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藤 大雪
Daisetsu Toh
藤 大雪
Daisetsu Toh
機関リポジトリ
工学研究科　物理学系専攻，助教
機関リポジトリ

経歴 1

  1. 2021年4月 ～ 継続中
    大阪大学大学院工学研究科　物理学系専攻　助教

学歴 1

  1. 大阪大学大学院　工学研究科　精密科学・応用物理学専攻

    2018年4月 ～ 2021年3月

委員歴 2

  1. 公益社団法人精密工学会　広報・情報部会 広報委員　学協会

    2025年4月 ～ 継続中

  2. 公益社団法人 精密工学会　若手先導的会員（精密学会アフィリエイト）

    2023年3月 ～ 継続中

研究内容・専門分野 1

  1. ものづくり技術（機械・電気電子・化学工学） / 加工学、生産工学 / 化学研磨

受賞 5

  1. 2024年度精密工学会論文賞

    精密工学会　2025年3月

  2. アドバンスト・ベストプレゼンテーション賞（2023年度精密工学会秋季大会学術講演会）

    精密工学会　2023年11月

  3. 精密工学会技術奨励賞

    精密工学会　2022年9月

  4. アドバンスト・ベストプレゼンテーション賞(2021年度精密工学会秋季大会学術講演会）

    精密工学会　2021年9月

  5. ベストプレゼンテーション賞

    2015年度精密工学会秋季大会学術講演会　2015年9月

論文 33

  1. Fabrication of YAG ceramics surface without damage and grain boundary steps using catalyzed chemical wet etching

    Daisetsu Toh, Kiyoto Kayao, Kazuto Yamauchi, Yasuhisa Sano

    CIRP Journal of Manufacturing Science and Technology　Vol. 47　p. 1-6　2023年12月　研究論文（学術雑誌）

    出版者・発行元：Elsevier BV

  2. Dicing Process for 4H-SiC Wafers by Plasma Etching Using High-Pressure SF<sub>6</sub> Plasma with Metal Masks

    Yasuhisa Sano, Yuma Nakanishi, Masaaki Oshima, Shunto Iden, Jumpei Yamada, Daisetsu Toh, Kazuto Yamauchi

    Materials Science Forum　Vol. 1124　p. 51-55　2024年8月21日　研究論文（学術雑誌）

    出版者・発行元：Trans Tech Publications, Ltd.

  3. Ultra-precision smooth surface on polymer material prepared by catalyst-referred etching

    D. Toh, K. Takeda, K. Kayao, Y. Ohkubo, K. Yamauchi, Y. Sano

    International Journal of Automation Technology　Vol. 18　No. 2　p. 240-247　2024年3月5日　研究論文（学術雑誌）

  4. High-pressure plasma etching up to 9 atm toward uniform processing inside narrow grooves of high-precision X-ray crystal optics

    Shotaro Matsumura, Iori Ogasahara, Masafumi Miyake, Taito Osaka, Daisetsu Toh, Jumpei Yamada, Makina YABASHI, Kazuto Yamauchi, Yasuhisa Sano

    Applied Physics Express　2023年12月2日　研究論文（学術雑誌）

    出版者・発行元：IOP Publishing

  5. Catalyst enhancement approach for improving the removal rate and stability of silica glass polishing via catalyzed chemical etching in pure water

    Daisetsu Toh, Kiyoto Kayao, Pho Van Bui, Kouji Inagaki, Yoshitada Morikawa, Kazuto Yamauchi, Yasuhisa Sano

    Precision Engineering　Vol. 84　p. 21-27　2023年11月　研究論文（学術雑誌）

    出版者・発行元：Elsevier BV

  6. Bias-assisted photoelectrochemical planarization of GaN (0001) with impurity concentration distribution

    D. Toh, K. Kayao, R. Ohnishi, A. I. Osaka, K. Yamauchi, Y. Sano

    AIP Advances　Vol. 13　No. 9　2023年9月1日　研究論文（学術雑誌）

    出版者・発行元：AIP Publishing

  7. Role of Photoelectrochemical Oxidation in Enabling High-Efficiency Polishing of Gallium Nitride

    Kiyoto Kayao, Daisetsu Toh, Kazuto Yamauchi, Yasuhisa Sano

    ECS Journal of Solid State Science and Technology　Vol. 12　No. 6　p. 063005-063005　2023年6月1日　研究論文（学術雑誌）

    出版者・発行元：The Electrochemical Society

  8. High-Speed Plasma Etching of Gallium Oxide Substrates Using Atmospheric-Pressure Plasma with Hydrogen-Helium Mixed Gas

    Yasuhisa Sano, Taiki Sai, Genta Nakaue, Daisetsu Toh, Kazuto Yamauchi

    Solid State Phenomena　Vol. 342　p. 69-72　2023年5月25日　研究論文（学術雑誌）

    出版者・発行元：Trans Tech Publications, Ltd.

  9. High-speed etching of gallium nitride substrate using hydrogen-contained atmospheric-pressure plasma

    Yasuhisa Sano, Genta Nakaue, Daisetsu Toh, Jumpei Yamada, Kazuto Yamauchi

    Applied Physics Express　Vol. 16　No. 4　p. 045504-045504　2023年4月1日　研究論文（学術雑誌）

    出版者・発行元：IOP Publishing

  10. High-throughput deterministic plasma etching using array-type plasma generator system

    Yasuhisa Sano, Ken Nishida, Ryohei Asada, Shinya Okayama, Daisetsu Toh, Satoshi Matsuyama, Kazuto Yamauchi

    Review of Scientific Instruments　Vol. 92　No. 12　p. 125107-125107　2021年12月1日　研究論文（学術雑誌）

    出版者・発行元：AIP Publishing

  11. Nondeteriorating Verwey Transition in 50 nm Thick Fe<inf>3</inf>O<inf>4</inf>Films by Virtue of Atomically Flattened MgO Substrates: Implications for Magnetoresistive Devices

    Ai I. Osaka, Daisetsu Toh, Kazuto Yamauchi, Ken Hattori, Xiaoqian Shi, Fangzhun Guo, Hidekazu Tanaka, Azusa N. Hattori

    ACS Applied Nano Materials　Vol. 4　No. 11　p. 12091-12097　2021年11月26日　研究論文（学術雑誌）

  12. Photoelectrochemical oxidation assisted catalyst-referred etching for sic (0001) surface

    Daisetsu Toh, Pho Van Bui, Kazuto Yamauchi, Yasuhisa Sano

    International Journal of Automation Technology　Vol. 15　No. 1　p. 74-79　2021年　研究論文（学術雑誌）

  13. High surface laser-induced damage threshold of SrB<inf>4</inf>O<inf>7</inf>single crystals under 266-nm (DUV) laser irradiation

    Yasunori Tanaka, Ryota Murai, Yoshinori Takahashi, Tsuyoshi Sugita, Daisetsu Toh, Kazuto Yamauchi, Sora Aikawa, Haruki Marui, Yuji Umeda, Yusuke Funamoto, Tomosumi Kamimura, Melvin John F. Empizo, Masayuki Imanishi, Yusuke Mori, Masashi Yoshimura

    Optics Express　Vol. 28　No. 20　p. 29239-29244　2020年9月　研究論文（学術雑誌）

  14. An abrasive-free chemical polishing method assisted by nickel catalyst generated by in situ electrochemical plating

    Daisetsu Toh, Pho Van Bui, Ai Isohashi, Satoshi Matsuyama, Kazuto Yamauchi, Yasuhisa Sano

    Review of Scientific Instruments　Vol. 91　No. 4　2020年4月　研究論文（学術雑誌）

  15. Atomically smooth Si surface planarized using a thin film catalyst in pure water

    Pho van Bui, Daisetsu Toh, Shinsaku Shiroma, Taku Hagiwara, Ai Isohashi Osaka, Satoshi Matsuyama, Yasuhisa Sano, Kazuto Yamauchi

    Proceedings of the 20th International Conference of the European Society for Precision Engineering and Nanotechnology, EUSPEN 2020　p. 43-44　2020年　研究論文（国際会議プロシーディングス）

  16. Catalyzed chemical polishing of SiO <inf>2</inf> glasses in pure water

    Daisetsu Toh, Pho Van Bui, Ai Isohashi, Naotaka Kidani, Satoshi Matsuyama, Yasuhisa Sano, Yoshitada Morikawa, Kazuto Yamauchi

    Review of Scientific Instruments　Vol. 90　No. 4　2019年4月　研究論文（学術雑誌）

  17. High-efficiency SiC polishing using a thin film catalyst in pure water

    Pho Van Bui, Daisetsu Toh, Satoshi Matsuyama, Yasuhisa Sano, Kazuto Yamauchi

    European Society for Precision Engineering and Nanotechnology, Conference Proceedings - 19th International Conference and Exhibition, EUSPEN 2019　p. 50-51　2019年　研究論文（国際会議プロシーディングス）

  18. High-efficiency planarization of SIC wafers by water-CARE (Catalyst-referred etching) employing photoelectrochemical oxidation

    H. Kida, D. Toh, P. V. Bui, A. Isohashi, R. Ohnishi, S. Matsuyama, K. Yamauchi, Y. Sano

    Materials Science Forum　Vol. 963 MSF　p. 525-529　2019年　研究論文（国際会議プロシーディングス）

  19. Development of an abrasive-free polishing method for optical material using pure water and Ni catalyst

    Daisetsu Toh, Ryosuke Ohnishi, Pho V. Bui, Ai Isohsahi, Satoshi Matsuyama, Yasuhisa Sano, Kazuto Yamauchi

    Proceedings - 34th ASPE Annual Meeting　p. 474-477　2019年　研究論文（国際会議プロシーディングス）

  20. High-efficiency planarization of GaN wafer by catalyst-referred etching with positive-biased photo-electrochemical oxidation

    Ryosuke Ohnishi, Daisetsu Toh, Satoshi Matsuyama, Ai Isohashi, Yasuhisa Sano, Kazuto Yamauchi

    Proceedings - 34th ASPE Annual Meeting　p. 79-83　2019年　研究論文（国際会議プロシーディングス）

  21. Platinum-catalyzed hydrolysis etching of SiC in water: A density functional theory study

    Pho Van Bui, Daisetsu Toh, Ai Isohashi, Satoshi Matsuyama, Kouji Inagaki, Yasuhisa Sano, Kazuto Yamauchi, Yoshitada Morikawa

    Japanese Journal of Applied Physics　Vol. 57　No. 5　2018年5月　研究論文（学術雑誌）

  22. High-efficiency planarization of SiC in pure water using a thin film catalyst

    Pho Van Bui, Yuta Nakahira, Daisetsu Toh, Satoshi Matsuyama, Yasuhisa Sano, Kazuto Yamauchi

    European Society for Precision Engineering and Nanotechnology, Conference Proceedings - 18th International Conference and Exhibition, EUSPEN 2018　p. 433-434　2018年　研究論文（国際会議プロシーディングス）

  23. Development of high efficiency polishing method using pure water and Ni catalyst

    Daisetsu Toh, Pho Van Bui, Nakahira Yuta, Hideka Kida, Takahisa Ohgushi, Satoshi Matsuyama, Yasuhisa Sano, Kazuto Yamauchi

    European Society for Precision Engineering and Nanotechnology, Conference Proceedings - 18th International Conference and Exhibition, EUSPEN 2018　p. 435-436　2018年　研究論文（国際会議プロシーディングス）

  24. Chemical etching of silicon carbide in pure water by using platinum catalyst

    Ai Isohashi, P. V. Bui, D. Toh, S. Matsuyama, Y. Sano, K. Inagaki, Y. Morikawa, K. Yamauchi

    Applied Physics Letters　Vol. 110　No. 20　2017年5月15日　研究論文（学術雑誌）

  25. ニッケル触媒を利用した純水ベースの触媒表面基準エッチング法の開発

    藤 大雪, 礒橋 藍, 稻田 辰昭, 中平 雄太, 木田 英香, 松山 智至, 佐野 泰久, 山内 和人

    精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2017　No. 0　p. 35-36　2017年

    出版者・発行元：公益社団法人 精密工学会

  26. 触媒表面基準エッチング法における水素水を用いた被毒除去法の提案

    中平 雄太, 礒橋 藍, Bui Pho, 稻田 辰昭, 藤 大雪, 木田 英香, 松山 智至, 佐野 泰久, 山内 和人

    精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2017　No. 0　p. 1-2　2017年

    出版者・発行元：公益社団法人 精密工学会

  27. Planarization of SiC and oxide surfaces by using Catalyst-Referred Etching with water

    Pho Van Bui, Ai Isohashi, Daisetsu Toh, Satoshi Matsuyama, Kouji Inagaki, Yasuhisa Sano, Kazuto Yamauchi

    Proceedings of the 17th International Conference of the European Society for Precision Engineering and Nanotechnology, EUSPEN 2017　p. 157-158　2017年　研究論文（国際会議プロシーディングス）

  28. Stabilization of removal rate of silica glass on catalyst-referred etching by cleaning catalyst surface

    Yuta Nakahira, Ai Isohashi, Tatsuaki Inada, Daisetsu Toh, Hideka Kida, Satoshi Matsuyama, Yasuhisa Sano, Kazuto Yamauchi

    ICPT 2017 - International Conference on Planarization/CMP Technology　p. 110-114　2017年　研究論文（国際会議プロシーディングス）

  29. Stabilization method of transition metal catalyst for high efficiency catalyst-referred etching (CARE) of silicon carbide

    Daisetsu Toh, Ai Isohashi, Tatuaki Inada, Yuta Nakahira, Hideka Kida, Satoshi Matuyama, Yasuhisa Sano, Kazuto Yamauchi

    ICPT 2017 - International Conference on Planarization/CMP Technology　p. 106-109　2017年　研究論文（国際会議プロシーディングス）

  30. 触媒表面基準エッチング法による GaN 基板平坦化における加工速度の高速化

    稻田 辰昭, 礒橋 藍, 藤 大雪, 中平 雄太, 松山 智至, 佐野 泰久, 山内 和人

    年次大会　Vol. 2016　No. 0　2016年

    出版者・発行元：一般社団法人 日本機械学会

  31. 触媒表面基準エッチング法における被毒物除去による加工速度安定化手法の開発

    中平 雄太, 礒橋 藍, Bui Pho, 稻田 辰昭, 藤 大雪, 松山 智至, 佐野 泰久, 山内 和人

    精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2016　No. 0　p. 211-212　2016年

    出版者・発行元：公益社団法人 精密工学会

  32. Investigation of catalytic metals for a catalyst referred etching in pure water

    Ai Isohashi, Tatsuaki Inada, Daisetsu Toh, Yuta Nakahira, Takahito Sugiura, Naotaka Kidani, Koji Inagaki, Yasihisa Sano, Satoshi Matsuyama, Kazuto Yamauchi

    Proceedings of the 16th International Conference of the European Society for Precision Engineering and Nanotechnology, EUSPEN 2016　2016年　研究論文（国際会議プロシーディングス）

  33. 触媒表面基準エッチング法における触媒機能活性化手法の開発

    藤 大雪, 礒橋 藍, 稻田 辰昭, 中平 雄太, 松山 智至, 佐野 泰久, 山内 和人

    精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2015　p. 447-448　2015年

    出版者・発行元：公益社団法人 精密工学会

MISC 15

  1. 大気圧プラズマによる表面処理を利用した常温接合技術の開発

    櫛川新太, 西岡柚香, 藤大雪, 山内和人, 佐野泰久

    精密工学会関西地方定期学術講演会講演論文集　Vol. 2022　2022年

  2. 水素ガスを用いた大気圧プラズマによる窒化ガリウム基板の高能率エッチング

    中上元太, 崔泰樹, 藤大雪, 山内和人, 佐野泰久

    精密工学会関西地方定期学術講演会講演論文集　Vol. 2022　2022年

  3. 紫外光照射を援用した触媒表面基準エッチング法を用いた窒化ガリウム基板の高能率平滑化

    萱尾澄人, 藤大雪, 山田純平, 山内和人, 佐野泰久

    精密工学会関西地方定期学術講演会講演論文集　Vol. 2022　2022年

  4. 触媒表面基準エッチング法を用いた粒界段差フリーな超平滑多結晶材料表面の作製

    藤 大雪, Bui Van Pho, 松山 智至, 佐野 泰久, 山内 和人

    精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2021A　p. 115-116　2021年9月8日

    出版者・発行元：公益社団法人 精密工学会

  5. 触媒表面基準エッチング法を用いた高分子材料表面の高精度平坦化手法-ポリカーボネートの加工特性評価-

    竹田広大, 藤大雪, 佐野泰久, 山内和人

    精密工学会関西地方定期学術講演会講演論文集　Vol. 2021　2021年

  6. SF6ガスを用いたサブ大気圧プラズマによるSiC-MOSFETの裏面薄化におけるデバイス性能への影響の調査

    大島政明, 中西悠真, 藤大雪, 松山智至, 山内和人, 佐野泰久

    精密工学会関西地方定期学術講演会講演論文集　Vol. 2021　2021年

  7. 触媒表面基準エッチング法におけるシリコンの除去機構の解明

    板垣果歩, 萩原拓, 萱尾清人, VAN PHO Bui, 藤大雪, 佐野泰久, 山内和人

    精密工学会関西地方定期学術講演会講演論文集　Vol. 2021　2021年

  8. 触媒表面基準エッチング法で平滑化したMgO基板上に成長させたFe3O4極薄膜における金属/絶縁体相転移特性の向上

    大坂 藍, 藤 大雪, 山内 和人, 佐野 泰久, 田中 秀和, 服部 梓

    精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2020A　p. 187-188　2020年8月20日

    出版者・発行元：公益社団法人 精密工学会

  9. 触媒表面基準エッチング法で平滑化したMgO基板上での高品質Fe3O4極薄膜成長

    大坂 藍, 藤 大雪, 山内 和人, 佐野 泰久, 田中 秀和, 服部 梓

    精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2020S　p. 662-663　2020年3月1日

    出版者・発行元：公益社団法人 精密工学会

  10. 完全結晶基板上に成長したFe3O4極薄膜金属-絶縁体相転移特性

    大坂 藍, 服部 梓, 田中 秀和, 藤 大雪, 山内 和人, 佐野 泰久

    日本表面真空学会学術講演会要旨集　Vol. 2020　2020年

    出版者・発行元：公益社団法人 日本表面真空学会

  11. 触媒表面電位制御を取り入れた光電気化学触媒表面基準エッチング法によるSiC基板の高能率平坦化加工

    大西 諒典, 木田 英香, 藤 大雪, 松山 智至, 佐野 泰久, 山内 和人

    精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2019A　p. 28-29　2019年8月20日

    出版者・発行元：公益社団法人 精密工学会

  12. 光電気化学酸化を利用した触媒表面基準エッチング法によるGaN基板の高能率平坦化

    木田 英香, 藤 大雪, 大西 亮輔, 松山 智至, 佐野 泰久, 山内 和人

    年次大会　Vol. 2018　2018年

    出版者・発行元：一般社団法人 日本機械学会

  13. 光電気化学酸化を援用した触媒表面基準エッチング法による窒化ガリウムの高能率平坦化

    木田 英香, 藤 大雪, 中平 雄太, 松山 智至, 佐野 泰久, 山内 和人

    精密工学会学術講演会講演論文集　Vol. 2017A　p. 19-20　2017年

    出版者・発行元：公益社団法人 精密工学会

  14. Platinum-assisted chemical etching of SiC: A density functional theory study

    Bui Pho Van, Toh Daisetsu, Inagaki Kouji, Sano Yasuhisa, Yamauchi Kazuto, Morikawa Yoshitada

    Proceedings of JSPE Semestrial Meeting　Vol. 2017A　p. 251-252　2017年

    出版者・発行元：The Japan Society for Precision Engineering

  15. GaN表面CARE加工の反応メカニズムの第一原理計算による解析 II-表面キンクサイト周辺のH2O終端構造-

    稲垣耕司, BUI Pho Van, 礒橋藍, 藤大雪, 森川良忠, 山内和人

    応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)　Vol. 63rd　2016年

著書 5

  1. 触媒表面基準エッチング法を用いた高分子材料の高精度平滑化

    藤大雪, 萱尾澄人, 山内和人, 佐野泰久

    一般社団法人 日本トライボロジー学会・70 巻 5 号 p. 289-294　2025年5月

  2. 触媒表面基準エッチング法を利用した機能材料表面の原子スケール平滑化

    藤大雪, 山内和人, 佐野泰久

    一般社団法人 表面技術協会 表面技術 76巻4号 Pages 160-164　2025年4月

  3. 超純水を利用した半導体基板の最終表面仕上げ技術

    日本工業出版 クリーンテクノロジー 2024年12月号　2024年12月

  4. 金属薄膜と超純水を利用した超精密研磨手法の開発

    一般社団法人 生産技術振興協会 生産と技術 Vol.75, No.2 (2023) pp. 106-109　2023年

  5. 光電気化学反応を利用した環境調和性に優れた高能率GaN表面研磨技術

    萱尾澄人,山内和人,佐野泰久

    日本工業出版 光アライアンス 2024年5月号

講演・口頭発表等 1

  1. Fabrication of damage-free atomically smooth SiC surface using water and Ni catalyst

    D. Toh, R. Ohnishi, P. V. Bui, A. Isohashi, S. Matsuyama, Y. Sano, K. Yamauchi

    The International Conference on Silicon Carbide and Related Materials 2019　2019年10月4日

特許・実用新案・意匠 3

  1. 触媒表面基準エッチング方法及びその装置

    山内 和人, 藤 大雪

    特許第6797409号

    出願日:2017/01/12

    登録日:2020/11/20

  2. 触媒パッド及びその製造方法

    佐野 泰久, 藤 大雪, 山内 和人, 二村 浩平, 吉田 祐介

    出願日:2023/08/28

  3. 触媒表面基準エッチング方法及びその装置

    山内 和人, 藤 大雪

    出願日:2017/01/12

機関リポジトリ 5

大阪大学の学術機関リポジトリ（OUKA）に掲載されているコンテンツ

  1. High-throughput deterministic plasma etching using array-type plasma generator system

    Sano Yasuhisa, Nishida Ken, Asada Ryohei, Okayama Shinya, Toh Daisetsu, Matsuyama Satoshi, Yamauchi Kazuto

    Review of Scientific Instruments　Vol. 92　No. 12　2021年12月16日

  2. Photoelectrochemical oxidation assisted catalyst-referred etching for sic (0001) surface

    Toh Daisetsu, Bui Pho Van, Yamauchi Kazuto, Sano Yasuhisa

    International Journal of Automation Technology　Vol. 15　No. 1　p. 74-79　2021年1月5日

  3. An abrasive-free chemical polishing method assisted by nickel catalyst generated by in situ electrochemical plating

    Toh Daisetsu, Van Bui Pho, Isohashi Ai, Matsuyama Satoshi, Yamauchi Kazuto, Sano Yasuhisa

    Review of Scientific Instruments　Vol. 91　No. 4　2020年4月13日

  4. Catalyzed chemical polishing of SiO2 glasses in pure water

    Toh Daisetsu, Bui Pho Van, Isohashi Ai, Kidani Naotaka, Matsuyama Satoshi, Sano Yasuhisa, Morikawa Yoshitada, Yamauchi Kazuto

    Review of Scientific Instruments　Vol. 90　No. 4　2019年4月15日

  5. 触媒表面基準エッチング法における材料除去機構の解明と各種機能性材料への応用

    藤 大雪