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その他の活動

遠藤 勝義

Endou Katsuyoshi

工学研究科,教授

keyword 形状測定,計算機シミュレーション,表面物性,物理計測

学歴

  • ~ 1982年,大阪大学,工学研究科,精密工学
  • ~ 1982年,大阪大学
  • ~ 1980年03月,大阪大学,工学部,精密工学科
  • ~ 1980年,大阪大学,工学部,精密工学
  • ~ 1980年,大阪大学

経歴

  • 2001年06月01日 ~ 継続中,大阪大学 工学研究科 附属超精密科学研究センター,教授
  • 2001年06月 ~ 継続中,大阪大学教授,大学院工学研究科超精密科学研究センター,教授
  • 2003年04月 ~ 2008年03月,附属超精密科学研究センター センター長(併)
  • 1992年04月 ~ 2001年05月,大阪大学助教授,工学部精密工学科,助教授
  • 1986年07月 ~ 1992年03月,大阪大学助手
  • 1986年 ~ 1992年,Osaka University, Research Assistant
  • 1982年03月 ~ 1986年06月,金沢大学助手
  • 1982年 ~ 1986年,Kanazawa University, Research Assistant

研究内容・専門分野

  • ものづくり技術(機械・電気電子・化学工学),加工学、生産工学,形状測定
  • ものづくり技術(機械・電気電子・化学工学),機械要素、トライボロジー
  • ものづくり技術(機械・電気電子・化学工学),設計工学
  • 情報通信,計算科学
  • ナノテク・材料,応用物理一般

所属学会

  • 超精密加工専門委員会
  • 応用物理学会
  • 精密工学会
  • Japan Society of Applied Physics
  • The Japan Society for Presicion Engineering

論文

  • Uncertainty of Figure Error Measurement by Non-Contact Three Dimensional Nano-profiler Using Normal Vector Tracing Method,Kota Hashimoto,Mikiya Ikuchia,Katsuyoshi Endo,SPIE,2020年10月,研究論文(国際会議プロシーディングス)
  • Open-air-type Ar + H2O plasma treatment of polytetrafluoroethylene for improving Ag/PTFE adhesion strength: application to highly adhesive Ag direct wiring patterns,Yuji Ohkubo,Yoshinori Kodama,Misa Nishino,Takaya Oshita,Tsuyoshi Uehara,Katsuyoshi Endo,Kazuya Yamamura,Japanese Journal of Applied Physics,IOP Publishing,Vol. 59,No. 7,p. 077004-077004,2020年07月01日,研究論文(学術雑誌)
  • Three-dimensional nano-profile of convex cylindrical mirror measured by normal vector tracing method,T. Kanda,K. Endo,euspen’s 21st International Conference,2020年06月,研究論文(国際会議プロシーディングス)
  • Measurement of aspheric mirror by non-contact three dimensional nano-profiler using normal vector tracing method,,M. Ikuchi,K. Endo,euspen’s 21st International Conference & Exhibition,,2020年06月,研究論文(国際会議プロシーディングス)
  • Strong biomimetic immobilization of Pt-particle catalyst on ABS substrate using polydopamine and its application for contact-lens cleaning with H2O2,Y. Ohkubo,T. Aoki,D. Kaibara,S. Seino,O. Mori,R. Sasaki,K. Endo,K. Yamamura,Nanomaterials,Vol. 10,No. 1,2020年01月,研究論文(学術雑誌)
  • Influence of air contamination during heat-assisted plasma treatment on adhesion property of polytetrafluoroethylene (PTFE),Y. Ohkubo,T. Nakagawa,K. Endo,K. Yamamura,RSC Advances,Vol. 9,p. 22900-22906,2019年07月,研究論文(学術雑誌)
  • Improved catalytic durability of Pt-particle/ABS for H2O2 decomposition in contact lens cleaning,Y. Ohkubo,T. Aoki,S. Seino,O. Mori,I. Ito,K. Endo,K. Yamamura,Nanomaterials,Vol. 9,No. 3,2019年03月,研究論文(学術雑誌)
  • Adhesive-free adhesion between heat-assisted plasma-treated fluoropolymers (PTFE, PFA) and plasma-jet-treated polydimethylsiloxane (PDMS) and its application,Y. Ohkubo,K. Endo,K. Yamamura,Scientific Reports,Vol. 8,No. 1,2018年12月,研究論文(学術雑誌)
  • Comparison between adhesion properties of adhesive bonding and adhesive-free adhesion for heat-assisted plasma-treated polytetrafluoroethylene (PTFE),Y. Ohkubo,M. Shibahara,A. Nagatani,K. Honda,K. Endo,K. Yamamura,J. Adhesion,2018年09月,研究論文(学術雑誌)
  • Application of plasma chemical vaporization machining for figuring of reaction-sintered silicon carbide,R. Sun,Y. Ohkubo,K. Endo,K. Yamamura,Proceedings of 18th International Conference of the European Society for Precision Engineering and Nanotechnology,p. 391-392,2018年06月,研究論文(国際会議プロシーディングス)
  • Damage-free highly efficient polishing of single-crystal diamond wafer by plasma-assisted polishing,K. Yamamura,K. Emori,R. Sun,Y. Ohkubo,K. Endo,Y. Yamada,A. Chayama,Y. Mokuno,CIRP Annals Manufacturing Technology,Vol. 67,p. 353-356,2018年05月,研究論文(学術雑誌)
  • Measurement of a spherical mirror with sub-50 pm repeatability by three-dimensional nanoprofiler using normal vector tracing,Yuri Toyoshi,Ryo Kizaki,Hiroki Shiraji,Takao Kitayama,Jungmin Kang,Kazuya Yamamura,Katsuyoshi Endo,OPTICS & PHOTONICS International Congress,,2018年04月,研究論文(国際会議プロシーディングス)
  • Surface modification of fluoropolymer using open-air plasma treatment at atmospheric pressure with Ar, Ar + O2, and Ar + H2 for application in high-adhesion metal wiring patterns,Y. Kodama,Y. Ohkubo,T. Oshita,Y. Nakano,T. Uehara,T. Aoyama,K. Endo,K. Yamamura,表面技術,Vol. 69,No. 4,p. 152-162,2018年04月,研究論文(学術雑誌)
  • Investigation of anodic oxidation mechanism of 4H-SiC (0001) for electrochemical mechanical polishing,X. Yang,R. Sun,Y. Ohkubo,K. Kawai,K. Arima,K. Endo,K. Yamamura,Electrochimica Acta,Vol. 271,p. 666-676,2018年03月,研究論文(学術雑誌)
  • Adhesion property of heat-assisted plasma-treated polytetrafluoroethylene (PTFE) – Realization in extremely high adhesion of PTFE and other types of material –,Y. Ohkubo,M. Shibahara,A. Nagatani,K. Honda,K. Endo,K. Yamamura,2018年02月
  • Effect of rubber compounding agent on adhesion strength between the rubber and heat-assisted plasma-treated polytetrafluoroethylene,Y. Ohkubo,M. Shibahara,K. Ishihara,A. Nagatani,K. Honda,K. Endo,K. Yamamura,J. Adhesion,Vol. 95,No. 3,p. 242-257,2018年02月,研究論文(学術雑誌)
  • Optimization of gas composition used in plasma chemical vaporization machining for figuring of reaction-sintered silicon carbide with low surface roughness,R. Sun,X. Yang,Y. Ohkubo,K. Endo,K. Yamamura,Scientific Reports,Vol. 8,No. 1,2018年02月,研究論文(学術雑誌)
  • Atomic-scale finishing of carbon face of single crystal SiC by combination of thermal oxidation pretreatment and slurry polishing,H. Deng,N. Liu,K. Endo,K. Yamamura,Appl. Surf. Sci. 434 (2018) 40-48.,Vol. 434,p. 40-48,2017年10月,研究論文(学術雑誌)
  • Radiolytic synthesis of Pt-Particle/ABS catalysts for H2O2 decomposition in contact lens cleaning,Y. Ohkubo,T. Aoki,S. Seino,O. Mori,I. Ito,K. Endo,K. Yamamura,Nanomaterials,Vol. 7,No. 9,2017年08月,研究論文(学術雑誌)
  • Drastic improvement in adhesion property of polytetrafluoroethylene (PTFE) via heat-assisted plasma treatment using a heater,Y. Ohkubo,K. Ishihara,M. Shibahara,A. Nagatani,K. Honda,K. Endo,K. Yamamura,Scientific Reports,Vol. 7,2017年08月,研究論文(学術雑誌)
  • High-accuracy three-dimensional aspheric mirror measurement with nanoprofiler based on normal vector tracing method,R. Kudo,T. Kitayama,Y. Tokuta,H. Shiraji,M. Nakano,K. Yamamura,K. Endo,Optics and Lasers in Engineering 98 (2017) 159-162,Vol. 98,p. 159-162,2017年07月,研究論文(学術雑誌)
  • 電子線照射還元法によりABS樹脂上へ担持したPtナノ粒子触媒の耐久性向上,青木智紀,大久保雄司,清野智史,小玉欣典,中川哲哉,原田朋実,遠藤勝義,森理,伊藤一作,山村和也,2017年03月,研究論文(その他学術会議資料等)
  • 非接触ナノ形状測定装置による非球面ミラーの形状測定,木崎 嶺,白地 央樹,北山 貴雄,山村 和也,遠藤 勝義,精密工学会学術講演会講演論文集,公益社団法人 精密工学会,Vol. 2017,p. 95-96,2017年
  • Adhesive-free adhesion between polytetrafluoroethylene (PTFE) and isobutylene–isoprene rubber (IIR) via heat-assisted plasma treatment,Y. Ohkubo,K. Ishihara,H. Sato,M. Shibahara,A. Nagatani,K. Honda,K. Endo,K. Yamamura,RSC Advances 7 (2017) 6432-6438.,Vol. 7,p. 6432-6438,2017年01月,研究論文(学術雑誌)
  • Non-contact remote measurement of internal distance between two plane mirrors by using a tandem lowcoherence interferometer,Winarno Agustinus,Shusei Masuda,Satoru Takahashi,Hirokazu Matsumoto,Kiyoshi Takamasu,Takao Kitayama,Ryota Kudo,Katsuyoshi Endo,ASPEN/ASPE Spring Topical Meeting on Manufacture and Metrology of Structured and Freeform Surfaces for Functional Applications,2017年,研究論文(国際会議プロシーディングス)
  • Damage-free finishing of CVD-SiC by a combination of dry plasma etching and plasma-assisted polishing,H. Deng,K. Endo,K. Yamamura,Int. J. Mach. Tool. Man. 115 (2017) 38-46.,Vol. 115,p. 38-46,2016年11月,研究論文(学術雑誌)
  • 電子線照射還元法によるH2O2分解用Ptナノ粒子触媒の合成 -微粒子化剤添加の効果-,青木智紀,大久保雄司,清野智史,小玉欣典,中川哲哉,原田朋実,遠藤勝義,森理,伊藤一作,山村和也,2016年11月,研究論文(その他学術会議資料等)
  • 熱アシストプラズマ処理によるポリテトラフルオロエチレンと無電解銅めっき膜の密着性向上,大久保雄司,石原健人,佐藤悠,遠藤勝義,山村和也,表面技術,Vol. 67,No. 10,p. 551-556,2016年10月,研究論文(学術雑誌)
  • Surface modification of polytetrafluoroethylene (PTFE) by heat-assisted atmospheric pressure plasma treatment for improving adhesion of PTFE to isobutylene-isoprene rubber (IIR),Y. Ohkubo,K. Ishihara,M. Shibahara,A. Nagatani,K. Honda,T. Aoki,Y. Kodama,K. Endo,K. Yamamura,2016年09月
  • 電子線照射還元法によるABS樹脂基材上へのH2O2分解用触媒Ptナノ粒子の作製,青木智紀,大久保雄司,小玉欣典,中川哲哉,原田朋実,遠藤勝義,清野智史,森理,伊藤一作,山村和也,2016年09月,研究論文(その他学術会議資料等)
  • 電子線照射還元法によるPtナノ粒子触媒のABS樹脂上への固定化 ―エッチング処理と表面電荷調整処理による表面改質効果の調査―,青木智紀,大久保雄司,小玉欣典,中川哲哉,原田朋実,遠藤勝義,山村和也,清野智史,森理,伊藤一作,2016年07月,研究論文(その他学術会議資料等)
  • Highly-efficient slurryless finishing of GaN by plasma-assisted polishing using a resin bonded grinding stone,C. Kageyama,H. Deng,K. Endo,K. Yamamura,Proceedings of 16th International Conference of the European Society for Precision Engineering and Nanotechnology,2016年05月,研究論文(国際会議プロシーディングス)
  • Electrochemical mechanical polishing of difficult-to-machine mold materials,K. Yamamura,Y. Imanishi,K. Endo,Proceedings of 16th International Conference of the European Society for Precision Engineering and Nanotechnology,2016年05月,研究論文(学術雑誌)
  • Planarization of CVD grown single crystal diamond wafer by numerically controlled plasma chemical vaporization machining,H. Dojo,K. Endo,H. Yamada,A. Chayahara,Y. Mokuno,K. Yamamura,Proceedings of 16th International Conference of the European Society for Precision Engineering and Nanotechnology,2016年05月,研究論文(国際会議プロシーディングス)
  • 3D surface measurement of spherical mirror by nanoprofiler using normal vector tracing method,H. Shiraji,Y. Tokuta,T. Kitayama,M. Nakano,R. Kudo,K. Yamamura,K. Endo,Proceedings of International Conference on X-ray Optics, Detectors, Sources, and their Applications 2016,Vol. 9962,p. 37-38,2016年05月,研究論文(国際会議プロシーディングス)
  • High-spatial Resolution Figuring by Pulse Width Modulation Controlled Plasma Chemical Vaporization Machining,K. Yamamura,Y. Takeda,S. Sakaiya,D. Funato,K. Endo,Procedia CIRP 42 (2016) 508-511.,Vol. 42,p. 508-511,2016年03月,研究論文(国際会議プロシーディングス)
  • Study on removal mechanism of sapphire in plasma assisted polishing,C. Kageyama,K. Monna,H. Deng,K. Endo,K. Yamamura,Advanced Materials Research 1136 (2016) 317-320.,Vol. 1136,p. 317-320,2016年01月,研究論文(国際会議プロシーディングス)
  • 電子線照射還元法によるABS樹脂基板上へのPtナノ粒子担持,青木智紀,大久保雄司,清野智史,石原健人,小玉欣典,遠藤勝義,山村和也,2015年11月,研究論文(その他学術会議資料等)
  • Atomic-scale and pit-free flattening of GaN by combination of plasma pretreatment and time-controlled chemical mechanical polishing,H. Deng,K. Endo,K. Yamamura,Appl. Phys. Lett. 107 (2015) 051602 (4pp),Vol. 107,No. 5,p. 051602-1-051602-4,2015年08月,研究論文(学術雑誌)
  • Simulation-based systematic error compensation for nanoprofiler using normal vector tracing method,R. Kudo,K. Okita,K. Okuda,Y. Tokuta,M. Nakano,K. Yamamura,K. Endo,Measurement 73 (2015) 473-479.,Vol. 73,p. 473-479,2015年06月,研究論文(学術雑誌)
  • Polishing characteristics of CVD-SiC in plasma-assisted polishing,H. Deng,K. Endo,K. Yamamura,Proceedings of 15th International Conference of the European Society for Precision Engineering and Nanotechnology,2015年06月,研究論文(国際会議プロシーディングス)
  • Competition between surface modification and abrasive polishing: a method of controlling the surface atomic structure of 4H-SiC (0001),Hui Deng,Katsuyoshi Endo,Kazuya Yamamura,SCIENTIFIC REPORTS,NATURE PUBLISHING GROUP,Vol. 5,2015年03月,研究論文(学術雑誌)
  • Electro-chemical mechanical polishing of single-crystal SiC using CeO2 slurry,H. Deng,K. Hosoya,Y. Imanishi,K. Endo,K. Yamamura,Electrochem. Commun. 52 (2015) 5-8.,Vol. 52,p. 5-8,2015年01月,研究論文(学術雑誌)
  • Plasma-assisted polishing of gallium nitride to obtain a pit-free and atomically flat surface,H. Deng,K. Endo,K. Yamamura,CIRP ANNALS-MANUFACTURING TECHNOLOGY,ELSEVIER SCIENCE BV,Vol. 64,No. 1,p. 531-534,2015年,研究論文(学術雑誌)
  • Flattening of 4H-SiC by combination of oxidation and abrasive polishing,H. Deng,K. Endo,K. Yamamura,2014年10月
  • Ultra-precision deterministic figuring by pulse width modulation controlled plasma jet figuring,K. Yamamura,K. Hosoya,Y. Imanishi,H. Deng,K. Endo,2014年10月
  • 大気圧プラズマを用いた表面改質によるフッ素樹脂とブチルゴムの強力接着,石原健人,大久保雄司,佐藤悠,青木智紀,遠藤勝義,柴原正文,長谷朝博,本田幸司,山村和也,2014年09月
  • 金属インクを用いた樹脂の表面金属化-プラズマ処理とグラフト重合を組み合わせた表面改質の応用-,佐藤悠,大久保雄司,石原健人,青木智紀,遠藤勝義,上原剛,疋田真也,山村和也,2014年09月
  • Surface modification of PTFE for a high adhesive Ag layer by open-air type plasma treatment with graft copolymerization,H. Sato,K. Ishihara,Y. Ohkubo,K. Endo,K. Yamamura,2014年09月
  • Formation of highly adhesive polytetrafluoroethylene/isobtylene-isoprene rubber interface by atmospheric-pressure plasma irradiation,K. Ishihara,H. Sato,Y. Ohkubo,M. Shibahara,A. Nagatani,K. Honda,K. Endo,K. Yamamura,5th World Congress on Adhesion and Related Phenomena (WCARP-V) (2014) 122.,2014年09月
  • Highly efficient planarization of CVD-grown single-crystal diamond substrate by atmospheric-pressure microwave plasma jet figuring,K. Yamamura,S. Makiyama,T. Tabata,H. Yamada,A. Cyayahara,Y. Mokuno,S. Shikata,K. Endo,2014年09月
  • Preliminary Study on Highly Efficient Polishing of 4H-SiC by Utilization of Anodic Oxidation,K. Yamamura,K. Hosoya,Y. Imanishi,H. Deng,K. Endo,Advanced Materials Research 1017 (2014) 509-514.,Vol. 1017,p. 509-514,2014年08月,研究論文(国際会議プロシーディングス)
  • Improvement of spatial resolution in figuring using Open-Air Type Plasma Chemical Vaporization Machining with Pulse Width Modulation Control,Y. Takeda,Y. Hata,J. Ito,K. Endo,K. Yamamura,2014年07月,研究論文(国際会議プロシーディングス)
  • Effect of plasma irradiation in removal rate of single crystal diamond in plasma assisted polishing with quartz glass tool,T. Tabata,K. Monna,Y. Yamamoto,S. Makiyama,H. Deng,K. Endo,H. Yamada,A. Chayahara,Y. Mokuno,S. Shikata,K. Yamamura,2014年07月,研究論文(国際会議プロシーディングス)
  • Surface modification of PTFE for a high adhesive Cu layer by open-air type plasma treatment with graft copolymerization,H. Sato,K. Ishihara,Y. Ohkubo,K. Endo,K. Yamamura,2014年07月,研究論文(国際会議プロシーディングス)
  • Dependency of OH emission intensity in material removal rate of sapphire substrates in plasma assisted polishing,K. Monna,H. Deng,T. Tabata,K. Endo,K. Yamamura,2014年07月,研究論文(国際会議プロシーディングス)
  • Two-stage precision figuring process applying numerically controlled electrochemical machining with suction type electrode,N. Mitsushima,M. Ouchi,K. Endo,K. Yamamura,2014年07月,研究論文(国際会議プロシーディングス)
  • Investigation of the anodic oxide layer/SiC interface morphology during anodic oxidation assisted polishing,K. Hosoya,Y. Imanishi,K. Endo,K. Yamamura,2014年07月,研究論文(国際会議プロシーディングス)
  • Ultra-precision Fabrication Process for Neutron Focusing Device,K. Yamamura,N. Mitsushima,Y. Goto,K. Endo,D. Yamazaki,R. Maruyama,H. Hayashida,K. Soyama,2014年07月
  • Surface modification of GaN by irradiation of atmospheric pressure plasma for damage-free polishing,H. Deng,K. Endo,K Yamamura,2014年07月,研究論文(国際会議プロシーディングス)
  • Measurement of high accurate mirror using nanoprofiler with self-calibratable rotary encoder,K. Okita,T. Kojima,K. Usuki,K. Okuda,Y. Tokuta,M. Nakano,R. Kudo,K. Yamamura,T. Watanabe,K. Endo,2014年06月,研究論文(国際会議プロシーディングス)
  • Systematic Error Analysis of Nanoprofiler Using Normal Vector Tracing Method Based on Numerical Simulation,R. Kudo,K. Okuda,K. Okita,Y. Tokuta,M. Nakano,K. Yamamura,K. Endo,p. 126-131,2014年06月,研究論文(国際会議プロシーディングス)
  • Optimization of the plasma oxidation and abrasive polishing processes in plasma assisted polishing for highly effective planarization of 4H-SiC,H. Deng,K. Monna,T. Tabata,K. Endo,K. Yamamura,Annals of the CIRP 63 (2014) 529-532.,Vol. 63,No. 1,p. 529-532,2014年06月,研究論文(学術雑誌)
  • Flatness correction of quartz glass substrate by plasma jet figuring with pulse width modulation control,K. Yamamura,Y. Takeda,Y. Hata,J. Ito,K. Endo,2014年05月,研究論文(国際会議プロシーディングス)
  • Polishing characteristics of single crystal SiC assisted by plasma oxidation using different kinds of abrasives,H. Deng,K. Endo,K. Yamamura,2014年05月,研究論文(国際会議プロシーディングス)
  • Damage-free and atomically-flat finishing of single crystal SiC by combination of oxidation and soft abrasive polishing,H. Deng,K. Endo,K. Yamamura,Procedia CIRP 13 ( 2014 ) 203- 207.,Vol. 13,p. 203-207,2014年05月,研究論文(学術雑誌)
  • Three-dimensional surface figure measurement of high-accuracy spherical mirror with nanoprofiler using normal vector tracing method,R. Kudo,K. Okuda,K. Usuki,M. Nakano,K. Yamamura,K. Endo,Rev. Sci. Instrum. 85 (2014) 045101,Vol. 85,No. 4,2014年04月,研究論文(学術雑誌)
  • Agインクを用いたフッ素樹脂の表面金属化,佐藤悠,石原健人,大久保雄司,遠藤勝義,山村和也,2014年03月
  • Comparison of thermal oxidation and plasma oxidation of 4H-SiC (0001) for surface flattening,H. Deng,K. Endo,K. Yamamura,Appl. Phys. Lett. 104 (2014) 101608.,Vol. 104,No. 10,2014年03月,研究論文(学術雑誌)
  • Evaluation of the MRR control performance of PCVM with the application of the PWM control,Y. Takeda,Y. Hata,J. Ito,K. Endo,K. Yamamur,2014年02月
  • Optimization of water content in process gas for high MRR of single crystal diamond in plasma assisted polishing,T. Tabata,K. Monna,Y. Yamamoto,S. Makiyama,H. Deng,2014年02月
  • Development of two-stage figuring process applying numerically controlled electrochemical machining for fabricating neutron focusing mirror substrate,N. Mitsushima,M. Ouchi,K. Endo,K. Yamamura,2014年02月
  • Effects of water concentration and gas species on OH radical emission intensity in plasma assisted polishing,K. Monna,H. Deng,T. Tabata,K. Endo,K. Yamamura,2014年02月
  • XTEM observation of the anodic oxide layer/SiC interface morphology during anodic oxidation assisted polishing,K. Hosoya,Y. Imanishi,K. Endo,K. Yamamura,2014年02月
  • Nanoindentation studies on the mechanical properties of silicon face and carbon face of 4H-SiC,H. Deng,K.Endo,K. Yamamura,2014年02月
  • Profile measurement of aspheric mirror using High-Speed Nanoprofiler,K. Okuda,K. Usuki,T. Kitayama,T. Kojima,K. Okita,R. Tokura,M. Nakano,R. Kudo,K. Yamamura,K. Endo,2014年02月
  • Development of Precisely Controlled Metallodielectric Plasmonic Nanoshell Arrays with Nanogap for Sensitive Detection of Molecular Adsorption Based on NIR responsive LSPR,S. Uchida,N. Zettsu,K. Endo,K. Yamamura,2014年02月
  • Open-air Type Plasma Chemical Vaporization Machining by Applying Pulse Width Modulation Control,Y. Takeda,Y. Hata,K. Endo,K. Yamamura,J. Phys. D: Appl. Phys. 47 (2014) 115503 (6pp).,Vol. 47,No. 11,2014年02月,研究論文(学術雑誌)
  • 非接触走査型ナノ形状測定法の開発,遠藤 勝義,精密工学会誌,公益社団法人 精密工学会,Vol. 80,No. 6,p. 510-513,2014年
  • Study on Controlling Mechanism of Step-Terrace Structure in CeO2 Slurry Polishing of 4H-SiC,Hui Deng,Katsuyoshi Endo,Kazuya Yamamura,2014 INTERNATIONAL CONFERENCE ON PLANARIZATION/CMP TECHNOLOGY (ICPT),IEEE,p. 147-148,2014年,研究論文(国際会議プロシーディングス)
  • Experimental studies on water vapor plasma oxidation and thermal oxidation of 4H-SiC (0001) for clarification of the atomic-scale flattening mechanism in plasma assisted polishing,Hui Deng,Katsuyoshi Endo,Kazuya Yamamura,SILICON CARBIDE AND RELATED MATERIALS 2013, PTS 1 AND 2,TRANS TECH PUBLICATIONS LTD,Vol. 778-780,p. 587-590,2014年,研究論文(国際会議プロシーディングス)
  • Enhancement of photoluminescence efficiency from GaN(0001) by surface treatments,A. N. Hattori,K. Hattori,Y. Morikawa,A. Yamamoto,S. Sadakuni,J. Murata,K. Arima,Y. Sano,K. Yamauchi,H. Daimon,K. Endo,Japanese Journal of Applied Physics,Vol. 53,No. 2,2014年01月,研究論文(学術雑誌)
  • Investigation of removal mechanism of sapphire in plasma assisted polishing,K. Monna,H. Deng,K. Endo,K. Yamamura,Vol. 625,p. 458-462,2013年11月,研究論文(国際会議プロシーディングス)
  • Finishing of 4H-SiC (0001) by Combination of Thermal Oxidation and Abrasive Polishing,H. Deng,K. Endo,K. Yamamura,Vol. 625,p. 192-195,2013年11月,研究論文(国際会議プロシーディングス)
  • Figuring and finishing of reaction-sintered SiC by anodic oxidation assisted process,N. Shimozono,X. Shen,H. Deng,K. Endo,K. Yamamura,Vol. 625,p. 570-575,2013年11月,研究論文(国際会議プロシーディングス)
  • Material removal rate control in open-air type plasma chemical vaporization machining by pulse width modulation of applied power,Y. Takeda,Y. Hata,K. Endo,K. Yamamura,Vol. 625,p. 593-596,2013年11月,研究論文(国際会議プロシーディングス)
  • Atomic-scale planarization of 4H-SiC (0001) by combination of thermal oxidation and abrasive polishing,H. Deng,K. Endo,K. Yamamura,Appl. Phys. Lett. 103 (2013) 111603.,Vol. 103,No. 11,2013年09月,研究論文(学術雑誌)
  • Highly Adhesive Copper Pattern on PTFE by Plasma Irradiation through Inkjet Printing,H. Sato,K. Ooka,K. Endo,K. Yamamura,2013年08月
  • Fundamental research on the label-free detection of protein adsorption using near-infrared light-responsive plasmonic metal nanoshell arrays with controlled nanogap,S. Uchida,N. Zettsu,K. Endo,K. Yamamura,Nanoscale Research Letters 8 (2013) 274.,Vol. 8,No. 1,2013年06月,研究論文(学術雑誌)
  • Preliminary Study on Plasma Assisted Polishing of Sapphire,K. Yamamura,S. Morinaga,K. Monna,H. Deng,K. Endo,Proc. The 9th CJUMP and 7th UPET (2013) 54-58.,2013年03月,研究論文(国際会議プロシーディングス)
  • Investigation of Thermally Oxidized SiO2/4H-SiC (0001) Interface for Surface Flattening,H. Deng,K. Endo,K. Yamamura,Proc. The 9th CJUMP and 7th UPET (2013) 65-69.,2013年03月,研究論文(国際会議プロシーディングス)
  • プラズマ援用研磨法の開発(第8報):サファイア基板へのプラズマ援用研磨適用に関する基礎検討,門奈 剛毅,トウ 輝,田畑 雄壮,遠藤 勝義,山村 和也,精密工学会学術講演会講演論文集,公益社団法人 精密工学会,Vol. 2013,p. 221-222,2013年
  • 陽極酸化援用研磨法の開発 (第1報):4H-SiCの基礎加工特性,細谷 憲治,遠藤 勝義,山村 和也,精密工学会学術講演会講演論文集,公益社団法人 精密工学会,Vol. 2013,p. 227-228,2013年
  • 大気圧プラズマプロセスをベースとした単結晶ダイヤモンド基板の高能率ダメージフリー平坦化・平滑化(第2報):石英ガラスを工具としたプラズマ援用研磨におけるプラズマ照射の効果,田畑 雄壮,門奈 剛毅,トウ 輝,牧山 真也,遠藤 勝義,山村 和也,精密工学会学術講演会講演論文集,公益社団法人 精密工学会,Vol. 2013,p. 225-226,2013年
  • ナノギャップ構造を有する金属ナノシェルアレイを用いた生体分子検出,内田 修平,是津 信行,遠藤 勝義,山村 和也,精密工学会学術講演会講演論文集,公益社団法人 精密工学会,Vol. 2013,p. 337-338,2013年
  • プラズマ援用研磨法の開発(第7報):酸化面のセリア砥粒研磨によるtwo-bilayerのステップ/テラス構造を形成するメカニズムの考察,トウ 輝,遠藤 勝義,山村 和也,精密工学会学術講演会講演論文集,公益社団法人 精密工学会,Vol. 2013,p. 219-220,2013年
  • 陽極酸化援用加工を用いた反応焼結SiC材の高精度ダメージフリー加工に関する研究:陽極酸化におけるSiCとSiの酸化レートの評価,下園 直樹,遠藤 勝義,山村 和也,精密工学会学術講演会講演論文集,公益社団法人 精密工学会,Vol. 2013,p. 229-230,2013年
  • 大気圧プラズマプロセスをベースとした単結晶ダイヤモンド基板の高能率ダメージフリー平坦化・平滑化(第1報):Ar+O2マイクロ波プラズマジェットのエッチング特性,牧山 真也,田畑 雄壮,遠藤 勝義,山村 和也,精密工学会学術講演会講演論文集,公益社団法人 精密工学会,Vol. 2013,p. 223-224,2013年
  • 大気圧プラズマによる表面改質技術の開発:フッ素樹脂表面への高密着性銅メタライジング,佐藤 悠,遠藤 勝義,山村 和也,精密工学会学術講演会講演論文集,公益社団法人 精密工学会,Vol. 2013,p. 581-582,2013年
  • 大気開放型プラズマCVMを用いた形状創成における高精度化・高効率化に関する研究(第1報):プラズマジェット加工方式における基礎的加工特性の評価,畑 祐輝,竹田 善紀,伊藤 丈予,遠藤 勝義,山村 和也,精密工学会学術講演会講演論文集,公益社団法人 精密工学会,Vol. 2013,p. 681-682,2013年
  • 大気開放型プラズマCVMを用いた形状創成における高精度・高効率化に関する研究(第2報):パルス幅変調制御による加工量制御の基礎的検討,竹田 善紀,畑 祐輝,遠藤 勝義,山村 和也,精密工学会学術講演会講演論文集,公益社団法人 精密工学会,Vol. 2013,p. 683-684,2013年
  • 数値制御電解加工(NC-ECM)による中性子収束用金属ミラー基盤の精密形状創成(第1報):ライン型電極による楕円面の一括創成,光嶋 直樹,大内 将,遠藤 勝義,山村 和也,精密工学会学術講演会講演論文集,公益社団法人 精密工学会,Vol. 2013,p. 975-976,2013年
  • 法線ベクトル追跡型高速ナノ形状測定法の開発―自律較正法を用いた光路の絶対長決定―,北山貴雄,戸成大輔,松村拓己,薄木宏治,小嶋拓也,打越純一,遠藤勝義,東保男,2012年度精密工学会春季学術講演会講演論文集,2012年03月
  • Siウエハ表面の原子構造・電子状態,遠藤勝義,第31回表面科学学術講演会講演要旨集,2011年12月
  • Development of a High-Speed Nanoprofiler Using Normal Vector Tracing,Takao Kitayama,Daisuke Tonaru,Hiroaki Matsumura,Junichi Uchikoshi,Yasuo Higashi,Katsuyoshi Endo,Program & Abstract 4th Intenational Conference of Asian Society for Precision Engineering and Nanotechnology,2011年11月,研究論文(国際会議プロシーディングス)
  • Design of Optical Head for New High-Speed Nanprofiler,H. Matsumura,D.Tonaru,T. Kitayama,K. Usuki,T. Kojima,J. Uchikoshi,Y. Higashi,K. Endo,Extended Abstrucs of Fourth International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology,2011年10月,研究論文(国際会議プロシーディングス)
  • 法線ベクトル追跡型高速ナノ精度形状測定法の開発-誤差解析と測定装置の校正-,戸成大祐,松村拓己,北山貴雄,打越純一,東保男,遠藤勝義,2011年度精密工学会秋季大会学術講演会講演論文集,2011年09月
  • Mechanism of atomic-scale passivation and flattening of semiconductor surfaces by wet-chemical preparations,Kenta Arima,Katsuyoshi Endo,Kazuto Yamauchi,Kikuji Hirose,Tomoya Ono,Yasuhisa Sano,Journal of Physics: Condensed Matter,IOP Publishing,Vol. 23,No. 39,p. 394202 1-394202 14,2011年09月,研究論文(学術雑誌)
  • 表面の原子構造観察とナノ形状測定,遠藤勝義,精密工学会2011年度関西地方定期学術講演会講演論文集,2011年06月
  • 法線ベクトル追跡型高速ナノ形状測定法の開発-小曲率半径R=10mm球面ミラー形状測定の可能性-,松村拓己,戸成大祐,北山貴雄,薄木宏治,小嶋拓也,打越純一,東 保男,遠藤勝義,精密工学会2011年度関西地方定期学術講演会講演論文集,2011年06月
  • Nano-radian resolution gradient integrated surface profiler,Y.Higashi,Zhang Xiao-Wei,J.Uchikoshi,T.Kume,K.Enami,K.Endo,Optifab2011,2011年05月,研究論文(国際会議プロシーディングス)
  • Structure and Magnetic Properties of Mono- and Bi-Layer Graphene Films on Ultraprecision Figured 4H-SiC(0001) Surfaces,Azusa N. Hattori,Takeshi Okamoto,Shun Sadakuni,Junji Murata,Hideo Oi,Kenta Arima,Yasuhisa Sano,Ken Hattori,Hiroshi Daimon,Katsuyoshi Endo,Kazuto Yamauchi,JOURNAL OF NANOSCIENCE AND NANOTECHNOLOGY,AMER SCIENTIFIC PUBLISHERS,Vol. 11,No. 4,p. 2897-2902,2011年04月,研究論文(学術雑誌)
  • 法線ベクトル検出型超精密形状測定法による球面ミラーの形状測定,戸成大祐,松村拓己,北山貴雄,打越純一,東保男,遠藤勝義,2011年度精密工学会春季大会学術講演会講演論文集,2011年03月
  • Formation of wide and atomically flat graphene layers on ultraprecision-figured 4H-Si(0001) surfaces,A. N. Hattori,T. Okamoto,S. Sadakuni,J. Murata,K. Arima,Y. Sano,K. Hattori,H. Daimon,K. Endo,K. Yamauchi,Surface Science,Vol. 605,No. 5-6,p. 597-605,2011年03月,研究論文(学術雑誌)
  • Development of a new high-speed nano-profiler using normal vector tracing method for next-generation ultraprecision mirrors,K.Endo,J.Uchikoshi,Y. Higashi,Third International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology,2010年11月,研究論文(国際会議プロシーディングス)
  • Surface treatments toward obtaining clean GaN(0001) substrate surfaces,A. N. Hattori,K. Hattori,H. Daimon,K. Endo,2010年10月
  • 次世代非球面レンズ製作のための傾斜角積分型ナノ精度形状測定装置の開発-測定原理と測定方法-,東保夫,遠藤勝義,打越純一,久米達哉,江並和宏,2010年度精密工学会秋季大会学術講演会講演論文集,2010年09月
  • Chemical etchant dependence of surface structure and morphology on GaN(0001) substrates,A. N. Hattori,F. Kawamura,M. Yoshimura,Y. Kitaoka,Y. Mori,K. Hattori,H. Daimon,K. Endo,Vol. 604,No. 15-16,p. 1247-1253,2010年06月,研究論文(学術雑誌)
  • Surface treatments toward obtaining clean GaN(0001) from commercial hydride vapor phase epitaxy and metal-organic chemical vapor deposition substrates in ultrahigh vacuum,Azusa N. Hattori,Katsuyoshi Endo,Ken Hattrori,Hiroshi Daimon,Applied Surface Science,Vol. 256,No. 14,p. 4745-4756,2010年03月,研究論文(学術雑誌)
  • GaN(0001)基板表面清浄化手法の開発,服部 梓,遠藤勝義,服部 賢,大門 寛,2009年03月
  • プログラム自己組織化による銀ナノキューブダイマーの合成とそのプラズモニック特性,三谷宗久,内田修平,山村和也,遠藤勝義,是津信行,2009年03月
  • サブメートル級ナノ粒子配列膜製造技術の開発(6),真鍋享平,是津信行,山村和也,遠藤勝義,2009年度精密工学会春季大会学術講演会講演論文集,2009年03月
  • GaN(0001)表面構造の結晶成長条件依存性,服部 梓,遠藤勝義,2009年度精密工学会春季大会学術講演会講演論文集,2009年03月
  • 超精密非球面形状計測法に関する研究 -法線ベクトル測定値からの形状導出アルゴリズムの開発-,上野智裕,橘田繁樹,遠藤勝義,東保男,2009年度精密工学会春季大会学術講演会講演論文集,2009年03月
  • Analysis of GaN(0001) surface structures after cleaning procedures,A. N. Hattori,K. Endo,K. Hattori,H. Daimon,First International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology -Surface and Thin Film Processing-,2009年02月,研究論文(国際会議プロシーディングス)
  • Atomic structures of hydrogen-terminated Si(001) surfaces after wet cleaning,A. N. Hattori,K. Arima,K. Endo,2008年10月,研究論文(国際会議プロシーディングス)
  • ナノ粒子デバイス製造プロセスの開発,斉藤正太,山村和也,遠藤勝義,是津信行,第69回応用物理学会学術講演会講演予稿集,2008年09月
  • サブメートル級ナノ粒子配列膜製造技術の開発(5),真鍋享平,是津信行,山村和也,遠藤勝義,2008年度精密工学会秋季大会学術講演会講演論文集,2008年09月
  • Development of surface gradient integrated profiler - Precise coordinate determination of normal vector measured points by self-calibration method and new data analysis from normal vector to surfac profile -,Y.Higashi,T.Ueno,K.Endo,J.Uchikoshi,TKume,K.Enami,SPIE,Vol. 7077,2008年08月,研究論文(国際会議プロシーディングス)
  • Si(001) surface modified in aqueous environment,A. N. Hattori,K. Arima,K. Endo,2008年07月,研究論文(国際会議プロシーディングス)
  • サブメートル級ナノ粒子配列膜製造技術の開発(4),真鍋享平,是津信行,山村和也,遠藤勝義,精密工学会2008年度関西地方定期学術講演会講演論文集,2008年06月
  • 傾斜角積分法による超精密形状計測法の開発,東 保男,遠藤勝義,砥粒加工学会誌,Vol. 52,No. 6,p. 314-317,2008年06月
  • 非最密型中空金ナノ粒子膜の作製,内田修平,是津信行,山村和也,遠藤勝義,第58回高分子学会年次大会講演予稿集,2008年05月
  • 傾斜角積分法による超精密形状計測法:自立較正法による法線ベクトル測定点の座標位置の高精度化,東 保男,久米 達哉,江並 和宏,遠藤 勝義,上野 智裕,打越 純一,森 勇蔵,精密工学会学術講演会講演論文集,公益社団法人 精密工学会,Vol. 2008,No. 0,p. 487-488,2008年
  • 光応答の第一原理計算におけるモデル厚さ依存性,稲垣耕司,遠藤勝義,広瀬喜久治,2007年10月
  • 水素終端化Si(001)面と(111)面の反射率差スペクトルの第一原理計算による解析,稲垣耕司,遠藤勝義,広瀬喜久治,日本物理学会,2007年10月
  • 異なった面方位を持つ水素終端表面シリコンの比較反射率スペクトルの測定と第一原理計算,稲垣耕司,岡田尚人,野田恒之,遠藤勝義,広瀬喜久治,Vol. 19,No. 36,2007年09月,研究論文(学術雑誌)
  • Surface Gragient Integrated Profiler for X-ray and EUV Optics - Self calibration method of measured position for an off-axis parabolic mirror (f=150mm) measurement-,Y.Higashi,K.Endo,T.Kume,J.Uchikoshi,K.Ueno,Y.Mori,Vol. 6704,2007年08月,研究論文(国際会議プロシーディングス)
  • Very High Carrier Mobility for High-Performance CMOS on a Si(110) Surface,Akinobu Teramoto,Tatsufumi Hamada,Masashi Yamamoto,Philippe Gaubert,Hiroshi Akahori,Keiichi Nii,Masaki Hirayama,Kenta Arima,Katsuyoshi Endo,Shigetoshi Sugawa,Tadahiro Ohmi,IEEE Transactions on Electron Devices,IEEE,Vol. 54,No. 6,p. 1438-1445,2007年06月,研究論文(学術雑誌)
  • Atomic-scale Observations of Si(001) Surfaces Flattened by SiO2 Particles in Ultrapure Water and Elucidation of Its Surface Formation Mechanism,K. Arima,A. Kubota,H. Mimura,J. Katoh,K. Inagaki,Y. Mori,K. Endo,K. Yamauchi,Extended Abstracts of the 12th Workshop on Gate Stack Technology and Physics, pp. 125-130,2007年02月
  • 傾斜角積分法による放物面の形状計測,鷹家 優一,東 保男,遠藤 勝義,森 勇藏,打越 純一,久米 達哉,江並 和宏,精密工学会学術講演会講演論文集,公益社団法人 精密工学会,Vol. 2007,No. 0,p. 425-426,2007年
  • Ro-vibronic Structure in the Q-branch in the Spectra of Hydrogen Fulcher-a Band Emission in the Atmospheric Pressure Plasma CVD Process Driven at 150 MHz,Y. Oshikane,H. Kakiuchi,K. Yamamura,C. M. Western,K. Yasutake,K. Endo,Extended Abstratcs of International 21st Century COE Symposium on Atomistic Fabrication Technology,2006年10月
  • Development of mirror manipulator for hard x-ray nanofocusing at sub-50nm level,S. Matsuyama,H. Mimura,H. Yumoto,H. Hara,S. Handa,K. Yamamura,Y. Sano,K. Endo,Y. Mori,M. Yabashi,Y. Nishino,K. Tamasaku,T. Ishikawa,K. Yamauchi,Review of Scientific Instruments,Vol. 77,No. 9,2006年10月,研究論文(学術雑誌)
  • NH4F処理したSi(111)表面の光学特性,稲垣耕司,広瀬喜久治,遠藤勝義,2006年09月
  • Scanning X-ray Fluorescence Microscope Using Kirkpatrick-Baez Optics with Spatial Resolution Better than 50nm,Satoshi Matsuyama,Hidekazu Mimura,Mari Shimura,Hirokatsu Yumoto,Keiko Katagishi,Soichiro Handa,Akihiko Shibatani,Yasuhisa Sano,Kazuya Yamamura,Katsuyoshi Endo,Yuzo Mori,Yoshinori Nishino,Kenji Tamasaku,Makina Yabashi,Tetsuya Ishikawa,Kazuto Yamauchi,The 16th International Microscopy Congress (IMC16),2006年09月
  • Highly resolved scanning tunneling microscopy study of Si(001) surfaces flattened in aqueous environment,Kenta Arima,Akihisa Kubota,Hidekazu Mimura,Kouji Inagaki,Katsuyoshi Endo,Yuzo Mori,Kazuto Yamauchi,Surface Science Letters,Elsevier,Vol. 600,No. 15,p. L185-L188,2006年08月,研究論文(学術雑誌)
  • N2 C3Pu-B3Pg band spectroscopy in open-air type CVM plasma with He/CF4/O2 and H2 Fulcher-a band spectroscopy in atmospheric He/H2/SiH4 CVD plasma,Yasushi Oshikane,Kazuya Yamamura,Koji Ueno,Hiroaki Kakiuchi,Kiyoshi Yasutake,Takafumi Karasawa,Colin M. Western,Akinori Oda,Akihiko Nagao,Katsuyoshi Endo,Europhysics Conference Abstract of 18th Europhysics Conference on the Atomic and Molecular Physics of Ionised Gases,2006年07月
  • Surface Gradient Integrated Profiler for X-ray and EUV Optics-Calibration of the rotational angle error of the rotary encoders-,Yasuo Higashi,Yuichi Takaie,Katsuyoshi Endo,Tatsuya Kume,Kazuhiro Enami,Kazuto Ymauchi,Kazuya Ymamura,Yasushi Sano,Kenji Ueno,Yuzo Mori,Ninth International Conference on Synchrotron Radiation Instrumentation,Vol. 879,p. 726-+,2006年06月,研究論文(国際会議プロシーディングス)
  • Atomic-Scale Evaluation of Si(111) Surfaces Finished by the Planarization Process Utilizing SiO2 Particles Mixed with Water,Jun Katoh,Kenta Arima,Akihisa Kubota,Hidekazu Mimura,Kouji Inagaki,Yuzo Mori,Kazuto Yamauchi,Katsuyoshi Endo,Journal of The Electrochemical Society,Electrochemical Society,Vol. 153,No. 6,p. G560-G565,2006年06月,研究論文(学術雑誌)
  • Development of Surface Measurement Technologies for Hard X-ray Nanofocusing Mirror at Osaka University and SPring-8,H. Mimura,H. Yumoto,S. Matsuyama,K. Yamamura,Y. Sano,K. Endo,Y. Mori,M. Yabashi,Y. Nishino,K. Tamasaku,T. Ishikawa,K. Yamauchi,The 3rd International Workshop on Metrology for X-ray Optics,2006年05月
  • モノシランとオゾンの反応を用いた常圧光CVD法による酸化シリコン薄膜の形成,篠原亘,小平正和,遠藤勝義,精密工学会誌,2006年04月,研究論文(学術雑誌)
  • Differential reflectance spectrum measurement to evaluate defects introduced by wet cleaning process,K.Inagaki,T.Miyata,K.Endo,K.Hirose,Y.Mori,Physica B,ELSEVIER,Vol. 376,p. 922-925,2006年04月,研究論文(学術雑誌)
  • 超純水・高速せん断流による洗浄法の開発(第2報)-超純水・高速せん断流によるCu除去メカニズムの研究ー,森田健一,後藤英和,遠藤勝義,山内和人,森勇蔵,精密工学会誌,Vol. 72,No. 4,p. 529-533,2006年04月,研究論文(学術雑誌)
  • ナノ材料・表面の原子構造・機能評価 -STMをベースにした新規計測手法の開発とその応用-,桑原裕司,有馬健太,赤井恵,齋藤彰,遠藤勝義,青野正和,超精密,15巻,70-75頁,2005年,精密工学会 超精密加工専門委員会,Vol. 70-75,2006年03月
  • First-principles calculation of tunneling current of H2- or NH3-adsorbed Si(001) surface in scanning tunneling microscopy,Shinya Horie,Tomoya Ono,Yuji Kuwahara,Katsuyoshi Endo,Kikuji Hirose,Japanese Journal of Applied Physics,Vol. 45,No. 3,p. 2154-2157,2006年03月,研究論文(学術雑誌)
  • 超純水・高速せん断流によるSi基板洗浄法の研究 -Si基板表面のDOP汚染の洗浄効果-,森田健一,後藤英和,山内和人,遠藤勝義,森 勇藏,精密工学会誌,Vol. 72,No. 3,p. 383-392,2006年03月,研究論文(学術雑誌)
  • Atomic-scale Observations of Si(110) Surfaces after Wet Cleaning,K. Arima,J. Katoh,K. Endo,H. Akahori,S. Sugawa,A. Teramoto,T. Ohmi,Extended Abstracts of the 11th Workshop on Gate Stack Technology and Physics, 19-24,2006年02月
  • Atomic-scale Control of Semiconductor Surfaces in Aqueous Environment for Nano-scale Devices,Kenta Arima,Katsuyoshi Endo,ABSTRACTS, Handai Nanoscience and Nanotechnology International Symposium, pp. 22-23 (2006).,2006年01月
  • Atomic-level STM analyses of Si(001) surfaces prepared in aqueous environment,Kenta Arima,Kazuto Yamauchi,Hidekazu Mimura,Akihisa Kubota,Kouji Inagaki,Yuzo Mori,Katsuyoshi Endo,Abstract Book of 33rd Conference on the Physics & Chemistry of Semiconductor Interfaces, Cocoa Beach (Florida), Mo1355 (2006).,American Vacuum Society,2006年01月
  • シンクロトロン放射光ミラーのための超精密形状計測装置の開発:ミラーサイズと形状による測定精度の検討,鷹家 優一,遠藤 勝義,森 勇藏,東 保男,久米 達哉,江並 和宏,精密工学会学術講演会講演論文集,公益社団法人 精密工学会,Vol. 2006,No. 0,p. 183-184,2006年
  • シンクロトロン放射光用ミラーのための超精密非球面形状測定装置の開発,遠藤 勝義,森 勇藏,鷹家 優一,東 保男,久米 達哉,江並 和宏,精密工学会学術講演会講演論文集,公益社団法人 精密工学会,Vol. 2006,No. 0,p. 1055-1056,2006年
  • Electrochemical etching using surface-sulfonated electrodes in ultrapure water,Yoshio Ichii,Yuzo Mori,Kikuji Hirose,Katsuyoshi Endo,Kazuto Yamauchi,Hidekazu Goto,Journal of the Electrochemical Society,Vol. 153,No. 5,p. C344-C348,2006年,研究論文(学術雑誌)
  • 超純水・高速せん断流による洗浄法の開発(第1報)-Si基板表面のCu汚染の洗浄効果-,森田健一,後藤英和,山内和人,遠藤勝義,森 勇藏,精密工学会誌,Vol. 72,No. 1,p. 89-94,2006年01月,研究論文(学術雑誌)
  • Wave-optical evaluation of interference fringes and wavefront phase in a hard-x-ray beam totally reflected by mirror optics,Kazuto Yamauchi,Kazuya Yamamura,Hidekazu Mimura,Yasuhisa Sano,Akira Saito,Katsuyoshi Endo,Alexei Souvorov,Makina Yabashi,Kenji Tamasaku,Tetsuya Ishikawa,Yuzo Mori,Applied Optics,Vol. 44,No. 32,p. 6927-6932,2005年11月,研究論文(学術雑誌)
  • Hydrogen termination of Si(110) surfaces upon wet cleaning revealed by highly-resolved scanning tunneling microscopy,Kenta Arima,Jun Katoh,Shinya Horie,Katsuyoshi Endo,Shigetoshi Sugawa,Hiroshi Akahori,Akinobu Teramoto,Tadahiro Ohmi,Journal of Applied Physics,American Institute of Physics,Vol. 98,No. 10,p. 101325 1-101325 8,2005年11月,研究論文(学術雑誌)
  • Plasma Chemical Vaporization Machining (PCVM),Y. Sano,K. Yamamura,K. Endo,Y. Mori,Book of Lecture Note, IWCGT-3, (2005) pp. 305-316.,2005年09月
  • Two-dimensional Actinometric Study of Fluorine and Oxygen Atom Densities in the CVM Plasma Gap and the Temperature Estimation with Electronic Spectra of Diatomic Molecules,Yasushi Oshikane,Akihiko Nagao,Akinori Oda,Colin M. Western,Kazuya Yamamura,Katsuyoshi Endo,17th International Symposium on Plasma Chemistry, Abstracts and Full-papers CD,IUPAC & IPCS,2005年08月,研究論文(国際会議プロシーディングス)
  • Surface figuring and measurement methods with spatial resolution close to 0.1 mm for x-ray mirror fabrication,H. Mimura,H. Yumoto,S. Matsuyama,K. Yamamura,Y. Sano,K.Endo,Y. Mori,Y. Nishino,M. Yabashi,K. Tamasaku,T. Ishikawa,K.Yamauchi,Vol. 5921,p. 1-8,2005年08月,研究論文(国際会議プロシーディングス)
  • Diffraction-limited two-dimensional hard-X-rays focusing in 100nm level using K-B mirror arrangement,S. Matsuyama,H. Mimura,H. Yumoto,K. Yamamura,Y. Sano,K. Endo,Y. Mori,M. Yabashi,K. Tamasaku,Y. Nishino,T. Ishikawa,K. Yamauchi,Review of Scientific Instruments,Vol. 76,No. 8,2005年08月,研究論文(学術雑誌)
  • A new Designed High-Precision Profiler - Study on Mandrel measurement-,Y.Higashi,Y.Takaie,K.Endo,T.Kume,K.Enami,K.Yamauchi,K.Yamamura,K.Ueno,Y.Mori,Proc. 8th Cof. X-ray Microscopy IPAP Conf. Series 7,2005年07月,研究論文(国際会議プロシーディングス)
  • Scanning hard-X-ray microscope with spatial resolution better than 50nm,S. Matsuyama,H. Mimura,H. Yumoto,H. Hara,K. Yamamura,Y. Sano,K.Endo,Y. Mori,M. Yabashi,Y. Nishino,K. Tamasaku,T. Ishikawa,K.Yamauchi,2005年07月,研究論文(学術雑誌)
  • Hard X-ray Diffraction-Limited Nanofocusing with unprecidently accurate mirrors,H. Mimura,S. Matsuyama,H. Yumoto,H. Hara,K. Yamamura,Y. Sano,M. Shibahara,K. Endo,Y. Mori,Y. Nishino,K. Tamasaku,M. Yabashi,T. Ishikawa,K. Yamauchi,2005年07月,研究論文(学術雑誌)
  • 原子論的生産技術における電子状態シミュレーション,後藤英和,稲垣耕司,広瀬喜久治,遠藤勝義,森 勇蔵,砥粒加工学会誌,Vol. 49,No. 7,p. 362-365,2005年07月
  • Atomic Images of H-Terminated Si(110)-(1x1) Surfaces by Wet Cleaning,K. Arima,J. Katoh,K. Endo,Abstracts of 13th International Conference on Scanning Tunneling Microscopy/Spectroscopy and Related Techniques, pp. 360-360,The Japan Society of Applied Physics,2005年07月
  • Investigation of machining mechanism in Elastic Emission Machining (EEM) on the atomic scale,J. Katoh,A. Kubota,H. Mimura,K. Yamauchi,K. Arima,K. Inagaki,Y. Mori,K. Endo,Abstracts of 13th International Conference on Scanning Tunneling Microscopy/Spectroscopy and Related Techniques, pp. 89-89,The Japan Society of Applied Physics,2005年07月
  • Atomic-Scale Evaluation of Si(001) Surfaces Finished by Novel Global Planarization Process,K. Arima,K. Yamauchi,H. Mimura,A. Kubota,K. Inagaki,Y. Mori,K. Endo,Abstracts of 13th Internatinal Conference on Scanning Tunneling Microscopy/Spectroscopy and Related Techniques, pp. 335-335,The Japan Society of Applied Physics,2005年07月
  • Element Array by Scanning X-ray Fluorescence Microscopy after Cis-Diamminedichloro-Platinum(II) Treatment,M. Shimura,A. Saito,S. Matsuyama,T. Sakuma,Y. Terui,K. Ueno,H. Yumoto,K. Yamauchi,K. Yamamura,H. Mimura,Y. Sano,M. Yabashi,K. Tamasaku,K. Nishio,Y. Nishino,K. Endo,K. Hatake,Y. Mori,Y. Ishizaka,T. Ishikawa,Cancer Research, 65 (12), 4998-5002, (2005).,Vol. 65,No. 12,p. 4998-5002,2005年07月,研究論文(学術雑誌)
  • Electrochemical Etching Using Surface Modified Graphite Electrodes in Ultrapure Water,Y.Ichii,Y.Mori,K.Hirose,K.Endo,K.Yamauchi,K.Yagi,H.Goto,Proceedings of The 5th Asian Conference on Electrochemistry 2005,2005年05月
  • Electrochemical etching using surface carboxylated graphite electrodes in ultrapure water,Yoshio Ichii,Yuzo Mori,Kikuji Hirose,Katsuyoshi Endo,Kazuto Yamauchi,Hidekazu Goto,Electrochimica Acta,Elsevier,Vol. 50,No. 27,p. 5379-5383,2005年05月,研究論文(学術雑誌)
  • Hard X-ray Diffraction-Limited Nanofocusing with Kirkpatrick-Baez Mirrors,H. Mimura,S. Matsuyama,H. Yumoto,H. Hara,K. Yamamura,Y. Sano,M. Shibahara,K. Endo,Y. Mori,Y. Nishino,K. Tamasaku,M. Yabashi,T. Ishikawa,K. Yamauchi,Japanese Journal of Applied Physics Part 2,Vol. 44,No. 16-19,p. L539-L542,2005年04月,研究論文(学術雑誌)
  • 数値制御プラズマCVMによる水晶ウエハの高精度加工に関する研究 -加工装置の開発と基本的加工特性の取得-,山村和也,柴原正文,佐野泰久,杉山 剛,遠藤勝義,森 勇藏,精密工学会誌, Vol.71 No.4, pp.455-459.,Vol. 5869,p. 1-8,2005年04月,研究論文(学術雑誌)
  • Hydrogen Termination of the Si(110) Surface by Wet Cleaning Revealed by Atomically Resolved Scanning Tunneling Microscopy,Kenta Arima,Jun Katoh,Katsuyoshi Endo,Program of 2005 MRS Spring Meeting, Q5-8,2005年03月
  • Development of surface figuring and smoothing technologies for ultraprecise X-ray mirror Fabrication,H. Mimura,H. Yumoto,S. Matsuyama,K. Yamamura,Y. Sano,K. Endo,Y. Mori,Y. Nishino,K. Tamasaku,M. Yabashi,T. Ishikawa,K. Yamauchi,2005年02月
  • Relative angle determinable stitching interferometry for hard X-ray reflective optics,H. Mimura,H. Yumoto,S. Matsuyama,K. Yamamura,Y. Sano,K. Ueno,K. Endo,Y. Mori,Y. Nishino,K. Tamasaku,M. Yabashi,T. Ishikawa,K. Yamauchi,Review of Scientfic Instruments,Vol. 76,No. 4,2005年02月,研究論文(学術雑誌)
  • Hard X-ray nano-focusing at 40nm level using K-B mirror optics for nanoscopy/spectroscopy,Satoshi Matsuyama,Hidekazu Mimura,Hirokatsu Yumoto,Hideyuki Hara,Kazuya Yamamura,Yasuhisa Sano,Katsuyoshi Endo,Yuzo Mori,Yoshinori Nishino,Kenji Tamasaku,Makina Yabashi,Tetsuya Ishikawa,Kazuto Yamauchia,Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering,Vol. 5918,p. 1-8,2005年,研究論文(国際会議プロシーディングス)
  • シンクロトロン放射光用ミラーのための超精密非球面形状測定装置の開発:X–ray集光用ミラーの測定と干渉計との比較,森 勇藏,遠藤 勝義,鷹家 優一,東 保男,久米 達哉,江並 和宏,精密工学会学術講演会講演論文集,公益社団法人 精密工学会,Vol. 2005,No. 0,p. 349-350,2005年
  • シンクロトロン放射光用ミラーのための超精密非球面形状測定装置の開発:形状測定装置上のゴニオメータの較正,森 勇藏,東 保男,遠藤 勝義,宮脇 崇,瀬戸口 大輔,久米 達哉,江並 和宏,鷹家 優一,精密工学会学術講演会講演論文集,公益社団法人 精密工学会,Vol. 2005,No. 0,p. 637-637,2005年
  • Surface Figure Metrology of x-ray mirrors using optical interferometry,K. Yamauchi,K. Yamamura,H. Mimura,Y. Sano,S. Matsuyama,H. Yumoto,K. Ueno,K. Endo,M. Yabashi,K. Tamasaku,Y. Nishino,T. Ishikawa,Y. Mori,2004年09月
  • Wave-optical and ray-tracing analysis to establish a two dimensional focusing unit using K-B arrangement,S. Matsuyama,H. Mimura,K. Yamamura,H. Yumoto,Y. Sano,K. Endo,Y. Mori,M. Yabashi,K. Tamasaku,Y. Nishino,T. Ishikawa,K. Yamauchi,Proceedings of SPIE,Vol. 5533,p. 181-191,2004年08月,研究論文(国際会議プロシーディングス)
  • Fabrication technology of ultraprecise mirror optics to realize hard X-ray nanobeam, SPIE International Symposium, Optical Science and Technology,K. Yamauchi,K. Yamamura,H. Mimura,Y. Sano,S. Matsuyama,H. Yumoto,K. Ueno,M. Shibahara,K. Endo,M. Yabashi,K. Tamasaku,Y. Nishino,T. Ishikawa,Y. Mori,Proceedings of SPIE,,Vol. 5533,p. 116-123,2004年08月,研究論文(国際会議プロシーディングス)
  • Microstitching Interferometry for hard X-ray nanofocusing mirrors,H. Mimura,H. Yumoto,K. Yamamura,Y. Sano,S. Matsuyama,K. Ueno,K. Endo,Y. Mori,M. Yabashi,K. Tamasaku,Y. Nishino,T. Ishikawa,K. Yamauchi,Proceedings of SPIE,Vol. 5533,p. 171-180,2004年08月,研究論文(国際会議プロシーディングス)
  • Surface figure metrology of total reflection X-ray mirror using optical interferometry at Osaka Univ. and SPring-8,K.Yamuchi,H.Mimura,K.Yamamura,Y.Sano,K.Ueno,S.Matsuyama,K.Endo,Y.Nishino,K.Tamasaku,M.Yabashi,T.Ishikawa,Proceedings of Second International Workshop on Metrology for X-ray Optics,2004年04月
  • Fabrication technology for hard X-ray reflective optics,Y. Mori,K. Yamuchi,K. Yamamura,H. Mimura,Y.Sano,S. Matsuyama,K. Endo,Y. Nishino,K. Tamasaku,M. Yabashi,T. Ishikawa,Proceedings of Second International Workshop on Metrology for X-ray Optics,2004年03月,研究論文(その他学術会議資料等)
  • EEM(Elastic Emission Machining)によるSi(001)表面の平坦化(第1報)-超清浄EEM加工システムの開発ー,森勇藏,山内和人,三村秀和,稲垣耕司,久保田章亀,遠藤勝義,精密工学会誌論文集,70, 391-396, (2004).,2004年03月,研究論文(学術雑誌)
  • 超精密科学研究センターの使命 -原子論的生産技術の創出-,遠藤勝義,大阪大学低温センターだより,125,1-3,2004年01月,研究論文(大学,研究機関等紀要)
  • EEM(Elastic Emission Machining)およびプラズマCVM(Chemical Vaporization Machining)による高精度X線全反射ミラーの解説,石川哲也,森勇藏,遠藤勝義,日本放射光学会誌vol.17, No.1 Jan., 2004,日本放射光学会,2004年01月
  • EEM(Elastic Emission Machining)およびプラズマCVM(Chemical Vaporization Machining)による高精度X線全反射ミラーの解説,石川哲也,森勇藏,遠藤勝義,日本放射光学会誌vol.17, No.1 Jan., 2004,日本放射光学会,2004年01月
  • 原子論的生産技術の創出拠点,遠藤 勝義,生産と技術 Vol.56 No.2 (2004),2004年01月
  • シンクロトロン放射光用ミラーのための超精密非球面形状測定装置の開発:測定精度の検討,森 勇藏,東 保男,遠藤 勝義,宮脇 崇,瀬戸口 大輔,久米 達也,江並 和宏,鷹家 優一,精密工学会学術講演会講演論文集,公益社団法人 精密工学会,Vol. 2004,No. 0,p. 701-701,2004年
  • 超高精度硬X線集光ミラーの製作とナノスペクトロスコピーへの応用,山村和也,山内和人,佐野泰久,三村秀和,遠藤勝義,森 勇藏,大阪大学低温センターだより,125, 4-10,2004年01月,研究論文(大学,研究機関等紀要)
  • 原子論的生産技術の創出拠点 -ナノメーターレベルの表面創成プロセス-,遠藤勝義,大阪大学物質・材料科学研究推進機構講演会,2003年12月
  • Ultraviolet Emission Spectroscopy and Absorption Spectroscopy of CF2 Radical in Chemical Vaporization Machining (CVM) Plasma Generated with High Speed Rotating Cylindrical Electrode,Yasushi Oshikane,Shinya Sato,Akihiko Nagao,Kazuya Yamamura,Katsuyoshi Endo,Yuzo Mori,Technical Program of AVS 50th,2003年11月
  • 超精密科学研究センター -文部省COEから文部科学省21世紀COEへ-,遠藤勝義,大阪大学工業会誌テクノネット,2003年10月
  • Visible Light Irradiation Effects on Atomic-Scale Observations of Hydrogenated Amorphous Silicon Films by Scanning Tunneling Microscopy,Kenta Arima,Hiroaki Kakiuchi,Manabu Ikeda,Katsuyoshi Endo,Mizuho Morita,Yuzo Mori,Extended Abstracts of the 2003 Int. Conf. on SOLID STATE DEVICES AND MATERIALS,2003年09月
  • Fabrication technology of hard X-ray aspherical mirror optics and application to nanospectroscopy,Y. Mori,K. Yamauchi,K. Yamamura,H. Mimura,Y. Sano,A. Saito,K. Endo,A. Souvorov,M. Yabashi,K. Tamasaku,T. Ishikawa,M. Shimura,Y. Ishizaka,Proc. SPIE 5193, pp.11-17,Vol. 5193,p. 11-17,2003年08月,研究論文(国際会議プロシーディングス)
  • Development of a figure correction method having spatial resolution close to 0.1mm,Y. Mori,K. Yamauchi,K. Yamamura,H. Mimura,Y. Sano,A. Saito,K. Endo,A. Souvorov,M. Yabashi,K. Tamasaku,T. Ishikawa,Proc. SPIE 5193, pp.105-111,Vol. 5193,p. 105-111,2003年08月,研究論文(国際会議プロシーディングス)
  • Extremely High-Rate Deposition of Silicon Thin Films Prepared by Atmospheric Plasma CVD Method with a Rotary Electrode,M. Matsumoto,M. Shima,S. Okamoto,K. Murata,M. Tanaka,S. Kiyama,H. Kakiuchi,K. Yasutake,K. Yoshii,K. Endo,Y. Mori,Proc. of 3rd World Conf. and Exhibition on Photovoltaic Solar Energy Conversion, (Osaka Japan 2003),p. 1552-1555,2003年05月,研究論文(国際会議プロシーディングス)
  • ナノパーティクル測定機によるシリコンウエハ面のナノ欠陥計測,佐々木都至,安弘,森勇藏,片岡俊彦,遠藤勝義,山内和人,井上晴行,精密工学会誌, 68, 9, 1200-1205,精密工学会,Vol. 68,No. 9,p. 1200-1205,2002年09月,研究論文(学術雑誌)
  • Wave-optical analysis of sub-micron focusing of hard X-ray by reflective optics,K. Yamauchi,K. Yamamura,H. Mimura,Y. Sano,A. Saito,M. Kanaoka,K. Endo,A. Souvorov,M. Yabashi,K. Tamasaku,T. Ishikawa,Y. Mori,Proc. SPIE, Vol.4782,Vol. 4782,p. 271-276,2002年07月,研究論文(国際会議プロシーディングス)
  • Aspheric surface fabrication in nm-level accuracy by numerically controlled plasma CVM and EEM,K. Yamamura,H. Mimura,K. Yamauchi,Y. Sano,A. Saito,T. Kinoshita,K. Endo,A. Souvorov,M. Yabashi,K. Tamasaku,T. Ishikawa,Y. Mori,Proc. SPIE, Vol.4782,2002年07月,研究論文(その他学術会議資料等)
  • Sub-micron focusing by reflective optics for scanning x-ray microscopy,Y. Mori,K. Yamauchi,K. Yamamura,H. Mimura,Y. Sano,A. Saito,K. Ueno,K. Endo,A. Souvorov,M. Yabashi,K. Tamasaku,T. Ishikawa,Proc. SPIE,Vol. 4782,p. 58-64,2002年07月,研究論文(国際会議プロシーディングス)
  • Aspheric surface fabrication in nm-level accuracy by numerically controlled plasma chemical vaporization machining (CVM) and elastic emission machining (EEM),K Yamamura,H Mimura,K Yamauchi,Y Sano,A Saito,T Kinoshita,K Endo,Y Mori,A Souvorov,M Yabashi,K Tamasaku,D Ishikawa,X-RAY MIRRORS, CRYSTALS, AND MULTILAYERS II,SPIE-INT SOC OPTICAL ENGINEERING,Vol. 4782,p. 265-270,2002年,研究論文(国際会議プロシーディングス)
  • Sub-micron focusing of hard X-ray beam by elliptically figured mirrors for scanning X-ray microscopy,Y Mori,K Yamauchi,K Yamamura,H Mimura,Y Sano,A Saito,K Ueno,K Endo,A Souvorov,M Yabashi,K Tamasaku,T Ishikawa,X-RAY MIRRORS, CRYSTALS, AND MULTILAYERS II,SPIE-INT SOC OPTICAL ENGINEERING,Vol. 4782,p. 58-64,2002年,研究論文(国際会議プロシーディングス)
  • レーザー光散乱法によるSiウエハ表面上のナノパーティクルの計測,佐々木都至,安弘,森勇藏,片岡俊彦,遠藤勝義,山内和人,井上晴行,精密工学会誌, 67, 11, 1818-1823,精密工学会,Vol. 67,No. 11,p. 1818-1823,2001年11月,研究論文(学術雑誌)
  • Electric Impedance Measurement and Pulsed OPO Laser Induced Fluorescence Study of Capacitively Coupled VHF Plasma (He/CF4/O2) at Atmospheric Pressure for Chemical Vaporization Machining (CVM) Process,Yasushi Oshikane,Shoichi Kawashima,Kenichi Takemoto,Kazuya Yamamura,Katsuyoshi Endo,Yuzo Mori,Program of the 54th Annual Gaseous Electronics Conference, (2001) 62.,2001年10月
  • Effect of wet cleaning on hydrogen termination of the Si(001) surface in an atomic scale,K. Arima,K. Endo,K. Hirose,T. Kataoka,Y. Mori,Technical Program & Abstracts of STM'01, pp.145-145,2001年07月
  • Laser-induced Fluorescence Studies of CF and CF$_2$ Radical in Capacitively Coupled Atmospheric VHF CF$_4$ Plasma,Yasushi Oshikane,Shoichi Kawashima,Katsuyoshi Endo,Toshihiko Kataoka,Haruyuki Inoue,Yoshiyuki Yokoyama,Shinji Katayama,Proceedings of PSS-2001/SPP-18, pp.~343-344,2001年01月
  • Capacitively Coupled Atmospheric VHF CF$_4$ Plasma Studied By Laser Induced Fluorescence Spectroscopy With Pulsed OPO Laser,Yasushi Oshikane,Katsuyoshi Endo,Toshihiko Kataoka,Haruyuki Inoue,Yoshiyuki Yokoyama,Shoichi Kawashima,Proceedings of DPS-2000, pp.~19-23,2000年11月
  • A Prototypical Resonant Microcavity Probe For Scanning Near-field Optical Microscope,Yasushi Oshikane,Toshihiko Kataoka,Katsuyoshi Endo,Haruyuki Inoue,Conference Program of 6th International Conference on Near Field Optics and Related Techniques, p.~142,2000年08月
  • 新設クリーンルーム内における有機物濃度の経時変化とその発生源,井上智代,水野直哉,小倉哲,花山勇一郎,服部進司,遠藤勝義,安武潔,森田瑞穂,森勇藏,クリーンテクノロジー,10(7),47-51,2000,2000年07月
  • 湿式洗浄Si(001)水素終端化表面のSTM観察と第一原理計算による考察,有馬健太,遠藤勝義,片岡俊彦,森勇藏,シリコンテクノロジーNo.17, 10,2000年05月
  • 湿式洗浄Si(001)水素終端化表面のSTM観察と第一原理計算による考察,有馬健太,遠藤勝義,片岡俊彦,森勇藏,シリコンテクノロジーNo.17, 10,2000年05月
  • STMによるウェット洗浄Si(001)水素終端化表面の観察,有馬 健太,遠藤 勝義,片岡 俊彦,森 勇蔵,応用物理学会 関西支部セミナー 「次世代シリコン結晶とプロセス」 99年度第2回セミナー 要旨集,p. 6-11,2000年03月
  • Development of X-ray Microanalysis by Using STM Probe,Yuzo Mori,Ken-ich Tsutsumi,Katsuyoshi Endo,Masashi Iwatsuki,Toshihiko Kataoka,Precision Science and Technology for Perfect Surfaces/JSPE Publication Series No.3,849-853,1999年09月,研究論文(学術雑誌)
  • First-Principles Molecular-Dynamics Simulation and STM Observation of Dissociative Adsorption Process of F$_2$ and Cl$_2$ on the Si(001) Surface,Hiromi Okada,Ryosuke Okunishi,Katsuyoshi Endo,Hidekazzu Goto,Kouji Inagaki,Kazuhisa Sugiyama,Hiromichi Toyota,Ehime Uni,Kikuji Hirose,Yuzo Mori,Precision Science and Technology for Perfect Surface (Proceedings of the 9th International Conference on Production Engineering), pp.~941-946,1999年08月
  • Development of Phase-shifting Point Diffraction Interferometry Method with Fiber Point Sources,Yasushi Oshikane,Kazuhiro Ikeda,Toshihiko Kataoka,Katsuyoshi Endo,Haruyuki Inoue,Precision Science and Technology for Perfect Surfaces (Proceedings of the 9th International Conference on Production Engineering), pp.~336-341,1999年08月
  • A Fundamental Study on Atomic Diffusion Phenomenon between Liquid Metal and Carbon\- Substrate,Hiromichi Toyota,Takashi Ide,Hidetsugu Yagi,Hidekazu Goto,Katsuyoshi Endo,Kikuji Hirose,Yuzo Mori,Transactions of the Materials Research Society of Japan, Vol.~24, No.~2, pp.~233-236,1999年06月,研究論文(学術雑誌)
  • First-Principles Molecular Dynamics Simulation for Scanning Tunneling Microscopy Image\- of Si(001) Surface,Hiromi Okada,Katsuyoshi Endo,Ken-ichi Tsutumi,Kikuji Hirose,Yuzo Mori,Transactions of the Materials Research Society of Japan, Vol.~24, No.~2, pp.~221-224,1999年06月,研究論文(学術雑誌)
  • Wettability and Atomic Diffusibility of Liquid Metals on Solid Surfaces,Hiromichi TOYOTA,Takashi IDE,Hidetsugu YAGI,Hidekazu GOTO,Katsuyoshi ENDO,Kikuji HIROSE,Yuzo MORI,Proceedings of the 9th International Conference on Production Engineering, Osaka (1999) 983-988,1999年01月
  • Development of X-ray Microanalysis by Using STM Probe,Yuzo MORI,Ken-ichi TSUTSUMI,Katsuyoshi ENDO,Masashi IWATSUKI,Toshihiko KATAOKA,Proceedings of the 9th International Conference on Production Engineering, Osaka 849-853,1999年01月
  • Observation of hydrogen-terminated Si(001) surfaces after wet cleaning by scanning tunneling microscopy,K.Endo,K.Arima,T.Kataoka,Y.Mori,The 10th International Conference on Scanning Tunneling Microscopy/Spectroscopy and Related Proximal Probe Microscopy, Seol (1999) 260-261,1999年01月
  • Evaluation of Si Wafer Surface Using a New Apparatus for Measuring Particles of the Order of Nanometer,Hiroshi AN,Satoshi SASAKI,Yuzo MORI,Toshihiko KATAOKA,Katsuyoshi ENDO,Haruyuki INOUE,Kazuto YAMAUCHI,Proceedings of the 9th International Conference on Production Engineering, Osaka 372-377.,1999年01月,研究論文(学術雑誌)
  • A Fundamental Study on Atomic Diffusion Phenomenon between Liquid Metal and Carbon Substrate,Hiromichi Toyoda,Ehime University,Takashi Ide,Ehime University,Hidetsugi Yagi,Ehime University,Hidekazu Goto,Kyoto,i,ute,of,T,c,Katsuyoshi Endo,Kikuji Hirose,Yuzo Mori,The Materials Research Society of Japan, Symposium 7, 125-125,1998年12月
  • First-Principle Molecular Dynamics Simulation for STM Image of Si(001) Surface,Hiromi Okada,Ken-ichi Tsutsumi(JST,Toshio Ishikawa(JST,Hidekazu Goto(Kyoto,Institute of Technology,Katsuyoshi Endo,Kikuji Hirose,Yuzo Mori,The Materials Research Society of Japan, Symposium 7, 117-117,1998年12月
  • Scanning Near-Field Optical Microscope with a Micro-Cavity Probe,Hirofumi Nakagawa,Yasushi Oshikane,Toshihiko Kataoka,Katsuyoshi Endo,Takayuki Hirai,Technical Digest of the 5th International Conference on Near Field Optics, pp.~179-180,1998年12月
  • 3D-Electromagnetic Fields Analysis of a Micro-Cavity Probe for High Resolution SNOM,Yasushi Oshikane,Hirofumi Nakagawa,Toshihiko Kataoka,Katsuyoshi Endo,Haruyuki Inoue,Technical Digest of the 5th International Conference on Near Field Optics, pp.~12-13,1998年12月
  • 完全表面の創成 --- 大阪大学・超精密加工研究拠点 ---,森 勇藏,遠藤勝義,STEPテクノ情報, Vol. 4, No. 1, pp. 6-10,1998年03月
  • 完全表面の創成 -大阪大学・超精密加工研究拠点-,森 勇藏,遠藤勝義,STEPテクノ情報 4, 1 (1998) 6-10.,1998年01月
  • SCANNING NEAR-FIELD OPTICAL MICROSCOPE WITH A MICRO-CAVITY PROBE,Hirofumi Nakagawa,Yasushi Oshikane,Toshihiko Kataoka,Katsuyoshi Endo,Haruyuki Inoue,Technical Digest of the 5th International Conference on Near Field Optics and Related Techniques, Shirahama, 179-180.,1998年01月
  • Spectroscopic Analysis of Capacitive VHF Helium Plasma at Atmospheric Pressure,Yasushi Oshikane,Katsuyoshi Endo,Toshihiko Kataoka,Haruyuki Inoue,Masato Kawashima,Kohei Tamada,Syuichi Aimoto,Proceedings of the 15th Symposium on Plasma Processing, pp. 358-361,1998年01月
  • Capacitive VHF Plasma Simulation at Atmospheric Pressure by Local Field Approximation Method,Yasushi Oshikane,Katsuyoshi Endo,Toshihiko Kataoka,Masato Kawashima,Kohei Tamada,Syuichi Aimoto,Reports of the Institute of Fluid Science, Tohoku University, pp. 147-155,1997年10月
  • 機械工学年鑑(1997年)加工学・加工機器、加工計測,遠藤勝義,日本機械学会論文集(C編), 64,624 (1998) 2796-2797,1997年01月
  • Characteristics of VHF Helium Plasma at Atmospheric Pressure,Katsuyoshi Endo,Toshihiko Kataoka,Yasushi Oshikane,Haruyuki Inoue,Takahiro Ooyama,Masato Kawashima,Proceedings of the 3rd International Conference on Reaction Plasmas and 14th Symposium on Plasma Processing, pp.363-364,1997年01月
  • A New Measurement and Ab-initio Molecular Orbital Calculation of Wettability,Hiromichi Toyota(Ehime University,Takashi Ide(Ehime University,Hidetsugu Yagi(Ehime University,Hidekazu Goto,Katsuyoshi Endo,Yuzo Mori,Transactions of the Materials Research Society of Japan, Vol.20, pp.827-830,1996年12月
  • A New Measurement and Ab-initio Molecular Orbital Calculation of Wettability,Hiromichi Toyota(Ehime University,Takashi Ide(Ehime University,Hidetsugu Yagi(Ehime University,Hidekazu Goto,Katsuyoshi Endo,Yuzo Mori,Transactions of the Materials Research Society of Japan, Vol.20, pp.827-830,1996年12月
  • Scanning Near-field Optical Microscope with a Probe Consisting of a Small Sphere,Toshihiko Kataoka,Katsuyoshi Endo,Yuzo Mori,Yasushi Oshikane,Haruyuki Inoue,Kohji Inagaki,Ayahiro Izumi,Proceedings of 1996 the Japan-China Bilateral Symposium on Advanced Manufacturing Engineering, pp.136-140,1996年10月
  • Observation of Metal Atoms Adsorbed on H-Terminated Si(001) Surfaces by STM/STS,Katsuyoshi Endo,Toshihiko Kataoka,Yuzo Mori,Kohji Inagaki,Yasushi Oshikane,Haruyuki Inoue,Kenta Arima,Yuichi Masuda,Yoshitaka Tatara,Proceedings of 1996 the Japan-China Bilateral Symposium on Advanced Manufacturing Engineering, pp.141-146,1996年10月
  • Atmospheric Pressure Plasma Chemical Vapor Deposition of Amorphous Silicon Films with High Growth Rate,Y.Mori,K.Yoshii,T.Kataoka,K.Hirose,K.Yasutake,K.Endo,Y.Domoto,H.Tarui,S.Kiyama,H.Kakiuchi,Proceeding of 1996 The Japan-China Bilateral Symposium on Advanced Manufacturing Engineering,84(1996),1996年10月
  • Characterization of Surface States by Photo-reflectance Spectra -- Comparison between Experimental Dependence on Surface Orientation and its Calculated,Kouji Inagaki,Kikuji Hirose,Kazuhisa Sugiyama,Katsuyoshi Endo,Hidekazu Goto,Toshihiko Kataoka,Yuzo Mori,Proceedings of 1996 the Japan-China Bilateral Symposium on Advanced Manufacturing Engineering, pp.197-202,1996年10月
  • Investigation of Surface States on Si(001) and Si(111) Surfaces -- Photo-reflectance Measurement and Ab-initio Calculation --,Kouji Inagaki,Kikuji Hirose,Kazuhisa Sugiyama,Katsuyoshi Endo,Hidekazu Goto,Toshihiko Kataoka,Yuzo Mori,Yuji Bessho,Transactions of the Materials Research Society of Japan, pp.875-878,1996年10月
  • Observation of Metal Atoms Adsorbed on H-Terminated Si(001) Surfaces by STM/STS,Katsuyoshi Endo,Toshihiko Kataoka,Yuzo Mori,Kohji Inagaki,Yasushi Oshikane,Haruyuki Inoue,Kenta Arima,Yuichi Masuda,Yoshitaka Tatara,Proceedings of 1996 the Japan-China Bilateral Symposium on Advanced Manufacturing Engineering, pp.141-146,1996年10月
  • Scanning Near-field Optical Microscope with a Probe Consisting of a Small Sphere,Toshihiko Kataoka,Katsuyoshi Endo,Yuzo Mori,Yasushi Oshikane,Haruyuki Inoue,Kohji Inagaki,Ayahiro Izumi,Proceedings of 1996 the Japan-China Bilateral Symposium on Advanced Manufacturing Engineering, pp.136-140,1996年10月
  • Characteristics of RF, VHF Helium Plasma at Atmospheric Pressure,Katsuyoshi Endo,Toshihiko Kataoka,Yasushi Oshikane,Haruyuki Inoue,Takahiro Ooyama,Masato Kawashima,Proceedings of 1996 the Japan-China Bilateral Symposium on Advanced Manufacturing Engineering, pp.50-59,1996年10月
  • An Experimental Evaluation and Ab-initio Atomic Orbital Calculation for Wetting Phenomenon of liquid metal,Hiromichi Toyota(Ehime University,Takashi Ide(Ehime University,Hidetsugu Yagi(Ehime University,Hidekazu Goto,Katsuyoshi Endo,Kikuji Hirose,Yuzo Mori,Proceedings of 1996 the Japan-China Bilateral Symposium on Advanced Manufacturing Engineering, pp.95-100,1996年09月
  • 次世代を担う原子・電子レベルの先端技術,森 勇藏,安武 潔,遠藤勝義,山内和人,精密工学会誌, Vol.62, No.6, pp.766-772,1996年06月
  • Observation of Metal Atoms Adsorbed on H-Terminated Si(001) Surfaces by STM/STS and Its Consideration Based on Ab-Initio Molecular Orbital Calculations,Katsuyoshi Endo,Toshihiko Kataoka,Yuzo Mori,Kohji Inagaki,Yasushi Oshikane,Haruyuki Inoue,Kenta Arima,Yuichi Masuda,Yoshitaka Tatara,Proceedings of the MRS-J, p.189,1996年05月
  • Observation of Metal Atoms Adsorbed on H-Terminated Si(001) Surfaces by STM/STS and Its Consideration Based on Ab-Initio Molecular Orbital Calculations,Katsuyoshi Endo,Toshihiko Kataoka,Yuzo Mori,Kohji Inagaki,Yasushi Oshikane,Haruyuki Inoue,Kenta Arima,Yuichi Masuda,Yoshitaka Tatara,Proceedings of the MRS-J, p.189,1996年05月
  • 微小突起型近接場光学顕微鏡,片岡俊彦,遠藤勝義,超精密,6(1996)45-53,1996年01月
  • Atmospheric Pressure Plasma Chemical Vapor Deposition of Amorphous Silicon Films with High Growth Rate,Y.Mori,K.Yoshii,T.Kataoka,K.Hirose,K.Yasutake,K.Endo,Y.Domoto,H.Tarui,S.Kiyama,K.Kakiuchi,Proceedings of 1996 the Japan-China Bilateral Symposium on Advanced Manufacturing Engineering, Hayama 84-89,1996年01月
  • The Auger Electoron Spectroscopy by using STM probe,Y.Mori,M.Sakamoto,K.Yoshii,K.Hirose,T.Kataoka,K.Endo,K.Tsutsumi,H.Okada,S.Shiota,Y.Nagasawa,Proceedings of 1996 the Japan-China Bilateral Symposium on Advanced Manufacturing Engineering, Hayama 131-135,1996年01月
  • An Experimental Evaluation and Ab-initio Atomic Orbital Calculation for Wetting Phenomenon of liquid metal,Hiromichi Toyota,Takashi Ide,Hidetsugu Yagi,Hidekazu Goto,Katsuyoshi Endo,Kikuji Hirose,Yuzo Mori,Proceedings of 1996 the Japan-China Bilateral Symposium on Advanced Manufacturing Engineering, Hayama 95-100.,1996年01月
  • Observation of Metal Atoms Adsorbed on H-Terminated Si(001) Surfaces by STM/STS Proceedings of 1996 the Japan-China Bilateral Symposium on Advanced,Katsuyoshi Endo,Toshihiko Kataoka,Yuzo Mori,Kohji Inagaki,Yasushi Oshikane,Haruyuki Inoue,Kenta Arima,Yuichi Masuda,Yoshitaka Tatara,Manufacturing Engineering, Hayama 141-146,1996年01月
  • Observation of Metal Atoms Adsorbed on H-Terminated Si(001) Surfaces by STM/STS and Its Consideration Based on Ab-Initio Molecular Orbital Calculations,Katsuyoshi Endo,Toshihiko Kataoka,Yuzo Mori,Kohji Inagaki,Yasushi Oshikane,Haruyuki Inoue,Kenta Arima,Yuichi Masuda,Yoshitaka Tatara,Transactions of the Materials Research Society of Japan, Vol.20, Chiba 867-870,1996年01月
  • 走査型近接場光学顕微鏡の開発,片岡俊彦,遠藤勝義,超精密,4(1994)18-24.,1994年01月
  • Plasm CVM (Chemical Vaporization Machining) -A Chemical Machining Method with Equal Performances to Conventional Mechanical Methods from the Sense of Removal Rates and Spatial Resolution,Y. Mori,K. Yamamura,K. Yamauchi,K. Yoshii,T. Kataoka,K. Endo,K. Inagaki,H. Kakiuchi,7th Int. Precision Engineering Seminar, Kobe 78-87,1993年01月,研究論文(その他学術会議資料等)
  • Low Temperature Growth of Polycrystalline Silicon Films by Plasm Chemical Vapor Deposition under Higher ressure than Atmospheric Pressure,H. Kawabe,Y. Mori,K. Yoshii,T. Kataoka,K.Yasutake,K. Endo,K. Yamauchi,K. Yamamura,H. Kakiuchi,7th Int. Precision Engineering Seminar, Kobe 554-565,1993年01月
  • Ultra-Smooth Surface Machining by Means of Atomistic Processes‐EEM(Elastic Emission Machining) and CVM(Chemical Vaporization Machining),Yuzo Mori,Kazuto Yamauchi,Kazuya Yamamura,Toshihiko Kataoka,Katsuyoshi Endo,Proc.14th Symposium on ULSI ultra clean technology‐Advanced Semiconductor Manufacturing System‐(1991) 123-140.,1991年10月,研究論文(その他学術会議資料等)
  • 超高真空用大電流イオンビーム表面改質装置の開発,森 勇藏,王 暉,遠藤勝義,山内和人,井出 敞,後藤英和,精密工学会誌,第57巻,第4号 (1991) pp.674-680.,Vol. 57,No. 4,p. 674-680,1991年04月,研究論文(学術雑誌)
  • A New Apparatus for Measuring Particle Sizes of the Order of Nanometer,Y. Mori,H. An,K. Endo,K. Yamauchi,T. Ide,Int. J. Japan Soc. Prec. Eng., 25, 3 (1991) 214-219.,Vol. 25,No. 3,p. 214-219,1991年01月,研究論文(学術雑誌)
  • Elastic Emission Machining - An Ultra Precision Machining Utilizing Fine Particle Surface Activities,Y. Mori,K. Yamauchi,K. Endo,Special Symposium Advanced Materials-Ⅱ, Osaka 135-146,1990年01月
  • Sub-Band-Gap Surface Photovoltage in Finely-Polished Si Surfaces,Y. Mori,K. Yamauchi,K. Endo,H. Wang,T. Ide,H. Goto,Technol. Repts. Osaka Univ., 40 (1990) 293-301,1990年01月,研究論文(学術雑誌)
  • Substrate Surface Modification by Ion Irradiation. II: Low Temperature Epitaxial Growth of Au on the KCl Substrate Modificated by Au+ Irradiation,Y. Mori,H. Wang,K. Endo,K. Yamauchi,T. Ide,H. Goto,Technol. Repts. Osaka Univ., 40 (1990) 315-321,1990年01月,研究論文(学術雑誌)
  • Substrate Surface Modification by Ion Irradiation. I : Formation of A Sn Ultra-Thin Films on the SiO2 Substrate Modified by Sn+ Irradiation,Y. Mori,H. Wang,K. Endo,K. Yamauchi,T. Ide,H. Goto,Technol. Repts. Osaka Univ., 40 (1990) 303-313,1990年01月,研究論文(学術雑誌)
  • Observation of Elastic Emission Machined Surfaces by Scanning Tunneling Microscopy,Y. Mori,K. Yamauchi,K. Endo,T. Ide,H. Wang,T. Ide,H. Goto,Technol. Repts. Osaka Univ., 40 (1990) 113-119.,1990年01月,研究論文(学術雑誌)
  • 加工と量子力学,森 勇藏,山内和人,後藤英和,遠藤勝義,日本機械学会誌,第93巻,第862号 (1990) pp.773-778.,日本機械学会,Vol. 93,No. 862,p. 773-778,1990年01月
  • Elastic Emission Machining,森 勇藏,山内和人,遠藤勝義,精密工学会誌,55,3(1989)480-484,Vol. 55,No. 3,p. 480-484,1989年01月,研究論文(学術雑誌)
  • New Machining Method for Making Precise and Very Smooth Mirror Surfaces Made from Cu and Al Alloys for Synchrotron Radiation Optics,Y. Higashi,T. Meike,J. Suzuki,Y. Mori,K. Yamauchi,K. Endo,H. Namba,Rev. Sci. Instrum., 60, 7 (1989) 2120-2123,Vol. 60,No. 7,p. 2120-2123,1989年01月,研究論文(学術雑誌)
  • Sintering Mechanism II ― Influence of Atomspheric Gas on Neck Growth,Y. Mori,H. Yagi,T. Ide,K. Yamauchi,K. Endo,H. Tsuchiya,Technol. Repts. Osaka Univ., 38 (1988) 127-134,1988年01月,研究論文(学術雑誌)
  • Sintering Mechanism I ― A New Sintering Equation,Y. Mori,H. Yagi,T. Ide,K. Yamauchi,K. Endo,H. Tsuchiya,Technol. Repts. Osaka Univ., 38 (1988) 119-126,1988年01月,研究論文(学術雑誌)
  • 光散乱法によるナノメータオーダの粒径測定法の開発,遠藤勝義,54/11,精密工学会誌,Vol. 65,No. 10,p. 1435-1439,1988年,研究論文(学術雑誌)
  • 熱化学反応を用いたSi3N4の除去加工,土屋八郎,後藤英和,森 勇藏,遠藤勝義,山内和人,宮崎 眞,西 雅文,精密工学会誌,第54巻,第1号 (1988) pp.96-100.,1988年01月,研究論文(学術雑誌)
  • CO2レーザによるSiおよびSi3N4表面酸化反応層の形成と表面層の除去機構,土屋八郎,後藤英和,森 勇藏,広瀬喜久治,遠藤勝義,山内和人,宮崎 眞,西 雅文,精密工学会誌,第53巻,第11号 (1987) pp.107-113.,1987年11月,研究論文(学術雑誌)
  • CO2 Laser-Induced Etching of Si and Si3N4,H. Tsutiya,H. Goto,M. Miyazaki,K. Hirose,Y. Mori,K. Yamauchi,K. Endo,1987年01月
  • Elastic Emission Machining as Evaluated by Atomistic Techniques,Y. Mori,K. Yamauchi,K. Endo,6th Int. Conf. Prod. Eng., Osaka (1987) 58-63,1987年01月
  • 硬ぜい材料のマイクロ切削における塑性変形型材料除去の可能性,杉田忠彰,上田完次,遠藤勝義,精密工学会誌,Vol. 52,No. 12,p. 2138-2141,1986年04月,研究論文(学術雑誌)
  • 焼結アルミナの低温融剤接合における強度とその評価,杉田忠彰,遠藤勝義,上田完次,粉体および粉末冶金,Vol. 32,No. 3,p. 95-99,1985年01月,研究論文(学術雑誌)
  • Heitler-London法によるダイヤモンドの原子間ポテンシャル,遠藤勝義,広瀬喜久治,森 勇藏,金沢大学工学部紀要,16,2(1983)169-174.,1983年01月,研究論文(学術雑誌)
  • FRETTING FATIGUE,K ENDO,H GOTO,JOURNAL OF JAPAN SOCIETY OF LUBRICATION ENGINEERS,JAPAN SOC LUBRICATION ENG KIKAI SHINKO KAIK NO 407-2,Vol. 25,No. 1,p. 3-8,1980年,研究論文(学術雑誌)

MISC

  • ポリドーパミンを用いた過酸化水素分解用Pt触媒の耐久性向上,貝原大介,青木智紀,清野智史,西野実沙,中川哲哉,遠藤勝義,山村和也,大久保雄司,森理,佐々木理衣,精密工学会関西地方定期学術講演会講演論文集,Vol. 2019,2019年
  • ポリドーパミン(PDA)製膜時間の短縮化とPt/PDA触媒のH<sub>2</sub>O<sub>2</sub>分解性能の評価,貝原大介,清野智史,西野実沙,福岡大記,中川哲哉,遠藤勝義,森理,佐々木理衣,大久保雄司,表面技術協会講演大会講演要旨集,Vol. 140th,2019年
  • 電子線照射還元法により担持したPtナノ粒子のH<sub>2</sub>O<sub>2</sub>分解触媒活性に及ぼす担体材料の影響,青木智紀,大久保雄司,清野智史,小玉欣典,中川哲哉,河本懐,遠藤勝義,森理,伊藤一作,山村和也,表面技術協会講演大会講演要旨集,Vol. 136th,2017年
  • 中性子集光用高精度Wolterミラーマンドレルの作製(第4報):石英ガラス製回転体基盤に対するプラズマジェット加工特性の評価,小林 勇輝,後藤 惟樹,遠藤 勝義,山崎 大,丸山 龍治,林田 洋寿,曽山 和彦,山村 和也,精密工学会学術講演会講演論文集,公益社団法人 精密工学会,Vol. 2017,No. 0,p. 973-974,2017年
  • 中性子集光用高精度Wolterミラーマンドレルの作製(第5報):PCVM加工における加工変質層が及ぼす加工特性への影響の評価,小林 勇輝,荒川 翔平,遠藤 勝義,山崎 大,丸山 龍治,林田 洋寿,曽山 和彦,山村 和也,精密工学会学術講演会講演論文集,公益社団法人 精密工学会,Vol. 2017,No. 0,p. 865-866,2017年
  • 中性子集光用高精度Wolterミラーマンドレルの作製(第2報):マイクロ波プラズマジェット加工における加工速度のCF4/O2組成依存性,小林 勇輝,後藤 惟樹,遠藤 勝義,山崎 大,丸山 龍治,林田 洋寿,曽山 和彦,山村 和也,精密工学会学術講演会講演論文集,公益社団法人 精密工学会,Vol. 2016,No. 0,p. 277-278,2016年
  • 中性子集光用高精度Wolterミラーマンドレルの作製(第3報):石英ガラス基板のプラズマジェット加工における加工速度の基板温度依存性,後藤 惟樹,小林 勇輝,遠藤 勝義,山崎 大,丸山 龍治,林田 洋寿,曽山 和彦,山村 和也,精密工学会学術講演会講演論文集,公益社団法人 精密工学会,Vol. 2016,No. 0,p. 279-280,2016年
  • 中性子集束用高精度Wolterミラーマンドレルの作製:集束性能に影響を及ぼす形状誤差の光線追跡シミュレーションによる評価,後藤 惟樹,小林 勇輝,遠藤 勝義,山崎 大,丸山 龍治,林田 洋寿,曽山 和彦,山村 和也,精密工学会学術講演会講演論文集,公益社団法人 精密工学会,Vol. 2016,No. 0,p. 915-916,2016年
  • Atomic-scale planarization of 4H-SiC (0001) by combination of thermal oxidation and abrasive polishing (vol 103, 111603, 2013),Hui Deng,Katsuyoshi Endo,Kazuya Yamamura,APPLIED PHYSICS LETTERS,AMER INST PHYSICS,Vol. 103,No. 18,2013年10月
  • 超平坦化加工を施した4H-SiC(0001)表面 : 高品質グラフェン作製への応用,服部 梓,岡本 武志,定國 峻,村田 順二,有馬 健太,佐野 泰久,遠藤 勝義,山内 和人,表面科学 : hyomen kagaku = Journal of the Surface Science Society of Japan,The Surface Science Society of Japan,Vol. 31,No. 9,p. 466-473,2010年09月10日
  • 22pGQ-6 超平坦化加工した4H-SiC(0001)表面上のグラフェン(22pGQ 表面界面構造,領域9(表面・界面,結晶成長)),服部 梓,岡本 武志,定国 峻,村田 順二,有馬 健太,佐野 泰久,遠藤 勝義,山内 和人,日本物理学会講演概要集,The Physical Society of Japan (JPS),Vol. 65,No. 1,2010年03月01日
  • Etching of GaN by plasma chemical vaporization machining,Yasuji Nakahama,Norio Kanetsuki,Takeshi Funaki,Masaru Kadono,Yasuhisa Sano,Kazuya Yamamura,Katsuyoshi Endo,Yuzo Mori,2009年03月
  • Etching of GaN by plasma chemical vaporization machining,2009年
  • Etching characteristics of GaN by plasma chemical vaporization machining,Yasuji Nakahama,Norio Kanetsuki,Takeshi Funaki,Masaru Kadono,Yasuhisa Sano,Kazuya Yamamura,Katsuyoshi Endo,Yuzo Mori,Surface and Interface Analysis,JOHN WILEY & SONS LTD,Vol. 40,No. 12,p. 1566-1570,2008年12月
  • Etching characteristics of GaN by plasma chemical vaporization machining,Yasuji Nakahama,Norio Kanetsuki,Takeshi Funaki,Masaru Kadono,Yasuhisa Sano,Kazuya Yamamura,Katsuyoshi Endo,Surf. Interface Anal.,Vol. 40,No. 12,p. 1566-1570,2008年12月
  • 光医療用ナノ粒子造影剤の開発~銀ナノキューブダイマーの合成とプラズモニック特性~,内田修平,三谷宗久,山村和也,遠藤勝義,是津信行,市村垂生,田口敦清,河田聡,応用物理学会学術講演会講演予稿集,Vol. 69th,No. 3,2008年09月02日
  • International 21st century COE symposium on atomistic fabrication technology 2007,Katsuyoshi Endo,Surface and Interface Analysis,JOHN WILEY & SONS LTD,Vol. 40,No. 6-7,p. 969-969,2008年06月
  • Facile Fabrication and Near-Infrared Localized Surface Plasmon Resonance Properties of Two-dimensional PS@Au Core/Shell Nanoparticle Arrays, and Their Use as a Ultra-sensitive Bio-sensors,Shuhei Uchida,Kazuya Yamamura,Katsuyoshi Endo,Nobuyuki Zettsu,MRS 2007 Fall Meeting,2007年11月
  • Sensing Characterization of NIR-Localized Surface Plasmon Resonances in PS@Au core-shell nanoparticle array for Application as Ultra-sensitive Sensors,Shuhei Uchida,Kazuya Yamamura,Katsuyoshi Endo,Nobuyuki Zettsu,International 21st Century COE Symposium on Atomistic Fabrication Technology 2007,Vol. International 21st Century COE Symposium on Atomistic Fabrication Technology 2007, pp. 36.,2007年10月
  • Machining of GaN by Plasma CVM (Chemical Vaporization Machining),Y. Nakahama,N. Kanetsuki,T. Funaki,M. Kadono,Y. Sano,K. Yamamura,K. Endo,Y. Mori,International 21st Century COE Symposium on Atomistic Fabrication Technology 2007,Vol. International 21st Century COE Symposium on Atomistic Fabrication Technology 2007, pp 18.,2007年10月
  • Fabrication of X‐ray Mirror for Hard X‐ray Diffraction Limited Nanofocusing,YUMOTO Hirokatsu,MIMURA Hidekazu,MATSUYAMA Satoshi,HANDA Soichiro,SHIBATANI Akihiko,KATAGISHI Keiko,YAMAMURA Kazuya,SANO Yasuhisa,ENDO Katsuyoshi,MORI Yuzo,YABASHI Makina,NISHINO Yoshinori,TAMASAKU Kenji,ISHIKAWA Tetsuya,YAMAUCHI Kazuto,AIP Conference Proceedings,Vol. 879,No. Pt.1,p. 967-970,2007年
  • Development of a Scanning X‐ray Fluorescence Microscope Using Size‐Controllable Focused X‐ray Beam from 50 to 1500nm,MATSUYAMA Satoshi,MIMURA Hidekazu,YUMOTO Hirokatsu,KATAGISHI Keiko,HANDA Soichiro,SHIBATANI Akihiko,SANO Yasuhisa,YAMAMURA Kazuya,ENDO Katsuyoshi,MORI Yuzo,NISHINO Yoshinori,TAMASAKU Kenji,YABASHI Makina,ISHIKAWA Tetsuya,YAMAUCHI Kazuto,AIP Conference Proceedings,Vol. 879,No. Pt.2,p. 1325-1328,2007年
  • Sensing Characterization of NIR-Localized Surface Plasmon Resonances in PS@Au core-shell nanoparticle array for Application as Ultra-sensitive Sensors,International 21st Century COE Symposium on Atomistic Fabrication Technology 2007,Vol. International 21st Century COE Symposium on Atomistic Fabrication Technology 2007, pp. 36.,2007年
  • Machining of GaN by Plasma CVM (Chemical Vaporization Machining),International 21st Century COE Symposium on Atomistic Fabrication Technology 2007,Vol. International 21st Century COE Symposium on Atomistic Fabrication Technology 2007, pp 18.,2007年
  • Facile Fabrication and Near-Infrared Localized Surface Plasmon Resonance Properties of Two-dimensional PS@Au Core/Shell Nanoparticle Arrays, and Their Use as a Ultra-sensitive Bio-sensors,MRS 2007 Fall Meeting,2007年
  • High spatial resolution machining utilizing atmospheric pressure plasma machining,Kazuya Yamamura,Kunihito Kato,Yasuhisa Sano,Masafumi Shibahara,Katsuyoshi Endo,Yuzo Mori,Proceedings of 8th International Conference on Progress of Machining Technology,Vol. pp. 257-260,2006年11月
  • Development of ultraprecision numerically controlled finishing machine utilizing atmospheric pressure plasma,Kazuya Yamamura,Akihiro Fujiwara,Koji Ueno,Yasuhisa Sano,Masafumi Shibahara,Katsuyoshi Endo,Yuzo Mori,Proceedings of 8th International Conference on Progress of Machining Technology,Vol. pp. 253-256,2006年11月
  • Machining characteristics of ultraprecision atmospheric pressure plasma process,Kazuya Yamamura,Koji Ueno,Akihiro Fujiwara,Yasuhisa Sano,Yasusi Oshikane,Masafumi Shibahara,Katsuyoshi Endo,Yuzo Mori,Proceedings of 8th International Conference on Progress of Machining Technology,Vol. pp. 265-268,2006年11月
  • Surface Gradient Integrated Profiler for X-ray and EUV Optics,Y. Higashi,Y. Takaie,K. Endo,Y. Mori,K. Yamauchi,T. Kume,K. Enami,K. Yamamura,Y. Sano,K. Ueno,Proceedings of International 21st Century COE Symposium on Atomistic Fabrication Technology,Vol. 8,No. 3,p. 177-180,2006年10月
  • High-spatial-resolution machining utilizing atmospheric pressure plasma: Machining characteristics of silicon,Kazuya Yamamura,Kunihito Kato,Yasuhisa Sano,Masafumi Shibahara,Katsuyoshi Endo,Yuzo Mori,JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS BRIEF COMMUNICATIONS & REVIEW PAPERS,INST PURE APPLIED PHYSICS,Vol. 45,No. 10B,p. 8281-8285,2006年10月
  • High Spatial Resolution Machining Utilizing Atmospheric Pressure Plasma -Machining Characteristics of Silicon-,Kazuya Yamamura,Kunihito Kato,Yasuhisa Sano,Masafumi Shibahara,Katsuyoshi Endo,Yuzo Mori,Jpn. J. Appl. Phys. 45 No.10B,Vol. Vol. 45 8281-8285,p. 257-260,2006年10月
  • Ultraprecision machining utilizing numerically controlled scanning of localized atmospheric pressure plasma,Kazuya Yamamura,Yasuhisa Sano,Masafumi Shibahara,Kazuto Yamauchi,Hidekazu Mimura,Katsuyoshi Endo,Yuzo Mori,JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS BRIEF COMMUNICATIONS & REVIEW PAPERS,INST PURE APPLIED PHYSICS,Vol. 45,No. 10B,p. 8270-8276,2006年10月
  • Ultraprecision machining utilizing numerically controlled scanning of localized atmospheric pressure plasma,Kazuya Yamamura,Yasuhisa Sano,Masafumi Shibahara,Kazuto Yamauchi,Hidekazu Mimura,Katsuyoshi Endo,Yuzo Mori,JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS BRIEF COMMUNICATIONS & REVIEW PAPERS,INST PURE APPLIED PHYSICS,Vol. 45,No. 10B,p. 8270-8276,2006年10月
  • High-spatial-resolution machining utilizing atmospheric pressure plasma: Machining characteristics of silicon,Kazuya Yamamura,Kunihito Kato,Yasuhisa Sano,Masafumi Shibahara,Katsuyoshi Endo,Yuzo Mori,JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS BRIEF COMMUNICATIONS & REVIEW PAPERS,INST PURE APPLIED PHYSICS,Vol. 45,No. 10B,p. 8281-8285,2006年10月
  • Development of ultraprecision finishing method for quartz crystal wafer utilizing atmospheric pressure plasma,Masafumi Shibahara,Yusuke Yamamoto,Kazuya Yamamura,Yasuhisa Sano,Katsuyoshi Endo,Yuzo Mori,Towards Synthesis of Micro-/Nano-systems,,Vol. pp. 233-237,2006年08月
  • Ultraprecision finishing of photomask substrate by utilizing atmospheric pressure plasma,Kazuya Yamamura,Akihiro Fujiwara,Koji Ueno,Yasuhisa Sano,Masafumi Shibahara,Katsuyoshi Endo,Yuzo Mori,Towards Synthesis of Micro-/Nano-systems,Vol. pp. 227-231,2006年08月
  • Rotational and vibrational temperature of Fulcher-alpha band emitted by hydrogen molecules in capacitive VHF CVD plasma process at atmosphere,Yasushi Oshikane,Hiroaki Kakiuchi,Kazuya Yamamura,Kiyoshi Yasutake,Takafumi Karasawa,Colin M. Western,Akinori Oda,Katsuyoshi Endo,Abstractbook of the 8th Asia-Pacific Conference on Plasma Science and Technology,Vol. p.269,2006年07月
  • 数値制御プラズマCVMによる水晶ウエハの高精度加工に関する研究 -回転電極とパイプ電極を併用した数値制御加工による水晶ウエハ厚さの均一化-,柴原正文,山村和也,佐野泰久,杉山 剛,山本雄介,遠藤勝義,森 勇藏,精密工学会誌, Vol. 72, No. 7,Vol. Vol. 72, No.7, 934-938,2006年07月
  • First-principles study of the tunnel current between a scanning tunneling microscopy tip and a hydrogen-adsorbed Si(001) surface,Tomoya Ono,Shinya Horie,Katsuyoshi Endo,Kikuji Hirose,Physical Review B,Vol. 73,No. 24,2006年06月
  • 走査型蛍光X線顕微鏡を用いた細胞内元素分布の測定,片岸恵子,松山智至,三村秀和,湯本博勝,山村和也,佐野泰久,遠藤勝義,森勇蔵,西野吉則,玉作賢治,矢橋牧名,石川哲也,山内和人,応用物理学関係連合講演会講演予稿集,Vol. 53rd,No. 2,2006年03月22日
  • 超高精度X線ミラーの作製とコヒーレントX線による評価,三村 秀和,湯本 博勝,松山 智至,山村 和也,佐野 泰久,遠藤 勝義,森 勇藏,玉作 賢治,矢橋 牧名,西野 吉則,精密工学会学術講演会講演論文集,公益社団法人 精密工学会,Vol. 2006,No. 0,p. 233-234,2006年03月01日
  • 新規な研磨加工を行った4H–SiC(0001)表面の原子構造解析,石田 剛志,有馬 健太,原 英之,山村 和也,山内 和人,遠藤 勝義,精密工学会学術講演会講演論文集,The Japan Society for Precision Engineering,Vol. 2006,No. 0,p. 1115-1116,2006年
  • 湿式プロセスにより得られた超平坦4H-SiC(0001)実用表面の原子構造解析,岡本 亮太,有馬 健太,佐野 泰久,原 英之,石田 剛志,八木 圭太,山内 和人,遠藤 勝義,精密工学会学術講演会講演論文集,The Japan Society for Precision Engineering,Vol. 2006,No. 0,p. 539-540,2006年
  • Ultra precision machining utilizing numerically controlled scanning of localized atmospheric pressure plasma,K. Yamamura,Y. Sano,M. Shibahara,K. Yamauchi,H. Mimura,K. Endo,Y. Mori,Proceedings of ICRP6/SPP23,Vol. 81-82,2006年01月
  • First-principles study of the tunnel current between a scanning tunneling microscopy tip and a hydrogen-adsorbed Si(001) surface,Tomoya Ono,Shinya Horie,Katsuyoshi Endo,Kikuji Hirose,Physical Review B - Condensed Matter and Materials Physics,AMERICAN PHYSICAL SOC,Vol. 73,No. 24,2006年
  • 数値制御プラズマCVMによる水晶ウエハの高精度加工に関する研究 -回転電極とパイプ電極を併用した数値制御加工による水晶ウエハ厚さの均一化-,精密工学会誌, Vol. 72, No. 7,Vol. Vol. 72, No.7, 934-938,2006年
  • Fabrication of ultraprecisely figured mirror for nano focusing hard-x-ray,Towards Synthesis of Micro-/Nano-systems,Vol. pp. 295-300,2006年
  • Surface gradient integrated profiler for X-ray and EUV optics - 3D mapping of 1m-long flat mirror and off-axis parabolic mirror,Y. Higashi,Y. Takaie,K. Endo,T. Kume,K. Enami,K. Yamauchi,K. Yamamura,H. Sano,J. Uchikoshi,K. Ueno,Y. Mori,Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering,Vol. 6317,2006年
  • Development of ultraprecison numerically controlled finishing machine utilizing atmospheric pressure plasma,Kazuya Yamamura,Akihiro Fujiwara,Koji Ueno,Yasuhisa Sano,Masafumi Shibahara,Katsuyoshi Endo,Yuzo Mori,Progress of Machining Technology, Proceedings,JAPAN SOC PRECISION ENGINEERING-JSPE,Vol. pp. 253-256,p. 253-256,2006年
  • Machining characteristics of ultraprecision atmospheric pressure plasma process,Kazuya Yamamura,Koji Ueno,Akihiro Fujiwara,Yasuhisa Sano,Yasusi Osikane,Masafumi Shibahara,Katsuyoshi Endo,Yuzo Mori,Progress of Machining Technology, Proceedings,JAPAN SOC PRECISION ENGINEERING-JSPE,Vol. pp. 265-268,p. 265-268,2006年
  • Ultra precision machining utilizing numerically controlled scanning of localized atmospheric pressure plasma,Proceedings of ICRP6/SPP23,Vol. 81-82,2006年
  • High spatial resolution machining utilizing atmospheric pressure plasma - machining characteristics of silicon -,K. Kato,K. Yamamura,Y. Sano,M. Shibahara,K. Endo,Y. Mori,Proceedings of ICRP6/SPP23,Vol. 363-364,2006年01月
  • Rotational and vibrational temperature of Fulcher-alpha band emitted by hydrogen molecules in capacitive VHF CVD plasma process at atmosphere,Abstractbook of the 8th Asia-Pacific Conference on Plasma Science and Technology,Vol. p.269,2006年
  • Development of ultraprecision finishing method for quartz crystal wafer utilizing atmospheric pressure plasma,Towards Synthesis of Micro-/Nano-systems,,Vol. pp. 233-237,2006年
  • Ultraprecision finishing of photomask substrate by utilizing atmospheric pressure plasma,Towards Synthesis of Micro-/Nano-systems,Vol. pp. 227-231,2006年
  • Surface gradient integrated profiler for X-ray and EUV optics - 3D mapping of 1m-long flat mirror and off-axis parabolic mirror,Y. Higashi,Y. Takaie,K. Endo,T. Kume,K. Enami,K. Yamauchi,K. Yamamura,H. Sano,J. Uchikoshi,K. Ueno,Y. Mori,Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering,Vol. 6317,2006年
  • High spatial resolution machining utilizing atmospheric pressure plasma machining,Proceedings of 8th International Conference on Progress of Machining Technology,Vol. pp. 257-260,2006年
  • A new designed ultra-high precision profiler,Y. Higashi,Y. Takaie,K. Endo,T. Kume,K. Enami,K. Yamauchi,K. Yamamura,Y. Sano,K. Ueno,Y. Mori,Proccedings of SPIE 5921,Vol. Vol. 5921, 592107,2005年10月
  • Improvement of Thickness Distribution of Quartz Crystal Wafer by Numerically Controlled Plasma Chemical Vaporization Machining,Masafumi Shibahara,Kazuya Yamamura,Yasuhisa Sano,Tsuyoshi Sugiyama,Katsuyoshi Endo,Yuzo Mori,Review of Scientific Instruments, Vol.76, 096103,Vol. 76,No. 9,2005年09月
  • First-principles study on scanning tunneling microscopy images of different hydrogen-terminated Si(110) surfaces,S Horie,K Arima,K Hirose,J Katoh,T Ono,K Endo,PHYSICAL REVIEW B,AMER PHYSICAL SOC,Vol. 72,No. 11,2005年09月
  • First-principles study on scanning tunneling microscopy images of different hydrogen-terminated Si(110) surfaces,Shinya Horie,Kenta Arima,Kikuji Hirose,Jun Katoh,Tomoya Ono,Katsuyoshi Endo,Physical Review B,Vol. 72,No. 11,2005年09月
  • 硬X線ナノ集光用超高精度楕円ミラーの作製と1次元集光性能の評価,湯本博勝,三村秀和,松山智至,原 英之,山村和也,佐野泰久,上野一匡,遠藤勝義,森 勇藏,西野吉則,玉作賢治,矢橋牧名,石川哲也,山内和人,精密工学会誌,Vol. 71,No. 9,p. 1137-1140,2005年09月
  • First-principles study on scanning tunneling microscopy images of different hydrogen-terminated Si(110) surfaces,S Horie,K Arima,K Hirose,J Katoh,T Ono,K Endo,PHYSICAL REVIEW B,AMER PHYSICAL SOC,Vol. 72,No. 11,2005年09月
  • Fabrication of elliptically figured mirror for focusing hard X-rays to size less than 50 nm,H. Yumoto,H. Mimura,S. Matsuyama,K. Yamamura,Y. Sano,K. Ueno,K. Endo,Y. Mori,Y. Nishino,M. Yabashi,K. Tamasaku,T. Ishikawa,K. Yamauchi,Review of Scientific Instruments, 76, 063708 (2005).,Vol. 76,No. 6,2005年07月
  • Current Image of H-adsorbed Si(001) by First-Principles Electron-Transport Calculation,Tomoya Ono,Shinya Horie,Katsuyoshi Endo,Kikuji Hirose,13th International Conference on Scanning Tunneling Microscopy/Spectroscopy and Related Techniques (STM'05) in conjunction with 13th International Colloquium on Scanning Probe Microscopy (ICSPM13),Vol. 52-52,2005年07月
  • First-Principles Study on Scanning Tunneling Microscopy Images of Hydrogen-Terminated Si(110) Surfaces,Shinya Horie,Kenta Arima,Kikuji Hirose,Jun Katoh,Tomoya Ono,Katsuyoshi Endo,13th International Conference on Scanning Tunneling Microscopy/Spectroscopy and Related Techniques (STM'05) in conjunction with 13th International Colloquium on Scanning Probe Microscopy (ICSPM13),Vol. 421-421,2005年07月
  • Hard X-ray Focusing less than 50nm for Nanoscopy/spectroscopy,K. Yamauchi,H. Mimura,S. Matsuyama,H. Yumoto,S. Handa,K. Yamamura,Y. Sano,K. Endo,Y. Mori,Y. Nishino,K. Tamasaku,M. Yabashi,T. Ishikawa,AIP Conference Proceedings,Vol. 879,No. Pt.1,p. 786-791,2005年05月
  • 「物づくり」の卓越した教育・研究拠点,遠藤 勝義,瀧野 日出雄,精密工学会誌 = Journal of the Japan Society of Precision Engineering,精密工学会,Vol. 71,No. 3,p. 291-294,2005年03月05日
  • 第一原理計算によるH 原子吸着Si(001)表面のSTM 像の解析,堀江伸哉,小野倫也,広瀬喜久治,遠藤勝義,表面科学,Vol. 26,No. 2,p. 102-106,2005年02月
  • Fabrication of ultraprecisely figured and ultrasmooth elliptical mirrors for hard X-ray nanofocusing,K. Yamuchi,H. Mimura,K. Yamamura,Y. Sano,K. Ueno,S. Matsuyama,K. Endo,Y. Nishino,K. Tamasaku,M. Yabashi,T. Ishikawa,Vol. pp. 295-300,2005年02月
  • STMによるEEM(Elastic Emission Machining)の加工機構の解明,加藤 潤,久保田 章亀,有馬 健太,山村 和也,森 勇藏,山内 和人,遠藤 勝義,精密工学会学術講演会講演論文集,The Japan Society for Precision Engineering,Vol. 2005,No. 0,p. 779-780,2005年
  • 超純水・高速せん断流による洗浄法の開発:Si基板表面のDOP汚染の洗浄,森田 健一,澤井 康二,後藤 英和,山内 和人,遠藤 勝義,森 勇藏,精密工学会学術講演会講演論文集,The Japan Society for Precision Engineering,Vol. 2005,No. 0,p. 549-550,2005年
  • 超純水・高速せん断流による洗浄法の開発:Si基板表面のCu汚染の洗浄効果,増谷 宗彦,森田 健一,森 勇藏,遠藤 勝義,山内 和人,後藤 英和,精密工学会学術講演会講演論文集,The Japan Society for Precision Engineering,Vol. 2005,No. 0,p. 547-548,2005年
  • 水分解触媒電極を用いた超純水電気化学加工法の研究,村田 順二,一井 愛雄,森 勇藏,広瀬 喜久治,遠藤 勝義,山内 和人,後藤 英和,精密工学会学術講演会講演論文集,The Japan Society for Precision Engineering,Vol. 2005,No. 0,p. 543-544,2005年
  • プラズマCVMによるSiCの加工特性,渡辺 容代,佐野 泰久,山村 和也,山内 和人,石田 剛志,有馬 健太,遠藤 勝義,森 勇藏,精密工学会学術講演会講演論文集,The Japan Society for Precision Engineering,Vol. 2005,No. 0,p. 529-530,2005年
  • 硬X線ナノ集光ミラーの形状計測:高精度スティッチング法の開発,湯本 博勝,三村 秀和,松山 智至,山村 和也,佐野 泰久,遠藤 勝義,森 勇藏,石川 哲也,山内 和人,精密工学会学術講演会講演論文集,The Japan Society for Precision Engineering,Vol. 2005,No. 0,p. 453-454,2005年
  • 第一原理計算によるH 原子吸着Si(001)表面のSTM 像の解析,表面科学,2005年
  • 硬X線ナノ集光用超高精度楕円ミラーの作製と1次元集光性能の評価,精密工学会誌,Vol. 精密工学会誌 Vol. 71 No. 9 pp.1137-1140,2005年
  • A new designed ultra-high precision profiler,Y. Higashi,Y. Takaie,K. Endo,T. Kume,K. Enami,K. Yamauchi,K. Yamamura,H. Sano,K. Ueno,Y. Mori,Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering,Vol. 5921,p. 1-9,2005年
  • Current Image of H-adsorbed Si(001) by First-Principles Electron-Transport Calculation,13th International Conference on Scanning Tunneling Microscopy/Spectroscopy and Related Techniques (STM'05) in conjunction with 13th International Colloquium on Scanning Probe Microscopy (ICSPM13),Vol. 52-52,2005年
  • Atomic-scale analysis of hydrogen-terminated Si(110) surfaces after wet cleaning,Kenta Arima,Jun Katoh,Katsuyoshi Endo,Applied Physics Letters,American Institute of Physics,Vol. 85,No. 25,p. 6254-6256,2004年12月
  • Atomic-scale analysis of hydrogen-terminated Si(110) surfaces after wet cleaning,K Arima,J Katoh,K Endo,APPLIED PHYSICS LETTERS,AMER INST PHYSICS,Vol. 85,No. 25,p. 6254-6256,2004年12月
  • Analysis of Scanning Tunneling Microscopy Image of H-Adsorbed Si(001) by First-Principles Electron-Transport Calculation,T. Ono,S. Horie,K. Endo,K. Hirose,The 7th Asian Workshop on First-Principles Electronic Structure Calculations,2004年11月
  • First-Principles Molecular-Dynamics Simulations of Dissociation Process of Water Molecule by Catalytic Reaction of Ion-Exchange Group,K. Yagi,Y. Ichii,T. Ono,H. Goto,K. Inagaki,K. Yamauchi,K. Endo,Y. Mori,K. Hirose,The 7th Asian Workshop on First-Principles Electronic Structure Calculations, Program & Abstracts, 140-140,Vol. 140-140,2004年11月
  • First-Principles Molecular-Dynamics Simulations of Electrochemical Etching Process on Al(001) Cathode Surface,Y. Ichii,K. Yagi,T. Ono,H. Goto,K. Inagaki,K. Yamauchi,K. Endo,Y. Mori,K. Hirose,The 7th Asian Workshop on First-Principles Electronic Structure Calculations, Program & Abstracts, 84-84,Vol. 84-84,2004年11月
  • Scanning tunneling microscopy/spectroscopy observation of intrinsic hydrogenated amorphous silicon surface under light irradiation,Kenta Arima,Hiroaki Kakiuchi,Manabu Ikeda,Katsuyoshi Endo,Mizuho Morita,Yuzo Mori,Surface Science,Elsevier,Vol. vol. 572, no. 2-3 pp. 449-458,2004年11月
  • Creation of perfect surfaces,Yuzo Mori,Kazuya Yamamura,Katsuyoshi Endo,Kazuto Yamauchi,Kiyoshi Yasutake,Hidekazu Goto,Hiroaki Kakiuchi,Yasuhisa Sano,Hidekazu Mimura,The 14th international conference on crystal growth,Vol. pp.211,2004年08月
  • Image quality improvement in hard X-ray projection microscope using total reflection mirror optics,H. Mimura,K. Yamauchi,K. Yamamura,A. Kubota,S. Matsuyama,Y. Sano,K. Ueno,K. Endo,Y. Nishino,K. Tamasaku,M. Yabashi,T. Ishikawa,Y. Mori,Journal of Synchrotoron Radiation, 11, pp. 343-346.,Vol. 11,p. 343-346,2004年07月
  • Image quality improvement in a hard X-ray projection microscope using total reflection mirror optics,Hidekazu Mimura,Kazuto Yamauchi,Kazuya Yamamura,Akihisa Kubota,Satoshi Matsuyama,Yasuhisa Sano,Kazumasa Ueno,Katsuyoshi Endo,Yoshinori Nishino,Kenji Tamasaku,Makina Yabashi,Tetsuya Ishikawa,Yuzo Mori,Journal of Synchrotron Radiation,Vol. 11,No. 4,p. 343-346,2004年07月01日
  • 超純水のみによる電気化学的加工法の研究,後藤英和,広瀬喜久治,遠藤勝義,森 勇蔵,大阪大学低温センターだより,125,23-30 (2004).,Vol. 125,No. 9,p. 23-30,2004年05月
  • ナノパーティクル測定機によるシリコンウエハ面のマイクロラフネス測定法,佐々木 都至,安 弘,遠藤勝義,森 勇蔵,精密工学会誌,精密工学会,Vol. 70,No. 5,p. 700-704,2004年05月
  • EEM(Elastic Emission Machining)によるSi(001)表面の平坦化(第2報)-加工表面の原子像観察と構造評価ー,山内和人,三村秀和,久保田章亀,有馬健太,稲垣耕司,遠藤勝義,森勇藏,精密工学会誌論文集, 70, 547-551, (2004).,Vol. 70, 547-551,,2004年04月
  • Visible light irradiation effects on STM observations of hydrogenated amorphous silicon surfaces,K Arima,H Kakiuchi,M Ikeda,K Endo,M Morita,Y Mori,JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS,INST PURE APPLIED PHYSICS,Vol. 43,No. 4B,p. 1891-1895,2004年04月
  • Visible Light Irradiation Effects on STM Observations of Hydrogenated Amorphous Silicon Surfaces,Kenta ARIMA,Hiroaki KAKIUCHI,Manabu IKEDA,Katsuyoshi ENDO,Mizuho MORITA,Yuzo MORI,Japanese Journal of Applied Physics,The Japan Society of Applied Physics,Vol. 43,No. 4B,p. 1891-1895,2004年04月
  • STMによるSi(011),(111)ウエハ超精密加工表面の原子構造解析,加藤 潤,久保田 章亀,有馬 健太,山村 和也,山内 和人,遠藤 勝義,森 勇藏,精密工学会学術講演会講演論文集,The Japan Society for Precision Engineering,Vol. 2004,No. 0,p. 384-384,2004年
  • 干渉計を用いた楕円体ミラーの形状計測:高精度スティッチング法の開発,湯本 博勝,山内 和人,三村 秀和,松山 智至,山村 和也,佐野 泰久,遠藤 勝義,石川 哲也,森 勇藏,精密工学会学術講演会講演論文集,The Japan Society for Precision Engineering,Vol. 2004,No. 0,p. 116-116,2004年
  • 強電界下における表面反応の第一原理分子動力学シミュレーション,小野倫也,広瀬喜久治,遠藤勝義,森勇藏,大阪大学低温センターだより, 125, 31-34,Vol. 125, 31-34,2004年01月
  • 数値制御プラズマCVMによる次世代超薄膜SOIウエハの製作,佐野泰久,山村和也,遠藤勝義,森 勇藏,大阪大学低温センターだより,125,11-15,Vol. 125,11-15,2004年01月
  • 大気圧プラズマCVD法による機能薄膜の超高速成形成技術の開発,垣内弘章,大参宏昌,安武 潔,芳井熊安,遠藤勝義,森 勇藏,大阪大学低温センターだより,125,16-22,Vol. 125,16-22,2004年01月
  • ナノパーティクル測定機によるシリコンウエハ面のマイクロラフネス測定法,精密工学会誌,2004年
  • Creation of perfect surfaces,Abstracts the 14th international conference on crystal growth, pp.211,Vol. pp.211,2004年
  • First-Principles Molecular-Dynamics Simulations of Dissociation Process of Water Molecule by Catalytic Reaction of Ion-Exchange Group,The 7th Asian Workshop on First-Principles Electronic Structure Calculations, Program & Abstracts, 140-140,Vol. 140-140,2004年
  • First-Principles Molecular-Dynamics Simulations of Electrochemical Etching Process on Al(001) Cathode Surface,The 7th Asian Workshop on First-Principles Electronic Structure Calculations, Program & Abstracts, 84-84,Vol. 84-84,2004年
  • Analysis of Scanning Tunneling Microscopy Image of H-Adsorbed Si(001) by First-Principles Electron-Transport Calculation,The 7th Asian Workshop on First-Principles Electronic Structure Calculations,2004年
  • Two-dimensional Submicron Focusing of Hard X-rays by Two Elliptical Mirrors Fabricated by Plasma Chemical Vaporization Machining and Elastic Emission Machining,Kazuto Yamauchi,Kazuya Yamamura,Hidekazu Mimura,Yasuhisa Sano,Akira Saito,Katsuyoshi Endo,Alexei Souvorov,Makina Yabashi,Kenji Tamasaku,Tetsuya Ishikawa,Yuzo Mori,Jpn. J. Appl. Phys., Vol.42, No.11, pp.7129-7134,Vol. 42,No. 11,p. 7129-7134,2003年11月
  • Scanning tunneling microscopy observations of intrinsic hydrogenated amorphous silicon surface under visible light irradiation,Kenta Arima,Hiroaki Kakiuchi,Manabu Ikeda,Katsuyoshi Endo,Mizuho Morita,Yuzo Mori,Program and Abstracts of the 7th Int. Conf. on Atomically Controlled Surfaces, Interfaces and Nanostructures, pp. 256-256,Vol. 572,No. 2-3,p. 449-458,2003年11月
  • Fabrication of elliptical mirror at nanometer-level accuracy for hard x-ray focusing by numerically controlled plasma chemical vaporization machining.,K. Yamamura,K. Yamauchi,H. Mimura,Y. Sano,A. Saito,K. Endo,A. Souvorov,M. Yabashi,K. Tamasaku,T. Ishikawa,Y. Mori,Review of Sceintific Instruments, 74, (10), pp.4549-4553,Vol. 74,No. 10,p. 4549-4553,2003年10月
  • Theoretical Study on the Scanning Tunneling Microscopy Image of Cl-Adsorbed Si(001),Y. Fujimoto,H. Okada,K. Inagaki,H. Goto,K. Endo,K. Hirose,Jpn. J. Appl. Phys., 42, part 1, 8, 5267-5268,Vol. 42,No. 8,p. 5267-5268,2003年08月
  • Atomic Structure of Si(001)-c(4 x 4) Formed by Heating Processes after Wet Cleaning and its First-Principles Study,Katsuyoshi Endo,Tomoya Ono,Kenta Arima,Yuji Uesugi,Kikuji Hirose,Yuzo Mori,Japanese Journal of Applied Physics,The Japan Society of Applied Physics,Vol. 42,No. 7B,p. 4646-4649,2003年07月
  • 光ファイバからの点光源回折球面波を計測の絶対基準とした位相シフト光干渉計の開発,押鐘 寧,片岡俊彦,遠藤勝義,野口彰宏,井上晴行,中野元博,精密工学会誌,Vol. 69,No. 5,p. 678-682,2003年05月
  • Microstitching interferometry for x-ray reflective optics,K. Yamauchi,K. Yamamura,H. Mimura,Y. Sano,A. Saito,K. Ueno,K. Endo,A. Souvorov,M. Yabashi,K. Tamasaku,T. Ishikawa,Y. Mori,Review of Scientific Instruments 74 (2003) 2894-2898.,Vol. 74,No. 5,p. 2894-2898,2003年05月
  • EEM(Elastic Emission Machining)による表面広空間波長帯域の形状/粗さ修正,森 勇藏,山内 和人,三村 秀和,久保田 章亀,稲垣 耕司,有馬 健太,遠藤 勝義,精密工学会学術講演会講演論文集,The Japan Society for Precision Engineering,Vol. 2003,No. 0,p. 411-411,2003年
  • プラズマCVMおよびEEMによる超高精度X線ミラーの作製とその応用,森 勇藏,山内 和人,山村 和也,三村 秀和,佐野 泰久,久保田 章亀,遠藤 勝義,Alexei Souvorov,玉作 賢治,矢橋 牧名,石川 哲也,精密工学会学術講演会講演論文集,The Japan Society for Precision Engineering,Vol. 2003,No. 0,p. 388-388,2003年
  • 数値制御EEM (Elastic Emission Machining)による広空間波長帯域の形状修正,森 勇藏,山内 和人,三村 秀和,久保田 章亀,遠藤 勝義,有馬 健太,稲垣 耕司,精密工学会学術講演会講演論文集,The Japan Society for Precision Engineering,Vol. 2003,No. 0,p. 387-387,2003年
  • ナノパーティクル測定機を用いたウエット洗浄によるSiウエハ表面のラフネス評価,佐々木 都至,安 弘,竹崎 尚之,森 勇藏,片岡 俊彦,遠藤 勝義,山内 和人,井上 晴行,精密工学会学術講演会講演論文集,The Japan Society for Precision Engineering,Vol. 2003,No. 0,p. 139-139,2003年
  • プラズマCVMプロセス中のCF, CF_2ラジカルの分光計測 : レーザー誘起蛍光分光と紫外線吸収分光とによるラジカル密度分布診断,押鐘 寧,佐藤 慎也,山村 和也,遠藤 勝義,片岡 俊彦,森 勇藏,精密工学会大会学術講演会講演論文集,Vol. 2002,No. 2,p. 461-461,2002年10月01日
  • レーザ光散乱法によるSiウエハ表面上の超微小欠陥計測,井上晴行,片岡俊彦,押鐘 寧,遠藤勝義,森 勇藏,中野元博,安 弘,里見慎哉,和田勝男,精密工学会誌,Vol. 68,No. 10,p. 1337-1341,2002年10月
  • 光散乱法を用いたSiウエハ表面のウエット洗浄によるナノパーティクル評価,佐々木 都至,安 弘,竹崎 尚之,森 勇蔵,片岡 俊彦,遠藤 勝義,山内 和人,井上 晴行,精密工学会大会学術講演会講演論文集,Vol. 2002,No. 2,2002年10月01日
  • First-Principles molecular-dynamics calculations and STM observations of dissociative adsorption of Cl2 and F2 on Si(001) surface,Hiromi Okada,Kouji Inagaki,Hidekazu Goto,Katsuyoshi Endo,Kikuji Hirose,Yuzo Mori,Surface Science, 515(2002)pp.287-295.,Vol. 515,No. 2-3,p. 287-295,2002年10月
  • 光散乱法を用いたシリコンウエハ面の洗浄によるナノ構造評価,佐々木 都至,安 弘,竹崎 尚之,森 勇蔵,片岡 俊彦,遠藤 勝義,山内 和人,井上 晴行,精密工学会大会学術講演会講演論文集,Vol. 2002,No. 1,2002年03月01日
  • レーザ光散乱法によるSiウエハ付着超微粒子計測,井上晴行,片岡俊彦,遠藤勝義,押鐘 寧,森 勇藏,中野元博,安 弘,竹村太一,和田勝男,精密工学会誌,Vol. 68,No. 2,p. 264-268,2002年02月
  • Atomic image of hydrogen-terminated Si(001) surfaces after wet cleaning and its first-principles study,Katsuyoshi Endo,Kenta Arima,Kikuji Hirose,Toshihiko Kataoka,Yuzo Mori,Journal of Applied Physics 91, 7, 4065-4072,Vol. 91,No. 7,p. 4065-4072,2002年01月
  • 超精密非球面形状計測装置の開発 : ゴニオメータの角度位置決め精度の検証,東 保男,杉山 弘,張 小威,安藤 正海,遠藤 勝義,山内 和人,山村 和也,打越 純一,森 勇蔵,精密工学会大会学術講演会講演論文集,Vol. 2001,No. 2,2001年09月01日
  • 光反射率スペクトルによるSiウエハ表面評価法の開発 : 装置の開発と加工表面評価,稲垣 耕司,小野 倫也,杉江 利章,山内 和人,遠藤 勝義,広瀬 喜久治,森 勇蔵,精密工学会大会学術講演会講演論文集,Vol. 2001,No. 2,2001年09月01日
  • 光散乱法によるSiウエハ表面のナノ微細欠陥とナノ構造の計測と評価,佐々木 都至,安 弘,竹崎 尚之,森 勇蔵,片岡 俊彦,遠藤 勝義,山内 和人,井上 晴行,精密工学会大会学術講演会講演論文集,Vol. 2001,No. 2,2001年09月01日
  • Time Variations of Organic Compound Concentrations in a Newly Constructed Cleanroom,Chiyo Inoue,Naoya Mizuno,Satoshi Ogura,Yuichiro Hanayama,Shinji Hattori,Katsuyoshi Endo,Kiyoshi Yasutake,Mizuho Morita,Yuzo Mori,J. Inst. Environmental Science and Technology, 44 [2] (2001) 23-29.,Vol. 44,No. 2,p. 23-29,2001年04月
  • Images of Scanning Tunneling Microscopy on the Si(001)-p(2×2) Reconstructed Surface,Y. Fujimoto,H. Okada,K. Endo,T. Ono,S. Tsukamoto,K. Hirose,Mater. Trans., Vol.42, pp. 2247-2252.,Vol. 42,No. 11,p. 2247-2252,2001年01月
  • Detailed analysis of scanning tunneling microscopy images of the Si(001) reconstructed surface with buckled dimmers,Hiromi Okada,Yoshitaka Fujimoto,Katsuyoshi Endo,Kikuji Hirose,Yuzo Mori,Phys. Rev. B, 63, 19, 195324-195327,Vol. 63,No. 19,p. 195324-195327,2001年01月
  • A consideration of wettability of liquid metal using ab initio molecular orbital calculation,Hiromichi Toyota,Takashi Ide,Hidetsugu Yagi,Hidekazu Goto,Katsuyoshi Endo,Kikuji Hirose,Yuzo Mori,Seimitsu Kogaku Kaishi/Journal of the Japan Society for Precision Engineering,Vol. 66,No. 12,p. 1906-1910,2000年12月
  • シリコンウエハ表面上の微粒子・微小欠陥による光散乱 ---散乱光強度およびレンズによる像形成の計算---,片岡俊彦,井上晴行,遠藤勝義,押鐘 寧,森 勇藏,中野元博,和田勝男,安 弘,精密工学会誌, 66,11,1716-1722,Vol. 66,No. 11,p. 1716-1722,2000年11月
  • A consideration of atomic diffusibility of metal on carbon substrate using ab initio molecular orbital calculation,Hiromichi Toyota,Takashi Ide,Hidetsugu Yagi,Hidekazu Goto,Katsuyoshi Endo,Kikuji Hirose,Yuzo Mori,Seimitsu Kogaku Kaishi/Journal of the Japan Society for Precision Engineering,Vol. 66,No. 11,p. 1776-1780,2000年11月
  • Developmet of Surface State Evaluation Method by High Precision Photo-Reflectance Spectrum Measurement,Kouji Inagaki,Yoshitaka Fujimoto,Kazuhisa Sugiyama,Katsuyoshi Endo,Kazuto Yamauchi,Kikuji Hirose,Yuzo Mori,Technology Reports of the Osaka University, Vol.~50, pp.~49-54,Vol. 50,p. 49-54,2000年04月
  • STM/STS Observations and First-principles Simulations of Metal Adsorbed Si(001) Surfaces,Katuyoshi Endo,Kenta ARIMA,Toshihiko KATAOKA,Yasushi OSHIKANE,Haruyuki INOUE,Kenji KOBA,Kikuji HIROSE,Yuzo MORI,Technology Reports of The Osaka University 50,2366-2377,41-47,Faculty of Engineering, Osaka University,Vol. 50,p. 41-47,2000年04月
  • 微粒子定機によるナノメータオーダのSiウエハ表面形状の測定,佐々木 都至,安 弘,瑞原 重勲,森 勇藏,片岡 俊彦,遠藤 勝義,山内 和人,井上 晴行,押鐘 寧,竹村 太一,精密工学会大会学術講演会講演論文集,Vol. 2000,No. 1,2000年03月01日
  • Evaluation of Particles on a Si Wafer before and after Cleaning Using a New laser particle Counter,Satoshi SASAKI,Hiroshi AN,Yuzo MORI,Toshihiko KATAOKA,Katuyoshi ENDO,Kazuto YAMAUCHI,Haruyuki INOUE,Shigenori MI,PROCEEDINGS OF THE NINTH INTERENATIONAL SYMPOSIUM ON SEMICONDUCTOR MANUFACTURING, Tokyo, (2000) 317-320,p. 317-320,2000年01月
  • 液体金属の濡れ性に関する分子軌道計算による考察(共著),遠藤勝義,66/12,1906-1910,精密工学会誌,Vol. 66,No. 12,p. 1906-1910,2000年
  • 炭素系基板への金属原子拡散過程の分子軌道論的考察(共著),遠藤勝義,66/11,1776-1780,精密工学会誌,Vol. 66,No. 11,p. 1776-1780,2000年
  • 超高真空中での液体金属の濡れ性測定と評価(第2報)-液体金属の濡れ性と原子拡散の検討-(共著),遠藤勝義,66/7,1120-1124,精密工学会誌,Vol. 66,No. 7,p. 1120-1124,2000年
  • Light Scattering by Small Particles and Small Defects on the Silicon Wafer Surface-Calculations of Scattering Light Intensity and Optical Image through a Lens-,Toshihiko KATAOKA,Haruyuki INOUE,Katsuyoshi ENDO,Yasushi OSHIKANE,Yuzo MORI,Motohiro NAKANO,Katsuo WADA,Hiroshi AN,Journal of the Japan Society for Precision Engineering,Vol. 66,No. 11,p. 1716-1722,2000年
  • Scanning tunneling microscopy study of hydrogen-terminated Si(001) surface after wet cleaning(共著),遠藤勝義,446/,128-136,Surface Science,Vol. 446,No. 1-2,p. 128-136,2000年
  • Atomically resolved scanning tunneling microscopy of hydrogen-terminated Si(001) surfaces after HF cleaning (共著),遠藤勝義,76/24,463-465,Applied Physics Letters,Vol. 76,No. 4,p. 463-465,2000年
  • A New Measurement and Evaluation of Wettability between Solid and Liquid Metals in Ultra-High Vacuum (2nd Report) - Experimental Examination of Wettability and Atomic Diffusion,Hiromichi Toyota,Takashi Ide,Hidetsugu Yagi,Katsuyoshi Endo,Yuzo Mori,Kikuji Hirose,Seimitsu Kogaku Kaishi/Journal of the Japan Society for Precision Engineering,Vol. 66,No. 7,p. 1120-1124,2000年
  • 高圧力・高周波プラズマの計測と制御-赤外半導体レーザー吸収分光法によるプラズマ中のラジカル計測-,押鐘 寧,遠藤 勝義,片岡 俊彦,井上 晴行,相本 秀一,横山 能幸,佐野 泰久,精密工学会大会学術講演会講演論文集,Vol. 1999,No. 2,p. 574-574,1999年09月01日
  • STMによる溶液処理水素終端化Si(001)表面の原子構造観察,有馬 健太,遠藤 勝義,片岡 俊彦,押鐘 寧,井上 晴行,木庭 謙二,中原 裕喜,森 勇蔵,精密工学会大会学術講演会講演論文集,Vol. 1999,No. 2,p. 659-659,1999年09月01日
  • 微小共振球プローブを用いた走査型近接場光学顕微鏡の特性,中川 寛文,片岡 俊彦,遠藤 勝義,押鐘 寧,井上 晴行,平井 隆之,松田 栄輝,精密工学会大会学術講演会講演論文集,Vol. 1999,No. 2,p. 658-658,1999年09月01日
  • sNOM用微小共振球プローブの電磁場解析による特性診断,押鐘 寧,片岡 俊彦,遠藤 勝義,井上 靖行,中川 寛文,平井 隆之,松田 栄輝,精密工学会大会学術講演会講演論文集,Vol. 1999,No. 2,p. 657-657,1999年09月01日
  • 微粒子測定機を用いたSiウェハ表面におけるナノメータオーダのスクラッチ形状の測定,佐々木 都至,安 弘,瑞原 重勲,森 勇蔵,片岡 俊彦,遠藤 勝義,山内 和人,井上 晴行,押鐘 寧,竹村 太一,精密工学会大会学術講演会講演論文集,Vol. 1999,No. 2,1999年09月01日
  • 傾斜角積分法による形状測定(第2報)-EEMよる修正加工前後の形状測定-,東 保男,森 勇蔵,山内 和人,遠藤 勝義,打越 純一,杉山 和久,精密工学会大会学術講演会講演論文集,Vol. 1999,No. 2,1999年09月01日
  • 傾斜角積分法による形状測定(第1報)-製作した自動測定装置の性能-,東 保男,森 勇蔵,山内 和人,遠藤 勝義,打越 純一,杉山 和久,精密工学会大会学術講演会講演論文集,Vol. 1999,No. 2,1999年09月01日
  • Development of a High Sensitive Probe for Scanning Near-field Optical Microscope with a Micro Cavity,Hirofumi Nakagawa,Toshihiko Kataoka,Katsuyoshi Endo,Yasushi Oshikane,Precision Science and Technology for Perfect Surfaces (Proceedings of the 9th International Conference on Production Engineering), pp.~905-910,Vol. pp.57-66,1999年08月
  • Scanning Tunneling Microscopy/Spectroscopy Observations of Metal Adsorbed Si(001)2x1 Surfaces,Katsuyoshi Endo,Kenta Arima,Toshihiko Kataoka,Yasushi Oshikane,Haruyuki Inoue,Kenji Koba,Kikuji Hirose,Yuzo Mori,Precision Science and Technology for Perfect Surfaces (Proceedings of the 9th International Conference on Production Engineering), pp.~843-848,Vol. pp.843-848,1999年08月
  • Scanning Tunneling Microscopy Observations of Hydrogen Terminated Si(001) Surfaces after Wet Cleaning,Katsuyoshi Endo,Kenta Arima,Toshihiko Kataoka,Yasushi Oshikane,Haruyuki Inoue,Kenji Koba,Hiroki Nakahama,Yuzo Mori,Precision Science and Technology for Perfect Surfaces (Proceedings of the 9th International Conference on Production Engineering), pp.~485-490,Vol. pp.485-190,1999年08月
  • Measurement of Ultra Fine Particles on the Si Wafer Surface using Laser Light Scattering,Haruyuki Inoue,Toshihiko Kataoka,Katsuyoshi Endo,Yasushi Oshikane,Taichi Takemura,Yuzo Mori,Hiroshi An,Satoshi Sasaki,Precision Science and Technology for Perfect Surfaces (Proceedings of the 9th International Conference on Production Engineering), pp.~378-383,Vol. pp.378-383,1999年08月
  • 3D-FDTD and Experimental Analysis of a Resonant Microcavity Probe for High-resolution SNOM,Yasushi Oshikane,Hirofumi Nakagawa,Toshihiko Kataoka,Katsuyoshi Endo,Haruyuki Inoue,Takayuki Hirai,Proceedings of SPIE Vol.~3791, pp.~57-66,Vol. 3791,p. 57-66,1999年07月
  • 微小共振球の近接場光学顕微鏡プローブへの応用,中川 寛文,片岡 俊彦,遠藤 勝義,押鐘 寧,井上 晴行,平井 隆之,松田 栄輝,精密工学会大会学術講演会講演論文集,Vol. 1999,No. 1,p. 505-505,1999年03月05日
  • STM/STSによるハロゲン吸着Si(001)2x1表面の観察(第4報),岡田 浩巳,中野 雅美,後藤 英和,遠藤 勝義,広瀬 喜久治,森 勇藏,精密工学会大会学術講演会講演論文集,Vol. 1999,No. 1,p. 502-502,1999年03月05日
  • STMによる溶液処理水素終端化Si(001)表面の観察,有馬 健太,遠藤 勝義,片岡 俊彦,押鐘 寧,井上 晴行,木庭 謙二,森 勇蔵,精密工学会大会学術講演会講演論文集,Vol. 1999,No. 1,p. 503-503,1999年03月05日
  • 走査型近接場光学顕微鏡のための超高感度プローブの設計 -FDTD法による微小共振球周りの三次元電磁場解析-,押鐘 寧,片岡 俊彦,遠藤 勝義,中川 寛文,精密工学会大会学術講演会講演論文集,Vol. 1999,No. 1,p. 506-506,1999年03月05日
  • レーザー光散乱によるSiウェーハ表面上の微粒子計測 -Siウェーハ表面の観察-,井上 晴行,片岡 俊彦,遠藤 勝義,押鐘 寧,竹村 太一,森 勇蔵,安 弘,佐々木 都至,谷口 浩之,精密工学会大会学術講演会講演論文集,Vol. 1999,No. 1,p. 465-465,1999年03月05日
  • 赤外半導体レーザー吸収分光法による大気圧・高周波プラズマ中のラジカル計測,遠藤 勝義,片岡 俊彦,押鐘 寧,佐野 泰久,玉田 浩平,相本 秀一,横山 能幸,森 勇蔵,精密工学会大会学術講演会講演論文集,Vol. 1999,No. 1,p. 429-429,1999年03月05日
  • 大気圧プラズマインピーダンス測定(第1報) -測定原理, 測定結果, およびその測定精度について-,森 勇蔵,片岡 俊彦,遠藤 勝義,山村 和也,佐野 泰久,押鐘 寧,江畑 裕介,片山 晋二,岡本 利樹,足立 真士,精密工学会大会学術講演会講演論文集,Vol. 1999,No. 1,p. 428-428,1999年03月05日
  • 固体表面での濡れ性制御に関する研究 (第3報) 炭素系基板上の液体金属の濡れ性,相互拡散性の評価,豊田洋通,井出たかし,八木秀次,後藤英和,遠藤勝義,広瀬喜久治,森勇蔵,精密工学会大会学術講演会講演論文集,Vol. 1999,No. 1,p. 276-276,1999年03月05日
  • ナノメータオーダの粒径測定機を用いたSiウエハ表面の微粒子および欠陥計測による表面評価,安 弘,佐々木 都至,谷口 浩之,瑞原 重勲,森 勇蔵,片岡 俊彦,遠藤 勝義,山内 和人,井上 晴行,押鐘 寧,精密工学会大会学術講演会講演論文集,Vol. 1999,No. 1,1999年03月05日
  • 光散乱法によるナノメータオーダの粒径測定法の開発(第5報)-Siウエハ表面に対する洗浄前後の微粒子測定による表面評価-(共著),遠藤勝義,65/10,1435-1439,精密工学会誌,Vol. 65,No. 10,p. 1435-1439,1999年
  • Development of Evaluation Method for Ultra Precision Machined Surfaces by Photo-Reflectance Spectra,Kouji INAGAKI,Katsutoshi TAHARA,Yoshitaka FUJIMOTO,Katsuyoshi ENDO,Kazuhisa SUGIYAMA,Kikuji HIROSE,Yuzo MORI,Proceedings of the 9th International Conference on Production Engineering, Osaka 792-795,Vol. pp.792-795,1999年01月
  • Designing a New Apparatus for Measuring Particle Sizer of Nanometer Order by Light-Scattering(5th Report)-Evaluation of the Surface by Measuring Particles on a Si Wafer before and after Cleaning-,Hiroshi AN,Satoshi SASAKI,Yuzo MORI,Toshiyuki KATAOKA,Katsuyoshi ENDO,Haruyuki INOUE,Kazuto YAMAUCHI,Hiroyuki TANIGUCHI,Journal of the Japan Society for Precision Engineering,Vol. 65,No. 10,p. 1435-1439,1999年
  • An explanation of the wetting and the mutual diffusion mechanisms of liquid metals using ab-initio atomic orbital calculation(共著),遠藤勝義,14/,129-131,CONPUTATIONAL MATERIALS SCIENCE,Vol. 14,No. 1-4,p. 129-131,1999年
  • Observation of metal Si(001)by STM/STS and its consideration based on the first principles calculations(共著),遠藤勝義,14/,236-240,COMPUTATIONAL MATERIALS SCIENCE,Vol. 14,No. 1-4,p. 236-240,1999年
  • ナノメータオーダの粒径測定機を用いたSiウェーハの洗浄による表面評価,安 弘,佐々木 都至,谷口 浩之,森 勇藏,片岡 俊彦,遠藤 勝義,山内 和人,井上 晴行,押鐘 寧,精密工学会大会学術講演会講演論文集,Vol. 1998,No. 2,1998年09月01日
  • 大気中で使用する時のHe-Neレーザ光の特性,東 保男,小池 重明,高富 俊和,森 勇蔵,山内 和人,遠藤 勝義,打越 純一,精密工学会大会学術講演会講演論文集,Vol. 1998,No. 1,1998年03月05日
  • 光散乱法によるナノメータオーダの粒径測定法 (第7報) -ウルトラクリーンルームでのSiウェーハ面の測定と微粒子測定表面評価-,安 弘,佐々木 都至,谷口 浩之,森 勇蔵,片岡 俊彦,遠藤 勝義,山内 和人,井上 晴行,押鐘 寧,井山 章吾,精密工学会大会学術講演会講演論文集,Vol. 1998,No. 1,1998年03月05日
  • STM/STS and the First Principles Calculations on Al/Si(001)-2x1,Katsuyoshi Endo,Kenta Arima,Toshihiko Kataoka,Kikuji Hirose,Yasushi Oshikane,Haruyuki Inoue,Hiromi Kuramochi,Tomoshige Sato,Yuzo Mori,Applied Physics A, Material Science & Processing, Vol. 66, pp. 145-148,Springer-Verlag,Vol. 66,p. S145-S148,1998年03月
  • EEM(Elastic Emission Machining)に関する研究-加工液中の溶存酸素がSiウエハ表面に与える影響(共著),遠藤勝義,64/6,907,精密工学会誌,Vol. 64,No. 6,p. 907-912,1998年
  • Atomic structures of hydrogen-terminated Si(001)surfaces after wet cleaning by scanning tunneling microscopy(共著),遠藤勝義,73/13,1853-1855,Applied Physics Letters,Vol. 73,No. 13,p. 1853-1855,1998年
  • Atomic structures of hydrogen-terminated Si(001)surfaces after wet cleaning by scanning tunneling microscopy(共著),Applied Physics Letters,Vol. 73,No. 13,p. 1853-1855,1998年
  • A Study on EEM(Elastic Emission Machining)-Influences of Dissolved Oxygen to Si Water Surface,Journal of the Japan Society for Precision Engineering,Vol. 64,No. 6,p. 907-912,1998年
  • Growth of Crystalline Silicon on a Cryogenic Substrate by Photochemical Reaction in a Condensed Phase,Toshihiko Kataoka,Katsuyoshi Endo,Masayoshi Ashida,Hiroyuki Orita,Yasushi Oshikane,Haruyuki Inoue,Yuzo Mori,Jpn. J. Appl. Phys., Vol. 36, No. 12A, pp. 7395-7398,Vol. 36,No. 12,p. 7395-7398,1997年12月
  • 固体表面での濡れ性制御に関する研究 第2報 -第一原理分子軌道計画(二原子分子モデル)による液体金属の濡れ性評価-,豊田 洋通,井出 敞,八木 秀次,後藤 英和,遠藤 勝義,広瀬 喜久治,森 勇蔵,精密工学会大会学術講演会講演論文集,Vol. 1997,No. 1,p. 425-426,1997年03月01日
  • 光散乱法によるナノメータオーダの粒径測定法 (第6報) -Siウェーハ面の測定と微粒子付着分布による表面評価-,安 弘,南川 文孝,佐々木 都至,森 勇蔵,片岡 俊彦,遠藤 勝義,山内 和人,井上 晴行,押鐘 寧,井山 章吾,精密工学会大会学術講演会講演論文集,Vol. 1997,No. 1,p. 391-392,1997年03月01日
  • レーザ光散乱法によるSiウエハ付着微粒子計測装置の開発,遠藤勝義,63/8,1117,精密工学会誌,Vol. 63,No. 8,p. 1117-1121,1997年
  • Growth of Crystalline Silicon on a Cryogenic Substrate by Photochemical Reaction in a Condensed Phase(共著),遠藤勝義,36/12A,7395,Japanese Journal of Applied Physics,Vol. 36,No. 12A,p. 7395-7398,1997年
  • Measurement of Ultra Fine Particles on the Si Wafer Surface Using a Laser Light Scattering Method,Haruyuki INOUE,Toshihiko KATAOKA,Katsuyoshi ENDO,Yasushi OSHIKANE,Yuzo MORI,Kazuhisa SUGIYAMA,Hiroshi AN,Shogo IYAMA,Journal of the Japan Society for Precision Engineering,Vol. 63,No. 8,p. 1117-1121,1997年
  • 光散乱法によるナノメータオーダの粒径測定法の開発(第4報) : 光電子増倍管出力特性の定式化とダイナミックレンジの改善法,安 弘,森 勇藏,片岡俊彦,遠藤勝義,山内和人,稲垣耕司,山村和也,井上晴行,佐野泰久,精密工学会誌,Vol. 62,No. 8,p. 1198-1202,1996年08月
  • 非経験的分子軌道法を用いた窒化物セラミックス薄膜形成における窒素分子と金属の反応解析,平野 均,遠藤勝義,堂本洋一,蔵本慶一,木山精一,津田信哉,中野昭一,精密工学会誌, Vol.62, No.7, pp.1024-1028,Vol. 62,No. 7,p. 1024-1028,1996年07月
  • 光散乱法によるナノメータオーダの粒径測定法 (第5報) -ダイナミックレンジの改善法と標準粒子の測定-,安 弘,南川 文孝,森 勇蔵,片岡 俊彦,遠藤 勝義,山内 和人,稲垣 耕司,井上 晴行,山村 和也,佐野 泰久,精密工学会大会学術講演会講演論文集,Vol. 1996,No. 1,p. 1109-1110,1996年03月01日
  • 光散乱法によるナノメータオーダの粒径測定法の開発(第4報)-光電子増倍管出力特性の定式化とダイナミックレンジの改善法-,遠藤勝義,62/8,1198,精密工学会誌,Vol. 62,No. 8,p. 1198-1202,1996年
  • 非経験的分子軌道法を用いた窒化物セラミックス薄膜形成における窒素分子と金属との反応解析,遠藤勝義,62/7,1024,精密工学会誌,Vol. 62,No. 7,p. 1024-1028,1996年
  • Development of a scanning near-field optical microscope with a probe consisting of a small spherical protrusion,遠藤勝義,63/,219,ultramicroscopy,Vol. 63,No. 3-4,p. 219-225,1996年
  • 光反射率スペクトルによるSi自然酸化表面の酸化膜厚およびひずみの計測,遠藤勝義,61/3,396,精密工学会誌,Vol. 61,No. 3,p. 396-400,1995年
  • Thickness and Strain Measurement of Native Oxide on Si Surface by Photo-reflectance Spectra,Yuzo MORI,Toshihiko KATAOKA,Katsuyoshi ENDO,Kazuto YAMAUCHI,Kohji INAGAKI,Kazuya YAMAMURA,Kikuji HIROSE,Journal of the Japan Society for Percision Engineering,Vol. 61,No. 3,p. 396-400,1995年
  • 光反射率スペクトルによる超精密加工表面の評価法の開発,森 勇藏,片岡俊彦,遠藤勝義,山内和人,稲垣耕司,山村和也,広瀬喜久治,精密工学会誌,精密工学会誌,Vol. 60,No. 9,p. 1360-1364,1994年09月
  • 球状微小突起をプローブとした走査型近接場光学顕微鏡の開発,片岡俊彦,遠藤勝義,井上晴行,稲垣耕司,森勇蔵,広瀬喜久治,高田和政,精密工学会誌, 60, 8, 1122-1126,精密工学会,Vol. 60,No. 8,p. 1122-1126,1994年08月
  • 水分子と相互作用するシリコン単結晶(001)水素終端化表面の第一原理分子動力学シミュレーション,遠藤勝義,60/8,1139,精密工学会誌,Vol. 60,No. 8,p. 1139-1143,1994年
  • 材料表面現象の第一原理分子動力学シミュレーション-シリコン単結晶(001)表面の水素終端化反応-,遠藤勝義,60/3,402,精密工学会誌,Vol. 60,No. 3,p. 402-406,1994年
  • 光反射率スペクトルによる超精密加工表面評価法の開発,遠藤勝義,60/9,1359,精密工学会誌,Vol. 60,No. 9,p. 1360-1364,1994年
  • First-principles Molecular-dynamics Simulations of H-terminated Si(001) Surface Interacting with H<sub>2</sub>O Molecule,Journal of the Japan Society for Precision Engineering,Vol. 60,No. 8,p. 1139-1143,1994年
  • First-principles Molecular-dynamics Simulations of Material Surface Processing,Journal of the Japan Society for Precision Engineering,Vol. 60,No. 3,p. 402-406,1994年
  • A New Apparatus for Measuring Particle Sizes of the Order of Nanomerter (2nd Report) -Evaluation of Measuring System by using Standard Particles-,遠藤勝義,28/4,356,International Journal of the Japan Society for Precision Engineering,Vol. 28,No. 4,1994年
  • Development of Scanning Near-field Optical Microscope Using a Spherical Small Protrusion as a Probe,Toshihiko KATAOKA,Katsuyoshi ENDO,Haruyuki INOUE,Kohji INAGAKI,Yuzo MORI,Kikuji HIROSE,Kazumasa TAKADA,Journal of the Japan Society for Precision Engineering,Vol. 60,No. 8,p. 1122-1126,1994年
  • 光散乱法によるナノメータオーダの粒径測定法の開発(第3報)-標準微粒子による粒径測定法の評価-,遠藤勝義,59/7,1121-1126,精密工学会誌,Vol. 59,No. 7,p. 1121-1126,1993年
  • Plasma CVM (Chemical Vaporization Machining) : an ultra precision machining technique using high-pressure reactive plasma,遠藤勝義,4/,225,Nanotechnology,Vol. 4,No. 4,p. 225-229,1993年
  • Plasma CVM (Chemical vaparization Machining) -An Ultra Precision Machining with High Pressure Reactive Plasma-,遠藤勝義,43/2156,261-266,Technology Reports of the Osaka University,Vol. 43,No. 2156,p. 261-266,1993年
  • Disigning a New Apparatus for Measuring Particle Sizes of Nanometer Order by Light-scattering (3rd Report)-Evaluation of Measuring System by using Standard Particles-,Journal of the Japan Society for Precision Engineering,Vol. 59,No. 7,p. 1121-1126,1993年
  • 固体表面間の相互作用力(その2)-相互作用力の電子論的評価-,遠藤勝義,37/10,806-812,トライボロジスト,Vol. 37,No. 10,p. 806-812,1992年
  • 固体表面間の相互作用力(その1)-相互作用力の原子論的評価-,遠藤勝義,37/5,349-356,525-537,トライボロジスト,Vol. 37,No. 5,1992年
  • Interaction Force between Solid Surfaces(Part 2) -An Estimation of Interaction Force Based on Electronic Energy States-,Japanese Journal of Tribology,Vol. 37,No. 10,p. 1233-1243,1992年
  • Interaction Force between Solid Surfaces(Part 2) -An Estimation of Interaction Force Based on Electronic Energy States-,遠藤勝義,37/10,1233-1243,Japanese Journal of Tribology,Vol. 37,No. 10,p. 806-812,1992年,書評論文,書評,文献紹介等
  • Interaction Force between Solid Surfaces(Part1)- An Atomistic Estimation of Interaction Force[4.の英訳],Y. Mori,K. Endo,J. J. Tribology, 37, 5 (1992) 525-537,Vol. 37,No. 5,p. 349-356,1992年01月
  • 極限精密加工技術,森 勇藏,山内和人,遠藤勝義,精密工学会誌,57,1 (1991)36-41,公益社団法人精密工学会,Vol. 57,No. 1,p. 36-42,1991年01月
  • 摩擦力の原子論的考察(第2報)-弾性接触状態における摩擦力の測定,遠藤勝義,57/6,精密工学会誌,Vol. 57,No. 6,p. 1017-1022,1991年
  • 固体表面間の相互作用力に関する研究(第2報)-超高真空中における同種金属間の相互作用力と接触領域,遠藤勝義,57/2,精密工学会誌,Vol. 57,No. 2,p. 310-317,1991年
  • ダイヤモンドと金属の表面原子間の結合力に関する研究,遠藤勝義,57/5,精密工学会誌,Vol. 57,No. 5,p. 881-886,1991年
  • Atomistic Consideration of Frictional Force (2nd Report) - Measurements of Frictional Force in an Elastic Contact Condition,Yuzo MORI,Katsuyoshi ENDO,Kazuto YAMAUCHI,Kohji INAGAKI,Takashi IDE,Journal of the Japan Society for Precision Engineering,Vol. 57,No. 6,p. 1017-1022,1991年
  • Interaction Force between Solid Surfaces (2nd Report)-Interaction Force and Contact Area between clean Metal Surfaces in Ultra High Vacuum-,Yuzo MORI,Katsuyoshi ENDO,Kazuto YAMAUCHI,Hui WANG,Takashi IDE,Journal of the Japan Society for Precision Engineering,Vol. 57,No. 2,p. 310-317,1991年
  • Atomic Force between Diamond and Metal Surfaces,Yuzo MORI,Katsuyoshi ENDO,Kazuto YAMAUCHI,Hui WANG,Takashi IDE,Hidekazu GOTO,Journal of the Japan Society for Precision Engineering,Vol. 57,No. 5,p. 881-886,1991年
  • Design of a Large Current Liquid Metal Ion Source,Y. Mori,H. Wang,K. Endo,K. Yamauchi,T. Ide,H. Goto,Technol. Repts. Osaka Univ.,40 (1990) 103-111,Vol. 61,No. 7,p. 1874-1879,1990年01月
  • 光散乱法によるナノメータオーダの粒径測定法の開発(第2報)-シリコンウエハ表面付着微粒子の測定,森 勇藏,安 弘,遠藤勝義,山内和人,井出 敞,精密工学会誌 56,10(1990)1847-1852.,公益社団法人精密工学会,Vol. 56,No. 10,p. 1847-1852,1990年01月
  • 摩擦力の原子論的考察(第1報)-原子間相互作用に基づく摩擦の概念,遠藤勝義,56/4,精密工学会誌,Vol. 56,No. 4,p. 679-684,1990年
  • Ultra High Vacuum Compatible Metal Ion Beam Surface ModificatioN System,遠藤勝義,61/11,Review of Scientfic Instruments,Vol. 61,No. 11,p. 3412-3415,1990年
  • Evaluation of Elastic Emission Machined Surfaces by Scarning Tunneling Mecroscopy,遠藤勝義,A8/1,Journal of Vacuum Science and Technology A,Vol. 8,No. 1,p. 621-624,1990年
  • Atomistic Consideration of Frictional Force (1st Report) - A Concept of Friction Based on Atomic Interaction,Yuzo MORI,Katsuyoshi ENDO,Kazuto YAMAUCHI,Hui WANG,Takashi IDE,Journal of the Japan Society for Precision Engineering,Vol. 56,No. 4,p. 679-684,1990年
  • 固体表面間の相互作用力に関する研究 ダイヤモンドと金属間の相互作用力,森勇蔵,遠藤勝義,山内和人,豊田洋通,西沢慶太郎,精密工学会大会学術講演会講演論文集,Vol. 1989,No. Autumn 1,p. 3-4,1989年10月
  • 光散乱法によるナノメータオーダの粒径測定法の開発,森 勇蔵,安 弘,遠藤 勝義,山内 和人,杉山 和久,土屋 八郎,井出 敞,精密工学会誌,Vol. 54,No. 11,p. 2132-2137,1988年
  • Designing a New Apparatus for Measuring Particle Sizes of the Order of Nanometer by Light-Scattering,Y. Mori,H. An,K. Endo,K. Yamauchi,K. Sugiyama,Technol. Repts. Osaka Univ., 38 (1988) 135-145,Vol. 54,No. 11,p. 2132-2137,1988年01月
  • Mechanism of Atomic Removal in Elastic Emission Machining,遠藤勝義,10/1,Precision Engineering,Vol. 10,No. 1,p. 24-28,1988年
  • Elastic Emission Machining,遠藤勝義,9/3,Precision Engineering,Vol. 9,No. 3,p. 123-128,1987年
  • 固体表面間の相互作用力に関する研究(第1報)-界面エネルギーの原子論的評価,遠藤勝義,52/10,精密工学会誌,Vol. 52,No. 10,p. 1795-1801,1986年
  • Interaction Force between Solid Surfaces (1st Report) - An Atomistic Estimation of Interfacial surface Energy,Yuzo MORI,Kazuhisa SUGIYAMA,Katsuyoshi ENDOH,Hidekazu GOTOH,Journal of the Japan Society for Precision Engineering,Vol. 52,No. 10,p. 1795-1801,1986年

著書

  • 学術書,超精密加工と表面科学 原子レベルの生産技術,大阪大学グローバルCOE,精密工学会超精密加工専門委員会,編著,大阪大学出版会,2014年03月
  • 学術書,Stoichiometry and Materials Science,A.N.Hattori,K.Endo,In Tech,2012年04月
  • 学術書,創立110周年記念機械工学最近10年のあゆみ2.11 原子論的生産技術の創出-ナノメーターレベルの表面創成システムの開発,遠藤勝義,日本機械工学会,2007年05月
  • 学術書,究極の物づくり-原子を操る-,森勇藏,広瀬喜久治,芳井熊安,森田瑞穂,片岡俊彦,青野正和,山内和人,遠藤勝義,安武潔,桑原裕司,後藤英和,大阪大学出版会,2002年04月
  • 教科書・概説・概論,超精密加工技術,和田龍児,鈴木弘,住谷充夫,上田勝宣,土肥俊郎,伊藤正治,森勇藏,山内和人,遠藤勝義,東条徹,関根誠,後藤隆司,コロナ社,1998年11月
  • 超精密加工技術(共著),コロナ社,1998年

特許・実用新案・意匠

  • 法線ベクトル追跡型超精密形状測定方法,遠藤勝義,打越純一,特願2010-182197,出願日:2010年08月
  • 回転対称形状の超精密形状測定法及びその装置,遠藤勝義,特願2009-180408,出願日:2009年08月
  • 位相ロックイン型高周波走査トンネル顕微鏡,遠藤勝義,稲垣耕司,有馬健太,特願2008-503779,出願日:2008年10月
  • 法線ベクトル追跡型超精密形状測定装置における駆動軸制御方法,遠藤勝義,東 保男,特願2008-203495,出願日:2008年08月
  • 光路長の自律校正を用いた法線ベクトル追跡型超精密形状測定方法,遠藤勝義,東 保男,特願2008-203494,出願日:2008年08月
  • 超精密形状測定方法,遠藤勝義,稲垣耕司,特願2008-169911,出願日:2008年06月
  • 位相ロックイン型高周波走査トンネル顕微鏡,遠藤勝義,特願2006-061421,出願日:2006年03月
  • 酸化シリコンの製造装置および製造方法,遠藤勝義,篠原亘,特願2006-051631,出願日:2006年02月
  • 超純水プラズマ泡による超精密加工方法および装置,遠藤勝義,特願2005-348734,出願日:2005年12月

作品

  • グローバルCOE 高機能化原子制御製造プロセス教育研究拠点,2009年 ~
  • Center of Excellence for Atomically Controlled Fabrication Technology,2009年 ~
  • EEMプロセスの単位除去レートの向上,2004年 ~
  • 高精度X線ミラーの超精密加工と形状計測に関する研究,2004年 ~
  • 原子論的生産技術の創出拠点,2004年 ~
  • EEMプロセスの単位除去レートの向上,2004年 ~
  • 原子論的生産技術の創出拠点,2004年 ~
  • STMによる湿式洗浄Si(110)ウエハ表面の原子構造観察,2003年 ~
  • EEMプロセスの単位除去レートの向上,2003年 ~
  • 原子論的生産技術の創出拠点,2003年 ~
  • 完全表面の創成,1996年 ~
  • Creation of perfect Surface,1996年 ~

受賞

  • 精密工学会功労賞,遠藤勝義,社団法人精密工学会,2009年03月
  • Best Paper Award 2006,Kazuya Yamamura,Kunihito Kato,Yasuhisa Sano,Masafumi Shibahara,Katsuyoshi Endo,Yuzo Mori,The 8th International Conference on Progress of Machining Technology,2006年11月
  • 第19回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム学生会員発表賞,松山智至,三村秀和,湯本博勝,原英之,山村和也,佐野泰久,遠藤勝義,森勇藏,西野吉則,玉作賢治,矢橋牧名,石川哲也,山内和人,日本放射光学会,2006年02月
  • Best Paper Award 2006,2006年
  • 精密工学会賞,佐々木都至,安弘,森勇蔵,片岡俊彦,遠藤勝義,山内和人,井上晴行,精密工学会,2003年03月
  • 社団法人 日本機械学会 生産加工・工作機械部門 優秀講演論文表彰,安弘,佐々木都至,森勇蔵,片岡俊彦,遠藤勝義,井上晴行,山内和人,社団法人日本機械学会,1999年12月
  • 精密工学会沼田記念論文賞,片岡俊彦,遠藤勝義,井上晴行,稲垣耕司,森 勇藏,広瀬喜久治,高田和政,精密工学会,1995年03月
  • 精密工学会 沼田記念論文賞,1995年
  • 精密工学会賞,森勇藏,遠藤勝義,山内和人,王暉,井出敞,後藤英和,精密工学会,1992年03月
  • 金属学会金属組織写真奨励賞,遠藤 勝義,1991年