藤 大雪
Daisetsu Toh
工学研究科 物理学系専攻，助教
学歴
- 2018年04月 ～ 2021年03月，大阪大学大学院，工学研究科，精密科学・応用物理学専攻
経歴
- 2021年04月 ～ 継続中，大阪大学大学院工学研究科，物理学系専攻，助教
研究内容・専門分野
- ものづくり技術（機械・電気電子・化学工学），加工学、生産工学，化学研磨
論文
- Fabrication of YAG ceramics surface without damage and grain boundary steps using catalyzed chemical wet etching，Daisetsu Toh,Kiyoto Kayao,Kazuto Yamauchi,Yasuhisa Sano，CIRP Journal of Manufacturing Science and Technology，Elsevier BV，Vol. 47，p. 1-6，2023年12月，研究論文（学術雑誌）
- Ultra-precision smooth surface on polymer material prepared by catalyst-referred etching，D. Toh,K. Takeda,K. Kayao,Y. Ohkubo,K. Yamauchi,Y. Sano，International Journal of Automation Technology，Vol. 18，No. 2，p. 240-247，2024年03月05日，研究論文（学術雑誌）
- High-pressure plasma etching up to 9 atm toward uniform processing inside narrow grooves of high-precision X-ray crystal optics，Shotaro Matsumura,Iori Ogasahara,Masafumi Miyake,Taito Osaka,Daisetsu Toh,Jumpei Yamada,Makina YABASHI,Kazuto Yamauchi,Yasuhisa Sano，Applied Physics Express，IOP Publishing，2023年12月02日，研究論文（学術雑誌）
- Catalyst enhancement approach for improving the removal rate and stability of silica glass polishing via catalyzed chemical etching in pure water，Daisetsu Toh,Kiyoto Kayao,Pho Van Bui,Kouji Inagaki,Yoshitada Morikawa,Kazuto Yamauchi,Yasuhisa Sano，Precision Engineering，Elsevier BV，Vol. 84，p. 21-27，2023年11月，研究論文（学術雑誌）
- Bias-assisted photoelectrochemical planarization of GaN (0001) with impurity concentration distribution，D. Toh,K. Kayao,R. Ohnishi,A. I. Osaka,K. Yamauchi,Y. Sano，AIP Advances，AIP Publishing，Vol. 13，No. 9，2023年09月01日，研究論文（学術雑誌）
- Role of Photoelectrochemical Oxidation in Enabling High-Efficiency Polishing of Gallium Nitride，Kiyoto Kayao,Daisetsu Toh,Kazuto Yamauchi,Yasuhisa Sano，ECS Journal of Solid State Science and Technology，The Electrochemical Society，Vol. 12，No. 6，p. 063005-063005，2023年06月01日，研究論文（学術雑誌）
- High-Speed Plasma Etching of Gallium Oxide Substrates Using Atmospheric-Pressure Plasma with Hydrogen-Helium Mixed Gas，Yasuhisa Sano,Taiki Sai,Genta Nakaue,Daisetsu Toh,Kazuto Yamauchi，Solid State Phenomena，Trans Tech Publications, Ltd.，Vol. 342，p. 69-72，2023年05月25日，研究論文（学術雑誌）
- High-speed etching of gallium nitride substrate using hydrogen-contained atmospheric-pressure plasma，Yasuhisa Sano,Genta Nakaue,Daisetsu Toh,Jumpei Yamada,Kazuto Yamauchi，Applied Physics Express，IOP Publishing，Vol. 16，No. 4，p. 045504-045504，2023年04月01日，研究論文（学術雑誌）
- High-throughput deterministic plasma etching using array-type plasma generator system，Yasuhisa Sano,Ken Nishida,Ryohei Asada,Shinya Okayama,Daisetsu Toh,Satoshi Matsuyama,Kazuto Yamauchi，Review of Scientific Instruments，AIP Publishing，Vol. 92，No. 12，p. 125107-125107，2021年12月01日，研究論文（学術雑誌）
- Nondeteriorating Verwey Transition in 50 nm Thick Fe<inf>3</inf>O<inf>4</inf>Films by Virtue of Atomically Flattened MgO Substrates: Implications for Magnetoresistive Devices，Ai I. Osaka,Daisetsu Toh,Kazuto Yamauchi,Ken Hattori,Xiaoqian Shi,Fangzhun Guo,Hidekazu Tanaka,Azusa N. Hattori，ACS Applied Nano Materials，Vol. 4，No. 11，p. 12091-12097，2021年11月26日，研究論文（学術雑誌）
- Photoelectrochemical oxidation assisted catalyst-referred etching for sic (0001) surface，Daisetsu Toh,Pho Van Bui,Kazuto Yamauchi,Yasuhisa Sano，International Journal of Automation Technology，Vol. 15，No. 1，p. 74-79，2021年，研究論文（学術雑誌）
- High surface laser-induced damage threshold of SrB<inf>4</inf>O<inf>7</inf>single crystals under 266-nm (DUV) laser irradiation，Yasunori Tanaka,Ryota Murai,Yoshinori Takahashi,Tsuyoshi Sugita,Daisetsu Toh,Kazuto Yamauchi,Sora Aikawa,Haruki Marui,Yuji Umeda,Yusuke Funamoto,Tomosumi Kamimura,Melvin John F. Empizo,Masayuki Imanishi,Yusuke Mori,Masashi Yoshimura，Optics Express，Vol. 28，No. 20，p. 29239-29244，2020年09月，研究論文（学術雑誌）
- An abrasive-free chemical polishing method assisted by nickel catalyst generated by in situ electrochemical plating，Daisetsu Toh,Pho Van Bui,Ai Isohashi,Satoshi Matsuyama,Kazuto Yamauchi,Yasuhisa Sano，Review of Scientific Instruments，Vol. 91，No. 4，2020年04月，研究論文（学術雑誌）
- Atomically smooth Si surface planarized using a thin film catalyst in pure water，Pho van Bui,Daisetsu Toh,Shinsaku Shiroma,Taku Hagiwara,Ai Isohashi Osaka,Satoshi Matsuyama,Yasuhisa Sano,Kazuto Yamauchi，Proceedings of the 20th International Conference of the European Society for Precision Engineering and Nanotechnology, EUSPEN 2020，p. 43-44，2020年，研究論文（国際会議プロシーディングス）
- Catalyzed chemical polishing of SiO <inf>2</inf> glasses in pure water，Daisetsu Toh,Pho Van Bui,Ai Isohashi,Naotaka Kidani,Satoshi Matsuyama,Yasuhisa Sano,Yoshitada Morikawa,Kazuto Yamauchi，Review of Scientific Instruments，Vol. 90，No. 4，2019年04月，研究論文（学術雑誌）
- High-efficiency SiC polishing using a thin film catalyst in pure water，Pho Van Bui,Daisetsu Toh,Satoshi Matsuyama,Yasuhisa Sano,Kazuto Yamauchi，European Society for Precision Engineering and Nanotechnology, Conference Proceedings - 19th International Conference and Exhibition, EUSPEN 2019，p. 50-51，2019年，研究論文（国際会議プロシーディングス）
- High-efficiency planarization of SIC wafers by water-CARE (Catalyst-referred etching) employing photoelectrochemical oxidation，H. Kida,D. Toh,P. V. Bui,A. Isohashi,R. Ohnishi,S. Matsuyama,K. Yamauchi,Y. Sano，Materials Science Forum，Vol. 963 MSF，p. 525-529，2019年，研究論文（国際会議プロシーディングス）
- Development of an abrasive-free polishing method for optical material using pure water and Ni catalyst，Daisetsu Toh,Ryosuke Ohnishi,Pho V. Bui,Ai Isohsahi,Satoshi Matsuyama,Yasuhisa Sano,Kazuto Yamauchi，Proceedings - 34th ASPE Annual Meeting，p. 474-477，2019年，研究論文（国際会議プロシーディングス）
- High-efficiency planarization of GaN wafer by catalyst-referred etching with positive-biased photo-electrochemical oxidation，Ryosuke Ohnishi,Daisetsu Toh,Satoshi Matsuyama,Ai Isohashi,Yasuhisa Sano,Kazuto Yamauchi，Proceedings - 34th ASPE Annual Meeting，p. 79-83，2019年，研究論文（国際会議プロシーディングス）
- Platinum-catalyzed hydrolysis etching of SiC in water: A density functional theory study，Pho Van Bui,Daisetsu Toh,Ai Isohashi,Satoshi Matsuyama,Kouji Inagaki,Yasuhisa Sano,Kazuto Yamauchi,Yoshitada Morikawa，Japanese Journal of Applied Physics，Vol. 57，No. 5，2018年05月，研究論文（学術雑誌）
- High-efficiency planarization of SiC in pure water using a thin film catalyst，Pho Van Bui,Yuta Nakahira,Daisetsu Toh,Satoshi Matsuyama,Yasuhisa Sano,Kazuto Yamauchi，European Society for Precision Engineering and Nanotechnology, Conference Proceedings - 18th International Conference and Exhibition, EUSPEN 2018，p. 433-434，2018年，研究論文（国際会議プロシーディングス）
- Development of high efficiency polishing method using pure water and Ni catalyst，Daisetsu Toh,Pho Van Bui,Nakahira Yuta,Hideka Kida,Takahisa Ohgushi,Satoshi Matsuyama,Yasuhisa Sano,Kazuto Yamauchi，European Society for Precision Engineering and Nanotechnology, Conference Proceedings - 18th International Conference and Exhibition, EUSPEN 2018，p. 435-436，2018年，研究論文（国際会議プロシーディングス）
- Chemical etching of silicon carbide in pure water by using platinum catalyst，Ai Isohashi,P. V. Bui,D. Toh,S. Matsuyama,Y. Sano,K. Inagaki,Y. Morikawa,K. Yamauchi，Applied Physics Letters，Vol. 110，No. 20，2017年05月15日，研究論文（学術雑誌）
- ニッケル触媒を利用した純水ベースの触媒表面基準エッチング法の開発，藤 大雪,礒橋 藍,稻田 辰昭,中平 雄太,木田 英香,松山 智至,佐野 泰久,山内 和人，精密工学会学術講演会講演論文集，公益社団法人 精密工学会，Vol. 2017，No. 0，p. 35-36，2017年
- 触媒表面基準エッチング法における水素水を用いた被毒除去法の提案，中平 雄太,礒橋 藍,Bui Pho,稻田 辰昭,藤 大雪,木田 英香,松山 智至,佐野 泰久,山内 和人，精密工学会学術講演会講演論文集，公益社団法人 精密工学会，Vol. 2017，No. 0，p. 1-2，2017年
- Planarization of SiC and oxide surfaces by using Catalyst-Referred Etching with water，Pho Van Bui,Ai Isohashi,Daisetsu Toh,Satoshi Matsuyama,Kouji Inagaki,Yasuhisa Sano,Kazuto Yamauchi，Proceedings of the 17th International Conference of the European Society for Precision Engineering and Nanotechnology, EUSPEN 2017，p. 157-158，2017年，研究論文（国際会議プロシーディングス）
- Stabilization of removal rate of silica glass on catalyst-referred etching by cleaning catalyst surface，Yuta Nakahira,Ai Isohashi,Tatsuaki Inada,Daisetsu Toh,Hideka Kida,Satoshi Matsuyama,Yasuhisa Sano,Kazuto Yamauchi，ICPT 2017 - International Conference on Planarization/CMP Technology，p. 110-114，2017年，研究論文（国際会議プロシーディングス）
- Stabilization method of transition metal catalyst for high efficiency catalyst-referred etching (CARE) of silicon carbide，Daisetsu Toh,Ai Isohashi,Tatuaki Inada,Yuta Nakahira,Hideka Kida,Satoshi Matuyama,Yasuhisa Sano,Kazuto Yamauchi，ICPT 2017 - International Conference on Planarization/CMP Technology，p. 106-109，2017年，研究論文（国際会議プロシーディングス）
- 触媒表面基準エッチング法による GaN 基板平坦化における加工速度の高速化，稻田 辰昭,礒橋 藍,藤 大雪,中平 雄太,松山 智至,佐野 泰久,山内 和人，年次大会，一般社団法人 日本機械学会，Vol. 2016，No. 0，2016年
- 触媒表面基準エッチング法における被毒物除去による加工速度安定化手法の開発，中平 雄太,礒橋 藍,Bui Pho,稻田 辰昭,藤 大雪,松山 智至,佐野 泰久,山内 和人，精密工学会学術講演会講演論文集，公益社団法人 精密工学会，Vol. 2016，No. 0，p. 211-212，2016年
- Investigation of catalytic metals for a catalyst referred etching in pure water，Ai Isohashi,Tatsuaki Inada,Daisetsu Toh,Yuta Nakahira,Takahito Sugiura,Naotaka Kidani,Koji Inagaki,Yasihisa Sano,Satoshi Matsuyama,Kazuto Yamauchi，Proceedings of the 16th International Conference of the European Society for Precision Engineering and Nanotechnology, EUSPEN 2016，2016年，研究論文（国際会議プロシーディングス）
- 触媒表面基準エッチング法における触媒機能活性化手法の開発，藤 大雪,礒橋 藍,稻田 辰昭,中平 雄太,松山 智至,佐野 泰久,山内 和人，精密工学会学術講演会講演論文集，公益社団法人 精密工学会，Vol. 2015，p. 447-448，2015年
MISC
- 大気圧プラズマによる表面処理を利用した常温接合技術の開発，櫛川新太,西岡柚香,藤大雪,山内和人,佐野泰久，精密工学会関西地方定期学術講演会講演論文集，Vol. 2022，2022年
- 水素ガスを用いた大気圧プラズマによる窒化ガリウム基板の高能率エッチング，中上元太,崔泰樹,藤大雪,山内和人,佐野泰久，精密工学会関西地方定期学術講演会講演論文集，Vol. 2022，2022年
- 紫外光照射を援用した触媒表面基準エッチング法を用いた窒化ガリウム基板の高能率平滑化，萱尾澄人,藤大雪,山田純平,山内和人,佐野泰久，精密工学会関西地方定期学術講演会講演論文集，Vol. 2022，2022年
- 触媒表面基準エッチング法を用いた粒界段差フリーな超平滑多結晶材料表面の作製，藤 大雪,Bui Van Pho,松山 智至,佐野 泰久,山内 和人，精密工学会学術講演会講演論文集，公益社団法人 精密工学会，Vol. 2021A，p. 115-116，2021年09月08日
- 触媒表面基準エッチング法を用いた高分子材料表面の高精度平坦化手法-ポリカーボネートの加工特性評価-，竹田広大,藤大雪,佐野泰久,山内和人，精密工学会関西地方定期学術講演会講演論文集，Vol. 2021，2021年
- SF<sub>6</sub>ガスを用いたサブ大気圧プラズマによるSiC-MOSFETの裏面薄化におけるデバイス性能への影響の調査，大島政明,中西悠真,藤大雪,松山智至,山内和人,佐野泰久，精密工学会関西地方定期学術講演会講演論文集，Vol. 2021，2021年
- 触媒表面基準エッチング法におけるシリコンの除去機構の解明，板垣果歩,萩原拓,萱尾清人,VAN PHO Bui,藤大雪,佐野泰久,山内和人，精密工学会関西地方定期学術講演会講演論文集，Vol. 2021，2021年
- 触媒表面基準エッチング法で平滑化したMgO基板上に成長させたFe<sub>3</sub>O<sub>4</sub>極薄膜における金属/絶縁体相転移特性の向上，大坂 藍,藤 大雪,山内 和人,佐野 泰久,田中 秀和,服部 梓，精密工学会学術講演会講演論文集，公益社団法人 精密工学会，Vol. 2020A，p. 187-188，2020年08月20日
- 触媒表面基準エッチング法で平滑化したMgO基板上での高品質Fe<sub>3</sub>O<sub>4</sub>極薄膜成長，大坂 藍,藤 大雪,山内 和人,佐野 泰久,田中 秀和,服部 梓，精密工学会学術講演会講演論文集，公益社団法人 精密工学会，Vol. 2020S，p. 662-663，2020年03月01日
- 完全結晶基板上に成長したFe<sub>3</sub>O<sub>4</sub>極薄膜金属-絶縁体相転移特性，大坂 藍,服部 梓,田中 秀和,藤 大雪,山内 和人,佐野 泰久，日本表面真空学会学術講演会要旨集，公益社団法人 日本表面真空学会，Vol. 2020，2020年
- 触媒表面電位制御を取り入れた光電気化学触媒表面基準エッチング法によるSiC基板の高能率平坦化加工，大西 諒典,木田 英香,藤 大雪,松山 智至,佐野 泰久,山内 和人，精密工学会学術講演会講演論文集，公益社団法人 精密工学会，Vol. 2019A，p. 28-29，2019年08月20日
- 光電気化学酸化を利用した触媒表面基準エッチング法によるGaN基板の高能率平坦化，木田 英香,藤 大雪,大西 亮輔,松山 智至,佐野 泰久,山内 和人，年次大会，一般社団法人 日本機械学会，Vol. 2018，2018年
- 光電気化学酸化を援用した触媒表面基準エッチング法による窒化ガリウムの高能率平坦化，木田 英香,藤 大雪,中平 雄太,松山 智至,佐野 泰久,山内 和人，精密工学会学術講演会講演論文集，公益社団法人 精密工学会，Vol. 2017A，p. 19-20，2017年
- Platinum-assisted chemical etching of SiC: A density functional theory study，Bui Pho Van,Toh Daisetsu,Inagaki Kouji,Sano Yasuhisa,Yamauchi Kazuto,Morikawa Yoshitada，Proceedings of JSPE Semestrial Meeting，The Japan Society for Precision Engineering，Vol. 2017A，p. 251-252，2017年
- GaN表面CARE加工の反応メカニズムの第一原理計算による解析 II-表面キンクサイト周辺のH<sub>2</sub>O終端構造-，稲垣耕司,BUI Pho Van,礒橋藍,藤大雪,森川良忠,山内和人，応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)，Vol. 63rd，2016年
特許・実用新案・意匠
- 触媒表面基準エッチング方法及びその装置，山内 和人,藤 大雪，特許第6797409号，特願2017-003359，出願日:2017年01月12日，登録日:2020年11月20日
受賞
- アドバンスト・ベストプレゼンテーション賞（2023年度精密工学会秋季大会学術講演会），精密工学会，2023年11月
- 精密工学会技術奨励賞，精密工学会，2022年09月
- アドバンスト・ベストプレゼンテーション賞(2021年度精密工学会秋季大会学術講演会），精密工学会，2021年09月
委員歴
- 公益社団法人 精密工学会，若手先導的会員（精密学会アフィリエイト），2023年03月 ～ 継続中