195. Fundamental study of ion irradiation effects on the columnar growth of chromium films prepared by ion beam and vapor deposition

    N. Kuratani, A. Ebe, K. Ogata, I. Shimizu, Y. Setsuhara, S. Miyake

    J. Vac. Sci. Technol. A. 19 (1), pp. 153-157 (2001).　2001年4月　研究論文（学術雑誌）

  196. Development of internal-antenna-driven large-volume RF plasma sources for plasma-based ion implantation

    Y. Setsuhara, S. Miyake, Y. Sakawa, T. Shoji

    Surf. Coat. Technol. 136, pp. 60-64 (2001).　2001年4月　研究論文（学術雑誌）

  197. Synthesis of carbon nitride films by high-density helicon wave-excited plasma sputtering

    Y. Setsuhara, Y. Sakawa, T. Shoji, M. Kumagai, S. Miyake

    Surf. Coat. Technol. 142-144, pp. 874-880 (2001).　2001年4月　研究論文（学術雑誌）

  198. Improved anti-wear performance of nanostructured titanium boron nitride coatings

    J. L. He, S. Miyake, Y. Setsuhara, I. Shimizu, M. Suzuki, K. Numata, H. Saito

    Wear 249, pp. 498-502 (2001).　2001年4月　研究論文（学術雑誌）

  199. Structure refinement and hardness enhancement of titanium nitride films by addition of copper

    J. L. He, Y. Setsuhara, I. Shimizu, S. Miyake

    Surface and Coatings Technology　Vol. 137　No. 1　p. 38-42　2001年　研究論文（学術雑誌）

  200. イオンビーム支援蒸着法を用いたCeO2薄膜合成におけるモルフォロジーに及ぼすイオン照射効果

    志水一平, 節原裕一, 斉藤英純, 熊谷正夫, 三宅正司

    高温学会誌 26, No.5, pp. 211-218 (2000).　2000年5月　研究論文（学術雑誌）

  201. 低インダクタンス内部アンテナを用いた大口径誘導結合ＲＦプラズマ生成

    節原裕一, 三宅正司, 坂和洋一, 庄司多津男

    電気学会プラズマ研究会資料　2000年4月　研究論文（学術雑誌）

  202. Effects of Ion beam Irradiation on Morphology and Densification of CeO2 Films by Ion Beam Assisted Deposition

    I. Shimizu, Y. Setsuhara, S. Miyake, H. Saito, M. Kumagai

    Jpn. J. Appl. Phys. 39, pp. 4138-4142 (2000).　Vol. 39　No. 7　p. 4138-4142　2000年4月　研究論文（学術雑誌）

    出版者・発行元：公益社団法人 応用物理学会

  203. Development of High Density RF Plasma and Application to PVD

    S. Miyake, Y. Setsuhara, Y. Sakawa, T. Shoji

    Surf. Coat. Technol. 131, pp.171-176 (2000).　2000年4月　研究論文（学術雑誌）

  204. Intrenal-antenna driven inductive RF discharges for development of large-area high-density plasma sources with supressed electrostatic coupling

    S. Miyake, Y. Setsuhara, Y. Sakawa, T. Shoji

    Vacuum 59, pp. 472-478 (2000).　2000年4月　研究論文（学術雑誌）

  205. Influence of ion energy and arrival rate on x-ray crystallographic properties of thin ZrOx films prepared on Si(111) substrate by ion-beam assisted deposition

    M. Matsuoka, S. Isotani, J. F.D. Chubaci, S. Miyake, Y. Setsuhara, K. Ogata, N. Kuratani

    Journal of Applied Physics　Vol. 88　No. 6　p. 3773-3775　2000年　研究論文（学術雑誌）

    出版者・発行元：American Institute of Physics Inc.

  206. Preparation of aluminum oxide films by ion beam assisted deposition

    I. Shimizu, Y. Setsuhara, S. Miyake, M. Kumagai, K. Ogata, M. Kohata, K. Yamaguchi

    Surface and Coatings Technology　Vol. 131　No. 1-3　p. 187-191　2000年　研究論文（国際会議プロシーディングス）

  207. Synthesis of CeO2 Films by Ion Beam Assisted Deposition

    I. Shimizu, M. Kumagai, H. Saito, Y. Setsuhara, Y. Makino, S. Miyake

    Ion Implantation Technology-98 ed. by J. Matsuo, G. Takaoka and I. Yamada (IEEE Inc., New Jersey, 1999) pp. 943-946.　1999年12月　研究論文（学術雑誌）

  208. Properties of Cubic Boron Nitride Films Prepared by Ion Beam Assisted Deposition

    M. Kumagai, S. Konuma, Y. Setsuhara, S. Miyake, K. Ogata, M. Kohata

    Ion Implantation Technology-98 ed. by J. Matsuo, G. Takaoka and I. Yamada (IEEE Inc., New Jersey, 1999) pp. 1140-1143.　1999年12月　研究論文（学術雑誌）

  209. Formation of b-SiC Thin Layers by Implantation of Carbon Ions into Silicon by Using MEVVA Ion Source

    S. Yonekubo, Y. Setsuhara, S. Miyake, M. Kumagai, B. Kyoh

    Ion Implantation Technology-98 ed. by J. Matsuo, G. Takaoka and I. Yamada (IEEE Inc., New Jersey, 1999) pp. 1090-1092.　1999年12月　研究論文（学術雑誌）

  210. Studies on Magnetron Sputtering Assisted by Inductively Coupled RF Plasma for Enhanced Metal Ionization

    M. Yamashita, Y. Setsuhara, S. Miyake, M. Kumagai, T. Shoji, J. Musil

    Jpn. J. Appl. Phys. 38, pp. 4291-4295 (1999).　Vol. 38　No. 7　p. 4291-4295　1999年12月　研究論文（学術雑誌）

  211. Production of Inductively-Coupled Large-Diameter Plasmas with Internal Antenna

    Y. Setsuhara, S. Miyake, Y. Sakawa, T. Shoji

    Vol. 38　No. 7　p. 4263-4267　1999年9月　研究論文（学術雑誌）

  212. Sintering of Al2O3-ZrO2 composites using millimeter-wave radiation

    Y Makino, T Ohmae, Y Setsuhara, S Miyake, S Sano

    SCIENCE OF ENGINEERING CERAMICS II　Vol. 2　p. 41-44　1999年　研究論文（学術雑誌）

  213. Millimeter-wave sintering of Si3N4

    T Ueno, S Kinoshita, Y Setsuhara, Y Makino, S Miyake, S Sano, H Saito

    SCIENCE OF ENGINEERING CERAMICS II　Vol. 2　p. 45-48　1999年　研究論文（学術雑誌）

  214. IBAD法を用いた多結晶cBN薄膜合成

    節原裕一, 熊谷正夫, 鈴木常生, 三宅正司

    第5回エレクトロニクスにおけるマイクロ接合・実装技術シンポジウム論文集, (1999) pp. 275-280.　1999年1月　研究論文（学術雑誌）

  215. Properties of cubic boron nitride films with buffer layer control for stress relaxation using ion-beam-assisted deposition

    Y. Setsuhara, M. Kumagai, M. Suzuki, T. Suzuki, S. Miyake

    Surface and Coatings Technology　Vol. 116-119　p. 100-107　1999年　研究論文（学術雑誌）

    出版者・発行元：Elsevier B.V.

  216. Formation of carbon nitride films by reactive high-density plasma sputtering with excitation of m=0 mode helicon wave

    S. Miyake, Y. Setsuhara, K. Shibata, M. Kumagai, Y. Sakawa, T. Shoji

    Surface and Coatings Technology　Vol. 116-119　p. 11-17　1999年　研究論文（学術雑誌）

    出版者・発行元：Elsevier B.V.

  217. イオン・プラズマプロセスによる硼素、炭素、窒素系超硬質薄膜の合成

    節原裕一, 三宅正司

    応用物理 67-6, pp. 659-663 (1998).　Vol. 67　No. 6　p. 659-663　1998年12月

    出版者・発行元：The Japan Society of Applied Physics

  218. ミリ波によるセラミックス加熱・焼結

    節原裕一

    ニューセラミックス 10, pp. 9-16 (1997).　1997年12月

  219. イオン照射を利用した成膜プロセスの評価法

    節原裕一, 三宅正司

    溶接学会誌 66, pp. 151-155 (1997).　Vol. 66　No. 3　p. 151-155　1997年12月

    出版者・発行元：JAPAN WELDING SOCIETY

  220. Phase variation and properties of (Ti, Al)N films prepared by ion beam assisted deposition

    Y Setsuhara, T Suzuki, Y Makino, S Miyake, T Sakata, H Mori

    SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY　Vol. 97　No. 1-3　p. 254-258　1997年12月　研究論文（学術雑誌）

  221. Inductively coupled reactive high-density plasmas designed for sputter deposition

    S Miyake, Y Setsuhara, JQ Zhang, M Kamai, B Kyoh

    SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY　Vol. 97　No. 1-3　p. 768-772　1997年12月　研究論文（学術雑誌）

  222. Ion Assisted Deposition of Crystalline TiNi Thin Films by Electron Cyclotron Resonance Plasma Enhanced Sputtering

    M. Misina, Y. Setsuhara, S. Miyake

    Jpn. J. Appl. Phys. 36, pp. 3629-3634 (1997).　Vol. 36　No. 6　p. 3629-3634　1997年12月　研究論文（学術雑誌）

  223. Measurements of Ion Energy Distribution Functions in a Radio Frequency Plasma Excited with an m=0 Mode Helical Antenna and Thin Film Preparation

    Y. Ohtsu, G. Tochitani, H. Fujita, J. Q. Zhang, Y. Setsuhara, S. Miyake

    Jpn. J. Appl. Phys. 36, pp. 4620-4624 (1997).　1997年12月　研究論文（学術雑誌）

  224. Formation of Carbon Nitride Films by Helicon Wave Plasma Enhanced DC Sputtering

    J. Q. Zhang, Y. Setsuhara, S. Miyake, B. Kyoh

    Jpn. J. Appl. Phys. 36, pp. 6894-6899 (1997).　Vol. 36　No. 11　p. 6894-6899　1997年12月　研究論文（学術雑誌）

    出版者・発行元：公益社団法人 応用物理学会

  225. Inductively-Coupled-Plasma-Assisted Planar Magnetron Discharge for Enhanced Ionization of Sputtered Atoms

    Y. Setsuhara, M. Kamai, S. Miyake, J. Musil

    Jpn. J. Appl. Phys. 36, pp. 4568-4571 (1997)　Vol. 36　No. 7　p. 4568-4571　1997年12月　研究論文（学術雑誌）

  226. Exposure of spacecraft insulators to energetic ions

    LL Zhang, H Tahara, L Yasui, T Yoshikawa

    7TH INTERNATIONAL SYMPOSIUM ON MATERIALS IN SPACE ENVIRONMENT　Vol. 399　p. 113-117　1997年　研究論文（国際会議プロシーディングス）

  227. イオンビーム支援蒸着法によって合成した(Ti, Al)N薄膜の微細構造と特性

    鈴木常生, 節原裕一, 三宅正司, 巻野勇喜雄, 坂田孝夫, 森博太郎

    第5回エレクトロニクスにおけるマイクロ接合・実装技術シンポジウム論文集, (1997) pp. 127-130.　1997年1月　研究論文（学術雑誌）

  228. Interface structure between polyimide film substrate and copper film prepared by ion beam and vapor deposition (IVD) method

    Akinori Ebe, Eiji Takahashi, Naoto Kuratani, Satoshi Nishiyama, Osamu Imai, Kiyoshi Ogata, Yuichi Setsuhara, Shoji Miyake

    Nuclear Instruments and Methods in Physics Research, Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms　Vol. 121　No. 1-4　p. 207-211　1997年　研究論文（学術雑誌）

    出版者・発行元：Elsevier

  229. Properties of depth-profile controlled boron nitride films prepared by ion-beam assisted deposition

    M. Kumagai, M. Suzuki, T. Suzuki, Y. Tanaka, Y. Setsuhara, S. Miyake, K. Ogata, M. Kohata, K. Higeta, T. Einishi, Y. Suzuki, Y. Shimoitani, Y. Motonami

    Nuclear Instruments and Methods in Physics Research, Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms　Vol. 127-128　p. 977-980　1997年　研究論文（学術雑誌）

    出版者・発行元：Elsevier

  230. Interfacial structure control of cubic boron nitride films prepared by ion-beam assisted deposition

    Y. Setsuhara, T. Suzuki, Y. Tanaka, S. Miyake, M. Suzuki, M. Kumagai, K. Ogata, M. Kohata, K. Higeta, T. Einishi, Y. Suzuki, Y. Shimoitani, Y. Motonami

    Nuclear Instruments and Methods in Physics Research, Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms　Vol. 127-128　p. 851-856　1997年　研究論文（学術雑誌）

    出版者・発行元：Elsevier

  231. Electron cyclotron resonance plasma enhanced direct current sputtering discharge with magnetic-mirror plasma confinement

    M. Mišina, Y. Setsuhara, S. Miyake

    Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films　Vol. 15　No. 4　p. 1922-1928　1997年　研究論文（学術雑誌）

    出版者・発行元：American Institute of Physics Inc.

  232. Improvement of Adhesion to Polyimide Substrates of Copper Film Prepared by Ion Beam and Vapor Deposition (IVD) Method

    A. Ebe, E.Takahashi, Y. Iwamoto, N. Kuratani, S. Nishiyama, O. Imai, K. Oagata, Y. Setsuhara, S. Miyake

    Thin Solid Films 281-282, pp. 356-359 (1996).　1996年12月　研究論文（学術雑誌）

  233. Effects of Ion Energy and Arrival Rate on the Composion of Zirconium Oxide Films Prepared by Ion-Beam Assisted Depostion

    M. Matsuoka, S. Isotani, S. Miyake, Y. Setsuhara, K. Ogata, N. Kuratani

    J. Appl. Phys. 80, pp. 1177-1181 (1996).　Vol. 80　No. 2　p. 1177-1181　1996年12月　研究論文（学術雑誌）

  234. イオンビーム照射による窒化硼素の相転移 : 低圧相から高圧相へ

    節原, 裕一, 鈴木, 常生, 三宅, 正司

    大阪大学低温センターだより　Vol. 96　p. 14-18　1996年10月　研究論文（大学，研究機関等紀要）

    出版者・発行元：大阪大学低温センター

  235. Synthesis of (Ti,Al)N films by ion beam assisted deposition (Reprinted from Nuclear Instruments and Methods in Physics Research B, vol 106, pg 120-125, 1995)

    Y Setsuhara, T Suzuki, Y Makino, S Miyake, T Sakata, H Mori

    ION BEAM MODIFICATION OF MATERIALS　p. 120-125　1996年　研究論文（国際会議プロシーディングス）

  236. Microwave plasma sintering of alumina

    DL Johnson, HH Su

    MICROWAVE PROCESSING OF MATERIALS V　Vol. 430　p. 629-634　1996年　研究論文（国際会議プロシーディングス）

  237. Advanced ceramics sintering using high-power millimeter-wave radiation

    Y Setsuhara, M Kamai, S Kinoshita, N Abe, S Miyake, T Saji

    MICROWAVE PROCESSING OF MATERIALS V　Vol. 430　p. 533-538　1996年　研究論文（国際会議プロシーディングス）

  238. Prediction of single phase formation of nitrides assisted by energetic particle bombardment

    Y Makino, Y Setsuhara, S Miyake

    ION BEAM MODIFICATION OF MATERIALS　p. 736-739　1996年　研究論文（国際会議プロシーディングス）

  239. Study of crystallization of copper films prepared by ion beam and vapour deposition method on polyimide substrates

    A Ebe, E Takahashi, N Kuratani, S Nishiyama, O Imai, K Ogata, Y Setsuhara, S Miyake

    ION BEAM MODIFICATION OF MATERIALS　p. 777-780　1996年　研究論文（国際会議プロシーディングス）

  240. A study of ion implantation induced variation of crystalline phase of boron nitride

    M Kumagai, M Ohkubo, K Ogata, K Higeta, Y Shimoitani, Y Shimizu, M Satou, Y Setsuhara, S Miyake

    ION BEAM MODIFICATION OF MATERIALS　p. 1081-1084　1996年　研究論文（国際会議プロシーディングス）

  241. The synthesis of TiB2 films by ion beam assisted deposition

    Y Wang, Y Setsuihara, S Miyake

    ION BEAM MODIFICATION OF MATERIALS　p. 744-747　1996年　研究論文（国際会議プロシーディングス）

  242. Characterization of helicon wave plasma designed for direct current sputtering

    J. Q. Zhang, Y. Setsuhara, T. Ariyasu, S. Miyake

    Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films　Vol. 14　No. 4　p. 2163-2168　1996年　研究論文（学術雑誌）

    出版者・発行元：American Institute of Physics Inc.

  243. Synthesis of(Ti, Al)N films by ion beam assisted deposition

    Y Setsuhara, T Suzuki, Y Makino, S Miyake, T Sakata, H Mori

    NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS　Vol. 106　No. 1-4　p. 120-125　1995年12月　研究論文（学術雑誌）

  244. Exposure of space material insulators to energetic ions

    Hirokazu Tahara, Lulu Zhang, Miki Hiramatsu, Toshiaki Yasui, Takao Yoshikawa, Yuichi Setsuhara, Shoji Miyake

    Journal of Applied Physics　Vol. 78　No. 6　p. 3719-3723　1995年　研究論文（学術雑誌）

  245. Microwave Sintering of Slip Cast Formed ZrO2-3 mol%Y2O3 Green Body

    Saburo Sano, Kiichi Oda, Yasuo Shibasaki, Kenichi Koizumi, Tomoya Matayoshi, Yuichi Setsuhara, Shoji Miyake

    Journal of the Japan Society of Powder and Powder Metallurgy　Vol. 42　No. 6　p. 767-770　1995年　研究論文（学術雑誌）

  246. Microstructure of titanium oxide films synthesized by ion bem dynamic mixing

    Y. Makino, Y. Setsuhara, S. Miyake

    Nucl. Instrum. Meth. B91, pp. 696-700 (1994).　1994年12月　研究論文（学術雑誌）

  247. Synthesis of Ti-Al alloys by ion-beam-enhanced deposition

    Y. Setsuhara, H. Ohsako, Y. Makino, S. Miyake

    Surface and Coatings Technology　Vol. 66　No. 1-3　p. 495-498　1994年　研究論文（学術雑誌）

  248. CERAMIC SINTERING BY HIGH-POWER MICROWAVE PLASMA

    Y SETSUHARA, R OHNISHI, S MIYAKE

    FIRST INTERNATIONAL CONFERENCE ON PROCESSING MATERIALS FOR PROPERTIES　p. 709-712　1993年　研究論文（国際会議プロシーディングス）

  249. Synthesis of aluminum oxide thin films by ion beam and vapor deposition technology

    K. Ogata, K. Yamaguchi, S. Kiyama, H. Hirano, S. Shimizu, M. Kohata, T. Miyano, Y. Setsuhara, S. Miyake

    Nuclear Inst. and Methods in Physics Research, B　Vol. 80-81　No. 2　p. 1423-1426　1993年　研究論文（学術雑誌）

  250. Titanium oxide films prepared by dynamic ion mixing

    Y. Setsuhara, H. Aoki, S. Miyake, A. Chayahara, M. Satou

    Nuclear Inst. and Methods in Physics Research, B　Vol. 80-81　No. 2　p. 1406-1408　1993年　研究論文（学術雑誌）

  251. High Density Compression of Hollow Pellet by Gekko XII at Osaka

    T.Yamanaka, S.Nakai, K.Mima, Y.Izawa, Y.Kato, K.Nishihara, T.Sasaki, M.Nakatsuka, M.Yamanaka, H.Azechi, T.Jitsuno, T.Norimatsu, K.A.Tanaka, N.Miyanaga, M.Nakai, M.Takagi, M.Katayama, H.Nakaishi, Y.Setsuhara, A.Nishiguchi, T.Kanabe, C.Yamanaka

    Particle Accelerators 37-39, pp.543-555 (1992).　1992年12月　研究論文（学術雑誌）

  252. Rutile-type TiO2 formation by ion beam dynamic mixing

    S. Miyake, K. Honda, T. Kohno, Y. Setsuhara, M. Satou, A. Chayahara

    J. Vac. Sci. Technol. A 10, pp. 3253-3259 (1992).　Vol. 10　No. 5　p. 3253-3259　1992年12月　研究論文（学術雑誌）

  253. Comparison of ion-implantation-induced damage in narrow-gap (0.1 eV) Hgi_xCdxTe and Hg1-xZnxTe

    S. Mivake, K. Honda, T. Kohno, Y. Setsuhara

    Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films　Vol. 10　No. 5　p. 3253-3259　1992年　研究論文（学術雑誌）

  254. HIGH-DENSITY COMPRESSION EXPERIMENTS AND REACTOR DESIGN AT ILE, OSAKA

    Y KITAGAWA, K MIMA, H AZECHI, H TAKABE, S NAKAI, C YAMANAKA

    INERTIAL CONFINEMENT FUSION　p. 94-107　1992年　研究論文（国際会議プロシーディングス）

  255. HIGH-DENSITY COMPRESSION EXPERIMENTS AT ILE, OSAKA

    AZECHI H, JITSUNO T, KANABE T, KATAYAMA M, MIMA K, MIYANAGA N, NAKAI M, NAKAI S, NAKAISHI H, NAKATSUKA M, NISHIGUCHI A, NORRAYS PA, SETSUHARA Y, TAKAGI M, YAMANAKA M

    Laser and Particle Beams　Vol. 9　No. 2　p. 193-207　1991年

  256. HIGH-DENSITY COMPRESSION OF HOLLOW-SHELL TARGET BY GEKKO XII AND LASER FUSION-RESEARCH AT ILE, OSAKA-UNIVERSITY

    S NAKAI, K MIMA, M YAMANAKA, H AZECHI, N MIYANAGA, A NISHIGUCHI, H NAKAISHI, YW CHEN, Y SETSUHARA, PA NORREYS, T YAMANAKA, K NISHIHARA, KA TANAKA, M NAKAI, R KODAMA, M KATAYAMA, Y KATO, H TAKABE, H NISHIMURA, H SHIRAGA, T ENDO, K KONDO, M NAKATSUKA, T SASAKI, T JITSUNO, K YOSHIDA, T KANABE, A YOKOTANI, T NORIMATSU, M TAKAGI, H KATAYAMA, Y IZAWA, C YAMANAKA

    LASER INTERACTION AND RELATED PLASMA PHENOMENA, VOL 9　Vol. 9　p. 25-67　1991年　研究論文（国際会議プロシーディングス）

  257. Six hundred times solid density compression of directly driven hollow shell pellets

    S.Nakai, K.Mima, T.Yamanaka, Y.Izawa, Y.Kato, K.Nishmura, T.Sasaki, M.Nakatsuka, M.Yamanaka, H.Azechi, T.Jitsuno, T.Norimatsu, K.A.Tanaka, N.Miyanaga, M.Nakai, M.Takagi, Y.-W.Chen, H.Katayama, M.Katayama, R.Kodama, H.Nakaishi, Y.Setsuhara, A.Nishiguchi, T.Kanabe, C.Yamanaka

    Plasma Physics and Controled Nuclear Fusion Research 3 (IAEA Press, Washington, DC, 1990) pp. 29-39.　1990年12月　研究論文（学術雑誌）

  258. SECONDARY NUCLEAR-FUSION REACTIONS AS EVIDENCE OF ELECTRON DEGENERACY IN HIGHLY COMPRESSED FUSION FUEL

    Y SETSUHARA, H AZECHI, N MIYANAGA, H FURUKAWA, R ISHIZAKI, K NISHIHARA, M KATAYAMA, A NISHIGUCHI, K MIMA, S NAKAI

    LASER AND PARTICLE BEAMS　Vol. 8　No. 4　p. 609-620　1990年　研究論文（学術雑誌）

  259. X-ray and particle diagnostics of a high-density plasma by laser implosion (invited)

    M. Nakai, M. Yamanaka, H. Azechi, Y. W. Chen, T. Jitsuno, M. Katayama, M. Mima, N. Miyanaga, H. Nakaishi, M. Nakatsuka, A. Nishiguchi, P. A. Norreys, Y. Setsuhara, M. Takagi, T. Norimatsu, T. Yamanaka, C. Yamanaka, S. Nakai

    Review of Scientific Instruments　Vol. 61　No. 10　p. 3235-3240　1990年　研究論文（学術雑誌）

  260. An Automated Analysis System for Proton Etched Tracks in CR-39

    H. Azechi, Y. Setsuhara, M. Yamanaka, S. Morinobu

    Ionizing Radiation 16, pp. 95-100 (1989).　1989年12月　研究論文（学術雑誌）

  261. DIRECT AREAL DENSITY-MEASUREMENT BY ACTIVATION TECHNIQUE FOR PLASTIC HOLLOW SHELL IMPLOSION EXPERIMENTS

    H NAKAISHI, N MIYANAGA, Y SETSUHARA, H AZECHI, M TAKAGI, M SAITO, M YAMANAKA, T YAMANAKA, S NAKAI, K KOBAYASHI, KIMURA, I

    APPLIED PHYSICS LETTERS　Vol. 55　No. 20　p. 2072-2074　1989年11月　研究論文（学術雑誌）

  262. DEVELOPMENT OF WOLTER TYPE-1 REPLICATED X-RAY OPTICS FOR LASER FUSION

    HASHIMOTO H, KAMIGAKI K, AOKI S, SETSUHARA Y, AZECHI H, YAMANAKA M, YAMANAKA T, IZAWA Y, YAMANAKA C

    BULLETIN OF THE JAPAN SOCIETY OF PRECISION ENGINEERING 22 (3), pp. 177-182 (1988).　1988年12月　研究論文（学術雑誌）

  263. レーザーエネルギー応用

    疇地 宏, 宮永 憲明, 中石 博之, 陳 延偉, 節原 裕一, 村上 匡旦, 山中 正宣, 西原 功修, 高部 英明, 三間 圀興, 山中 千代衛, 中井 貞雄, 中井 光男, 島田 耕治, 西村 博明, 近藤 公伯, 白神 宏之, 加藤 義章, 遠藤 琢磨, 中西 淑人, 矢部 孝, 大山 俊之, 横田 千秋, 西沢 博, 小林 雅義, 石井 忠浩, 武内 一夫, 乗松 孝好, 真野 豊司, 片山 秀史, 児玉 了祐, 西野 嘉也, 田中 和夫, 高木 勝, 椿原 啓, 久保 宇市, 実野 孝久, 金 辺忠, 横谷 篤至, 佐々木 孝友, 吉田 国雄, 中塚 正大, 植田 憲一, 宅間 宏, 笹川 照夫, 川原 章裕, 小原 實, 北川 米喜, 中山 師生, 澤井 清信, 三問 圀興, 畦地 宏, 大東 延久, 松本 孝之, 南畑 毅, 奥村 夏彦, 宮本 照雄, 仁木 秀明, 井澤 靖和, 仲 俊博, 小坂 学, 橋田 昌樹, 阪部 周二, 山中 龍彦, 望月 孝晏, 多田 昭史, 平原 猛

    レーザー研究　Vol. 16　No. Supplement　p. 101-103,108　1988年

    出版者・発行元：一般社団法人 レーザー学会

  264. Imaging characteristics of a replicated wolter type. I. X-ray mirror designed for laser plasma diagnostics

    Sadao Aoki, Munehisa Shiozawa, Keiji Kamigaki, Hiroshi Hashimoto, Masahiko Kokaji, Yuichi Setsuhara, Hiroshi Azechi, Masanobu Yamanaka, Tatsuhiko Yamanaka, Yasukazu Izawa, Chiyoe Yamanaka

    Japanese Journal of Applied Physics　Vol. 26　No. 6R　p. 952-954　1987年　研究論文（学術雑誌）

MISC 112

  1. プラズマ支援反応性スパッタリングによるアモルファス酸化ガリウム薄膜形成

    竹中弘祐, 小松響, 藤村知輝, 都甲将, 井手啓介, 江部明憲, 神谷利夫, 節原裕一

    応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 70th　2023年

  2. 大気圧非平衡プラズマジェットを用いた有機材料-金属異材接合技術の開発

    竹中弘祐, 中本壮太郎, 小鑓亮輔, 都甲将, 内田儀一郎, 節原裕一

    応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 70th　2023年

  3. 大気圧非平衡RFプラズマジェット照射が金属-有機材料異材直接接合に与える影響

    竹中弘祐, 中本壮太郎, 小鑓亮輔, 都甲将, 内田儀一郎, 節原裕一

    応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 84th　2023年

  4. プラズマを用いたCO2の水素還元における選択性の制御

    都甲将, 奥村賢直, 鎌滝晋礼, 竹中弘祐, 古閑一憲, 白谷正治, 節原裕一

    応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 84th　2023年

  5. 高移動度IGZO薄膜トランジスタの大面積均一形成に向けたプラズマ支援反応性プロセスの開発

    竹中弘祐, 吉谷友希, 都甲将, 内田儀一郎, 江部明憲, 節原裕一

    応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 69th　2022年

  6. プラズマ触媒作用を用いたCO2メタネーションにおける振動回転励起CO分子の役割

    都甲将, 出口雅志, 長谷川大樹, 奥村賢直, 鎌滝晋礼, 竹中弘祐, 古閑一憲, 白谷正治, 節原裕一

    応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 69th　2022年

  7. プラズマ支援ミストCVDによる3次元ナノ構造酸化亜鉛薄膜形成に向けたプラズマ中の液滴蒸発挙動の解析

    竹中弘祐, 都甲将, 節原裕一

    応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 83rd　2022年

  8. プラズマ触媒作用を用いたCO2メタネーションのためのゼロ次元シミュレーション

    都甲将, 長谷川大樹, 奥村賢直, 鎌滝晋礼, 竹中弘祐, 古閑一憲, 白谷正治, 節原裕一

    応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 83rd　2022年

  9. 反応性プラズマプロセスを用いた高性能IGZO薄膜トランジスタの低温形成

    竹中弘祐, 林祐仁, 都甲将, 江部明憲, 節原裕一

    応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 83rd　2022年

  10. 反応性プラズマプロセスを用いた高移動度IGZO薄膜トランジスタの低温形成(IV)

    竹中弘祐, 林祐仁, 小松響, 都甲将, 内田儀一郎, 江部明憲, 節原裕一

    応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 82nd　2021年

  11. プラズマ触媒反応において触媒が二酸化炭素リサイクリングのエネルギーコストに与える影響

    都甲将, 出口雅志, 長谷川大樹, 鎌滝晋礼, 竹中弘祐, 古閑一憲, 白谷正治, 節原裕一

    応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 82nd　2021年

  12. 非平衡プラズマが拓くパラダイム-薄膜トランジスタ形成から医療,異材接合まで-

    竹中弘祐, 節原裕一, 内田儀一郎, 江部明憲

    生産と技術　Vol. 72　No. 4　p. 15-19　2020年

  13. 水の科学と応用 大気圧非平衡プラズマによる水中活性種の生成・制御

    節原裕一, 節原裕一, 内田儀一郎, 竹中弘祐

    金属　Vol. 89　No. 6　2019年6月1日

  14. 大気圧非平衡Heプラズマジェットと溶液との相互作用に関する可視化研究

    内田儀一郎, 竹中弘祐, 川崎敏之, 古閑一憲, 白谷正治, 節原裕一

    スマートプロセス学会誌　Vol. 8　No. 2　2019年3月10日

  15. スパッタリングプロセスを用いた新規アモルファス酸化物半導体の創成

    節原裕一

    東京工業大学科学技術創成研究院フロンティア材料研究所共同利用研究報告書　Vol. 2018　2019年

  16. プラズマ支援ミストCVDにおけるプラズマ中の液滴蒸発挙動(II)

    竹中弘祐, 節原裕一

    応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 80th　2019年

  17. 反応性プラズマプロセスを用いた高移動度IGZO薄膜トランジスタの低温形成

    節原裕一, 竹中弘祐, 平山裕之, 遠藤雅, 内田儀一郎, 江部明憲

    応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 80th　2019年

  18. プラズマ支援反応性プロセスを用いた高移動度IGZO薄膜の低温形成

    節原裕一, 遠藤雅, 竹中弘祐, 内田儀一郎, 江部明憲

    応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 65th　2018年

  19. プラズマ支援反応性パルスDCスパッタリングによるC軸配向窒化アルミニウム薄膜の形成

    竹中弘祐, 吉谷友希, 内田儀一郎, 節原裕一

    応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 65th　2018年

  20. 非平衡プラズマジェットと溶液中アミノ酸との相互作用に関する研究

    内田儀一郎, 美濃祐資, 鈴木天翔, 竹中弘祐, 節原裕一

    応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 65th　2018年

  21. 様々なプラズマ照射条件で作製したプラズマ活性培養液のがん細胞殺傷効果

    内田儀一郎, 池田純一郎, 鈴木天翔, 竹中弘祐, 節原裕一

    応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 79th　2018年

  22. プラズマ支援反応性スパッタ製膜を用いた高移動度IGZO薄膜トランジスタの形成(III)

    竹中弘祐, 遠藤雅, 吉谷友希, 内田儀一郎, 江部明憲, 節原裕一

    応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 79th　2018年

  23. 非平衡プラズマジェット照射による溶液中RNS生成におけるアミノ酸の寄与

    内田儀一郎, 伊藤泰喜, 美濃裕資, 竹中弘祐, 節原裕一

    応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 64th　2017年

  24. プラズマ支援反応性スパッタ製膜を用いた高移動度IGZO薄膜トランジスタの形成

    節原裕一, 遠藤雅, 竹中弘祐, 内田儀一郎, 江部明憲

    応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 64th　2017年

  25. プラズマ支援反応性スパッタ製膜による窒化アルミニウム薄膜の形成

    竹中弘祐, 佐竹義旦, 内田儀一郎, 節原裕一

    応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 64th　2017年

  26. 長尺高周波非平衡プラズマジェットの開発

    内田儀一郎, 伊藤泰喜, 竹中弘祐, 節原裕一

    応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 78th　2017年

  27. プラズマ支援パルスDCマグネトロンスパッタリングによる結晶化窒化アルミニウム薄膜の低温形成

    竹中弘祐, 佐竹義旦, 内田儀一郎, 節原裕一

    応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 78th　2017年

  28. プラズマ支援反応性スパッタ製膜を用いた高移動度IGZO薄膜トランジスタの形成(II)

    節原裕一, 遠藤雅, 竹中弘祐, 内田儀一郎, 江部明憲

    応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 78th　2017年

  29. 大気圧プラズマジェット照射による培地中ROS,RNS生成制御

    内田儀一郎, 伊藤泰喜, 竹中弘祐, 池田純一郎, 節原裕一

    応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 77th　2016年

  30. 周辺ガス制御型大気圧プラズマジェット照射による純水中RNS/ROS濃度比制御

    伊藤泰喜, 内田儀一郎, 竹中弘祐, 池田純一郎, 節原裕一

    応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 77th　2016年

  31. プラズマを重畳した反応性パルススパッタリングによる窒化物薄膜の低温形成

    竹中弘祐, 佐竹義旦, 内田儀一郎, 節原裕一

    応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 77th　2016年

  32. SPATIO-TEMPORAL BEHAVIORS OF ATMOSPHERIC-PRESSURE PLASMA JETS FOR INVESTIGATION OF REACTIVE-SPECIES PRODUCTION IN LIQUID

    Y. Setsuhara, A. Nakajima, G. Uchida, T. Ito, K. Takenaka, J. Ikeda

    2016 43RD IEEE INTERNATIONAL CONFERENCE ON PLASMA SCIENCE (ICOPS)　2016年　研究発表ペーパー・要旨（国際会議）

  33. Discharge Conditions of a Non-Thermal Plasma Jet in Helium, Surrounded by Flows of Nitrogen-Oxygen Mixtures of Various Proportions

    Ito Taiki, Nakajima Atsushi, Setsuhara Yuichi, Takenaka Kosuke, Uchida Giichiro

    Transactions of JWRI　Vol. 44　No. 2　p. 5-7　2015年12月

    出版者・発行元：大阪大学接合科学研究所

  34. Raman Spectroscopy of a-C:H Films Deposited Using Ar + H2+ C7H8 Plasma CVD

    X. Dong, K. Koga, D. Yamashita, H. Seo, N. Itagaki, M. Shiratani, Y. Setsuhara, M. Sekine, M. Hori

    Proc. 68th GEC/9th ICRP/33rd SPP　Vol. 60　No. 9　2015年10月1日　研究発表ペーパー・要旨（全国大会，その他学術会議）

  35. Effects of discharge voltage on the characteristics of a-C:H films prepared by H-assisted Plasma CVD method

    X. Dong, K. Koga, D. Yamashita, H. Seo, N. Itagaki, M. Shiratani, Y. Setsuhara, M. Sekine, M. Hori

    Trans. Mater. Res. Soc. Jpn.　Vol. 40　No. 2　2015年7月1日　研究発表ペーパー・要旨（全国大会，その他学術会議）

  36. Emission spectroscopy of Ar + H-2+ C7H8 plasmas: C7H8 flow rate dependence and pressure dependence

    X. Dong, K. Koga, D. Yamashita, H. Seo, N. Itagaki, M. Shiratani, Y. Setsuhara, M. Sekine, M. Hori

    J. Phys. : Conf. Series (SPSM26)　Vol. 518　No. 1　2015年6月1日　研究発表ペーパー・要旨（全国大会，その他学術会議）

  37. Deposition of Carbon Films on PMMA Using H-assisted Plasma CVD

    X. Dong, R. Torigoe, K. Koga, G. Uchida, M. Shiratani, N. Itagaki, Y. Setsuhara, K. Takenaka, M. Sekine, M. Hori

    Jpn. Phys. Soc. Conf. Proc (APPC12)　Vol. 1　2015年3月1日　研究発表ペーパー・要旨（全国大会，その他学術会議）

  38. 液面に入射するプラズマジェットの放電特性と動的挙動

    内田儀一郎, 中島厚, 竹中弘祐, 古閑一憲, 白谷正治, 節原裕一

    応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 76th　2015年

  39. プラズマ支援ミスト化学気相堆積におけるミストが製膜形状に与える影響

    竹中弘祐, 内田儀一郎, 節原裕一

    応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 76th　2015年

  40. 大気圧He/O2プラズマジェット照射による液中活性酸素種生成に及ぼすガス流パターンの効果

    中島厚, 内田儀一郎, 川崎敏之, 古閑一憲, SARINONT Thapanut, 天野孝昭, 竹中弘祐, 白谷正治, 節原裕一

    応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 76th　2015年

  41. プラズマ医療装置に求められている要素と世界動向

    節原裕一, 内田儀一郎, 竹中弘祐, 竹田圭吾, 石川健治, 堀勝

    応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 76th　2015年

  42. プラズマを用いたソフトマテリアルプロセス技術の展開~低温・低ダメージの材料プロセスからプラズマ医療~

    節原裕一

    スマートプロセス学会誌　Vol. 3　No. 1　p. 23-29　2014年1月20日

    出版者・発行元：Smart Processing Society for Materials, Environment & Energy (High Temperature Society of Japan)

  43. 大気圧プラズマ支援による酸化亜鉛薄膜の形成に向けたプラズマ/ミスト相互作用の解析

    竹中弘祐, 内田儀一郎, 節原裕一

    応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 75th　2014年

  44. 大気圧高周波放電プラズマの動的特性

    内田儀一郎, 川端一史, 竹中弘祐, 節原裕一

    応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 75th　2014年

  45. 気液界面を介した大気圧非平衡プラズマと生体分子との相互作用

    竹中弘祐, 川端一史, 宮崎敦史, 阿部浩也, 内田儀一郎, 節原裕一

    応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 75th　2014年

  46. 前処理としての表面技術 プラズマとソフトマテリアルとの相互作用―低ダメージの表面プロセスからプラズマ医療にわたる基礎過程―

    節原裕一

    表面技術　Vol. 64　No. 12　p. 628-633　2013年12月1日

    出版者・発行元：The Surface Finishing Society of Japan

  47. Plasma Interactions with Biological Molecules in Aqueous Solution

    Yuichi Setsuhara, Atsushi Miyazaki, Kosuke Takenaka, Masaru Hori

    MRS Proc 1598　2013年11月28日　速報，短報，研究ノート等（学術雑誌）

  48. H2/N2 plasma etching rate of carbon films deposited by H-assisted plasma CVD

    Tatsuya Urakawa, Ryuhei Torigoe, Hidefumi Matsuzaki, Daisuke Yamashita, Giichiro Uchida, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani, Yuichi Setsuhara, Keigo Takeda, Makoto Sekine, Masaru Hori

    Jpn. J. Appl. Phys.　No. 52　2013年1月15日　速報，短報，研究ノート等（学術雑誌）

  49. 高品質半導体薄膜作製のためのプラズマ支援反応性スパッタリングプロセスの高度制御

    節原裕一, 竹中弘祐, 大谷浩史, 金井厚毅, 大崎創一郎, 江部明憲

    応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 74th　2013年

  50. プラズマ支援ミストCVDによる微小凹凸構造を有した酸化亜鉛薄膜形成

    竹中弘祐, 節原裕一

    応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 74th　2013年

  51. Plasma-Assisted Mist Chemical Vapor Deposition of Zinc Oxide Films Using Solution of Zinc Acetate (Special Issue : Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials)

    Takenaka Kosuke, Okumura Yusuke, Setsuhara Yuichi

    Japanese journal of applied physics : JJAP　Vol. 52　No. 1　p. 01AC11-1-4　2013年1月

    出版者・発行元：Published by the Japan Society of Applied Physics through the Institute of Pure and Applied Physics

  52. 革新的プラズマ科学の新潮流 プラズマ異方性化学気相堆積法による硬質カーボン薄膜の低温製膜

    古閑一憲, 白谷正治, 節原裕一, 関根誠, 堀勝

    化学工業　Vol. 63　No. 12　p. 908-912　2012年12月1日

    出版者・発行元：小峰工業出版

  53. The 24th Symposium on Plasma Science for Materials (SPSM-24) Preface

    T. Shirafuji, Y. Setsuhara, M. Shiratani, T. Kaneko, T. Watanabe, N. Ohtake

    THIN SOLID FILMS　Vol. 523　p. 1-1　2012年11月　その他

  54. Pressure dependence of carbon film deposition using H-assisted plasma CVD

    X. Dong, K. Koga, D. Yamashita, H. Seo, N. Itagaki, M. Shiratani, K. Takenaka, Y. Setsuhara, M. Sekine, M. Hori

    Proc. 8th Int. Conf. Reactive Plasmas　2012年2月1日　研究発表ペーパー・要旨（全国大会，その他学術会議）

  55. Effects of Irradiation with Ions and Photons in Ultraviolet--Vacuum Ultraviolet Regions on Nano-Surface Properties of Polymers Exposed to Plasmas

    Ken Cho, Kosuke Takenaka, Yuichi Setsuhara, Masaharu Shiratani, Makoto Sekine, Masaru Hori

    Jpn. J. Appl. Phys.　No. 51　2012年1月25日　速報，短報，研究ノート等（学術雑誌）

  56. 表面機能化プロセス

    節原 裕一

    高温学会誌　Vol. 37　No. 6　p. 271-271　2011年11月20日

  57. Effects of substrate bias voltage on plasma anisotropic CVD of carbon using H-assisted plasma CVD reactor

    T. Urakawa, H. Matsuzaki, D. Yamashita, G. Uchida, K. Koga, M. Shiratani, Y. Setsuhara, M. Sekine, M. Hori

    Proc. Intern. Symp. on Dry Process　Vol. 33　2011年11月　研究発表ペーパー・要旨（全国大会，その他学術会議）

  58. Investigation of plasma interactions with organic semiconductors for fabrication of flexible electronics devices

    K. Cho, K. Takenaka, Y. Setsuhara, M. Shiratani, M. Sekine, M. Hori

    Proc. Intern. Symp. on Dry Process　Vol. 33　2011年11月　研究発表ペーパー・要旨（全国大会，その他学術会議）

  59. Optical emission spectroscopy of Ar+H2+ C7H8 discharges for anisotropic plasma CVD of carbon

    T. Urakawa, H. Matsuzaki, D. Yamashita, G. Uchida, K. Koga, M. Shiratani, Y. Setsuhara, M. Sekine, M. Hori

    Proc. Intern. Symp. on Dry Process　Vol. 33　2011年11月　研究発表ペーパー・要旨（全国大会，その他学術会議）

  60. Self-organized carbon Mk formation on the top surface of fine trenches using a low temperature plasma anisotropic CVD for depositing fine organic structure

    K. Koga, T. Urakawa, G. Uchida, H. Seo, K. Kamataki, N. Itagaki, M. Shiratani, Y. Setsuhara, M. Sekine, M. Hori

    Proc. Plasma Conf. 2011　2011年11月　速報，短報，研究ノート等（学術雑誌）

  61. 実用化プロセスにおけるプラズマ源の革新~平行平板プラズマ源から新プラズマ源へ~6.低インダクタンス内部アンテナを用いたプラズマ源の開発と反応性プラズマプロセスへの展開

    節原裕一

    プラズマ・核融合学会誌　Vol. 87　No. 1　p. 24-33　2011年1月25日

    出版者・発行元：プラズマ・核融合学会

  62. Substrate temperature dependence of feature profile of carbon films on substrate with submicron trenches

    Takuya Nomura, Tatsuya Urakawa, Yuki Korenaga, Daisuke Yamashita, Hidefumi Matsuzaki, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani, Yuichi Setsuhara, Makoto Sekine, Masaru Hori

    IEEE Region 10 Annual International Conference, Proceedings/TENCON　p. 2213-2215　2010年12月1日

  63. Deposition profile control of carbon films on patterned substrates using a hydrogen-assisted plasma CVD method

    Takuya Nomura, Kazunori Koga, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani, Masaharu Shiratani, Yuichi Setsuhara, Yuichi Setsuhara, Makoto Sekine, Makoto Sekine, Masaru Hori, Masaru Hori

    Materials Research Society Symposium Proceedings　Vol. 1222　p. 203-207　2010年8月30日

  64. プラズマ・プロセス技術

    畠山 力三, 節原 裕一, 大岩 徳久, 関根 誠, 豊田 浩孝, 中石 雅文, 中村 敏浩, 中川 秀夫, 永津 雅章, 中村 圭二, 檜森 慎司, 小田 昭紀, 林 信哉, 明石 治朗, 菅原 広剛, 吉村 智, 平田 孝道, 一木 隆範, 野崎 智洋, 佐野 紀彰, 木下 啓蔵, 白井 肇, 古閑 一憲, 土澤 泰, 神谷 利夫, 白藤 立, 辰巳 哲也, 米倉 和賢, 森川 康宏, 根岸 伸幸, 高橋 和生, 秋元 健司, 江利口 浩二, 太田 貴之, 奥村 智洋, 上坂 裕之, 佐藤 孝紀, 布村 正太, 長谷川 明広, 柳生 義人, 白谷 正治, 金子 俊郎, 大竹 浩人

    應用物理　Vol. 79　No. 8　p. 717-719　2010年8月10日

    出版者・発行元：応用物理学会

  65. 研究開発の効率を飛躍的に高めるコンビ名とリアルプラズマ解析装置

    白谷正治, 節原裕一, 関根誠, 堀勝

    化学工業　Vol. 60　No. 5　2010年5月　記事・総説・解説・論説等（学術雑誌）

  66. プラズマ技術の新しい挑戦 研究開発の効率を飛躍的に高めるコンビナトリアルプラズマ解析装置

    白谷正治, 節原裕一, 関根誠, 堀勝

    化学工業　Vol. 61　No. 5　p. 371-375　2010年5月1日

    出版者・発行元：化学工業社

  67. Substrate temperature dependence of deposition profile of plasma CVD carbon films in trenches

    Jun Umetsu, Kazuhiko Inoue, Takuya Nomura, Hidefumi Matsuzaki, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani, Yuichi Setsuhara, Makoto Sekine, Masaru Hori

    Journal of Plasma and Fusion Research Series　Vol. 8　2009年　速報，短報，研究ノート等（学術雑誌）

  68. プラズマと電磁波の相互作用の新規応用 空間的,時間的デザインが拓く新機能 4 マルチ低インダクタンス内部アンテナを用いた次世代メートル級大面積プロセスに向けたプラズマ生成制御技術

    節原裕一

    プラズマ・核融合学会誌　Vol. 84　No. 4　p. 193-198　2008年4月25日

    出版者・発行元：プラズマ・核融合学会

  69. フェムト秒レーザーを用いた半導体微細加工

    井澤 友策, 節原 裕一, 藤田 雅之, 井澤 靖和

    レーザー学会研究会報告 = Reports on the Topical meeting of the Laser Society of Japan　Vol. 343　p. 19-25　2006年2月15日

  70. 表面分光の最前線 : さらなる高分解能を目指して

    長谷川 哲也, 内田 建, 節原 裕一, 田尾本 昭

    應用物理　Vol. 74　No. 10　p. 1304-1304　2005年10月10日

  71. フラットパネルディスプレイ メートルサイズの大面積プロセスに向けたプラズマ技術

    節原裕一, 江部明憲

    表面技術　Vol. 56　No. 5　p. 268-275　2005年5月1日

    出版者・発行元：The Surface Finishing Society of Japan

  72. 次世代メートルサイズ大面積プロセス用プラズマ源

    節原裕一

    プラズマ・核融合学会誌　Vol. 81　No. 2　p. 85-93　2005年2月25日

    出版者・発行元：社団法人 プラズマ・核融合学会

  73. "特集/エレクトロニクス産業を支える表面技術"の企画に当たって

    井手本 康, 節原 裕一, 川島 敏, 鷹野 一朗, 清川 肇, 野田 和彦, 柴田 隆行, 八木 裕

    表面技術 = The Journal of the Surface Finishing Society of Japan　Vol. 55　No. 12　p. 752-752　2004年12月1日

  74. 誘導結合型フルオロカーポンプラズマを用いた高誘電率HfO2薄膜のエッチング

    高橋和生, 斧高一, 節原裕一

    表面技術　Vol. 55　No. 12　p. 793-799　2004年12月1日

    出版者・発行元：表面技術協会

  75. 低インダクタンス内部アンテナ方式ICP源によるポリシリコン薄膜の合成

    濱岡 陽介, 三宅 正司, 稲実 宏, 渡邉 哲也, 江部 明憲, 庄司 多津男, 節原 祐一

    高温学会誌　Vol. 30　No. 1　p. 27-27　2004年1月30日

  76. くらべてみよう 87 プラズマ

    節原裕一

    表面技術　Vol. 54　No. 10　p. 674-676　2003年10月1日

  77. プラズマイオンプロセスを用いた表面改質

    節原裕一

    プラズマ・核融合学会プラズマ若手夏の学校テキスト　Vol. 42nd　p. 55-74　2003年8月4日

  78. プラズマCVDと溶媒処理を用いたフルオロカーボン系多孔質構造Low‐K薄膜の作成

    高橋和生, 三田村崇司, 斧高一, 節原裕一

    表面技術　Vol. 53　No. 12　p. 857-859　2002年12月1日

    出版者・発行元：The Surface Finishing Society of Japan

  79. レーザーアブレーションと物質プロセッシング フェムト秒レーザーによる物質プロセッシング

    橋田昌樹, 藤田雅之, 節原裕一

    光学　Vol. 31　No. 8　p. 621-628　2002年8月10日

    出版者・発行元：応用物理学会分科会日本光学会

  80. 低インダクタンス内部アンテナを用いた誘導結合プラズマによる多結晶シリコン膜の形成

    稲実宏, 馬場創, 江部明憲, 三宅正司, 庄司多津男, 節原裕一

    高温学会誌　Vol. 28　No. 4　2002年7月22日

  81. 今三次元‐プラズマイオンによる表面の改質とプロセス 3 プラズマ源の開発

    節原裕一

    電気学会誌　Vol. 121　No. 5　p. 308-311　2001年5月1日

    出版者・発行元：The Institute of Electrical Engineers of Japan

  82. Coherent phonon excitation as nonequilibrium dopant activation process for ultra-shallow junction formation (proceedings)

    Y. Setsuhara, B. Mizuno, M. Takase, M. Hashida, M. Fujita, S. Adachi

    Extended abstracts of The 2nd International Workshop on Junction Technology, 2, 103-106　2001年

  83. イオンビーム支援蒸着法を用いたCeO2薄膜合成におけるモルフォロジーに及ぼすイオン照射効果

    志水一平, 節原裕一, 斎藤英純, 熊谷正夫, 三宅正司

    高温学会誌　Vol. 26　No. 5　p. 211-218　2000年9月20日

    出版者・発行元：高温学会

  84. 酸化物薄膜創成におけるミラー型ECRプラズマに及ぼすRFバイアス効果

    馬場創, 節原裕一, 三宅正司

    高温学会誌　Vol. 26　No. 1　p. 64-14　2000年1月20日

  85. 高密度プラズマスパッタリングによる窒化炭素薄膜合成

    節原裕一, 柴田邦雄, 三宅正司

    熱源センターだより　No. 15　p. 18-19　1999年3月

  86. CeO2薄膜合成におけるイオン照射効果

    志水一平, 節原裕一, 三宅正司, 熊谷正夫, 斉藤英純

    高温学会誌　Vol. 24　No. 4　1998年7月

  87. IBAD法によって作成した(Ti1-x,Alx)N薄膜の構造と経年変化

    鈴木常生, 巻野勇喜雄, 節原裕一, 三宅正司, SAMANDI M

    高温学会誌　Vol. 24　No. 4　1998年7月

  88. ヘリコン波励起高密度プラズマスパッタリングを用いたCN薄膜の合成

    柴田邦雄, 節原裕一, 三宅正司, 坂和洋一, 庄司多津男

    高温学会誌　Vol. 24　No. 4　1998年7月

  89. 28GHzミリ波加熱による窒化珪素の焼結と物性

    上野敏之, 木下秀一, 巻野勇喜雄, 節原裕一, 三宅正司, 佐野三郎, 斎藤英純

    高温学会誌　Vol. 24　No. 4　1998年7月

  90. イオン・プラズマプロセスによるほう素,炭素,窒素系超硬質薄膜の合成

    節原裕一, 三宅正司

    応用物理　Vol. 67　No. 6　p. 659-663　1998年6月

    出版者・発行元：The Japan Society of Applied Physics

  91. セラミックス電磁プロセシングの動向 ミリ波によるセラミックス加熱・焼結

    節原裕一

    ニューセラミックス　Vol. 10　No. 10　p. 9-16　1997年10月

    出版者・発行元：ティ-・アイ・シィ-

  92. Influence of Ion Irradiation on Crystalline Phases of Oxide Films(Materials, Metallurgy & Weldability)

    MAKINO Yukio, SETSUHARA Yuichi, MIYAKE Shoji, SHIBATA Kazuo

    Transactions of JWRI　Vol. 26　No. 1　p. 77-80　1997年7月

    出版者・発行元：大阪大学接合科学研究所

  93. イオン照射を利用した成膜プロセスの評価法

    節原裕一, 三宅正司

    溶接学会誌　Vol. 66　No. 3　p. 151-155　1997年4月

    出版者・発行元：JAPAN WELDING SOCIETY

  94. 326 c-BN薄膜合成におけるイオンビームを用いた界面制御

    鈴木 常生, 節原 裕一, Tanaka Yris, 三宅 正司, 熊谷 正夫, 鈴木 操

    溶接学会全国大会講演概要　No. 60　p. 154-155　1997年

    出版者・発行元：溶接学会

  95. 234 ヘリコンプラズマスパッタリングによるCN_x薄膜合成

    張津 秋, 節原 裕一, 三宅 正司

    溶接学会全国大会講演概要　No. 59　p. 184-185　1996年9月5日

    出版者・発行元：社団法人溶接学会

  96. ヘリコン波励起プラズマスパッタリングによるCN_x薄膜合成

    張 津秋, 瀬渡 直樹, 節原 裕一, 姜 文圭, 三宅 正司

    電気学会研究会資料. PST, プラズマ研究会　Vol. 1996　No. 9　p. 81-86　1996年2月9日

  97. Helicon Wave Plasma Enhanced Sputtering and Application to Synthesis of Carbon Nitride Films(Physics, Process, Instrument & Measurements)

    SETO Naoki, KAMAI Masayoshi, MIYAKE Shoji, SETSUHARA Yuichi, ZHANG Jinqiu

    Transactions of JWRI　Vol. 24　No. 2　p. 17-22　1995年12月

    出版者・発行元：大阪大学溶接工学研究所

  98. 低エネルギー窒素イオン照射による窒化ほう素の相変換効果

    節原裕一, 鈴木常生, 三宅正司

    表面改質　No. 2　p. 5-7　1995年9月

  99. 泥しょう鋳込み法により作製したZrO2‐3 mol%Y2O3成形体のマイクロ波焼結

    佐野三郎, 小田喜一, 芝崎靖雄, 小泉憲一, 又吉智也, 節原裕一, 三宅正司

    粉体および粉末冶金　Vol. 42　No. 6　p. 767-770　1995年

  100. 低ソーダアルミナのマイクロ波プラズマ焼結

    佐野三郎, 小田喜一, 芝崎靖雄, 又吉智也, 香山泰成, 節原裕一, 三宅正司

    粉体および粉末冶金　Vol. 41　No. 6　p. 739-741　1994年2月1日

  101. Ti-Al Alloy Films Synthesized by Ion-Beam-Enhanced Deposition(Physics, Process, Instrument & Measurements)

    MAKINO Yukio, SAMOTO Hirotaka, KYOU Bunkei, MIYAKE Shoji, SETSUHARA Yuichi, OHSAKO Hajime

    Transactions of JWRI　Vol. 22　No. 2　p. 215-218　1993年12月

    出版者・発行元：大阪大学溶接工学研究所

  102. Inductively Coupled RF Discharges Using Helical Antennas(Physics, Process, Instruments & Measurements)

    SETSUHARA Yuichi, UEDA Kunitsugu, MUSIL Jindrich, ARIYASU Tomio, MIYAKE Shoji

    Transactions of JWRI　Vol. 22　No. 1　p. 1-5　1993年8月

    出版者・発行元：大阪大学

  103. Application o f Microwave Thermal Plasma to Ceramics Sintering(Physics, Process, Instruments & Measurements)

    MIYAKE Shoji, OHNISHI Ryosuke, SETSUHARA Yuichi, YAMADA Sumasu

    Transactions of JWRI　Vol. 22　No. 1　p. 31-35　1993年8月

    出版者・発行元：大阪大学

  104. イオンダイナミックミキシング法によるTiO2薄膜合成

    節原裕一, 高野哲太郎, 青木哲匡, 三宅正司

    材料とプロセス　Vol. 5　No. 2　1992年3月

  105. 26a-D-6 衝撃波観測によるレーザー照射不均一の熱緩和の計測

    加道 雅孝, 節原 裕一, 中井 光男, 片山 誠, 西口 彰夫, 三間 国興, 中井 貞雄, T M, 山本 英俊, Vick D, 児玉 了祐, 塚本 雅裕, 田中 和夫, 宮永 憲明, 望月 康史, 畦地 宏

    春の分科会講演予稿集　Vol. 1991　No. 0　1991年

    出版者・発行元：一般社団法人 日本物理学会

  106. 26a-D-7 SiドープターゲトによるX線先行加熱の計測

    山本 英俊, 片山 誠, 中井 光男, 西口 彰夫, 三間 国興, 中井 貞雄, T M, 加道 雅孝, Vick D, 児玉 了祐, 塚本 雅裕, 田中 和夫, 宮永 憲明, 畦地 宏, 節原 裕一

    春の分科会講演予稿集　Vol. 1991　No. 0　1991年

    出版者・発行元：一般社団法人 日本物理学会

  107. 3a-T-3 2次核融合反応を用いた、高密度爆縮プラズマにおける電子縮退の検証

    節原 裕一, 畦地 宏, 宮永 憲明, 大脇 成晴, 小林 伸次, 片山 誠, 高木 勝, 実野 孝久, 古河 裕之, 西原 功修, 三間 圀興, 中井 貞雄

    秋の分科会講演予稿集　Vol. 1990　No. 4　p. 188-188　1990年9月12日

    出版者・発行元：一般社団法人日本物理学会

  108. CR‐39のプロトントラック自動解析機について

    あぜ地宏, 節原裕一, 山中正宣, 森信俊平

    放射線　Vol. 16　No. 1　p. 95-100　1989年8月

  109. レーザーエネルギー応用

    三間 圀興, 西口 彰夫, Norreys P. A, 西村 博明, 中石 博之, 陳 延偉, 節原 裕一, 島田 義則, 山中 千代衛, 宮崎 誠, 橋田 昌樹, 中井 貞雄, 首藤 智一, 小坂 学, 多田 昭史, 阪部 周二, 三間 圀興, 近藤 公伯, 小林 尚志, 杉本 耕一, 中西 淑人, 遠藤 琢磨, 山中 正宣, 白神 宏之, 高部 英明, 加藤 議章, 児玉 了祐, 田中 和夫, 中井 光男, 加道 雅孝, 冨田 律也, 乗松 好孝, 片山 秀史, 実野 孝久, 金辺 忠, 西原 功修, 山中 龍彦, 椿原 啓, 久保 宇市, 真野 豊司, 乗松 孝好, 加藤 義章, 井澤 靖和, 足立 智, 中塚 正大, 仁木 秀明, 黄 国安, 加藤 修司, 岡田 芳樹, 里岡 栄, 武内 一夫, 和田 一洋, 荒谷 昌輝, 吉田 国雄, 畦地 宏, 宮永 憲明, 高木 勝

    レーザー研究　Vol. 17　No. 0　p. 127-135,144　1989年

    出版者・発行元：一般社団法人 レーザー学会

  110. Wolter Type1レプリカX線光学素子の開発

    橋本洋, 神垣恵治, 青木貞雄, 節原裕一, あぜ地宏, 山中正宣, 山中龍彦, 井沢靖和, 山中千代衛

    精密工学会誌　Vol. 54　No. 2　p. 299-304　1988年2月

    出版者・発行元：公益社団法人精密工学会

  111. 27p-LK-6 磁気熱絶縁型慣性核融合(MICF) : 中性子発生実験(プラズマ物理・核融合(レーザー))

    大道 博行, 加藤 義章, 白神 宏之, 遠藤 琢磨, 北川 米喜, 三浦 永祐, 中塚 正大, 実野 孝久, 山中 千代衛, Mグループ, GODグループ, 山中 正宜, Tグループ, Cグループ, 長谷川 晃, 三間 圀興, 西原 功修, 宮永 憲明, 乗松 孝好, 高木 勝, 中井 貞雄, 節原 裕一

    年会講演予稿集　Vol. 42　No. 0　p. 138-138　1987年

    出版者・発行元：一般社団法人 日本物理学会

  112. X線マイクロスコープの開発

    節原裕一, あぜ地宏, 山中正宣, 山中竜彦, 井沢靖和, 青木貞雄, 塩沢崇久, 神垣恵治, 橋本洋

    電子通信学会技術研究報告　Vol. 86　No. 64　p. 79-84(ED86-26)-84　1986年6月19日

    出版者・発行元：一般社団法人 映像情報メディア学会

著書 11

  1. Novel Structured Metallic and Inorganic Materials

    Yuichi Setsuhara, Toshio Kamiya, Shin-ichi Yamaura

    Springer　2019年7月　学術書

    ISBN: 9789811376108

  2. Plasma Medical Science

    Yuichi Setsuhara, Giichiro Uchida, Kosuke Takenaka

    Elsevier　2018年7月　教科書・概説・概論

    ISBN: 9780128150047

  3. Comprehensive Materials Processing

    Yuichi Setsuhara

    Elsevier　2014年6月　学術書

    ISBN: 9780080965321

  4. Справочник по технологии наночастиц ( Nanoparticle Technology Handbook )

    Yuichi Setsuhara

    Научный мир ( Scientific World Publishing House )　2013年5月　学術書

    ISBN: 9785915222310

  5. Progress in Advanced Structural and Functional Materials Design

    Yuichi Setsuhara

    Springer　2013年1月　学術書

    ISBN: 9784431540632

  6. Nanoparticle Technology Handbook (Second Edition)

    Yuichi Setsuhara

    ELSEVIER　2012年5月　学術書

    ISBN: 9780444563361

  7. 究極のかたちをつくる 粉が織り成す次世代モノづくり

    内藤牧男, 節原裕一, 大原智, 佐藤和好, 桐原聡秀, 茅原弘毅, 近藤勝義

    日刊工業新聞社　2009年5月　学術書

    ISBN: 9784526062773

  8. Nanoparticle Technology Handbook

    Yuichi Setsuhara

    ELSEVIER　2007年11月　学術書

    ISBN: 9780444531223

  9. Designing of Interfacial Structures in Advanced Materials and their Joints ed. By M. Naka

    Y. Setsuhara, K. Takenaka, A. Ebe, K. Nishisaka

    Trans Tech Publications　2007年3月　学術書

    ISBN: 9783908451334

  10. ナノパーティクルテクノロジーハンドブック

    節原 裕一

    日刊工業新聞社　2006年4月　学術書

    ISBN: 9784526056642

  11. セラミックスの高速焼結技術

    分担執筆

    （株）ティー・アイ・シィー　1998年10月　学術書

講演・口頭発表等 92

  1. Low-temperature Formation of High-Mobility In GaZnOx Thin-Film Transistors by Plasma-Enhanced Reactive Processes

    7th Global Nanotechnology Congress and Expo　2019年12月

  2. Reactive plasma processes for formation of high-mobility IGZO thin-film transistors

    21st International Conference on Advanced Energy Materials and Research　2019年7月

  3. Low-temperature formation of high-mobility InGaZnOx thin film transistor by ICP-enhanced reactive plasma processes Yuichi Setsuhara

    The 15th International Symposium on Sputtering and Plasma Processes (ISSP2019)　2019年6月

  4. ICP-Enhanced Reactive Plasma Processes for Low-Temperature Formation of High-Mobility Oxide Semiconductor TFT

    The 5th Asian Workshop on Applied Plasma Science and Engineering 2019 (APSE2019)　2019年1月

  5. 低ダメージ大面積プロセス対応プラズマ生成・制御技術の開発

    2018年度フロンティア材料研究所学術賞受賞記念講演会・若手教員講演会　2018年9月

  6. Low-Temperature Formation of High-Mobility IGZO Thin Film Transistor by Advanced Reactive Sputter Deposition Enhanced with ICP

    International Conference on Processing & Manufacturing of Advanced Materials Processing, Fabrication, Properties, Applications (THERMEC’2018)　2018年7月

  7. プラズマ支援反応性プロセスを用いた高移動度IGZO薄膜の低温形成

    第65回応用物理学会春季学術講演会　2018年3月

  8. Plasma-Enhanced Reactive Processes for Low-Temperature Formation of High-Mobility IGZO Thin Film Transistor and Functional Films for Solar Cells

    5th Japan-Korea Joint Symposium on Advanced Solar Cells 2018 and 2nd International Symposium on Energy Research and Application　2018年2月

  9. Low-Temperature Formation of High-Mobility IGZO Thin Film Transistor by Advanced Reactive Sputter Deposition Enhanced with ICP

    Frontiers in Materials Processing Applications, Research and Technology　2017年7月

  10. ICP-Enhanced Reactive Sputter Deposition for Low-Temperature Formation of High-Mobility IGZO Thin Films Transistor Yuichi Setsuhara

    The 22nd Korea-Japan Workshop on Advanced Plasma Processes and Diagnostics and The 9th Workshop for NU-SKKU Joint Institute for Plasma-Nano Materials　2017年4月

  11. （特別講演）大気圧プラズマの現状と将来展望

    日本学術振興会プラズマ材料科学第153委員会プラズマ材料科学スクール　2017年2月

  12. Characterization of atmospheric-pressure plasma jets and interaction with liquid for control of reactive species in plasma-activated aqueous solutions

    International Conference on Plasma Medical Science Innovation (ICPMSI) 2017　2017年2月

  13. Plasma-Liquid Interactions with Atmospheric-Pressure Plasma Jets for Controlling Reactive Species in Plasma-Activated Aqueous Solutions

    The 3rd International Workshop on Advanced Plasma Technology and Applications　2017年1月

  14. 有機材料表面の機能化−有機材料の低ダメージプロセス−

    平成28年度(第32回)新材料・新技術利用研究会　2016年9月

  15. 高密度プラズマの基礎から応用まで

    日本学術振興会 透明酸化物光・電子材料第166委員会 第72回研究会　2016年7月

  16. セッション３：共同利用・共同研究賞 受賞講演 司会

    第13回 産学連携シンポジウム　2016年5月

  17. Spatio-temporal Behaviors of Atmospheric-pressure Dielectric Barrier Discharge Plasma Jets for Reactive Interactions with Materials

    9th International Conference on Processing & Manufacturing of Advanced Materials (THERMEC'2016)　2016年5月

  18. Dynamical Behaviors and Plasma-Liquid Interactions of Atmospheric-Pressure Dielectric-Barrier-Discharge Plasma Jets

    The 2nd Asian International Workshop on Advanced Plasma Technology and Applications Major Topics: Plasma Technology for Agriculture, Bio and Medicine　2016年2月

  19. Dynamical Characterizations of Atmospheric-Pressure Plasma Jets as Evaluation Protocols for Plasma Medicine

    The 21st Korea-Japan Workshop on Advanced Plasma Processes and Diagnostics & The Workshop for NU-SKKU Joint Institute for Plasma-Nano Material　2015年10月

  20. プラズマ医療装置に求められている要素と世界動向

    第76回応用物理学会学術講演会　2015年9月

  21. プラズマ支援反応性スパッタ製膜プロセスによるIGZO薄膜デバイス低温形成

    第27回酸化物半導体討論会　2015年5月

  22. Spatio-temporal behaviors of atmospheric-pressure discharges

    The 20th Workshop on Advanced Plasma Processes and Diagnostics & The 7th Workshop on NU-SKKU Joint Institute for Plasma-Nano Materials　2015年1月

  23. Discharge Characteristics and Dynamics of Atmospheric Pressure Plasmas for Plasma Medicine

    19th Korea-Japan Workshop on Advanced Plasma Processes and Diagnostics & 6th Workshop for NU-SKKU Joint Institute for Plasma-Nano Materials　2014年6月

  24. 低ダメージプロセスに向けたプラズマ技術−フレキシブルデバイスからプラズマ医療−

    日本真空学会スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会（SP部会）第138回定例研究会　2014年6月

  25. RF plasma sources for PECVD and soft-material processes

    The International Symposium on Plasma-Nano Materials and Processes　2014年4月

  26. Dynamics and Reactive Particle Generation in Atmospheric-Pressure Discharge as a Basis for Plasma Medicine

    18th International Workshop on Advanced Plasma Processing and Diagnostics　2014年2月

  27. Advanced reactive sputter deposition system enhanced with ICPs driven by new type of low-inductance antenna modules

    International Conference on Processing & Manufacturing of Advanced Materials (THERMEC'2013)　2013年12月

  28. ソフトマテリアル−プラズマ相互作用と低ダメージプロセス（無機 /有機積層デバイスからプラズマ医療）

    日本真空学会11月研究例会・スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会（SP部会）第135回定例研究会　2013年11月

  29. Characterization of Atmospheric-Pressure Discharge and its Interaction with Soft Materials as a Basis for Plasma Medicine

    International Conference on Surface Engineering (ICSE 2013)　2013年11月

  30. Development of advanced ICP-enhanced reactive sputter deposition technologies for flexible devices

    The workshop of the Joint Institute for Plasma Nano Materials (IPNM)　2013年10月

  31. プラズマが拓く未来社会 −先端的ものづくりから先進医療まで −

    平成25年度三津田学問探訪（広島県立呉三津田高等学校)　2013年9月

  32. 医療プラズマ源の創成に向けたプラズマ−生体分子相互作用の究明と放電制御

    新学術領域研究「プラズマ医療科学の創成」第2回公開シンポジウム　2013年9月

  33. Plasma Interactions with Soft Materials in Air and Liquid

    3rd International Symposium for Plasma Biosciences (ISPB2013-3)　2013年6月

  34. Plasma Interactions with Soft Materials in Air and Liquid

    The 17th Korea-Japan Workshop on Advanced Plasma Process and Diagnostics & 4th Workshop for NU-SKKU Joint Institute for Plasma-Nano Materials Abstract　2013年5月

  35. Characteristics of Atmospheric Pressure Discharge and Interactions with Soft Materials

    The 16th International Workshop on Advanced Plasma Processing and Diagnostics　2013年1月

  36. 高度時空間制御による生体適合放電生成の基盤確立と革新的医療プラズマ源の創成

    新学術領域研究「プラズマ医療科学の創成」第1回公開シンポジウム　2012年9月

  37. Plasma Interactions with Soft-Materials as a Basis of Fundamental Processes for Plasma Medicine

    The 2nd International Symposium for Plasma Biosciences　2012年8月

  38. Plasma Interactions with Soft Materials as a Basis for Plasma Medicine

    International Workshop on Advanced Plasma Technology for Green Energy and Biomedical Applications (APT2012)　2012年8月

  39. Plasma-Enhanced Reactive Sputter Deposition with Low-Inductance Antenna for Low-Temperature Fabrication of Flexible Photovoltaic Devices

    The 6th International Conference on Technological Advances of Thin Films & Surface Coatings　2012年7月

  40. Process Control Capabilities of ICP-Enhanced Sputter Discharge for Reactive Large-Area Deposition of Functional Films

    The 15th Korea-Japan Workshop for Advanced Plasma Process and Diagnostics　2012年6月

  41. Formation of 10-nm Organic Pillars by Plasma Etch with Pt particles masks

    The 15th Korea-Japan Workshop for Advanced Plasma Process and Diagnostics　2012年6月

  42. ICP-Assisted Reactive Sputter-Deposition with Inner-Type Low-Inductance Antenna (LIA)

    The 14th International Workshop on Advanced Plasma Processing andDiagnostics, The 2nd Workshop for NU-SKKU Joint Institute for Plasma-NanoMaterials　2012年1月

  43. Plasma-Assisted Deposition of Functional Thin Films and Process Analyses for Development of Flexible Electronics

    IUMRS-ICA 2011 12th International Conference in Asia　2011年9月

  44. Development of Plasma-Enhanced Reactive Large-Area Processes

    Advanced Plasma Technology for Green Energy and Biomedical Apllications　2011年8月

  45. Development of Inner-Type ICPs for Reactive Large-Area Processes

    The 13th International Workshop on Advanced Plasma Processing and Diagnostics　2011年7月

  46. Development of ICP-assisted sputter process for large-area production of thin-film solar cells

    2011 International Workshop on Environment and Resources　2011年6月

  47. Combinatorial Plasma-Process Analyses for Advanced Inorganic/Organic Device Formation

    6th China International Conference on Surface Engineering (ICSE) 2011　2011年5月

  48. Materials joining technologies and interface science for integration of novel structured metallic and inorganic materials

    Visual-JW2010　2010年11月

  49. Plasma Processing of Soft Materials for Development of Flexible Electronics

    10th Asia Pacific Conference on Plasma Science and Technology (APCPST) and 23rd Symposium on Plasma Science for Materials(SPSM)　2010年7月

  50. Soft Plasma Processing Science for Flexible Electronics

    The 11th International Workshop on Advanced Plasma Processing and Diagnostics　2010年7月

  51. Advanced plasma technology for large area deposition

    2010 International Workshop on Environment and Resources　2010年5月

  52. Soft Materials Processing Technologies for Flexible Electronics

    The 10th International Workshop of Advanced Plasma Processing and Diagnostics　2010年1月

  53. Production and Control of Inductively-Coupled Plasmas with Multiple Low-Inductance Antenna Modules for Large-Area and Low-Damage Processes of Next-Generation Devices

    JSPS-KOSEF Asian Core Program The Fifth Japan-Korea Workshop on Metallic Glasses　2009年10月

  54. Low-Damage and Large-Area Plasma Processing of Organic-Inorganic Hybrid Materials for Development of Flexible Devices

    7th Asian-European International Conference on Plasma Surface Engineering (AEPSE 2009)　2009年9月

  55. Advanced Research and Development for Plasma Processing of Polymers with Combinatorial Plasma-Process Analyzer

    The 2nd International Conference on Microelectronics and Plasma Technology (ICMAP 2009)　2009年9月

  56. Low-Damage Plasma Processing of Thin Films on Polymers For Flexible Device Fabrications

    International Conference on PROCESSING & MANUFACTURING OF ADVANCED MATERIALS　2009年8月

  57. Analyses of Plasma-Materials Interactions for Development of Advanced Devices

    The 7th Korea-Japan Workshop on Thin Film and Plasma Process for Green Technology Advanced Plasma Diagnostics for Plasma-Nano Processing　2009年7月

  58. Low Energetic Ion Bombardment on Polymer Surfaces

    The 8th International Workshop of Advanced Plasma Processing and Diagnostics　2009年1月

  59. Combinatorial Plasma-Process Analyzer for Development of Plasma Nano-Fabrication Processes

    The 2nd International Conference on Plasma Nano Technology & Science(IC-PLANTS 2009)　2009年1月

  60. Low-Damage Processing of Polymers with Reactive High-Density Plasmas Driven by Multiple Low-Inductance Antenna Modules

    The Eleventh International Conference on Plasma Surface Engineering(PSE2008)　2008年9月

  61. Development of Combinatorial Plasma Process Analyzer for Advanced Materials Processing

    ICPP2008 Satellite Meeting on Plasma Physics and Advanced Applications in ASO　2008年9月

  62. Nano-Surface Processing of Polymers with Low-Damage Reactive High-Density Plasmas for Flexible Electronics

    The 7th Korea-Japan Workshop on Plasma Technology　2008年7月

  63. Low-Temperature and Nano-Surface Modification of Materials with Low-Damage Plasma and Femtosecond Laser-Induced Processes

    Interfinish 2008 17th World Interfinish Congress and Exposition　2008年6月

  64. Synthesis of poly-Si thin film by large area ICP plasma processing

    Workshop on Thin Film Solar Cells and Fuel Cells　2008年4月

  65. マルチアンテナ型RFプラズマによるメートル級大面積での低ダメージプロセスと制御

    （社）日本機械学会関東支部第14期総会講演会基調講演　2008年3月

  66. Low-Temperature and Nano-Surface Materials Modification with Low-Damage Plasma and Laser-Induced Phonon Excitation Processes

    The 6th International Workshop on Advanced Plasma Processing and Diagnostics & The 3rd Plasma Application Monodzukuri (PLAM)　2008年1月

  67. プラズマ生成の原理と実際

    （社）表面技術協会第21回「ナノテク部会」研究会　2007年11月

  68. Low-Temperature and Nano-Surface Modification of Materials with Low-Damage Plasma and Photon-Induced Phonon Excitation Processes

    The international workshop on advanced thin films and surface technology　2007年11月

  69. Large-area Low-damage Plasma Sources Driven by Multiple Low-inductance-antenna Modules for Next-generation Flat-panel and Polymer Processes

    The Sixth Asian-European International Conference on Plasma Surface Engineering　2007年9月

  70. Plasma sources for advanced processing

    10th Latin American Course on Plasma Processing　2007年8月

  71. Control Capabilities of Inductively-Coupled RF Plasmas Driven by Multiple Low-Inductance Antenna Modules for Low-Damage Large-Area Processing - Ion Energy Distributions and Spatio-Temporal Profiles -

    The 5th International Symposium on Advanced Plasma Processes and Diagnostics & The 1st International Symposium on Flexible Electronics Technology　2007年4月

  72. 高密度・大面積プラズマを用いた炭素系薄膜形成技術の開発

    財団法人神奈川科学技術アカデミー分科会講演会　2007年3月

  73. Ion Energy Distributions and Large-Area Deposition of Thin Films Employing ICP Plasmas with Multiple Low-Inductance Antenna Modules

    The 4th Int. Workshop on Adv. Plasma Processing and Diagnostics & Thin Film Technology for Electronic Materials　2006年12月

  74. Large-Area Plasma Sources with Multiple Low-Inductance Antenna Modules for Next-Generation Low-Damage Flat-Panel Display Processing

    The 6th Korea-Japan Symposium on Plasma and Thin Film Technology　2006年10月

  75. Development of Internal-Antenna-Driven RF Plasma Sources for Ultra-Large-Area Deposition of Carbon-Related Films

    11th Int. Conf. s on Modern Materials and Technologies　2006年6月

  76. Novel ICP Plasma Source for Large Area CVD Processing

    The 3rd Int. Workshop on Adv. Plasma Processing and Diagnostics　2006年4月

  77. Development of large area plasma based on plasma science and its application to μ-cSi formation

    The 2nd Korea-Japan Workshop on Advanced Plasma Processing and Diagnostics　2005年12月

  78. Profile-Controlled Ultra-Large-Area Plasma Source for Meters Scale Processing by Independently-Operated Multiple Low-Inductance Antenna Units

    5th Asian-European Int. Conf. Plasma Surface Eng.　2005年9月

  79. PLASMA SOURCES FOR ADVANCED PROCESSING

    The 8th Latin American Course on Plasma Processing of Materials　2005年8月

  80. Large area high-density plasma source for high rate deposition of micro-crystalline Si film

    Korea-Japan Workshop on Advanced Plasma Processing and Diagnostics　2005年4月

  81. 次世代メートル級大面積プロセスプラズマ源の開発

    第46回（平成16年度第2回）表面改質技術研究委員会　2004年10月

  82. 低インダクタンス内部アンテナを用いた次世代メートル級大面積プラズマ源の開発

    平成16年度第2回表面物性研究会　2004年10月

  83. プラズマイオンプロセスを用いた表面改質

    第42回プラズマ若手夏の学校　2003年8月

  84. 高密度プラズマを用いたイオン化スパッタプロセスによる機能性薄膜形成技術の課題と展望

    名古屋大学２１世紀ＣＯＥシンポジウム「プラズマが拓くナノ情報デバイスの世界的拠点形成に向けて」　2003年3月

  85. 超短パルスレーザー照射による次世代半導体接合形成

    第３回フェムト秒超加工研究会　2002年11月

  86. 低温結晶化のための低ポテンシャル高密度プラズマおよびフォノン励起プロセスの開発

    平成14年度東北大学電気通信研究所共同プロジェクト研究会　2002年10月

  87. 低インダクタンス型マルチ内部アンテナを用いた大面積ＲＦ誘導結合プラズマ源の開発

    応用物理学会九州支部講演会　2002年6月

  88. 低インダクタンスマルチアンテナユニットを用いた大面積高密度ＲＦプラズマ源の開発

    東北大学流体科学研究所・特別講演会　2002年6月

  89. 波動励起による反応性高密度プラズマ生成とスパッタ成膜への応用

    第９回日本表面科学会関西支部セミナー　2001年10月

  90. 非平衡材料プロセスを用いた超硬質窒化物薄膜合成

    日本真空協会関西支部平成12年度第１回研究例会　2000年10月

  91. イオン・プラズマプロセスを用いたＢＣＮ系超硬質窒化物薄膜合成

    応用物理学会関西支部セミナー　2000年3月

  92. イオンビーム支援蒸着法による(Ti,Al)系薄膜の構造制御

    日本真空協会関西支部平成6年度第１回研究例会　1994年10月

特許・実用新案・意匠 86

  1. 樹脂材と金属材との接合体およびその製造方法

    内田 儀一郎, 節原 裕一, 竹中 弘祐

    出願日:2018/05/18

  2. プラズマ生成装置及びこれを用いたプラズマ生成方法

    節原 裕一, 内田 儀一郎, 竹中 弘祐

    出願日:2017/03/30

  3. 高周波アンテナユニット及びプラズマ処理装置

    節原 裕一, 江部 明憲

    出願日:2013/07/26

  4. 高周波アンテナユニット及びプラズマ処理装置

    節原 裕一, 江部 明憲

    特許第5749769号

    出願日:2013/07/26

  5. プラズマ処理装置

    江部 明憲, 節原 裕一

    出願日:2011/02/15

  6. 弾性表面波霧化装置

    石上 陽平, 岡野 正紀, 節原 裕一

    出願日:2011/01/21

  7. プラズマ処理装置

    節原 裕一, 江部 明憲

    出願日:2011/09/09

  8. プラズマ処理装置

    節原 裕一, 江部 明憲

    出願日:2010/10/29

  9. プラズマ処理装置

    節原 裕一, 江部 明憲

    特許第5635367号

    出願日:2010/10/29

  10. プラズマ生成方法及びプラズマ生成装置並びにプラズマ処理装置

    節原 裕一

    出願日:2005/10

  11. プラズマ生成方法及びプラズマ生成装置並びにプラズマ処理装置

    節原 裕一

    出願日:2005/10

  12. プラズマ生成方法及び装置並びにプラズマ処理装置

    節原 裕一

    出願日:2006/06

  13. プラズマ生成方法及び装置並びにプラズマ処理装置

    節原 裕一

    出願日:2005/10

  14. プラズマ生成方法及び装置並びにプラズマ処理装置

    節原 裕一

    出願日:2005/10

  15. 緻密な硬質薄膜の形成装置及び硬質薄膜の形成方法

    阿川 義昭, 内藤 哲郎, 節原 裕一, 坂和 洋一

    出願日:2000/09

  16. プラズマ発生装置並びにこの装置を利用した緻密な硬質薄膜の形成装置及び硬質薄膜の形成方法

    阿川義昭, 内藤哲郎, 節原裕一, 坂和洋一

    特開2002-85963

    出願日:2000/09

  17. プラズマ発生装置及びこれを用いたプラズマ生成方法

    節原 裕一, 内田儀一郎, 竹中弘祐

    出願日:2017/03

  18. プラズマ処理装置

    節原 裕一

    出願日:2013/04

  19. プラズマ処理装置

    節原 裕一

    出願日:2013/04

  20. プラズマ処理装置

    節原 裕一

    出願日:2013/03

  21. プラズマ処理装置

    節原 裕一

    出願日:2013/03

  22. プラズマ処理装置

    節原 裕一

    特許第5462369号

    出願日:2013/03

  23. プラズマ処理装置

    節原 裕一

    出願日:2013/02

  24. プラズマ処理装置

    節原 裕一

    出願日:2013/02

  25. プラズマ処理装置

    節原 裕一

    出願日:2013/01

  26. プラズマ処理装置

    節原 裕一

    出願日:2013/01

  27. プラズマ処理装置

    節原 裕一

    出願日:2011/08

  28. 薄膜太陽電池及び半導体デバイス

    節原 裕一

    出願日:2011/08

  29. プラズマ処理装置

    節原 裕一

    出願日:2011/08

  30. 薄膜太陽電池及び半導体デバイス

    節原 裕一

    出願日:2011/08

  31. 選択成膜方法、成膜装置、及び構造体

    節原 裕一

    出願日:2010/09

  32. プラズマ処理装置

    節原 裕一

    出願日:2010/09

  33. イオン源

    節原 裕一

    出願日:2010/08

  34. 薄膜太陽電池及び半導体デバイス

    節原 裕一

    出願日:2010/08

  35. プラズマ処理装置

    節原 裕一

    出願日:2010/08

  36. 不純物活性化方法、半導体装置の製造方法

    節原 裕一

    出願日:2010/07

  37. プラズマ処理装置

    節原 裕一

    出願日:2010/06

  38. プラズマ処理装置

    節原 裕一

    出願日:2010/05

  39. プラズマ処理装置

    節原 裕一

    出願日:2010/04

  40. プラズマ処理装置

    節原 裕一

    出願日:2010/03

  41. プラズマ処理装置

    節原 裕一

    出願日:2010/03

  42. プラズマ処理装置

    節原 裕一

    出願日:2010/03

  43. プラズマ処理装置

    節原 裕一

    出願日:2010/03

  44. シリコン薄膜形成装置

    節原 裕一

    出願日:2010/02

  45. スパッタリング薄膜形成装置

    節原 裕一

    出願日:2010/02

  46. プラズマ処理装置用アンテナ及び該アンテナを用いたプラズマ処理装置

    節原 裕一

    出願日:2010/02

  47. スパッタリング薄膜形成装置

    節原 裕一

    出願日:2009/08

  48. スパッタリング薄膜形成装置

    節原 裕一

    出願日:2009/08

  49. SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD

    節原 裕一

    出願日:2009/05

  50. 高周波アンテナ及びプラズマ処理装置

    節原 裕一

    出願日:2009/03

  51. 高周波アンテナ及びプラズマ処理装置

    節原 裕一

    出願日:2009/03

  52. プラズマ処理装置

    節原 裕一

    出願日:2009/03

  53. コンビナトリアル式プラズマプロセス試験方法及び傾斜プラズマ発生装置

    節原 裕一

    出願日:2009/03

  54. プラズマ処理装置

    節原 裕一

    出願日:2009/03

  55. 基板処理装置及び基板処理方法

    節原 裕一

    出願日:2009/02

  56. プラズマ処理装置

    節原 裕一

    ZL200880115832.0

    出願日:2008/11

  57. プラズマ処理装置

    節原 裕一

    出願日:2008/11

  58. プラズマ処理装置

    節原 裕一

    出願日:2008/11

  59. プラズマ処理装置

    節原 裕一

    出願日:2008/11

  60. プラズマ処理装置

    節原 裕一

    出願日:2008/11

  61. スパッタリング薄膜形成装置

    節原 裕一, 江部 明憲, Han Jeon Geon

    出願日:2008/08

  62. 薄膜製造装置、太陽電池製造装置及び太陽電池製造方法

    節原 裕一, 井野 英二, 石原 伸一郎, 渡邉 亮

    出願日:2008/05

  63. 薄膜製造装置、薄膜製造方法、薄膜太陽電池製造装置及び薄膜太陽電池製造方法

    節原 裕一, 井野 英二, 石原 伸一郎, 渡邉 亮

    出願日:2008/04

  64. 薄膜製造装置及び薄膜太陽電池製造装置

    節原 裕一, 井野 英二, 石原 伸一郎, 渡邉 亮

    出願日:2008/04

  65. コンビナトリアル式プラズマ試験方法及び傾斜プラズマ発生装置

    堀 勝, 関根 誠, 節原 裕一, 白谷 正治

    出願日:2008/03

  66. 高周波アンテナユニット及びプラズマ処理装置

    節原 裕一, 江部 明憲

    出願日:2008/03

  67. 高周波電力供給装置及びプラズマ発生装置

    節原裕一, 庄司多津男, 釜井正善

    出願日:2007/12

  68. プラズマ処理装置

    節原 裕一, 江部 明憲

    出願日:2007/11

  69. プラズマ処理装置

    節原 裕一, 江部 明憲, 井野 英二, 石原 伸一郎, 芦田 肇, 渡邉 亮

    出願日:2007/11

  70. 高頻電力供給装置及電奬産生装置

    節原裕一, 庄司多津男, 釜井正善

    中華民国特許: I266361号

    出願日:2006/11

  71. Plasma generator

    S. Miyake, T. Shoji, Y. Setsuhara

    United States Patent 7,098,599

    出願日:2006/08

  72. 固体試料の表面改質方位法、不純物活性化方法、半導体装置の製造方法

    節原裕一, 橋田昌樹, 藤田雅之

    特願2004-134000

    出願日:2004/04

  73. プラズマ発生装置

    節原 裕一

    特許第4451392号

    出願日:2004/01

  74. HIGH FREQUENCY POWER SUPPLY DEVICE AND PLASMA GENERATION DEVICE

    節原 裕一

    United States Patent 7,567,037

    出願日:2004/01

  75. プラズマ生成装置、プラズマ制御方法及び基板製造方法

    節原 裕一

    I391035

    出願日:2003/12

  76. プラズマ生成装置、プラズマ制御方法及び基板製造方法

    節原 裕一

    1199995

    出願日:2003/12

  77. プラズマ生成装置、プラズマ制御方法及び基板製造方法

    節原 裕一

    1199994

    出願日:2003/12

  78. プラズマ生成装置、プラズマ制御方法及び基板製造方法

    節原 裕一

    1186822

    出願日:2003/12

  79. プラズマ生成装置、プラズマ制御方法及び基板製造方法

    節原 裕一

    I368463

    出願日:2003/12

  80. プラズマ生成装置、プラズマ制御方法及び基板製造方法

    節原 裕一

    I362901

    出願日:2003/12

  81. プラズマ生成装置、プラズマ制御方法及び基板製造方法

    節原 裕一

    ZL200710162401.7

    出願日:2003/12

  82. 高周波電力供給装置およびプラズマ発生装置

    節原裕一, 庄司多津男, 釜井正善

    特願2003-008648

    出願日:2003/01

  83. プラズマ生成装置、プラズマ制御方法及び基板製造方法

    節原 裕一

    US8444806

    出願日:2002/12

  84. 固体試料のアニール方法および半導体不純物ドーピング層形成方法

    節原裕一, 水野文二, 高瀬道彦, 足立 智

    特開2001-338894

    出願日:2000/05

  85. プラズマ発生装置

    三宅正司, 庄司多津男, 節原裕一

    特開2001-35697

    出願日:1999/07

  86. 高出力ミリ波によるセラミックスの製造方法及び装置

    三宅正司, 節原裕一

    特開平6-87663

    出願日:1992/09

機関リポジトリ 23

大阪大学の学術機関リポジトリ（OUKA）に掲載されているコンテンツ

  1. Influence of pre-treatment with non-thermal atmospheric pressure plasma on bond strength of TP340 titanium-PEEK direct bonding

    Takenaka Kosuke, Nakamoto Soutaro, Koyari Ryosuke, Jinda Akiya, Toko Susumu, Uchida Giichiro, Setsuhara Yuichi

    International Journal of Advanced Manufacturing Technology　Vol. 134　No. 3-4　p. 1637-1644　2024年9月1日

  2. Influence of pre-treatment using non-thermal atmospheric pressure plasma jet on aluminum alloy A1050 to PEEK direct joining with hot-pressing process

    Takenaka Kosuke, Jinda Akiya, Nakamoto Soutaro, Koyari Ryosuke, Toko Susumu, Uchida Giichiro, Setsuhara Yuichi

    International Journal of Advanced Manufacturing Technology　Vol. 130　p. 1925-1933　2024年1月1日

  3. Discharge Conditions of a Non-Thermal Plasma Jet in Helium, Surrounded by Flows of Nitrogen-Oxygen Mixtures of Various Proportions

    Uchida Giichiro, Ito Taiki, Takenaka Kosuke, Setsuhara Yuichi, Nakajima Atsushi

    Transactions of JWRI　Vol. 44　No. 2　p. 5-7　2015年12月

  4. Effects of photon irradiation in UV and VUV regions during plasma processing of organic materials

    Cho Ken, Takenaka Kosuke, Setsuhara Yuichi, Shiratani Masaharu, Sekine Makoto, Hori Masaru

    Transactions of JWRI　Vol. 39　No. 2　p. 298-300　2010年12月

  5. Materials joining technologies and interface science for integration of novel structured metallic and inorganic materials

    Setsuhara Yuichi, Nakata Kazuhiro

    Transactions of JWRI　Vol. 39　No. 2　p. 259-261　2010年12月

  6. Combinatorial analysis of plasma-polymer interactions for formation of inorganic-soft materials hybrid structure

    Takenaka Kosuke, Cho Ken, Setsuhara Yuichi, Shiratani Masaharu, Sekine Makoto, Hori Masaru

    Transactions of JWRI　Vol. 39　No. 2　p. 250-252　2010年12月

  7. Development of a Meters-Scale Large Area Plasma Reactor Using Multiple Low-Inductance Antenna Modules for Giant Electronics Processing

    Setsuhara Yuichi, Ono Kouichi, Ebe Akinori

    Transactions of JWRI　Vol. 36　No. 2　p. 95-97　2007年12月

  8. Zr-based Hydrogen Absorbing Films Prepared by Ion Beam Assisted Deposition(Physics, Processes, Instruments & Measurements)

    Nishimiya Nobuyuki, Setsuhara Yuichi, Miyake Shoji

    Transactions of JWRI　Vol. 30　No. 2　p. 33-38　2001年12月

  9. Mechanical Property of Dissimilar Material Nanocomposites Prepared by Ion Beam Assisted Sputtering Process(Physics, Processes, Instruments & Measurements)

    He Jianli, Setsuhara Yuichi, Shimizu Ippei, Miyake Shoji

    Transactions of JWRI　Vol. 29　No. 1　p. 9-13　2000年7月

  10. Influence of Ion Irradiation on Crystalline Phases of Oxide Films(Materials, Metallurgy & Weldability)

    Miyake Shoji, Shibata Kazuo, Makino Yukio, Setsuhara Yuichi

    Transactions of JWRI　Vol. 26　No. 1　p. 77-80　1997年7月

  11. イオンビーム照射による窒化硼素の相転移 : 低圧相から高圧相へ

    節原 裕一, 鈴木 常生, 三宅 正司

    大阪大学低温センターだより　Vol. 96　p. 14-18　1996年10月

  12. Metallization on Polyimide Film by Ion and Vapor Deposition (IVD) Method(Physics, Processes, Instruments & Measurements)

    Ebe Akinori, Setsuhara Yuichi, Miyake Shoji

    Transactions of JWRI　Vol. 25　No. 1　p. 25-30　1996年7月

  13. Use of Focused High-Power 60-GHz Radiation Beams for Advanced Sintering of Ceramics(Physics, Processes, Instruments & Measurements)

    Kamai Masayoshi, Setsuhara Yuichi, Kinoshita Shichi, Abe Nobuyuki, Miyake Shoji

    Transactions of JWRI　Vol. 25　No. 1　p. 31-36　1996年7月

  14. Helicon Wave Plasma Enhanced Sputtering and Application to Synthesis of Carbon Nitride Films(Physics, Process, Instrument & Measurements)

    Zhang Jinqiu, Seto Naoki, Kamai Masayoshi, Setsuhara Yuichi, Miyake Shoji

    Transactions of JWRI　Vol. 24　No. 2　p. 17-22　1995年12月

  15. Effect of Magnetic Mirror Plasma Confinement on Microwave Electron Cyclotron Resonance/D.C. Discharge for Low Pressure Sputtering(Physics, Process, Instrument & Measurements)

    Misina Martin, Setsuhara Yuichi, Miyake Shoji

    Transactions of JWRI　Vol. 24　No. 2　p. 11-16　1995年12月

  16. Properties of (Ti, Al) N films prepared by ion beam assisted deposition(Physics, Process, Instrument & Measurements)

    Suzuki Tsuneo, Setsuhara Yuichi, Makino Yukio, Miyake Shoji, Sakata Takao, Mori Hirotaro

    Transactions of JWRI　Vol. 24　No. 1　p. 31-37　1995年7月

  17. Formation and Structure of Crystalline Phase TiB₂ Films by Ion Beam Assisted Deposition(Physics, Process, Instrument & Measurements)

    Wang Yu, Setsuhara Yuichi, Miyake Shoji

    Transactions of JWRI　Vol. 23　No. 1　p. 7-11　1994年6月

  18. Ti-Al Alloy Films Synthesized by Ion-Beam-Enhanced Deposition(Physics, Process, Instrument & Measurements)

    Setsuhara Yuichi, Ohsako Hajime, Samoto Hirotaka, Makino Yukio, Kyou Bunkei, Miyake Shoji

    Transactions of JWRI　Vol. 22　No. 2　p. 215-218　1993年12月

  19. Application o f Microwave Thermal Plasma to Ceramics Sintering(Physics, Process, Instruments & Measurements)

    Miyake Shoji, Ohnishi Ryosuke, Setsuhara Yuichi, Yamada Sumasu

    Transactions of JWRI　Vol. 22　No. 1　p. 31-35　1993年8月

  20. Inductively Coupled RF Discharges Using Helical Antennas(Physics, Process, Instruments & Measurements)

    Setsuhara Yuichi, Ueda Kunitsugu, Musil Jindrich, Ariyasu Tomio, Miyake Shoji

    Transactions of JWRI　Vol. 22　No. 1　p. 1-5　1993年8月

  21. Heating and Sintering of Alumina using High-Power Pulsed 60-GHz Gyrotron(Physics, Process, Instruments & Measurements)

    Setsuhara Yuichi, Tabata Yuji, Ohnishi Ryosuke, Miyake Shoji

    Transactions of JWRI　Vol. 21　No. 2　p. 181-186　1992年12月

  22. Ion and Neutral Particle Diagnostics in Reactive ECR Plasma(Physics, Process, Instruments & Measurements)

    Chen Wei, Yoshinaga Jun, Setsuhara Yuichi, Miyake Shoji

    Transactions of JWRI　Vol. 20　No. 2　p. 203-209　1991年12月

  23. 核融合反応粒子を用いた高密度爆縮プラズマの診断に関する研究

    節原 裕一