研究者総覧 - 大阪大学

山内和人

Kazuto Yamauchi

大阪大学・理化学研究所科学技術融合研究センター，特任教授（常勤）

keyword CEM，液体金属イオン源，X線干渉計，非接触，波面光学，基板改質，起精密加工，超精密加工面，半導体，ポリシング，シリコン薄膜，イオン照射，低温成膜，非球面ミラー，表面光起電力，X線光学，エッチング，表面電子準位，放射光，X線顕微鏡，分光，SPV，表面改質，シリコン，X線自由電子レーザー，X線ミラー，X線集光，数値制御加工，超精密加工，EEM

経歴

2020年04月～継続中，大阪大学大学院工学研究科，物理学系専攻精密工学コース，教授
2003年10月01日～ 2020年03月31日，大阪大学工学研究科精密科学・応用物理学専攻，教授
1998年04月01日～ 2003年09月30日，大阪大学工学研究科精密科学・応用物理学専攻，助教授
1992年04月～ 2003年09月，大阪大学助教授
1984年04月～ 1992年03月，大阪大学助手

研究内容・専門分野

ものづくり技術（機械・電気電子・化学工学），材料力学、機械材料
自然科学一般，天文学
エネルギー，量子ビーム科学
ものづくり技術（機械・電気電子・化学工学），加工学、生産工学

所属学会

日本光学会
OSA (The Optical Society of America)
EUSPEN (european society for precision engineering and nanotechnology)
SPIE (The International Society for Optical Engineering)
日本放射光学会
応用物理学会
精密工学会

論文

Ultra-precision smooth surface on polymer material prepared by catalyst-referred etching，D. Toh,K. Takeda,K. Kayao,Y. Ohkubo,K. Yamauchi,Y. Sano，International Journal of Automation Technology，Vol. 18，No. 2，p. 240-247，2024年03月05日，研究論文（学術雑誌）
High-pressure plasma etching up to 9 atm toward uniform processing inside narrow grooves of high-precision X-ray crystal optics，Shotaro Matsumura,Iori Ogasahara,Masafumi Miyake,Taito Osaka,Daisetsu Toh,Jumpei Yamada,Makina YABASHI,Kazuto Yamauchi,Yasuhisa Sano，Applied Physics Express，IOP Publishing，2023年12月02日，研究論文（学術雑誌）
Fabrication of YAG ceramics surface without damage and grain boundary steps using catalyzed chemical wet etching，Daisetsu Toh,Kiyoto Kayao,Kazuto Yamauchi,Yasuhisa Sano，CIRP Journal of Manufacturing Science and Technology，Elsevier BV，Vol. 47，p. 1-6，2023年12月，研究論文（学術雑誌）
Catalyst enhancement approach for improving the removal rate and stability of silica glass polishing via catalyzed chemical etching in pure water，Daisetsu Toh,Kiyoto Kayao,Pho Van Bui,Kouji Inagaki,Yoshitada Morikawa,Kazuto Yamauchi,Yasuhisa Sano，Precision Engineering，Elsevier BV，Vol. 84，p. 21-27，2023年11月，研究論文（学術雑誌）
Ultimate condensation of hard X-ray free-electron laser reaching single-nanometre focus size and 1022 W/cm2 intensity，Jumpei Yamada,Satoshi Matsuyama,Ichiro Inoue,Taito Osaka,Takato Inoue,Nami Nakamura,Yuto Tanaka,Yuichi Inubushi,Toshinori Yabuuchi,Kensuke Tono,Kenji Tamasaku,Hirokatsu Yumoto,Takahisa Koyama,Haruhiko Ohashi,Makina Yabashi,Kazuto Yamauchi，2023年10月26日
Bias-assisted photoelectrochemical planarization of GaN (0001) with impurity concentration distribution，D. Toh,K. Kayao,R. Ohnishi,A. I. Osaka,K. Yamauchi,Y. Sano，AIP Advances，AIP Publishing，Vol. 13，No. 9，2023年09月01日，研究論文（学術雑誌）
Propagation-based phase-contrast imaging method for full-field X-ray microscopy using advanced Kirkpatrick–Baez mirrors，Yuto Tanaka,Jumpei Yamada,Takato Inoue,Takashi Kimura,Mari Shimura,Yoshiki Kohmura,Makina Yabashi,Tetsuya Ishikawa,Kazuto Yamauchi,Satoshi Matsuyama，Optics Express，Optica Publishing Group，Vol. 31，No. 16，p. 26135-26135，2023年07月21日，研究論文（学術雑誌）
Role of Photoelectrochemical Oxidation in Enabling High-Efficiency Polishing of Gallium Nitride，Kiyoto Kayao,Daisetsu Toh,Kazuto Yamauchi,Yasuhisa Sano，ECS Journal of Solid State Science and Technology，The Electrochemical Society，Vol. 12，No. 6，p. 063005-063005，2023年06月01日，研究論文（学術雑誌）
High-Speed Plasma Etching of Gallium Oxide Substrates Using Atmospheric-Pressure Plasma with Hydrogen-Helium Mixed Gas，Yasuhisa Sano,Taiki Sai,Genta Nakaue,Daisetsu Toh,Kazuto Yamauchi，Solid State Phenomena，Trans Tech Publications, Ltd.，Vol. 342，p. 69-72，2023年05月25日，研究論文（学術雑誌）
High-speed etching of gallium nitride substrate using hydrogen-contained atmospheric-pressure plasma，Yasuhisa Sano,Genta Nakaue,Daisetsu Toh,Jumpei Yamada,Kazuto Yamauchi，Applied Physics Express，IOP Publishing，Vol. 16，No. 4，p. 045504-045504，2023年04月01日，研究論文（学術雑誌）
Wide field-of-view x-ray imaging optical system using grazing-incidence mirrors，Satoshi Matsuyama,Takato Inoue,Kentaro Hata,Haruhito Iriyama,Kazuto Yamauchi，Applied Optics，Optica Publishing Group，Vol. 61，No. 35，p. 10465-10465，2022年12月06日，研究論文（学術雑誌）
Hard x-ray intensity autocorrelation using direct two-photon absorption，Taito Osaka,Ichiro Inoue,Jumpei Yamada,Yuichi Inubushi,Shotaro Matsumura,Yasuhisa Sano,Kensuke Tono,Kazuto Yamauchi,Kenji Tamasaku,Makina Yabashi，Physical Review Research，American Physical Society (APS)，Vol. 4，No. 1，p. L012035-L012035，2022年03月18日，研究論文（学術雑誌）
High-throughput deterministic plasma etching using array-type plasma generator system，Yasuhisa Sano,Ken Nishida,Ryohei Asada,Shinya Okayama,Daisetsu Toh,Satoshi Matsuyama,Kazuto Yamauchi，Review of Scientific Instruments，AIP Publishing，Vol. 92，No. 12，p. 125107-125107，2021年12月01日，研究論文（学術雑誌）
Optimal deformation procedure for hybrid adaptive x-ray mirror based on mechanical and piezo-driven bending system，Takato Inoue,Yuka Nishioka,Satoshi Matsuyama,Junki Sonoyama,Kazuteru Akiyama,Hiroki Nakamori,Yoshio Ichii,Yasuhisa Sano,Xianbo Shi,Deming Shu,Max D. Wyman,Ross Harder,Yoshiki Kohmura,Makina Yabashi,Lahsen Assoufid,Tetsuya Ishikawa,Kazuto Yamauchi，Review of Scientific Instruments，AIP Publishing，Vol. 92，No. 12，p. 123706-123706，2021年12月01日，研究論文（学術雑誌）
Nondeteriorating Verwey Transition in 50 nm Thick Fe<inf>3</inf>O<inf>4</inf>Films by Virtue of Atomically Flattened MgO Substrates: Implications for Magnetoresistive Devices，Ai I. Osaka,Daisetsu Toh,Kazuto Yamauchi,Ken Hattori,Xiaoqian Shi,Fangzhun Guo,Hidekazu Tanaka,Azusa N. Hattori，ACS Applied Nano Materials，Vol. 4，No. 11，p. 12091-12097，2021年11月26日，研究論文（学術雑誌）
触媒表面基準エッチング法を用いた粒界段差フリーな超平滑多結晶材料表面の作製，藤大雪,Bui Van Pho,松山智至,佐野泰久,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，公益社団法人精密工学会，Vol. 2021A，p. 115-116，2021年09月08日
Hard X-ray nanoprobe scanner，Jumpei Yamada,Ichiro Inoue,Taito Osaka,Takato Inoue,Satoshi Matsuyama,Kazuto Yamauchi,Makina Yabashi，IUCrJ，International Union of Crystallography (IUCr)，Vol. 8，No. 5，p. 713-718，2021年09月01日，研究論文（学術雑誌）
X-ray adaptive zoom condenser utilizing an intermediate virtual focus，Satoshi Matsuyama,Hiroyuki Yamaguchi,Takato Inoue,Yuka Nishioka,Jumpei Yamada,Yasuhisa Sano,Yoshiki Kohmura,Makina Yabashi,Tetsuya Ishikawa,Kazuto Yamauchi，Optics Express，The Optical Society，Vol. 29，No. 10，p. 15604-15604，2021年05月10日，研究論文（学術雑誌）
Photoelectrochemical Oxidation Assisted Catalyst-Referred Etching for SiC (0001) Surface，Daisetsu Toh,Pho Van Bui,Kazuto Yamauchi,Yasuhisa Sano，International Journal of Automation Technology，Fuji Technology Press Ltd.，Vol. 15，No. 1，p. 74-79，2021年01月05日，研究論文（学術雑誌）
High-Speed Etching of Silicon Carbide Wafer Using High-Pressure SF6 Plasma，Yasuhisa Sano,Koki Tajiri,Yuki Inoue,Risa Mukai,Yuma Nakanishi,Satoshi Matsuyama,Kazuto Yamauchi，ECS Journal of Solid State Science and Technology，The Electrochemical Society，Vol. 10，No. 1，p. 014005-014005，2021年01月01日，研究論文（学術雑誌）
X-Ray Single-Grating Interferometry for Wavefront Measurement and Correction of Hard X-Ray Nanofocusing Mirrors，Jumpei Yamada,Takato Inoue,Nami Nakamura,Takashi Kameshima,Kazuto Yamauchi,Satoshi Matsuyama,Makina Yabashi，Sensors，MDPI AG，Vol. 20，No. 24，p. 7356-7356，2020年12月21日，研究論文（学術雑誌）
Development of precision Wolter mirrors towards PhoENiX mission for the Sun，Taro Sakao,Satoshi Matsuyama,Jumpei Yamada,Takato Inoue,Kentaro Hata,Hiroyuki Yamaguchi,Taku Hagiwara,Nami Nakamura,Kazuto Yamauchi,Yoshiki Kohmura,Yoshinori Suematsu,Noriyuki Narukage，Space Telescopes and Instrumentation 2020: Ultraviolet to Gamma Ray，SPIE，2020年12月13日，研究論文（国際会議プロシーディングス）
High surface laser-induced damage threshold of SrB4O7 single crystals under 266-nm (DUV) laser irradiation，Yasunori Tanaka,Ryota Murai,Yoshinori Takahashi,Tsuyoshi Sugita,Daisetsu Toh,Kazuto Yamauchi,Sora Aikawa,Haruki Marui,Yuji Umeda,Yusuke Funamoto,Tomosumi Kamimura,Melvin John F. Empizo,Masayuki Imanishi,Yusuke Mori,Masashi Yoshimura，Optics Express，The Optical Society，Vol. 28，No. 20，p. 29239-29239，2020年09月28日，研究論文（学術雑誌）
Focus characterization of an X-ray free-electron laser by intensity correlation measurement of X-ray fluorescence，Nami Nakamura,Satoshi Matsuyama,Takato Inoue,Ichiro Inoue,Jumpei Yamada,Taito Osaka,Makina Yabashi,Tetsuya Ishikawa,Kazuto Yamauchi，Journal of Synchrotron Radiation，International Union of Crystallography (IUCr)，Vol. 27，No. 5，p. 1366-1371，2020年09月01日，研究論文（学術雑誌）
High-resolution micro channel-cut crystal monochromator processed by plasma chemical vaporization machining for a reflection self-seeded X-ray free-electron laser，Shotaro Matsumura,Taito Osaka,Ichiro Inoue,Satoshi Matsuyama,Makina Yabashi,Kazuto Yamauchi,Yasuhisa Sano，Optics Express，The Optical Society，Vol. 28，No. 18，p. 25706-25706，2020年08月31日，研究論文（学術雑誌）
触媒表面基準エッチング法で平滑化したMgO基板上に成長させたFe3O4極薄膜における金属/絶縁体相転移特性の向上，大坂藍,藤大雪,山内和人,佐野泰久,田中秀和,服部梓，精密工学会学術講演会講演論文集，公益社団法人精密工学会，Vol. 2020A，p. 187-188，2020年08月20日
Generation of an X-ray nanobeam of a free-electron laser using reflective optics with speckle interferometry，Takato Inoue,Satoshi Matsuyama,Jumpei Yamada,Nami Nakamura,Taito Osaka,Ichiro Inoue,Yuichi Inubushi,Kensuke Tono,Hirokatsu Yumoto,Takahisa Koyama,Haruhiko Ohashi,Makina Yabashi,Tetsuya Ishikawa,Kazuto Yamauchi，Journal of Synchrotron Radiation，International Union of Crystallography (IUCr)，Vol. 27，No. 4，p. 883-889，2020年07月01日，研究論文（学術雑誌）
Compact full-field hard x-ray microscope based on advanced Kirkpatrick–Baez mirrors，Jumpei Yamada,Satoshi Matsuyama,Raita Hirose,Yoshihiro Takeda,Yoshiki Kohmura,Makina Yabashi,Kazuhiko Omote,Tetsuya Ishikawa,Kazuto Yamauchi，Optica，The Optical Society，Vol. 7，No. 4，p. 367-367，2020年04月20日，研究論文（学術雑誌）
An abrasive-free chemical polishing method assisted by nickel catalyst generated by in situ electrochemical plating，Daisetsu Toh,Pho Van Bui,Ai Isohashi,Satoshi Matsuyama,Kazuto Yamauchi,Yasuhisa Sano，Review of Scientific Instruments，AIP Publishing，Vol. 91，No. 4，p. 045108-045108，2020年04月01日，研究論文（学術雑誌）
EEM（Elastic Emission Machining）法について，山内和人，機械技術，日刊工業新聞社，Vol. 68，No. 4，p. 24-27，2020年04月
触媒表面基準エッチング法で平滑化したMgO基板上での高品質Fe3O4極薄膜成長，大坂藍,藤大雪,山内和人,佐野泰久,田中秀和,服部梓，精密工学会学術講演会講演論文集，公益社団法人精密工学会，Vol. 2020S，p. 662-663，2020年03月01日
Development of an Experimental Platform for Combinative Use of an XFEL and a High-Power Nanosecond Laser，Y. Inubushi,T. Yabuuchi,T. Togashi,K. Sueda,K. Miyanishi,Y. Tange,N. Ozaki,T. Matsuoka,R. Kodama,T. Osaka,S. Matsuyama,K. Yamauchi,H. Yumoto,T. Koyama,H. Ohashi,K. Tono,M. Yabashi，Applied Science，Vol. 10，No. 7，2020年03月，研究論文（学術雑誌）
Focusing mirror for coherent hard X-rays，Kazuto Yamauchi,Hidekazu Mimura,Satoshi Matsuyama,Hirokatsu Yumoto,Takashi Kimura,Yukio Takahashi,Kenji Tamasaku,Tetsuya Ishikawa，Synchrotron Light Sources and Free-Electron Lasers: Accelerator Physics, Instrumentation and Science Applications，p. 1093-1122，2020年01月01日，論文集(書籍)内論文
完全結晶基板上に成長したFe3O4極薄膜金属-絶縁体相転移特性，大坂藍,服部梓,田中秀和,藤大雪,山内和人,佐野泰久，日本表面真空学会学術講演会要旨集，公益社団法人日本表面真空学会，Vol. 2020，2020年
Atomically smooth Si surface planarized using a thin film catalyst in pure water，Pho van Bui,Daisetsu Toh,Shinsaku Shiroma,Taku Hagiwara,Ai Isohashi Osaka,Satoshi Matsuyama,Yasuhisa Sano,Kazuto Yamauchi，Proceedings of the 20th International Conference of the European Society for Precision Engineering and Nanotechnology, EUSPEN 2020，p. 43-44，2020年，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Cause of etch pits during the high speed plasma etching of silicon carbide and an approach to reduce their size，Y. Nakanishi,R. Mukai,S. Matsuyama,K. Yamauchi,Y. Sano，Materials Science Forum，Vol. 1004 MSF，p. 161-166，2020年，研究論文（国際会議プロシーディングス）
平成のX線光学・超精密加工を振り返る～高精度X線ナノ集光ミラーの開発と超精密加工～，山内和人，精密工学会誌，一般社団法人生産技術振興協会，Vol. 86，No. 1，p. 32-38，2020年01月
A micro channel-cut crystal X-ray monochromator for a self-seeded hard X-ray free-electron laser，T. Osaka,I. Inoue,R. Kinjo,T. Hirano,Y. Morioka,Y. Sano,K. Yamauchi,M. Yabashi，Journal of Synchrotron Radiation，Vol. 26，No. 5，p. 1496-1502，2019年09月，研究論文（学術雑誌）
触媒表面電位制御を取り入れた光電気化学触媒表面基準エッチング法によるSiC基板の高能率平坦化加工，大西諒典,木田英香,藤大雪,松山智至,佐野泰久,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，公益社団法人精密工学会，Vol. 2019A，p. 28-29，2019年08月20日
Full-field X-ray fluorescence microscope based on total-reflection advanced Kirkpatrick-Baez mirror optics，S. Matsuyama,J. Yamada,Y. Kohmura,M. Yambashi,T. Ishikawa,K. Yamauchi，Optics Express，Vol. 27，No. 13，p. 18318-18328，2019年06月，研究論文（学術雑誌）
Catalyzed chemical polishing of SiO2 glasses in pure water，D. Toh,P. V. Bui,A. Isohashi,N. Kidani,S. Matsuyama,Y. Sano,Y. Morikawa,K. Yamauchi，Review of Scientific Instruments，Vol. 90，No. 4，2019年04月，研究論文（学術雑誌）
Surface Finishing Method using Plasma Chemical Vaporization Machining for Narrow Channel Walls of X-ray Crystal Monochromators，T. Hirano,Y. Morioka,S. Matsumura,Y. Sano,T. Osaka,S. Matsuyama,M. Yabashi,K. Yamauchi，Int. J. Automation Technol.，Vol. 13，No. 2，p. 246-253，2019年03月，研究論文（学術雑誌）
Development of a glue-free bimorph mirror for use in vacuum chambers，Y. Ichii,H. Okada,H. Nakamori,A. Ueda,H. Yamaguchi,S. Matsuyama,K. Yamauchi，Review of Scientific Instruments，Vol. 90，No. 2，2019年02月，研究論文（学術雑誌）
Compact reflective imaging optics in hard X-ray region based on concave and convex mirrors，J. Yamada,S. Matsuyama,Y. Sano,Y. Kohmura,M. Yabashi,T. Ishikawa,K. Yamauchi，Optics Express，Vol. 27，No. 3，p. 3429-3438，2019年02月，研究論文（学術雑誌）
High-efficiency SiC polishing using a thin film catalyst in pure water，Pho Van Bui,Daisetsu Toh,Satoshi Matsuyama,Yasuhisa Sano,Kazuto Yamauchi，European Society for Precision Engineering and Nanotechnology, Conference Proceedings - 19th International Conference and Exhibition, EUSPEN 2019，p. 50-51，2019年，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Development of an abrasive-free polishing method for optical material using pure water and Ni catalyst，Daisetsu Toh,Ryosuke Ohnishi,Pho V. Bui,Ai Isohsahi,Satoshi Matsuyama,Yasuhisa Sano,Kazuto Yamauchi，Proceedings - 34th ASPE Annual Meeting，p. 474-477，2019年，研究論文（国際会議プロシーディングス）
High-efficiency planarization of SIC wafers by water-CARE (Catalyst-referred etching) employing photoelectrochemical oxidation，H. Kida,D. Toh,P. V. Bui,A. Isohashi,R. Ohnishi,S. Matsuyama,K. Yamauchi,Y. Sano，Materials Science Forum，Vol. 963 MSF，p. 525-529，2019年，研究論文（国際会議プロシーディングス）
High-efficiency planarization of GaN wafer by catalyst-referred etching with positive-biased photo-electrochemical oxidation，Ryosuke Ohnishi,Daisetsu Toh,Satoshi Matsuyama,Ai Isohashi,Yasuhisa Sano,Kazuto Yamauchi，Proceedings - 34th ASPE Annual Meeting，p. 79-83，2019年，研究論文（国際会議プロシーディングス）
物質の超高速変形と破壊：XFELを用いた観測のアプローチから，尾崎典雅,松岡健之,ALBERTAZZI Bruno,宮西宏併,片桐健登,梅田悠平,HARTLEY Nicholas,PIKUZ Tatiana,山内和人,兒玉了祐,松岡岳洋,奥地拓生,瀬戸雄介,丹下慶範,佐藤友子,関根利守,坂田修身,犬伏雄一,富樫格,籔内俊穀,矢橋牧名,VINCI Tommaso,KOENIG Michel，高圧討論会講演要旨集，Vol. 59th，2018年11月
Nanofocusing of X-ray free-electron laser using wavefront-corrected multilayer focusing mirrors，S. Matsuyama,T. Inoue,J. Yamada,J. Kim,H. Yumoto,Y. Inubushi,T. Osaka,I. Inoue,T. Koyama,K. Tono,H. Ohashi,M. Yabashi,T. Ishikawa,K. Yamauchi，Scientific Reports，Vol. 8，2018年11月，研究論文（学術雑誌）
Reflective Imaging Optics Using Concave and Convex Mirrors for a Compact and Achromatic Full-field X-ray Microscope，J. Yamada,S. Matsuyama,K. Hata,R. Hirose,Y. Takeda,Y. Kohmura,M. Yabashi,K. Omote,T. Ishikawa,K. Yamauchi，Microscopy and Microanalysis，Vol. 24，No. S2，p. 274-275，2018年08月，研究論文（学術雑誌）
High-Resolution Full-Field X-ray Microscope for 20-keV X-rays with Multilayer Imaging Mirrors，S. Matsuyama,J. Yamada,K. Hata,Y. Kohmura,M. Yabashi,T. Ishikawa,K. Yamauchi，Microscopy and Microanalysis，Vol. 24，No. S2，p. 284-285，2018年08月，研究論文（学術雑誌）
Hard-x-ray imaging mirror optics using concave and convex mirrors，J. Yamada,S. Matsuyama,Y. Sano,Y. Kohmura,M. Yabashi,T. Ishikawa,K. Yamauchi，International Conference on Synchrotron Radiation Instrumentation (SRI 2018)，2018年06月
Development of hybrid X-ray adaptive optical system based on piezo-driven deformable mirror and a mechanical mirror bender，H. Yamaguchi,T. Goto,H. Hayashi,S. Matsuyama,J. Sonoyama,K. Akiyama,H. Nakamori,Y. Sano,Y. Kohmura,M. Yabashi,T. Ishikawa,K. Yamauchi，International Conference on Synchrotron Radiation Instrumentation (SRI 2018)，2018年06月
Development of a multilayer Kirkpatrick-Baez mirror optics for X-ray free electron laser，T. Inoue,S. Matsuyama,S. Kawai,H. Yumoto,Y. Inubushi,T. Koyama,K. Tono,T. Osaka,H. Ohashi,M. Yabashi,T. Ishikawa,K. Yamauchi，International Conference on Synchrotron Radiation Instrumentation (SRI 2018)，2018年06月
Development of adaptive Kirkpatrick-Baez mirrors based on bimorph and mechanical bending，H. Nakamori,T. Goto,S. Matsuyama,H. Hayashi,H. Yamaguchi,J. Sonoyama,K. Akiyama,Y. Sano,Y. Kohmura,M. Yabashi,T. Ishikawa,H. Okada,K. Yamauchi，International Workshop on X-ray Optics and Metrology Satellite Meeting of SRI 2018 (IWXM 2018)，2018年06月
Development of reflective imaging optics using concave and convex mirrors，J. Yamada,S. Matsuyama,Y. Sano,Y. Kohmura,M. Yabashi,T. Ishikawa,K. Yamauchi，International Workshop on X-ray Optics and Metrology Satellite Meeting of SRI 2018 (IWXM 2018)，2018年06月
Fabrication of ultraprecise multilayer focusing mirrors using an X-ray grating interferometer and differential deposition technique，T. Inoue,S. Matsuyama,S. Kawai,H. Yumoto,Y. Inubushi,T. Koyama,K. Tono,T. Osaka,H. Ohashi,M. Yabashi,T. Ishikawa,K. Yamauchi，International Workshop on X-ray Optics and Metrology Satellite Meeting of SRI 2018 (IWXM 2018)，2018年06月
Nearly diffraction-limited hard X-ray line focusing with hybrid adaptive X-ray mirror based on mechanical and piezo-driven deformation，T. Goto,S. Matsuyama,H. Hayashi,H. Yamaguchi,J. Sonoyama,K. Akiyama,H. Nakamori,Y. Sano,Y. Kohmura,M. Yabashi,T. Ishikawa,K. Yamauchi，Optics Express，Vol. 26，No. 13，p. 17477-17486，2018年06月，研究論文（学術雑誌）
Development of high-resolution X-ray imaging optical system using multilayer imaging mirrors，K. Hata,J. Yamada,S. Matsuyama,Y. Sano,Y. Kohmura,M. Yabashi,T. Ishikawa,K. Yamauchi，International Conference on X-ray Optics and Applications 2018 (XOPT2018)，2018年04月
Development of nanofocusing system for X-ray free electron Laser (Study of nanobeam characterization)，T. Inoue,S. Matsuyama,S. Kawai,H. Yumoto,Y. Inubushi,T. Koyama,K. Tono,T. Osaka,H. Ohashi,M. Yabashi,T. Ishikawa,K. Yamauchi，International Conference on X-ray Optics and Applications 2018 (XOPT2018)，2018年04月
Compact and large-magnification full-field X-ray microscope using concave-convex imaging mirrors，J. Yamada,S. Matsuyama,Y. Sano,Y. Kohmura,M. Yabashi,T. Ishikawa,K. Yamauchi，International Conference on X-ray Optics and Applications 2018 (XOPT2018)，2018年04月
Systematic-error-free wavefront measurement using an X-ray single-grating interferometer，T. Inoue,S. Matsuyama,S. Kawai,H. Yumoto,Y. Inubushi,T. Osaka,I. Inoue,T. Koyama,K. Tono,H. Ohashi,M. Yabashi,T. Ishikawa,K. Yamauchi，Review of Scientific Instruments，Vol. 89，No. 4，p. 043106-1-043106-7，2018年04月，研究論文（学術雑誌）
Platinum-catalyzed hydrolysis etching of SiC in water: A density functional theory study，Pho Van Bui,Daisetsu Toh,Ai Isohashi,Satoshi Matsuyama,Kouji Inagaki,Yasuhisa Sano,Kazuto Yamauchi,Yoshitada Morikawa，Japanese Journal of Applied Physics，The Japan Society of Applied Physics，Vol. 57，No. 5，p. 055703-1-055703-5，2018年04月，研究論文（学術雑誌）
Characteristics and Mechanism of Catalyst-Referred Etching Method: Application to 4H-SiC，Pho Van Bui,Yasuhisa Sano,Yoshitada Morikawa,Kazuto Yamauchi，International Journal of Automation Technology，Vol. 12，No. 2，p. 154-159，2018年03月，研究論文（学術雑誌）
光電気化学酸化を利用した触媒表面基準エッチング法によるGaN基板の高能率平坦化，木田英香,藤大雪,大西亮輔,松山智至,佐野泰久,山内和人，年次大会，一般社団法人日本機械学会，Vol. 2018，2018年
High-efficiency planarization of SiC in pure water using a thin film catalyst，Pho Van Bui,Yuta Nakahira,Daisetsu Toh,Satoshi Matsuyama,Yasuhisa Sano,Kazuto Yamauchi，European Society for Precision Engineering and Nanotechnology, Conference Proceedings - 18th International Conference and Exhibition, EUSPEN 2018，p. 433-434，2018年，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Development of high efficiency polishing method using pure water and Ni catalyst，Daisetsu Toh,Pho Van Bui,Nakahira Yuta,Hideka Kida,Takahisa Ohgushi,Satoshi Matsuyama,Yasuhisa Sano,Kazuto Yamauchi，European Society for Precision Engineering and Nanotechnology, Conference Proceedings - 18th International Conference and Exhibition, EUSPEN 2018，p. 435-436，2018年，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Development of new diagnostics based on LiF detector for pump-probe experiments，T. Pikuz,A. Faenov,N. Ozaki,T. Matsuoka,B. Albertazzi,N.J. Hartley,K. Miyanishi,K. Katagiri,S. Matsuyama,K. Yamauchi,H. Habara,Y. Inubushi,T. Togashi,H. Yumoto,H. Ohashi,Y. Tange,T. Yabuuchi,M. Yabashi,A.N. Grum-Grzhimailo,A. Casner,I. Skobelev,S. Makarov,S. Pikuz,G. Rigon,M. Koenig,K.A. Tanaka,T. Ishikawa,R. Kodama，Matter and Radiation at Extremes，Vol. 3，No. 4，p. 197-206，2018年01月，研究論文（学術雑誌）
Performance of a hard X-ray split-and-delay optical system with a wavefront division，Takashi Hirano,Taito Osaka,Yuki Morioka,Yasuhisa Sano,Yuichi Inubushi,Tadashi Togashi,Ichiro Inoue,Satoshi Matsuyama,Kensuke Tono,Aymeric Robert,Jerome B. Hastings,Kazuto Yamauchi,Makina Yabashi，Journal of Synchrotron Radiation，Vol. 25，No. 1，p. 20-25，2018年01月，研究論文（学術雑誌）
衝撃圧縮された多結晶コランダムの時分割XFELその場観察，丹下慶範,尾崎典雅,瀬戸雄介,佐藤友子,奥地拓生,松岡健之,高橋謙次郎,宮西宏併,ALBERTAZZI Bruno・HARTLEY Nicholas,梅田悠平,西川豊人,松山智至,山内和人,関根利守,田中和夫,兒玉了祐,籔内俊毅,矢橋牧名，2017年11月
Ellipsoidal mirror for two-dimensional 100-nm focusing in hard X-ray region，H. Yumoto,T. Koyama,S. Matsuyama,Y. Kohmura,K. Yamauchi,T. Ishikawa,H. Ohashi，Scientific Reports，Vol. 7，2017年11月，研究論文（学術雑誌）
Characterization of temporal coherence of hard x-ray free-electron laser pulses with single-shot interferograms，T. Osaka,T. Hirano,Y. Morioka,Y. Sano,Y. Inubushi,I. Inoue,K. Tono,A. Robert,J. B. Hastings,K. Yamauchi,M. Yabashi，IUCrJ，Vol. 4，No. 6，p. 728-733，2017年11月，研究論文（学術雑誌）
Development of concave-convex imaging mirror system for a compact and achromatic full-field x-ray microscope，Jumpei Yamada,Satoshi Matsuyama,Shuhei Yasuda,Yoshiki Kohmura,Makina Yabashi,Tetsuya Ishikawa,Kazuto Yamauchi,Yasuhisa Sano，Proc. of SPIE, Advances in X-Ray/EUV Optics and Components XII，SPIE，Vol. 103860，p. 103860C-1-103860C-6，2017年09月06日，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Dynamic compression of Tantalum up to 120 GPa and associated spallation process using an XFEL probe，B. Albertazzi,N. Ozaki,V. Zhakhovsky,A. Faenov,H. Habara,M. Harmand,N. J. Hartley,D. K. Ilnitsky,N. Inogamov,Y. Inubushi,T. Ishikawa,T. Katayama,H. Koyama,M. Koenig,A. Krygier,T. Matsuoka,S. Matsuyama,E. McBride,K. Migdal,G. Morard,H. Ohashi,T. Okuchi,T. Pikuz,N. Purevjav,O. Sakata,Y. Sano,T. Sato,T. Sekine,T. Seto,K. Takahashi,K. A. Tanaka,Y. Tange,T. Togashi,K. Tono,Y. Umeda,T. Vinci,M. Yabashi,T. Yabuuchi,K. Yamauchi,H. Yumoto,R. Kodama，2017年09月
Development of an X-ray imaging optical system consisting of concave and convex mirrors，J. Yamada,S. Matsuyama,S. Yasuda,Y. Sano,Y. Kohmura,M. Yabashi,T. Ishikawa,K. Yamauchi，The 24th Congress of the International Comission for Optics, X-ray and High-energy Optics，2017年08月
Development of crystal-based split-and-delay optics with wavefront splitting at SACLA，T. Hirano,T. Osaka,Y. Sano,Y. Inubushi,T. Togashi,I. Inoue,S. Matsuyama,K. Tono,K. Yamauchi,M. Yabashi，SPIE Optics+Photonics2017，p. 187-187，2017年08月
Development of measurement system for ellipsoidal mirrors，H. Nakamori,Y. Ichii,H. Okada,A. Ueda,T. Tsumura,S. Matsuyama,K. Yamauchi，SPIE Optics+Photonics2017，p. 185-185，2017年08月
Development of Precise Wavefront Measurement Method for X-Ray Free Electron Laser Focusing System，T. Inoue,S. Matsuyama,S. Kawai,H. Yumoto,Y. Inubushi,T. Koyama,K. Tono,H. Ohashi,T. Katayama,S. Goto,T. Ishikawa,M. Yabashi,K. Yamauchi，The 24th Congress of the International Comission for Optics, X-ray and High-energy Optics，2017年08月
Full-field X-ray fluorescence imaging based on total-reflection imaging mirrors，S. Matsuyama,S. Yasuda,J. Yamada,Y. Kohmura,M. Yabashi,T. Ishikawa,K. Yamauchi，The 24th Congress of the International Comission for Optics, X-ray and High-energy Optics，2017年08月
Development of hybrid adaptive x-ray focusing system based on piezoelectric bimorph mirror and mirror bender，T. Goto,S. Matsuyama,H. Hayashi,J. Sonoyama,K. Akiyama,H. Nakamori,Y. Sano,K. Yamauchi，SPIE Optics+Photonics2017，p. 187-187，2017年08月
Development of full-field x-ray fluorescence microscope using total-reflection mirrors，S. Matsuyama,J. Yamada,S. Yasuda,Y. Kohmura,M. Yabashi,T. Ishikawa,K. Yamauchi，SPIE Optics+Photonics2017，p. 193-193，2017年08月
Shock response to solid germanium，Kohei Miyanishi,Norimasa Ozaki,Takeshi Matsuoka,Satoshi Matsuyama,Kenjiro Takahashi,Hideaki Habara,Tatiana Pikuz,Anatoly Faenov,Kazuto Yamauchi,Ryosuke Kodama,Kazuo Tanaka,Yusuke Seto,Yoshinobu Tange,Toshinori Yabuuchi,Yuichi Inubushi,Tadashi Togashi,Makina Yabashi,Tetsuya Ishikawa,Michel Koenig,Tommaso Vinci,Takuo Okuchi,Nicholas Hartley,Osami Sakata,Toshimori Sekine,Emma McBride，2017年07月
Development of new diagnostics in the interests of pumpprobe experiments，T. Pikuz,A. Faenov,N. Ozaki,T. Matsuoka,B. Albertazzi,N.Hartely,S. Matsuyama,K. Yamauchi,H. Habara,Y. Inubushi,T. Togashi,H. Yumoto,H. Ohashi,Y. Tange,T. Yabuuchi,M. Yabashi,A. Grum-Grzhimailo,A. Casner,G. Rigon,M. Koenig,K. A. Tanaka,T. Ishikawa,R. Kodama，2017年06月
Measurement of the X-ray Spectrum of a Free Electron Laser with a Wide-Range High-Resolution Single-Shot Spectrometer，Y. Inubushi,I. Inoue,J. Kim,A. Nishihara,S. Matsuyama,H. Yumoto,T. Koyama,K. Tono,H. Ohashi,K. Yamauchi,M. Yabashi，Applied Sciences，Vol. 7，No. 6，p. 584-1-584-5，2017年06月，研究論文（学術雑誌）
Dynamic fracture of tantalum under extreme tensile stress，B. Albertazzi,N. Ozaki,V. Zhakhovsky,A. Faenov,H. Habara,M. Harmand,N. Hartley,D. Ilnitsky,N. Inogamov,Y. Inubushi,T. Ishikawa,T. Katayama,T. Koyama,M. Koenig,A. Krygier,T. Matsuoka,S. Matsuyama,E. McBride,K. P. Migdal,G. Morard,H. Ohashim T. Okuchi,T. Pikuz,N. Purejav,O. Sakata,Y. Sano,T. Sato,T. Sekine,Y. Seto,K. Takahashi,K. Tanaka,Y. Tange,T. Togashi,K. Tono,Y. Umeda,T. Vinci,M. Yabashi,T. Yabuuchi,K. Yamauchi,H. Yumoto,R. Kodama，Science Advances，Vol. 3，No. 6，2017年06月，研究論文（学術雑誌）
Chemical etching of silicon carbide in pure water by using platinum catalyst，A. Isohashi,P. V. Bui,S. Matsuyama,Y. Sano,K. Inagaki,Y. Morikawa,K. Yamauchi，Applied Phsyics Letters，Vol. 110，No. 20，2017年05月，研究論文（学術雑誌）
Hard X-ray Split-and-Delay Optics with wavefront Division at SACLA，T. Hirano,T. Osaka,Y. Sano,Y. Inubushi,T. Togashi,I. Inoue,S. Matsuyama,K. Tono,K. Yamauchi,M. Yabashi，International conference on X-ray optics and applications 2017 (XOPT'17) in OPIC2017，p. 34-34，2017年04月
High-magnification X-ray imaging mirror system consisting of elliptical concave and hyperbolic convex mirrors，J. Yamada,S. Matsuyama,S. Yasuda,Y. Sano,Y. Kohmura,M. Yabashi,T. Ishikawa,K. Yamauchi，International conference on X-ray optics and applications 2017 (XOPT'17) in OPIC2017，p. 66-66，2017年04月
Development of a multilayer KB mirror sysem for sub-10nm XFEL focusing，S. Kawai,S. Matsuyama,T. Inoue,H. Yumoto,Y. Inubushi,T. Osaka,T. Koyama,K. Tono,H. Ohashi,M. Yabashi,T. Ishikawa,K. Yamauchi，International conference on X-ray optics and applications 2017 (XOPT'17) in OPIC2017，p. 61-62，2017年04月
Development of calibration method for X-ray single-grating interferometry，T. Inoue,S. Matsuyama,S. Kawai,H. Yumoto,Y. Inubushi,T. Koyama,K. Tono,H. Ohashi,T. Katayama,S. Goto,T. Ishikawa,M. Yabashi,K. Yamauchi，International conference on X-ray optics and applications 2017 (XOPT'17) in OPIC2017，p. 59-60，2017年04月
Achromatic and High-Resolution Full-Field X-ray Microscope and its Applicaiton，S. Matsuyama,J. Yamada,S. Yasuda,Y. Kohmura,H. Okadam,Y. Sano,M. Yabashi,T. Ishikawa,K. Yamauchi，International conference on X-ray optics and applications 2017 (XOPT'17) in OPIC2017，p. 10-11，2017年04月
50-nm-resolution full-field X-ray microscope without chromatic aberration using total-reflection imaging mirrors，S. Matsuyama,S. Yasuda,J. Yamada,H. Okada,Y. Kohmura,M Yabashi,T. Ishikawa,K. Yamauchi，Scientific Reports，Vol. 7，2017年04月，研究論文（学術雑誌）
全反射ミラーを用いた高分解能かつ色収差のない結像型X線顕微鏡の開発ー様々な観察法への応用ー，松山智至,安田周平,山田純平,佐野泰久,香村芳樹,矢橋牧名,石川哲也,山内和人，2017年度精密工学会春季大会学術講演会，2017年03月
Ultrafast observation of lattice dynamics in laser-irradiated gold foils，N. J. Hartley,N. Ozaki,T. Matsuoka,B. Albertazzi,A. Faenov,Y. Fujimoto,H. Habara,M. Harmand,Y. Inubushi,T. Katayama,M. Koenig,A. Krygier,P. Mabey,Y. Matsumura,S. Matsuyama,E. E. McBride,K. Miyanishi,G. Morard,T. Okuchi,T. Pikuz,O. Sakata,Y. Sano,T. Sato,T. Sekine,Y. Seto,K. Takahashi,K. A. Tanaka,Y. Tange,T. Togashi,Y. Umeda,T. Vinci,M. Yabashi,T. Yabuuchi,K. Yamauchi,R. Kodama，Applied Physics Letters，Vol. 110，No. 7，p. 071905-071905，2017年02月，研究論文（学術雑誌）
Simulation of concave-convex imaging mirror system for development of a compact and achromatic full-field x-ray microscope，J. Yamada,S. Matsuyama,Y. Sano,K. Yamauchi，Applied Optics，Vol. 56，No. 4，p. 967-974，2017年02月，研究論文（学術雑誌）
光電気化学酸化を援用した触媒表面基準エッチング法による窒化ガリウムの高能率平坦化，木田英香,藤大雪,中平雄太,松山智至,佐野泰久,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，公益社団法人精密工学会，Vol. 2017A，p. 19-20，2017年
Platinum-assisted chemical etching of SiC: A density functional theory study，Bui Pho Van,Toh Daisetsu,Inagaki Kouji,Sano Yasuhisa,Yamauchi Kazuto,Morikawa Yoshitada，Proceedings of JSPE Semestrial Meeting，The Japan Society for Precision Engineering，Vol. 2017A，p. 251-252，2017年
Stabilization of removal rate of silica glass on catalyst-referred etching by cleaning catalyst surface，Yuta Nakahira,Ai Isohashi,Tatsuaki Inada,Daisetsu Toh,Hideka Kida,Satoshi Matsuyama,Yasuhisa Sano,Kazuto Yamauchi，ICPT 2017 - International Conference on Planarization/CMP Technology，p. 110-114，2017年，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Stabilization method of transition metal catalyst for high efficiency catalyst-referred etching (CARE) of silicon carbide，Daisetsu Toh,Ai Isohashi,Tatuaki Inada,Yuta Nakahira,Hideka Kida,Satoshi Matuyama,Yasuhisa Sano,Kazuto Yamauchi，ICPT 2017 - International Conference on Planarization/CMP Technology，p. 106-109，2017年，研究論文（国際会議プロシーディングス）
放射光X線のための超高精度X線ミラー開発の最前線，松山智至,山内和人，精密工学会誌，公益社団法人精密工学会，Vol. 83，No. 4，p. 300-304，2017年
表面吸着活性種の輸送を用いたドライ平坦化法の開発，両粂玲志,宮崎俊亘,佐野泰久,松山智至,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，公益社団法人精密工学会，Vol. 2017，p. 541-542，2017年
高濃度SF6ガスを用いたサブ大気圧プラズマエッチングによるSiC基板の高能率薄化加工，井上裕貴,田尻光毅,向井莉紗,佐野泰久,松山智至,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，公益社団法人精密工学会，Vol. 2017，p. 975-976，2017年
多層膜KBミラーを用いたX線自由電子レーザーナノ集光システムの開発，川合蕉吾,松山智至,井上陽登,湯本博勝,犬伏雄一,小山貴久,登野健介,大橋治彦,大坂泰斗,矢橋牧名,石川哲也,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，公益社団法人精密工学会，Vol. 2017，p. 959-960，2017年
全反射ミラーを用いた高分解能かつ色収差のない結像型X線顕微鏡の開発，松山智至,安田周平,山田純平,佐野泰久,香村芳樹,矢橋牧名,石川哲也,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，公益社団法人精密工学会，Vol. 2017，p. 957-958，2017年
Planarization of SiC and oxide surfaces by using Catalyst-Referred Etching with water，Pho Van Bui,Ai Isohashi,Daisetsu Toh,Satoshi Matsuyama,Kouji Inagaki,Yasuhisa Sano,Kazuto Yamauchi，Proceedings of the 17th International Conference of the European Society for Precision Engineering and Nanotechnology, EUSPEN 2017，p. 157-158，2017年，研究論文（国際会議プロシーディングス）
ニッケル触媒を利用した純水ベースの触媒表面基準エッチング法の開発，藤大雪,礒橋藍,稻田辰昭,中平雄太,木田英香,松山智至,佐野泰久,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，公益社団法人精密工学会，Vol. 2017，No. 0，p. 35-36，2017年
触媒表面基準エッチング法における水素水を用いた被毒除去法の提案，中平雄太,礒橋藍,Bui Pho,稻田辰昭,藤大雪,木田英香,松山智至,佐野泰久,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，公益社団法人精密工学会，Vol. 2017，No. 0，p. 1-2，2017年
Visualization of intracellular elements using scanning X-ray fluorescence microscopy，Mari Shimura,Lukasz Szyrwiel,Satoshi Matsuyama,Kazuto Yamauchi，Metallomics: Recent Analytical Techniques and Applications，Springer Japan，p. 63-92，2017年01月01日，論文集(書籍)内論文
Change in surface morphology of Si (100) wafer after oxidation with atmospheric-pressure plasma，Hiroyasu Takei,Satoshi Kurio,Satoshi Matsuyama,Kazuto Yamauchi,Yasuhisa Sano，Key Engineering Materials，Trans Tech Publications Ltd，Vol. 723，p. 242-246，2017年，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Generation of apodized X-ray illumination and its application to scanning and diffraction microscopy，K. P. Khakurel,T. Kimura,H. Nakamori,T. Goto,S. Matsuyama,T. Sasaki,M. Takei,Y. Kohmura,T. Ishikawa,K. Yamauchi,Y. Nishino，Journal of Synchrotron Radiation，Vol. 24，No. 1，p. 142-149，2017年01月，研究論文（学術雑誌）
Imaging of intracellular fatty acids by scanning X-ray fluorescence microscopy，Mari Shimura,Hideo Shindou,Lukasz Szyrwiel,Suzumi M. Tokuoka,Fumie Hamano,Satoshi Matsuyama,Mayumi Okamoto,Akihiro Matsunaga,Yoshihiro Kita,Yukihito Ishizaka,Kazuto Yamauchi,Yoshiki Kohmura,Ryszard Lobinski,Isao Shimizu,Takao Shimizu，FASEB JOURNAL，FEDERATION AMER SOC EXP BIOL，Vol. 30，No. 12，p. 4149-4158，2016年12月，研究論文（学術雑誌）
Pit Formation, Patterning and Flattening of Ge Surfaces in O2-Containing Water by Metal-Assisted Chemical Etching，T. Kawase,A. Mura,Y. Saito,T. Okamoto,K. Kawai,Y. Sano,K. Yamauchi,M. Morita,K. Arima，Meeting Program of PRiME 2016，p. 124-124，2016年10月
Development of array-type atmospheric-pressure RF plasma generator with electric on-off control for high-throughput numerically controlled processes，H. Takei,S. Kurio,S. Matsuyama,K. Yamauchi,Y. Sano，Review of Scientific Instruments，Vol. 87，No. 10，2016年10月，研究論文（学術雑誌）
Development of an x-ray imaging optical system based on a combination of concave and convex mirrors，Satoshi Matsuyama,Jumpei Yamada,Yasuhisa Sano,Kazuto Yamauchi，SPIE Optics+Photonics，2016年09月
Imaging of intracellular fatty acids by scanning X-ray fluorescence microscopy，M. Shimura,H. Shindou,L. Szyrwiel,S. M. Tokuoka,F. Hamano,S. Matsuyama,M. Okamoto,A. Matsunaga,Y. Kita,Y. Ishizaka,K. Yamauchi,Y. Kohmura,R. Lobinski,I. Shimizu,T. Shimizu，The FASEB Journal，Vol. 30，No. 12，p. 001-010，2016年09月，研究論文（学術雑誌）
Progress in precision Wolter mirrors for soft x-ray observations of the sun，Taro Sakao,Satoshi Matsuyama,Takumi Goto,Kazuto Yamauchi,Yoshiki Kohmura,Yoshinori Suematsu,Noriyuki Narukage，SPIE Optics+Photonics，2016年08月
Achromatic full-field X-ray microscope with 50 nm resolution and its applications，S. Matsuyama,S. Yasuda,H. Okada,Y. Kohmura,M. Yabashi,T. Ishikawa,K. Yamauchi，13th International Conference on X-ray Microscopy (XRM2016)，2016年08月
A Two-stage Adaptive X-ray Focusing System using Four Piezoelectric Deformable Mirrors，T. Goto,H. Nakamori,S. Matsuyama,H. Hayashi,T. Kimura,K. P. Khakurel,Y. Sano,Y. Kohmura,M. Yabashi,Y. Nishino,T. Ishikawa,K. Yamauchi，13th International Conference on X-ray Microscopy (XRM2016)，2016年08月
Novel shape measurement method for imaging mirrors using an x-ray grating interferometer，Satoshi Matsuyama,Ayumi Kime,Taro Sakao,Yoshinori Suematsu,Yoshiki Kohmura,Makina Yabashi,Tetsuya Ishikawa,Kazuto Yamauchi，SPIE Optics+Photonics，2016年08月
Advancement of Hard X-ray Nano-focusing Ellipsoidal Mirror at SPring-8，H. Yumoto,T. Koyama,S. Matsuyama,Y. Kohmura,K. Yamauchi,T. Ishikawa,H. Ohashi，Synchrotron Radiation News，Vol. 29，No. 4，p. 27-31，2016年08月，研究論文（学術雑誌）
Simulation and Experimental Study of Wavefront Measurement Accuracy of the Pencil-Beam Method，T. Goto,S. Matsuyama,H. Nakamori,Y. Sano,Y. Kohmura,M. Yabashi,T. Ishikawa,K. Yamauchi，Synchrotron Radiation News，Vol. 29，No. 4，p. 32-36，2016年08月，研究論文（学術雑誌）
Advancement of Hard X-ray Nano-focusing Ellipsoidal Mirror at SPring-8，H. Yumoto,T. Koyama,S. Matsuyama,Y. Kohmura,K. Yamauchi,T. Ishikawa,H. Ohashi，Synchrotron Radiation News，Vol. 29，No. 4，p. 27-31，2016年08月，研究論文（学術雑誌）
Indirect monitoring shot-to-shot shock waves strength reproducibility during pump–probe experiments，T. A. Pikuz,A. Ya. Faenov,N. Ozaki,N. J. Hartley,B. Albertazzi,T. Matsuoka,K. Takahashi,H. Habara,Y. Tange,S. Matsuyama,K. Yamauchi,R. Ochante,K. Sueda,O. Sakata,T. Sekine,T. Sato,Y. Umeda,Y. Inubushi,T. Yabuuchi,T. Togashi,T. Katayama,M. Yabashi,M. Harmand,G. Morard,M. Koenig,V. Zhakhovsky,N. Inogamov,A. S. Safronova,A. Stafford,I. Yu. Skobelev,S. A. Pikuz,T. Okuchi,Y. Seto,K. A. Tanaka,T. Ishikawa,R. Kodama，Journal of Applied Physics，Vol. 120，No. 3，2016年07月，研究論文（学術雑誌）
Development of speckle-free channel-cut crystal optics using plasma chemical vaporization machining for coherent X-ray applications，T. Hirano,T. Osaka,Y. Sano,Y. Inubushi,S. Matsuyama,K. Tono,T. Ishikawa,M. Yabashi,K. Yamauchi，Review of Scientific Instruments，AIP Publishing，Vol. 87，No. 6，2016年06月，研究論文（学術雑誌）
Fabrication of Strain-Free Crystal Optics for a Hard X-ray Split-and-Delay Optical System，T. Hirano,T. Osaka,Y. Sano,Y. Inubushi,S. Matsuyama,K. Tono,T. Ishikawa,M. Yabashi,K. Yamauchi，International Conference on X-ray Optics, Detectors, Sources, and their Applications 2016 (XOPT2016)，2016年05月
High-resolution imaging XAFS using advanced Kirkpatrick-Baez mirror optics，S. Yasuda,S. Matsuyama,H. Okada,Y. Sano,Y. Kohmura,M. Yabashi,T. Ishikawa,K. Yamauchi，International Conference on X-ray Optics, Detectors, Sources, and their Applications 2016 (XOPT2016)，2016年05月
Size-controllable X-ray beam collimation using a two-stage adaptive Kirkpatrick-Baez mirror system based on piezoelectric deformable mirrors，T. Goto,H. Nakamori,S. Matsuyama,H. Hayashi,Y. Sano,Y. Kohmura,M. Yabashi,T. Ishikawa,K. Yamauchi，International Conference on X-ray Optics, Detectors, Sources, and their Applications 2016 (XOPT2016)，2016年05月
A variable-numerical-aperture x-ray focusing system using a two-stage adaptive Kirkpatrick-Baez mirrors based on piezo electric deformable mirrors，H. Hayashi,T. Goto,H. Nakamori,S. Matsuyama,T. Kimura,K. P. Khakurel,Y. Sano,Y. Kohmura,M. Yabashi,Y. Nishino,T. Ishikawa,K. Yamauchi，International Conference on X-ray Optics, Detectors, Sources, and their Applications 2016 (XOPT2016)，2016年05月
Wavefront measurement of sub-10-nm XFEL nanobeam produced by multilayer focusing mirrors，S. Kawai,S. Matsuyama,A. Nishihara,H. Yumoto,Y. Inubushi,T. Koyama,K. Tono,H. Ohashi,T. Katayama,S. Goto,T. Ishikawa,M. Yabashi,K. Yamauchi，International Conference on X-ray Optics, Detectors, Sources, and their Applications 2016 (XOPT2016)，2016年05月
Wavelength-tunable hard X-ray split-and-delay optics at SACLA，T. Osaka,T. Hirano,Y. Sano,Y. Inubushi,S. Matsuyama,K. Tono,T. Ishikawa,K. Yamauchi,M. Yabashi，International Conference on X-ray Optics, Detectors, Sources, and their Applications 2016 (XOPT2016)，2016年05月
Development of a compact x-ray imaging optical system using two pairs of concave and convex mirrors，J. Yamada,S. Matsuyama,K. Yamauchi，International Conference on X-ray Optics, Detectors, Sources, and their Applications 2016 (XOPT2016)，2016年05月
Stitching interferometry for ellipsoidal x-ray mirrors，H. Yumoto,T. Koyama,S. Matsuyama,K. Yamauchi,H. Ohashi，Review of Scientific Instruments，Vol. 87，No. 5，2016年05月，研究論文（学術雑誌）
Damage threshold of coating materials on x-ray mirror for x-ray free electron laser，T. Koyama,H. Yumoto,T. Miura,K. Tono,T. Togashi,Y. Inubushi,T. Katayama,J. Kim,S. Matsuyama,M. Yabashi,K. Yamauchi,H. Ohashi，Review of Scientific Instruments，Vol. 87，No. 5，2016年05月，研究論文（学術雑誌）
Damage threshold of coating materials on x-ray mirror for x-ray free electron laser，Takahisa Koyama,Hirokatsu Yumoto,Takanori Miura,Kensuke Tono,Tadashi Togashi,Yuichi Inubushi,Tetsuo Katayama,Jangwoo Kim,Satoshi Matsuyama,Makina Yabashi,Kazuto Yamauchi,Haruhiko Ohashi，Review of Scientific Instruments，Vol. 87，No. 5，2016年05月，研究論文（学術雑誌）
Stitching interferometry for ellipsoidal x-ray mirrors，H. Yumoto,T. Koyama,S. Matsuyama,K. Yamauchi,H. Ohashi，Review of Scientific Instruments，Vol. 87，No. 5，2016年05月，研究論文（学術雑誌）
X線自由電子レーザーのナノ集光とX線非線形光学の探索，山内和人，生産と技術，一般社団法人生産技術振興協会，Vol. 68，No. 2，p. 46-51，2016年04月
Wavelength-tunable split-and-delay optical system for hard X-ray free-electron lasers，T. Osaka,T. Hirano,Y. Sano,Y. Inubushi,S. Matsuyama,K. Tono,T. Ishikawa,K. Yamauchi,M. Yabashi，Optics Express，Vol. 24，No. 9，p. 9187-9201，2016年04月，研究論文（学術雑誌）
Nearly diffraction-limited X-ray focusing with variable-numerical aperture focusing optical system based on four deformable mirrors，Satoshi Matsuyama,Hiroki Nakamori,Takumi Goto,Takashi Kimura,Krishna P. Khakurel,Yoshiki Kohmura,Yasuhisa Sano,Makina Yabashi,Tetsuya Ishikawa,Yoshinori Nishino,Kazuto Yamauchi，SCIENTIFIC REPORTS，NATURE PUBLISHING GROUP，Vol. 6，2016年04月，研究論文（学術雑誌）
Chromatin folding and DNA replication inhibition mediated by a highly antitumor-active tetrazolato-bridged dinuclear platinum(II) complex.，Imai R,Komeda S,Shimura M,Tamura S,Matsuyama S,Nishimura K,Rogge R,Matsunaga A,Hiratani I,Takata H,Uemura M,Iida Y,Yoshikawa Y,Hansen JC,Yamauchi K,Kanemaki MT,Maeshima K，Scientific reports，Vol. 6，2016年04月，研究論文（学術雑誌）
Nearly diffraction-limited X-ray focusing with variable-numerical-aperture focusing optical system based on four deformable mirrors，S. Matsuyama,H. Nakamori,T. Goto,T. Kimura,K. P. Khakurel,Y. Kohmura,Y. Sano,M. Yabashi,T. Ishikawa,Y. Nishino,K. Yamauchi，Scientific Reports，Vol. 6，2016年04月，研究論文（学術雑誌）
Chromatin folding and DNA replication inhibition mediated by a highly antitumor-active tetrazolato-bridged dinuclear platinum(II) complex，Ryosuke Imai,Seiji Komeda,Mari Shimura,Sachiko Tamura,Satoshi Matsuyama,Kohei Nishimura,Ryan Rogge,Akihiro Matsunaga,Ichiro Hiratani,Hideaki Takata,Masako Uemura,Yutaka Iida,Yuko Yoshikawa,Jeffrey C. Hansen,Kazuto Yamauchi,Masato T. Kanemaki,Kazuhiro Maeshima，SCIENTIFIC REPORTS，NATURE PUBLISHING GROUP，Vol. 6，2016年04月，研究論文（学術雑誌）
Wavelength-tunable split-and-delay optical system for hard X-ray free-electron lasers，T. Osaka,T. Hirano,Y. Sano,Y. Inubushi,S. Matsuyama,K. Tono,T. Ishikawa,K. Yamauchi,M. Yabashi，Optics Express，Vol. 24，No. 9，p. 9187-9201，2016年04月，研究論文（学術雑誌）
X線自由電子レーザーのナノ集光とX線非線形光学の探索，山内和人，生産と技術，一般社団法人生産技術振興協会，Vol. 68，No. 2，p. 46-51，2016年04月
Fabrication of X-ray imaging mirrors for an achromatic and high-resolution full-field X-ray microscope，Jumpei Yamada,Satoshi Matsuyama,Shuhei Yasuda,Yasuhisa Sano,Kazuto Yamauchi，Proceedings - 32nd ASPE Annual Meeting，p. 143-146，2016年，研究論文（国際会議プロシーディングス）
プラズマエッチングによる基板の基準面加工法の開発，宮崎俊亘,佐野泰久,松山智至,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，公益社団法人精密工学会，Vol. 2016，p. 365-366，2016年
革新的CMP/P-CVM融合装置の設計・試作（第10報），佐野泰久,土肥俊郎,黒河周平,會田英雄,大山幸希,宮下忠一,住澤春男,宮崎俊亘,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，公益社団法人精密工学会，Vol. 2016，p. 377-378，2016年
光電気化学酸化を援用した触媒表面基準エッチング法による炭化ケイ素の高能率平坦化，稲田辰昭,礒橋藍,佐野泰久,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，公益社団法人精密工学会，Vol. 2016，p. 363-364，2016年
サブ大気圧プラズマを用いたプラズマエッチングによる2インチSiC基板の高能率加工，田尻光毅,井上裕貴,佐野泰久,松山智至,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，公益社団法人精密工学会，Vol. 2016，p. 929-930，2016年
小型かつ高拡大倍率が実現可能なX線結像光学系の開発，山田純平,松山智至,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，公益社団法人精密工学会，Vol. 2016，p. 913-914，2016年
二段アダプティブKBミラー光学系を用いた硬X線平行ビームの形成，後藤拓実,中森紘基,松山智至,佐野泰久,香村芳樹,矢橋牧名,石川哲也,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，公益社団法人精密工学会，Vol. 2016，p. 911-912，2016年
硬X線用部分回転楕円面集光ミラーの作製と集光評価，湯本博勝,小山貴久,松山智至,香村芳樹,山内和人,石川哲也,大橋治彦，精密工学会学術講演会講演論文集，公益社団法人精密工学会，Vol. 2016，p. 909-910，2016年
Investigation of catalytic metals for a catalyst referred etching in pure water，Ai Isohashi,Tatsuaki Inada,Daisetsu Toh,Yuta Nakahira,Takahito Sugiura,Naotaka Kidani,Koji Inagaki,Yasihisa Sano,Satoshi Matsuyama,Kazuto Yamauchi，Proceedings of the 16th International Conference of the European Society for Precision Engineering and Nanotechnology, EUSPEN 2016，2016年，研究論文（国際会議プロシーディングス）
触媒表面基準エッチング法による GaN 基板平坦化における加工速度の高速化，稻田辰昭,礒橋藍,藤大雪,中平雄太,松山智至,佐野泰久,山内和人，年次大会，一般社団法人日本機械学会，Vol. 2016，No. 0，2016年
触媒表面基準エッチング法における被毒物除去による加工速度安定化手法の開発，中平雄太,礒橋藍,Bui Pho,稻田辰昭,藤大雪,松山智至,佐野泰久,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，公益社団法人精密工学会，Vol. 2016，No. 0，p. 211-212，2016年
水中で酸素還元触媒と接触したGe表面のエッチング特性と平坦化への応用，中出和希,森大地,川瀬達也,川合健太郎,佐野泰久,山内和人,森田瑞穂,有馬健太，Extended Abstracts of the 21st Workshop on Symposium on Electron Device Interface Technology，p. 9-12，2016年01月
Focusing mirror for coherent hard X-rays，Kazuto Yamauchi,Hidekazu Mimura,Satoshi Matsuyama,Hirokatsu Yumoto,Takashi Kimura,Yukio Takahashi,Kenji Tamasaku,Tetsuya Ishikawa，Synchrotron Light Sources and Free-Electron Lasers: Accelerator Physics, Instrumentation and Science Applications，Springer International Publishing，p. 927-956，2016年01月01日，論文集(書籍)内論文
X-ray microfocusing with off-axis ellipsoidal mirror，Hirokatsu Yumoto,Takahisa Koyama,Satoshi Matsuyama,Yoshiki Kohmura,Kazuto Yamauchi,Tetsuya Ishikawa,Haruhiko Ohashi，PROCEEDINGS OF THE 12TH INTERNATIONAL CONFERENCE ON SYNCHROTRON RADIATION INSTRUMENTATION (SRI2015)，AMER INST PHYSICS，Vol. 1741，2016年，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Wave-optical assessment of alignment tolerances in nano-focusing with ellipsoidal mirror，Hirokatsu Yumoto,Takahisa Koyama,Satoshi Matsuyama,Kazuto Yamauchi,Haruhiko Ohashi，XRM 2014: PROCEEDINGS OF THE 12TH INTERNATIONAL CONFERENCE ON X-RAY MICROSCOPY，AMER INST PHYSICS，Vol. 1696，2016年，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Size-changeable x-ray beam collimation using an adaptive x-ray optical system based on four deformable mirrors，T. Goto,S. Matsuyama,H. Nakamori,H. Hayashi,Y. Sano,Y. Kohmura,M. Yabashi,T. Ishikawa,K. Yamauchi，Proceedings of SPIE，Vol. 9965，2016年，研究論文（国際会議プロシーディングス）
High-efficiency planarization method combining mechanical polishing andatmospheric-pressure plasma etching for hard-to-machine semiconductorsubstrates，Y. Sano,K. Shiozawa,T. Doi,H. Aida,T. Miyashita,K. Yamauchi，Mechanical Engineering Journal，The Japan Society of Mechanical Engineers，Vol. 3，No. 1，2016年01月，研究論文（学術雑誌）
High-efficiency planarization method combining mechanical polishing andatmospheric-pressure plasma etching for hard-to-machine semiconductorsubstrates，Y. Sano,K. Shiozawa,T. Doi,H. Aida,T. Miyashita,K. Yamauchi，Mechanical Engineering Journal，The Japan Society of Mechanical Engineers，Vol. 3，No. 1，2016年01月，研究論文（学術雑誌）
3D visualization of XFEL beam focusing properties using LiF crystal X-ray detector，T. Pikuz,A. Faenov,T. Matsumoto,S. Matsuyama,K. Yamauchi,N. Ozaki,B. Albertazzi,Y. Inubushi,M. Yabashi,K. Tono,Y. Sato,H. Yumoto,H. Ohashi,S. Pikuz,A. N. Grum-Grzhimailo,M. Nishikino,T. Ishikawa,R. Kodama，Scientific Reports，Vol. 5，p. 17713-1-17713-10，2015年12月，研究論文（学術雑誌）
3D visualization of XFEL beam focusing properties using LiF crystal X-ray detector，T. Pikuz,A. Faenov,T. Matsumoto,S. Matsuyama,K. Yamauchi,N. Ozaki,B. Albertazzi,Y. Inubushi,M. Yabashi,K. Tono,Y. Sato,H. Yumoto,H. Ohashi,S. Pikuz,A. N. Grum-Grzhimailo,M. Nishikino,T. Ishikawa,R. Kodama，Scientific Reports，Vol. 5，p. 17713-1-17713-10，2015年12月，研究論文（学術雑誌）
XFEL を用いた衝撃圧縮下の炭素凝集過程の超高速観察，小川剛史,尾崎典雅,高橋謙次郎,羽原英明,松岡健之,田中和夫,池谷正太郎,Ochante. M,Ricardo A,喜田美佳,久保田善大,佐藤友哉,西川豊人,野間澄人,藤本陽平,松村祐介,吉田有佑,松山智至,佐野泰久,山内和人,Albertazzi Bruno,Hartley Nicholas,Pikuz Tatiana,Faenov Anatory,犬伏雄一,丹下慶範,富樫格,片山哲夫,矢橋牧名,薮内俊毅,梅田悠平,佐藤友子,関根利守,奥地拓生,瀬戸雄介,坂田修身,兒玉了祐，2015年11月，研究論文（その他学術会議資料等）
XFEL を用いたハイパワーレーザーショック下における鉄の相転移観察，松村祐介,尾崎典雅,Albertazzi Bruno,Hartley Nicholas,高橋謙次郎,羽原英明,松岡健之,田中和夫,池谷正太郎,小川剛史,Ochante Muray Ricardo Arturo,喜田美佳,久保田善大,佐藤友哉,西川豊人,野間澄人,藤本陽平,吉田有佑,松山智至,佐野泰久,山内和人,Pikuz Tatiana,Faenov Anatoly,犬伏雄一,丹下慶範,富樫格,薮内俊毅,片山哲夫,矢橋牧名,梅田悠平,佐藤友子,関根利守,奥地拓生,瀬戸雄介,坂田修身,兒玉了祐，2015年11月，研究論文（その他学術会議資料等）
SACLA における高強度レーザーを用いた衝撃圧縮 XFEL その場観察実験ステーション，丹下慶範,尾崎典雅,松岡健之,小川剛史,Albertazzi Bruno,羽原英明,高橋健次郎,松山智至,山内和人,田中和夫,兒玉了祐,佐藤友子,関根利守,瀬戸雄介,奥地拓生,籔内俊毅,犬伏雄一,矢橋牧名，2015年11月，研究論文（その他学術会議資料等）
ハイパワーレーザー及び XFEL を用いた超高圧研究，尾崎典雅,Albertazzi Bruno,Benuzzi-Mounaix Alessandra,Denoeud Adrien,Gregori Gianluca,羽原英明,Hartley Nicholas,犬伏雄一,Koenig Michel,近藤良彦,松岡健之,松山智至,奥地拓生,佐藤友子,佐藤友哉,佐野孝好,坂田修身,瀬戸雄介,関根利守,田中和夫,高橋謙次郎,丹下慶範,土屋卓久,富樫格,矢橋牧名,薮内俊毅,山内和人,兒玉了祐，高圧討論会講演要旨集，Vol. 56th，2015年11月，研究論文（その他学術会議資料等）
Study on the mechanism of platinum-assisted hydrofluoric acid etching of SiC using density functional theory calculations，P. V. Bui,A. Isohashi,H. Kizaki,Y. Sano,K. Yamauchi,Y. Morikawa,K. inagaki，Applied Physics Letters，Vol. 107，No. 20，p. 201601-1-201601-4，2015年11月，研究論文（学術雑誌）
Damage threshold of platinum/carbon multilayers under hard X-ray free-electron laser irradiation，Jangwoo Kim,Ayaka Nagahira,Takahisa Koyama,Satoshi Matsuyama,Yasuhisa Sano,Makina Yabashi,Haruhiko Ohashi,Tetsuya Ishikawa,Kazuto Yamauchi，OPTICS EXPRESS，OPTICAL SOC AMER，Vol. 23，No. 22，p. 29032-29037，2015年11月，研究論文（学術雑誌）
Catalyst-Assisted Electroless Flattening of Ge Surfaces in Dissolved-O2-Containing Water，T. Kawase,Y. Saito,A. Mura,T. Okamoto,K. Kawai,Y. Sano,M. Morita,K. Yamauchi,K. Arima，ChemElectroChem，Vol. 2，No. 11，p. 1656-1659，2015年11月，研究論文（学術雑誌）
Study on the mechanism of platinum-assisted hydrofluoric acid etching of SiC using density functional theory calculations，P. V. Bui,A. Isohashi,H. Kizaki,Y. Sano,K. Yamauchi,Y. Morikawa,K. inagaki，Applied Physics Letters，Vol. 107，No. 20，p. 201601-1-201601-4，2015年11月，研究論文（学術雑誌）
Catalyst-Assisted Electroless Flattening of Ge Surfaces in Dissolved-O2-Containing Water，T. Kawase,Y. Saito,A. Mura,T. Okamoto,K. Kawai,Y. Sano,M. Morita,K. Yamauchi,K. Arima，ChemElectroChem，Vol. 2，No. 11，p. 1656-1659，2015年11月，研究論文（学術雑誌）
Damage threshold of platinum/carbon multilayers under hard X-ray free-electron laser irradiation，J. Kim,A. Nagahira,T. Koyama,S. Matsuyama,Y. Sano,M. Yabashi,H. Ohashi,T. Ishikawa,K. Yamauchi，Optics Express，Vol. 23，No. 22，p. 29032-29037，2015年11月，研究論文（学術雑誌）
硬X線ナノ集光技術の最前線，山内和人，放射線，応用物理学会放射線分科会，Vol. 41，No. 1，p. 15-20，2015年10月，研究論文（その他学術会議資料等）
Coherent diffraction imaging of non-isolated object with apodized illumination，K. P Khakurel,T. Kimura,Y. Joti,S. Matsuyama,K. Yamauchi,Y. Nishino，Optics Express，Vol. 23，No. 22，p. 28182-28190，2015年10月，研究論文（学術雑誌）
硬X線ナノ集光技術の最前線，山内和人，放射線，応用物理学会放射線分科会，Vol. 41，No. 1，p. 15-20，2015年10月，研究論文（その他学術会議資料等）
Coherent diffraction imaging of non-isolated object with apodized illumination，K. P Khakurel,T. Kimura,Y. Joti,S. Matsuyama,K. Yamauchi,Y. Nishino，Optics Express，Vol. 23，No. 22，p. 28182-28190，2015年10月，研究論文（学術雑誌）
Development of precision Wolter mirrors for future solar x-ray observations，T. Sakao,S. Matsuyama,A. Kime,T. Goto,A. Nishihara,H. Nakamori,K. Yamauchi,Y. Kohmura,A. Miyake,H. Hashizume,T. Maezawa,Y. Suematsu,N. Narukage，Proceedings of SPIE，Vol. 9603，p. 96030U-1-96030U-9，2015年09月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Development of achromatic full-field hard x-ray microscopy with two monolithic imaging mirrors，S. Matsuyama,H. Kino,S. Yasuda,Y, Kohmura,H. Ohashi,T. Ishikawa,K. Yamauchi，Proceedings of SPIE，Vol. 9592，p. 959208-1-959208-5，2015年09月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Development of ion beam figuring system with electrostatic deflection for ultraprecise X-ray reflective optics，J. Yamada,S. Matsuyama,Y. Sano,K. Yamauchi，Review of Scientific Instruments，Vol. 86，No. 9，2015年08月，研究論文（学術雑誌）
Atomic inner-shell laser at 1.5-ångström wavelength pumped by an X-ray free-electron laser，H. Yoneda,Y. Inubushi,K. Nagamine,Y. Michine,H. Ohashi,H. Yumoto,K. Yamauchi,H. Mimura,H. Kitamura,T. Katayama,T. Ishikawa,M. Yabashi，Nature，Vol. 524，No. 7566，p. 446-449，2015年08月，研究論文（学術雑誌）
Atomic inner-shell laser at 1.5-ångström wavelength pumped by an X-ray free-electron laser，H. Yoneda,Y. Inubushi,K. Nagamine,Y. Michine,H. Ohashi,H. Yumoto,K. Yamauchi,H. Mimura,H. Kitamura,T. Katayama,T. Ishikawa,M. Yabashi，Nature，Vol. 524，No. 7566，p. 446-+，2015年08月，研究論文（学術雑誌）
In situ characterization of the XFEL probe beam intensity distribution by a high spatial resolution hard X-ray LiF crystal detector，T. Pikuz,A. Faenov,A. Mitrofanov,B. Albertazzi,N. Ozaki,T. Matsuoka,O. M,R. Arturo,T. Yabuuchi,H. Habara,K. A. Tanaka,S. Matsuyama,K. Yamauchi,Y. Inubushi,T. Togashi,H. Yumoto,Y. Tange,K. Tono,M. Yabashi,M. Nishikino,T. Kawachi,M. R. Lopez,D. Bleiner,T. Ishikawa,R. Kodama，2015年06月
Damage to inorganic materials illuminated by focused beam of x-ray free-electron laser radiation，Takahisa Koyama,Hirokatsu Yumoto,Kensuke Tono,Tadashi Togashi,Yuichi Inubushi,Tetsuo Katayama,Jangwoo Kim,Satoshi Matsuyama,Makina Yabashi,Kazuto Yamauchi,Haruhiko Ohashi，SPIE Proceedings，SPIE，Vol. 9511，p. 951107-1-951107-7，2015年05月12日，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Nanofocusing of X-ray free-electron lasers by grazing-incidence reflective optics，K. Yamauchi,M. Yabashi,H. Ohashi,T. Koyama,T. Ishikawa，Journal of Synchrotron Radiation，Vol. 22，No. 3，p. 592-598，2015年05月，研究論文（学術雑誌）
Metal-Assisted Etching of Ge Surfaces in Water: From Pit Formation to Flattening，Kenta Arima,Tatsuya Kawase,Atsushi Mura,Kentaro Kawai,Yasuhisa Sano,Kazuto Yamauchi,Mizuho Morita，Program of 2015 MRS Spring Meeting & Exhibit，p. 329-329，2015年04月
Characterization of XFEL Beam Quality by LiF Crystal Imaging Technique，T. Pikuz,A. Faenov,T. Matsuoka,S. Matsuyama,K. Yamauchi,N. Ozaki,Y. Inubashi,M. Yabashi,Y. Sato,H. Yumoto,H. Ohashi,A. Grum-Grzhimailo,M. Nishikino,T. Kawachi,T. Ishikawa,R. Kodama，2015年04月
A novel branched TAT 47-57 peptide for selective Ni 2+ introduction into the human fibrosarcoma cell nucleus，L. Szyrwiel,M. Shimura,J. Shirataki,S. Matsuyama,A. Matsunaga,B. Setner,Szczukowski,Z. Szewczuk,K. Yamauchi,W. Malinka,L. Chavatte,R. Lobinski，Metallomics，Vol. 7，No. 7，p. 1155-1162，2015年04月，研究論文（学術雑誌）
A novel branched TAT 47-57 peptide for selective Ni 2+ introduction into the human fibrosarcoma cell nucleus，L. Szyrwiel,M. Shimura,J. Shirataki,S. Matsuyama,A. Matsunaga,B. Setner,Szczukowski,Z. Szewczuk,K. Yamauchi,W. Malinka,L. Chavatte,R. Lobinski，Metallomics，Vol. 7，No. 7，p. 1155-1162，2015年04月，研究論文（学術雑誌）
Hard X-ray nanofocusing using adaptive focusing optics based on piezoelectric deformable mirrors，Takumi Goto,Hiroki Nakamori,Takashi Kimura,Yasuhisa Sano,Yoshiki Kohmura,Kenji Tamasaku,Makina Yabashi,Tetsuya Ishikawa,Kazuto Yamauchi,Satoshi Matsuyama，Review of Scientific Instruments，Vol. 86，No. 4，2015年04月，研究論文（学術雑誌）
Achromatic and high-resolution full-field X-ray microscopy based on total-reflection mirrors，Satoshi Matsuyama,Yoji Emi,Hidetoshi Kino,Yoshiki Kohmura,Makina Yabashi,Tetsuya Ishikawa,Kazuto Yamauchi，Optics Express，Vol. 23，No. 8，p. 9746-9752，2015年04月，研究論文（学術雑誌）
Ion Beam Figuringを用いた高精度X線ミラーの作製（第7報）―静電偏向制御による非球面形状の作製と評価―，山田純平,松山智至,佐野泰久,山内和人，アブストラクト集，公益社団法人精密工学会，Vol. 2015，p. 1061-1062，2015年03月
X線集光ミラー形状測定のための姿勢補正機構を有する三次元測定機の開発，金章雨,松山智至,佐野泰久,山内和人，アブストラクト集，公益社団法人精密工学会，Vol. 2015，p. 1057-1058，2015年03月
2回反射型X線ミラーのためのX線スローププロファイラの開発，松山智至,木目歩美,後藤拓実,西原明彦,香村芳樹,石川哲也,坂尾太郎,山内和人，アブストラクト集，公益社団法人精密工学会，Vol. 2015，p. 1055-1056，2015年03月
モノリシックな一次元Wolter mirrorを用いた結像型硬X線顕微鏡の開発，安田周平,松山智至,木野英俊,岡田浩巳,青野真也,佐野泰久,香村芳樹,石川哲也,山内和人，アブストラクト集，公益社団法人精密工学会，Vol. 2015，p. 1049-1050，2015年03月
Local atomic configuration of graphene, buffer layer, and precursor layer on SiC(0001) by photoelectron diffraction，H. Matsui,F. Matsui,N. Maejima,T. Matsushita,T. Okamoto,A. N. Hattori,Y. Sano,K. Yamauchi,H. Daimon，Surface Science，Vol. 632，p. 98-102，2015年02月，研究論文（学術雑誌）
酸素還元触媒を用いた水中でのGe表面の平坦化に関する研究，中出和希,森大地,齋藤雄介,川合健太郎,佐野泰久,山内和人,森田瑞穂,有馬健太，精密工学会学術講演会講演論文集，公益社団法人精密工学会，Vol. 2015，p. 297-298，2015年
触媒表面基準エッチング法における触媒機能活性化手法の開発，藤大雪,礒橋藍,稻田辰昭,中平雄太,松山智至,佐野泰久,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，公益社団法人精密工学会，Vol. 2015，p. 447-448，2015年
革新的CMP/P-CVM融合装置の設計・試作（第8報），佐野泰久,塩澤昂祐,土肥俊郎,黒河周平,會田英雄,大山幸希,宮下忠一,住澤春男,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，公益社団法人精密工学会，Vol. 2015，p. 463-464，2015年
第一原理計算による触媒表面基準エッチング法の加工メカニズムに対する解析，木谷直隆,礒橋藍,Bui Van Pho,杉浦崇仁,稲垣耕司,木崎栄年,佐野泰久,森川良忠,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，公益社団法人精密工学会，Vol. 2015，p. 531-532，2015年
電気化学反応を援用した4H-SiC基板に対する触媒表面基準エッチング法の開発，礒橋藍,山口航,杉浦崇仁,稻田辰昭,松山智至,佐野泰久,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，公益社団法人精密工学会，Vol. 2015，p. 529-530，2015年
革新的"plasma fusion CMP装置"の設計・試作（第6報），塩澤昂祐,平岡佑太,佐野泰久,土肥俊郎,黒河周平,會田英雄,大山幸希,宮下忠一,住澤春男,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，公益社団法人精密工学会，Vol. 2015，p. 525-526，2015年
硬X線自由電子レーザー用分割・遅延光学系の開発（第3報），平野嵩,大坂泰斗,佐野泰久,犬伏雄一,松山智至,登野健介,石川哲也,山内和人,矢橋牧名，精密工学会学術講演会講演論文集，公益社団法人精密工学会，Vol. 2015，p. 699-700，2015年
数値制御大気圧プラズマ犠牲酸化法における酸化膜厚制御の精度向上，栗生賢,武居弘泰,松山智至,佐野泰久,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，公益社団法人精密工学会，Vol. 2015，p. 719-720，2015年
数値制御大気圧プラズマ犠牲酸化法における酸化特性，武居弘泰,栗生賢,松山智至,山内和人,佐野泰久，精密工学会学術講演会講演論文集，公益社団法人精密工学会，Vol. 2015，p. 717-718，2015年
触媒金属の酸素還元活性を利用した水中でのGe表面の平坦化，有馬健太,川瀬達也,齋藤雄介,川合健太郎,佐野泰久,森田瑞穂,山内和人，表面科学学術講演会要旨集，公益社団法人日本表面科学会，Vol. 35，p. 58-58，2015年
結晶光学素子に基づくX線分割・遅延光学系の開発，大坂泰斗,平野嵩,犬伏雄一,矢橋牧名,佐野泰久,松山智至,登野健介,佐藤尭洋,小川奏,石川哲也,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，公益社団法人精密工学会，Vol. 2015，p. 1045-1046，2015年
21aAE-7 第一原理計算によるPt/SiO_2界面におけるSiO_2の加水分解反応の促進機構の解析，木谷直隆,Bui P. V.,礒橋藍,稲垣耕司,木崎栄年,山内和人,森川良忠，日本物理学会講演概要集，一般社団法人日本物理学会，Vol. 70，p. 2511-2511，2015年
A new mirror-like finish method for oxide materials by catalytically induced chemical etching in pure water，Ai Isohashi,Shun Sadakuni,Takahito Sugiura,Naotaka Kidani,Tatsuaki Inada,Wataru Yamaguchi,Koji Inagaki,Yasuhisa Sano,Kazuto Yamauchi，Proceedings of the 15th International Conference of the European Society for Precision Engineering and Nanotechnology, EUSPEN 2015，p. 345-346，2015年，研究論文（国際会議プロシーディングス）
2回反射型結像ミラーのためのX線スローププロファイラの開発，木目歩美,松山智至,山内和人，予稿集，2015年01月
1次元Wolterミラー（Monolithic型）を用いた色収差のない結像型X線顕微鏡の開発，木野英俊,松山智至,岡田浩巳,佐野泰久,香村芳樹,玉作賢治,矢橋牧名,津村尚史,石川哲也,山内和人，予稿集，2015年01月
形状可変ミラーによる二段集光光学系の開発，後藤拓実,中森紘基,松山智至,木村隆志,佐野泰久,香村芳樹,玉作賢治,矢橋牧名,石川哲也,山内和人，予稿集，2015年01月
X線ミラー作製のためのビーム偏向制御を用いた数値制御イオンビーム加工装置の開発，山田純平,松山智至,佐野泰久,山内和人，予稿集，2015年01月
Sub-10 nm集光用X線ミラーのための高精度形状計測装置の開発，金章雨,長平良綾香,西原明彦,松山智至,佐野泰久,山内和人，予稿集，2015年01月
位相回折格子を用いたX線自由電子レーザーナノビームの集光波面計測，西原明彦,松山智至,金章雨,長平良綾香,湯本博勝,三村秀和,小山貴久,登野健介,犬伏雄一,片山拓也,富樫格,矢代航,大橋治彦,百生敦,後藤俊治,矢橋牧名,石川哲也,山内和人，予稿集，Vol. 28th，2015年01月
XFEL用集光ミラー用Pt/C多層膜の性能評価，長平良綾香,金章雨,小山貴久,松山智至,西原明彦,湯本博勝,佐野泰久,大橋治彦,後藤俊治,矢橋牧名,石川哲也,山内和人，予稿集，Vol. 28th，2015年01月
超平坦SiC表面上へのプラズマ酸化を援用した低ピット密度グラフェンの形成，有馬健太,斎藤直樹,森大地,川合健太郎,佐野泰久,山内和人,森田瑞穂，Extended Abstracts of the 20th Workshop on Gate Stack Technology and Physics，応用物理学会，p. 93-96，2015年01月
Planarization of 6-inch 4H-SiC wafer using catalyst-referred etching，A. Isohashi,Y. Sano,T. Kato,K. Yamauchi，Materials Science Forum，Trans Tech Publications Ltd，Vol. 821-823，p. 537-540，2015年，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Basic study on etching selectivity of plasma chemical vaporization machining by introducing crystallographic damage into work surface，Yasuhisa Sano,Toshiro Doi,Syuhei Kurokawa,Hideo Aida,Osamu Ohnishi,Michio Uneda,Yuu Okada,Hiroaki Nishikawa,Kazuto Yamauchi，Key Engineering Materials，Trans Tech Publications Ltd，Vol. 625，p. 550-553，2015年，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Optimization of Machining Conditions of Basic-Type CMP/P-CVM Fusion Processing Using SiC Substrate，Yasuhisa Sano,Kousuke Shiozawa,Toshiro Doi,Syuhei Kurokawa,Hideo Aida,Koki Oyama,Tadakazu Miyashita,Haruo Sumizawa,Kazuto Yamauchi，2015 INTERNATIONAL CONFERENCE ON PLANARIZATION/CMP TECHNOLOGY (ICPT)，IEEE，2015年，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Development of an achromatic full-field hard X-ray microscope using two monolithic imaging mirrors，S. Matsuyama,H. Kino,S. Yasuda,Y. Kohmura,H. Okada,M. Yabashi,T. Ishikawa,K. Yamauchi，X-RAY NANOIMAGING: INSTRUMENTS AND METHODS II，SPIE-INT SOC OPTICAL ENGINEERING，Vol. 9592，p. 959208-1-959208-5，2015年，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Development of precision Wolter mirrors for future solar x-ray observations，Taro Sakao,Satoshi Matsuyama,Ayumi Kime,Takumi Goto,Akihiko Nishihara,Hiroki Nakamori,Kazuto Yamauchi,Yoshiki Kohmura,Akira Miyake,Hirokazu Hashizume,Tadakazu Maezawa,Yoshinori Suematsu,Noriyuki Narukage，OPTICS FOR EUV, X-RAY, AND GAMMA-RAY ASTRONOMY VII，SPIE-INT SOC OPTICAL ENGINEERING，Vol. 9603，p. 96030U-1-96030U-9，2015年，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Numerically controlled atmospheric-pressure plasma sacrificial oxidation using electrode arrays for improving silicon-on-insulator layer uniformity，H. Takei,K. Yoshinaga,S. Matsuyama,K. Yamauchi,Y. Sano，Japanese Journal of Applied Physics，Vol. 54，No. 1S，2015年01月，研究論文（学術雑誌）
Using LiF crystals for 3D visualization of~SACLA XFEL beam focusing properties，T.A. Pikuz,A.Ya. Faenov,T. Matsuoka,N. Ozaki,Y. Inubashi,M. Yabashi,Y. Sato,H.Yumoto,H. Ohashi,S. Matsuyama,K. Yamauchi,T. Ishikawa,A. Grum-Grzhimailo,S.A. Pikuz,R. Kodama，2014年12月
XFEL-SACLA を用いた超高圧下の格子ダイナミクス観察，尾崎典雅,松岡健之,佐野智一,犬伏雄一,富樫格,籔内俊毅,羽原英明,ALBERTAZZI Bruno,松山智至,山内和人,田中和夫,廣瀬明夫,近藤良彦,佐藤友哉,松田朋己,浦西浩幸,中塚和樹,林圭輔,喜田美佳,小川剛史,池谷正太郎,山下真直,白石亮平,中口真之介,松山法央,丹下慶範,土屋卓久,佐藤友子,関根利守,梅田悠平,奥地拓生,PUREVJAV Narangoo,瀬戸雄介,坂田修身,佐野雄二,末田敬一,小川奏,佐藤尭洋,HARMAND Marion,MORARD Guillaume,KOENIG Michel,矢橋牧名,兒玉了佑，高圧討論会講演要旨集，Vol. 55th，2014年11月，研究論文（その他学術会議資料等）
Development of a one-dimensional two-stage focusing system with two deformable mirrors，T. Goto,S. Matsuyama,H. Nakamori,T. Kimura,Y. Sano,Y. Kohmura,K. Tamasaku,M. Yabashi,T. Ishikawa,K. Yamauchi，Proceedings of SPIE，Vol. 9208，2014年10月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Saturable absorption of intense hard X-rays in iron，H. Yoneda,Y. Inubushi,M. Yabashi,T. Katayama,T. Ishikawa,H. Ohashi,H. Yumoto,K. Yamauchi,H. Mimura,H. Kitamura，Nature Communications，Vol. 5，p. 5080-5080，2014年10月，研究論文（学術雑誌）
位相回折格子を用いたX線レーザーナノビームの高精度波面計測，西原明彦,松山智至,金章雨,長平良綾香,湯本博勝,三村秀和,小山貴久,登野健介,犬伏雄一,佐藤尭洋,片山拓也,富樫格,矢代航,佐野泰久,大橋治彦,百生敦,後藤俊治,矢橋牧名,石川哲也,山内和人，アブストラクト集，Vol. 2014，p. 281-282，2014年09月
Ion Beam Figuringを用いた高精度X線ミラーの作製（第6報）～静電偏向制御による数値制御加工～，山田純平,松山智至,佐野泰久,山内和人，アブストラクト集，p. 283-284，2014年09月
色収差のない結像型X線顕微鏡の開発とイメージングXAFSへの応用，松山智至,木野英俊,香村芳樹,玉作賢治,矢橋牧名,石川哲也,山内和人，講演要旨集，p. 79-80，2014年09月
Optics for coherent X-ray applications，M. Yabashi,K. Tono,H. Mimura,S. Matsuyama,K. Yamauchi,T. Tanaka,H. Tanaka,K. Tamasaku,H. Ohashi,S. Goto,T. Ishikawa，Journal of Synchrotron Radiation，Vol. 21，p. 976-985，2014年09月，研究論文（学術雑誌）
Development of achromatic full-field hard x-ray microscopy and its application to x-ray absorption near edge structure spectroscopy，S. Matsuyama,Y. Emi,H. Kino,Y. Kohmura,M. Yabashi,T. Ishikawa,K. Yamauchi，Proceedings of SPIE，Vol. 9207，2014年09月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Development of high-precision figure measurement system for x-ray optics using laser focus microscope，J. Kim,S. Matsuyama,Y. Sano,K. Yamauchi，Technical program，p. 188-188，2014年08月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Development of a two-stage x-ray focusing system with ultraprecise deformable mirrors，T. Goto,S. Matsuyama,H. Nakamori,T. Kimura,Y. Sano,Y. Kohmura,K. Tamasaku,M. Yabashi,T. Ishikawa,K. Yamauchi，Technical program，p. 193-193，2014年08月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Development of achromatic full-field hard x-ray microscopy with ultraprecise total reflection mirrors，S. Masuyama,Y. Emi,H. Kino,Y. Sano,Y. Kohmura,T. Ishikawa,K. Yamauchi，Technical program，p. 192-192，2014年08月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Development of split-delay x-ray optics using Si(220) crystals at SACLA，T. Osaka,T. Hirano,M. Yabashi,Y. Sano,K. Tono,Y. Inubushi,T. Sato,K. Ogawa,S. Matsuyama,T. Ishikawa,K. Yamauchi，Technical program，Vol. 9210，p. 198-198，2014年08月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Removal Rate of Plasma Chemical Vaporization Machining of Intentionally Damaged Surface by Mechanical Action，K. Shiozawa,Y. Sano,T. Doi,S. Kurokawa,H. Aida,O. Ohnishi,M. Uneda,Y. Okada,K. Yamauchi，15th International Conference on Precision Engineering (ICPE2014), Abstracts, pp. 53, P22，p. 53-53，2014年07月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Removal Mechanism in Catalyst-Referred Etching Process for SiC Planarization，P. V. Bui,K. Inagaki,Y. Sano,K. Yamauchi,Y. Morikawa，15th International Conference on Precision Engineering (ICPE2014), Abstracts, pp. 50, P05，p. 50-50，2014年07月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Improving the Accuracy of Numerically Controlled Sacrificial Plasma Oxidation Using an Array of Electrodes to Produce Ultra-uniform SOI，H. Takei,S. Kurio,Y. Sano,S. Matsuyama,K. Yamauchi，15th International Conference on Precision Engineering (ICPE2014), Abstracts, pp. 32, B15，p. 32-32，2014年07月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
A novel abrasive-free chemical planarization of oxide materials using pure water and Pt catalyst，T. Sugiura,A. Isohashi,W. Yamaguchi,S. Matsuyama,Y. Sano,K. Yamauchi，Extended Abstracts of European society for precision engineering & nanotechnology 2014，Vol. 2，p. 351-354，2014年06月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Dependence of GaN Removal Rate of Plasma Chemical Vaporization Machining on Mechanically Introduced Damage，Y. Sano,T. K. Doi,S. Kurokawa,H. Aida,O. Ohnishi,M. Ueda,K. Shiozawa,Y. Okada,K. Yamauchi，Sensors and Materials，Vol. 26，No. 6，p. 429-434，2014年06月，研究論文（学術雑誌）
X線光学，山内和人，光学，Vol. 43，No. 4，p. 147-148，2014年04月
Status of Experimental Platform for Matter under Dynamical Compression Driven by 40 TW Laser Pulse in XFEL Facility (SACLA)，Takeshi Matsuoka,Norimasa Ozaki,Yuichi Inubushi,Tadashi Togashi,Toshinori Yabuuchi,Kanade Ogawa,Tomokazu Sano,Keiichi Sueda,Satoshi Matsuyama,Kazuto Yamauchi,Hideaki Habara,Hiromitsu Tomizawa,Hirokatsu Yumoto,Haruhiko Ohashi,Takahiro Sato,Tomoki Matsuda,Yoshihiko Kondo,Keisuke Hayashi,Yuya Sato,Mika Kita,Tsuyoshi Ogawa,Masanao Yamashita,Ryohei Shiraishi,Yoshinori Tange,Tomoko Sato,Toshimori Sekine,Takuo Okuchi,Yusuke Seto,Norihiro Matsuyama,Osami Sakata,Yuji Sano,Keiichi Hirota,Toshiyuki Fujita,Kiyotaka Masaki,Kazuo A. Tanaka,Makina Yabashi,Ryosuke Kodama，2014年04月
Generation of 1020 W/cm2 Hard X-ray Laser Pulses with Two-Stage Reflective Focusing System，H. Mimura,H. Yumoto,S. Matsuyama,T. Koyama,K. Tono,Y. Inubushi,T. Togashi,T. Sato,J. Kim,R. Fukui,Y. Sano,M. Yabashi,H. Ohashi,T. Ishikawa,K. Yamauchi，Nature Communications，Vol. 5，No. 3539，2014年04月，研究論文（学術雑誌）
SACLA X 線自由電子レーザー同期 40 TW レーザーシステムの整備と応用，松岡健之,尾崎典雅,犬伏雄一,富樫格,籔内俊毅,佐野智一,末田敬一,松山智至,山内和人,羽原英明,冨澤宏光,佐藤尭洋,松田朋己,近藤良彦,林圭輔,佐藤友哉,喜田美佳,小川剛史,山下真直,丹下慶範,佐藤友子,関根利守,奥地拓生,瀬戸雄介,松山法央,坂田修身,佐野雄二,廣田圭一,藤田敏之,久保達也,政木清孝,田中和夫,矢橋牧名,兒玉了祐，2014年03月
Dicing of SiC wafer by atmospheric-pressure plasma etching process with slit mask for plasma confinement，Y. Sano,H. Nishikawa,Y. Okada,K. Yamamura,S. Matsuyama,K. Yamauchi，Materials Science Forum，Vol. 778-780，p. 759-762，2014年02月，研究論文（学術雑誌）
Thinning of a two-inch silicon carbide wafer by plasma chemical vaporization machining using a slit electrode，Y. Okada,H. Nishikawa,Y. Sano,K. Yamamura,K. Yamauchi，Materials Science Forum，Vol. 778-780，p. 750-753，2014年02月，研究論文（学術雑誌）
4H-SiC planarization using catalyst-referred etching with pure water，A. Isohashi,Y. Sano,S. Sadakuni,K. Yamauchi，Materials Science Forum，Vol. 778-780，p. 722-725，2014年02月，研究論文（学術雑誌）
Investigation of the Barrier Heights for Dissociative Adsorption of HF on SiC Surfaces in the Catalyst-Referred Etching Process，P. V. Bui,K. Inagaki,Y. Sano,K. Yamauchi,Y. Morikawa，Materials Science Forum，Vol. 778-780，p. 726-729，2014年02月，研究論文（学術雑誌）
X-ray two-photon absorption competing against single and sequential multiphoton processes，K. Tamasaku,E. Shigemasa,Y. Inubushi,T. Katayama,K. Sawada,H. Yumoto,H. Ohashi,H. Mimura,M. Yabashi,K. Yamauchi,T. Ishikawa，Nature Photonics，Vol. 8，No. 4，p. 313-316，2014年02月，研究論文（学術雑誌）
Planarization of the gallium nitride substrate grown by the Na flux method applying catalyst-referred etching，W. Yamaguchi,S. Sadakuni,A. Isohashi,H. Asano,Y. Sano,M. Imade,M. Maruyama,M. Yoshimura,Y. Mori,K. Yamauchi，Materials Science Forum，Vol. 778-780，p. 1193-1196，2014年02月，研究論文（学術雑誌）
High-resolution Multi-slice X-ray Ptychography of Extended Thick Objects，A. Suzuki,S. Furutaku,K. Shimomura,K. Yamauchi,Y. Kohmura,T. Ishikawa,Y. Takahashi，Physical Review Letters，Vol. 112，No. 5，2014年02月，研究論文（学術雑誌）
紫外光を援用した触媒表面基準エッチング法による窒化ガリウム・炭化ケイ素基板の高能率平坦化加工，山口航,礒橋藍,杉浦崇仁,稻田辰昭,松山智至,佐野泰久,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，公益社団法人精密工学会，Vol. 2014，No. 0，p. 23-24，2014年
触媒表面基準エッチング法における白金に代わる新規触媒の検討，礒橋藍,稻田辰昭,山口航,杉浦崇仁,松山智至,佐野泰久,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，公益社団法人精密工学会，Vol. 2014，No. 0，p. 25-26，2014年
触媒表面基準エッチング法による金属酸化物材料の高能率平坦化加工，杉浦崇仁,礒橋藍,山口航,稻田辰昭,松山智至,佐野泰久,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，公益社団法人精密工学会，Vol. 2014，No. 0，p. 269-270，2014年
Atomically Controlled Surfacing of Single Crystalline SiC and GaN by Catalyst-Referred Etching，Kazuto Yamauchi,Ai Isohashi,Kenta Arima，2014 INTERNATIONAL CONFERENCE ON PLANARIZATION/CMP TECHNOLOGY (ICPT)，IEEE，p. 139-141，2014年，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Development of Basic-Type CMP/P-CVM Fusion Processing System (Type A) and Its Fundamental Characteristics，Kousuke Shiozawa,Yasuhisa Sano,Toshiro Doi,Syuhei Kurokawa,Hideo Aida,Koki Oyama,Tadakazu Miyashita,Haruo Sumizawa,Kazuto Yamauchi，2014 INTERNATIONAL CONFERENCE ON PLANARIZATION/CMP TECHNOLOGY (ICPT)，IEEE，p. 275-278，2014年，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Atomic scale flattening of gallium nitride substrate grown by Na flux method applying catalyst-referred etching，Wataru Yamaguchi,Shun Sadakuni,Ai Isohashi,Hiroya Asano,Yasuhisa Sano,Mamoru Imade,Mihoko Maruyama,Masashi Yoshimura,Yusuke Mori,Kazuto Yamauchi，2014 INTERNATIONAL CONFERENCE ON PLANARIZATION/CMP TECHNOLOGY (ICPT)，IEEE，p. 337-339，2014年，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Planarization of 4H-SiC(0001) by Catalyst-Referred Etching Using Pure Water Etchant，Ai Isohashi,Yasuhisa Sano,Kazuto Yamauchi，2014 INTERNATIONAL CONFERENCE ON PLANARIZATION/CMP TECHNOLOGY (ICPT)，IEEE，p. 273-274，2014年，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Ultra-high-precision surface processing techniques for nanofocusing ellipsoidal mirrors in hard x-ray region，Hirokatsu Yumoto,Takahisa Koyama,Satoshi Matsuyama,Kazuto Yamauchi,Haruhiko Ohashi，ADVANCES IN METROLOGY FOR X-RAY AND EUV OPTICS V，SPIE-INT SOC OPTICAL ENGINEERING，Vol. 9206，2014年，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Enhancement of photoluminescence efficiency from GaN(0001) by surface treatments，A. N. Hattori,K. Hattori,Y. Morikawa,A. Yamamoto,S. Sadakuni,J. Murata,K. Arima,Y. Sano,K. Yamauchi,H. Daimon,K. Endo，Japanese Journal of Applied Physics，Vol. 53，No. 2，2014年01月，研究論文（学術雑誌）
Two-dimensional X-ray nanofocusing using piezoelectric deformable mirrors，H. Nakamori,S. Matsuyama,T. Goto,T. Kimura,Y. Sano,Y. Kohmura,K. Tamasaku,M. Yabashi,T. Ishikawa,K. Yamauchi，The 12th symposium on X-ray Imaging Optics, Abstract，p. 99-100，2013年11月
Single-shot wavefront measurement of XFEL nanobeam，R. Fukui,J. Kim,S. Matsuyama,H. Yumoto,Y. Inubushi,K. Tono,T. Koyama,T. Kimura,H. Mimura,H. Ohashi,M. Yabashi,T. Ishikawa,K. Yamauchi，The 12th symposium on X-ray Imaging Optics, Abstract，p. 97-98，2013年11月
Development of one-dimensional Wolter Mirror figured on a single substrate for full-field X-ray microscopy，H. Kino,S. Matsuyama,Y. Emi,H. Okada,Y. Sano,K. Yamauchi，The 12th symposium on X-ray Imaging Optics, Abstract，p. 93-94，2013年11月
Development of a High-resolution Full-field Hard X-ray Imaging Microscope with Compact AKB Mirror Optics，Y. Emi,S. Matsuyama,H. Kino,Y. Kohmura,T. Ishikawa,K. Yamauchi，The 12th symposium on X-ray Imaging Optics, Abstract，p. 67-68，2013年11月
Damage study of optical substrates using 1-µm-focusing beam of hard X-ray free-electron laser，T. Koyama,H. Yumoto,Y. Senba,K. Tono,T. Sato,T. Togashi,Y. Inubushi,J. Kim,T. Kimura,S. Matsuyama,H. Mimura,M. Yabashi,K. Yamauchi,H. Ohashi,T. Ishikawa，Journal of Physics: Conference Series，Vol. 463，2013年11月，研究論文（学術雑誌）
Fabrication of Thin Si Crystal for X-Ray Beam Splitter，T. Osaka,M. Yabashi,Y. Sano,K. Tono,Y. Inubushi,T. Sato,S. Matsuyama,T. Ishikawa,K. Yamauchi，28th The American Society for Precision Engineering Annual Meeting, Extended Abstracts，2013年10月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Wet Chemical Planarization of Single-Crystalline SiC Using Catalyst-Referred Etching，A. Isohashi,Y. Sano,T. Okamoto,S. Sadakuni,P. V. Bui,K. Yagi,K. Yamauchi，28th The American Society for Precision Engineering Annual Meeting, Extended Abstracts，p. 153-156，2013年10月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Development of high-accuracy X-ray ptychography apparatus，A. Suzuki,Y. Senba,H. Ohashi,Y. Kohmura,K. Yamauchi,T. Ishikawa,Y. Takahashi，Journal of Physics: Conference Series，Vol. 463，No. 1，2013年10月，研究論文（学術雑誌）
Thin crystal development and applications for hard x-ray free-electron lasers，T. Osaka,M. Yabashi,Y. Sano,K. Tono,Y. Inubushi,T. Sato,K. Ogawa,S. Matsuyama,T. Ishikawa,K. Yamauchi，Proceedings of SPIE，Vol. 8848，2013年09月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
A Precision Grazing-incidence Angle Error Measurement of a Hard X-ray Condenser Mirror Using Single-grating Interferometry，R. Fukui,J. Kim,S. Matsuyama,H. Yumoto,Y. Inubushi,K. Tono,T. Koyama,T. Kimura,H. Mimura,H. Ohashi,M. Yabashi,T. Ishikawa,K. Yamauchi，Synchrotron Radiation News，Vol. 26，No. 5，p. 13-16，2013年09月，研究論文（学術雑誌）
Damage threshold investigation using grazing incidence irradiation by hard x-ray free electron laser，T. Koyama,H. Yumoto,K. Tono,T. Sato,T. Togashi,Y. Inubushi,T. Katayama,J. Kim,S. Matsuyama,H. Mimura,M. Yabashi,K. Yamauchi,H. Ohashi，Proc. SPIE，Vol. 8848，2013年09月，研究論文（学術雑誌）
Development of achromatic full-field x-ray microscopy with compact imaging mirror system，S. Matsuyama,Y. Emi,H. Kino,Y. Sano,Y. Kohmura,K. Tamasaku,M. Yabashi,T. Ishikawa,K. Yamauchi，Proc. SPIE，Vol. 8851，2013年09月，研究論文（学術雑誌）
Damage characteristics of platinum/carbon multilayers under x-ray free-electron laser irradiation，J. Kim,T. Koyama,H. Yumoto,A. Nagahira,S. Matsuyama,Y. Sano,M. Yabashi,H. Ohashi,T. Ishikawa,K. Yamauchi，Proc. SPIE，Vol. 8848，2013年09月，研究論文（学術雑誌）
Planarization of GaN Wafer Using Novel Polishing Technique Utilizing Catalyst Surface Reaction，Y. Sano,K. Arima,K. Yamauchi，ECS Journal of Solid State Science and Technology，Vol. 2，No. 8，p. N3028-N3035，2013年09月，研究論文（学術雑誌）
Development of ultra-precise piezoelectric deformable mirrors for x-ray nanofocusing，H. Nakamori,S. Matsuyama,S. Imai,T. Goto,T. Kimura,Y. Sano,Y. Kohmura,K. Tamasaku,M. Yabashi,T. Ishikawa,K. Yamauchi，SPIE Optics+Photonics, Technical Program，Vol. 8503，2013年08月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Development of full-field hard x-ray microscopy with four aspherical mirrors，S. Matsuyama,Y. Emi,Y. Kohmura,K. Tamasaku,M. Yabashi,T. Ishikawa,K. Yamauchi，SPIE Optics+Photonics, Technical Program，2013年08月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Investigation of ablation thresholds of optical materials using 1-µm-focusing beam at hard X-ray free electron laser，Takahisa Koyama,Hirokatsu Yumoto,Yasunori Senba,Kensuke Tono,Takahiro Sato,Tadashi Togashi,Yuichi Inubushi,Tetsuo Katayama,Jangwoo Kim,Satoshi Matsuyama,Hidekazu Mimura,Makina Yabashi,Kazuto Yamauchi,Haruhiko Ohashi,Tetsuya Ishikawa，Optics Express，Vol. 21，No. 13，p. 15382-15388，2013年06月，研究論文（学術雑誌）
First-principles theoretical study of hydrolysis of stepped and kinked Ga-terminated GaN surfaces，M. Oue,K. Inagaki,K. Yamauchi,Y. Morikawa，Nanoscale Research Letters，SPRINGER，Vol. 8，2013年05月，研究論文（学術雑誌）
Nanofocusing and single shot wavefront diagnosis of SACLA，K. Yamauchi,M. Yabashi,H. Mimura,H. Yumoto,T. Koyama,K. Tono,T. Togashi,Y. Inubushi,T. Sato,T. Katayama,S. Matsuyama,J. Kim,R. Fukui,Y. Sano,W. Yashiro,T. Ohmori,S. Goto,H. Ohashi,A. Momose,T. Ishikawa，SPIE Optics+Optelectronics, Technical Abstracts，2013年04月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Absolute calibration of optical flats using the three-flat test by considering the relative humidity change，Hirokatsu Yumoto,Satoshi Matsuyama,Hidekazu Mimura,Kazuto Yamauchi,Haruhiko Ohashi，Nuclear Instruments and Methods in Physics Research A，Vol. 710，p. 2-6，2013年04月，研究論文（学術雑誌）
X-ray nanofocusing using a piezoelectric deformable mirror and at-wavelength metrology methods，H. Nakamori,S. Matsuyama,S. Imai,T. Kimura,Y. Sano,Y. Kohmura,T. Kenji,M. Yabashi,T. Ishikawa,K. Yamauchi，Nuclear Inst. and Methods in Physics Research, A，Vol. 710，p. 93-97，2013年04月，研究論文（学術雑誌）
Coherent x-ray zoom condenser lens for diffractive and scanning microscopy，T. Kimura,S. Matsuyama,K. Yamauchi,Y. Nishino，Optics Express，Vol. 21，No. 8，p. 9267-9276，2013年04月，研究論文（学術雑誌）
Bragg x-ray ptychography of a silicon crystal: Visualization of the dislocation strain field and the production of a vortex beam，Yukio Takahashi,Akihiro Suzuki,Shin Furutaku,Kazuto Yamauchi,Yoshiki Kohmura,Tetsuya Ishikawa，Physical Review B - Condensed Matter and Materials Physics，Vol. 87，No. 12，2013年03月07日，研究論文（学術雑誌）
Ion Beam Figuring を用いた高精度Ｘ線ミラーの作製第 5 報－X線集光ミラーの作製－，松山智至,北村真一,佐野泰久,山内和人，2013年度精密工学会春季大会プログラム＆アブストラクト集，2013年03月
大変形可能な硬X線集光用形状可変ミラーの開発－シミュレーションによる設計指針の検討－，後藤拓実,中森紘基,松山智至,今井将太,木村隆志,佐野泰久,香村芳樹,石川哲也,山内和人，2013年度精密工学会春季大会プログラム＆アブストラクト集，2013年03月
Bias-Assisted Photochemical Planarization of GaN(0001) Substrate with Damage Layer，S. Sadakuni,J. Murata,Y. Sano,K. Yagi,S. Matsuyama,K. Yamauchi，Japanese Journal of Applied Physics，Vol. 52，No. 3，p. 036504-1-4，2013年03月，研究論文（学術雑誌）
Bragg x-ray ptychography of a silicon crystal: Visualization of the dislocation strain field and the production of a vortex beam，Y. Takahashi,A. Suzuki,S. Furutaku,K. Yamauchi,Y. Kohmura,T. Ishikawa，Physical Review B，Vol. 87，No. 12，p. 121201-121201，2013年03月，研究論文（学術雑誌）
A Bragg beam splitter for hard x-ray free-electron lasers，T. Osaka,M. Yabashi,Y. Sano,K. Tono,Y. Inubushi,T. Sato,S. Matsuyama,T. Ishikawa,K. Yamauchi，Optics Express，Vol. 21，No. 3，p. 2823-2831，2013年02月，研究論文（学術雑誌）
大気圧プラズマによるチャネルカット単結晶シリコンの内壁エッチングの検討，大坂泰斗,平野嵩,矢橋牧名,佐野泰久,登野健介,犬伏雄一,佐藤尭洋,小川奏,松山智至,石川哲也,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，公益社団法人精密工学会，Vol. 2013，p. 653-654，2013年
硬X線用部分回転楕円面集光ミラーの開発:高精度形状修正加工法と高精度スティッチング表面形状計測法を利用したミラー作製，湯本博勝,小山貴久,松山智至,山内和人,大橋治彦，精密工学会学術講演会講演論文集，公益社団法人精密工学会，Vol. 2013，p. 661-662，2013年
形状可変ミラーを用いた光学パラメータ可変な硬X線集光光学系の開発:ペンシルビーム法による形状可変ミラーのin-situ形状修正，後藤拓実,中森紘基,松山智至,佐野泰久,香村芳樹,石川哲也,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，公益社団法人精密工学会，Vol. 2013，p. 651-652，2013年
X線望遠鏡用WolterミラーのためのX線スローププロファイラの開発:幾何光学と波動光学シミュレーションによる検討，木目歩美,松山智至,福井亮介,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，公益社団法人精密工学会，Vol. 2013，p. 663-664，2013年
X線回折格子を用いたX線自由電子レーザーナノビームのシングルショット波面計測，福井亮介,松山智至,金章雨,湯本博勝,三村秀和,小山貴久,百生敦,大橋治彦,矢橋牧名,石川哲也,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，公益社団法人精密工学会，Vol. 2013，p. 659-660，2013年
硬X線用多層膜集光ミラーの反射率向上に関する研究，長平良綾香,金章雨,松山智至,佐野泰久,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，公益社団法人精密工学会，Vol. 2013，p. 655-656，2013年
硬Ｘ線集光用形状可変ミラーの開発:変形最適化手法の検討，中森紘基,後藤拓実,松山智至,佐野泰久,香村芳樹,石川哲也,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，公益社団法人精密工学会，Vol. 2013，p. 649-650，2013年
X線自由電子レーザーを用いた硬X線集光用Pt/C多層膜の特性評価，金章雨,長平良綾香,小山貴久,湯本博勝,松山智至,佐野泰久,矢橋牧名,大橋治彦,石川哲也,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，公益社団法人精密工学会，Vol. 2013，p. 657-658，2013年
触媒表面基準エッチング法による機能性材料の平坦化加工，山口航,定國峻,礒橋藍,浅野博弥,佐野泰久,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，公益社団法人精密工学会，Vol. 2013，p. 679-680，2013年
Advanced Kirkpatrick-Baezミラー光学系を用いた結像型硬X線顕微鏡の開発，恵美陽治,松山智至,木野英俊,佐野泰久,香村芳樹,石川哲也,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，公益社団法人精密工学会，Vol. 2013，p. 647-648，2013年
純水を用いた化学エッチングによる4H-SiC基板の平坦化加工，礒橋藍,佐野泰久,定國峻,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，公益社団法人精密工学会，Vol. 2013，p. 941-942，2013年
先端的難加工基板の高効率精密加工法の研究（第4報）:加工変質層の断面TEMによる評価とそのPCVM加工特性，塩澤昂祐,佐野泰久,土肥俊郎,黒河周平,曾田英雄,大西修,畝田道雄,岡田悠,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，公益社団法人精密工学会，Vol. 2013，p. 937-938，2013年
コヒーレントＸ線による走査透過Ｘ線顕微鏡システムの構築と分析科学への応用，山内和人，2013年01月
1枚の基板上に作製された1次元Wolterミラーの開発，松山智至,岡田浩巳,恵美陽治,香村芳樹,玉作賢治,矢橋牧名,津村尚史,石川哲也,山内和人，2013年01月
X線自由電子レーザー集光用Pt/C多層膜の性能評価，金章雨,福井亮介,松山智至,小山貴久,湯本博勝,佐野泰久,大橋治彦,後藤俊治,矢橋牧名,石川哲也,山内和人，日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム予稿集，Vol. 26th，2013年01月
X線回折格子を用いたXFELナノビームのワンショット波面計測，福井亮介,松山智至,金章雨,湯本博勝,三村秀和,小山貴久,登野健介,犬伏雄一,佐藤尭洋,片山哲夫,富樫格,矢代航,佐野泰久,大橋治彦,百生敦,後藤俊治,矢橋牧名,石川哲也,山内和人，日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム予稿集，Vol. 26th，2013年01月
Nonlinear Optical Phenomena in Ultra-Intense X-ray Interaction with Matter，Hitoki Yoneda,Yuichi Inubushi,Makina Yabashi,Tetsuo Katayama,Tetsuya Ishikawa,Haruhiko Ohashi,Hirokatsu Yumoto,Kazuto Yamauchi,Hidekazu Mimura,Hikaru Kitamura，2013 CONFERENCE ON LASERS AND ELECTRO-OPTICS PACIFIC RIM (CLEO-PR)，IEEE，2013年，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Micro-focusing of hard x-ray free electron laser radiation using Kirkpatrick-Baez mirror system，H. Yumoto,H. Mimura,S. Matsuyama,T. Koyama,Y. Hachisu,T. Kimura,H. Yokoyama,J. Kim,Y. Sano,K. Tono,T. Togashi,Y. Inubushi,T. Sato,T. Tanaka,M. Yabashi,H. Ohashi,H. Ohmori,T. Ishikawa,K. Yamauchi，11TH INTERNATIONAL CONFERENCE ON SYNCHROTRON RADIATION INSTRUMENTATION (SRI 2012)，IOP PUBLISHING LTD，Vol. 425，2013年，研究論文（国際会議プロシーディングス）
High-resolution and high-sensitivity phase-contrast imaging by focused hard x-ray ptychography with a spatial filter，Y. Takahashi,A. Suzuki,S. Furutaku,K. Yamauchi,Y. Kohmura,T. Ishikawa，Applied Physics Letters，Vol. 102，No. 9，p. 094102-094102，2013年01月，研究論文（学術雑誌）
First-principles Analysis of the Initial Stage of the Chemical Etching Process of GaN，Mari Oue,Kouji Inagaki,Kazuto Yamauchi,Yoshitada Morikawa，2012年12月
Adsorption of hydrogen fluoride on SiC surfaces: A density functional theory study，Pho Van Bui,K. Inagaki,Y. Sano,K. Yamauchi,Y. Morikawa，Current Appl. Phys.，ELSEVIER SCIENCE BV, PO，Vol. 12，p. S42-S46，2012年12月，研究論文（学術雑誌）
Epitaxial Graphene Growth on Atomically Flattened SiC Assisted by Plasma Oxidation at 1000°C，Naoki Saito,Hiroaki Nishikawa,Yasuhisa Sano,Kentaro Kawai,Junichi Uchikoshi,Kazuto Yamauchi,Mizuho Morita,Kenta Arima，Program and Abstracts of 8th Handai Nanoscience and Nanotechnology International Symposium，2012年12月
Focusing of X-ray free-electron laser pulses with reflective optics，Hirokatsu Yumoto,Hidekazu Mimura,Takahisa Koyama,Satoshi Matsuyama,Kensuke Tono,Tadashi Togashi,Yuichi Inubushi,Takahiro Sato,Takashi Tanaka,Takashi Kimura,Hikaru Yokoyama,Jangwoo Kim,Yasuhisa Sano,Yousuke Hachisu,Makina Yabashi,Haruhiko Ohashi,Hitoshi Ohmori,Tetsuya Ishikawa,Kazuto Yamauchi，Nature Photonics，Vol. 7，No. 1，p. 43-47，2012年12月，研究論文（学術雑誌）
First-Principles Study of Reaction Process of SiC and HF Molecules in Catalyst-Referred Etching，Pho Van Bui,Kouji Inagaki,Yasuhisa Sano,Kazuto Yamauchi,Yoshitada Morikawa，Key Engineering Materials，Vol. 523-524，p. 173-177，2012年11月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Improvement of interface roughness in platinum/carbon multilayers for X-ray mirrors，J. Kim,S. Matsuyama,Y. Sano,K. Yamauchi，Key Engineering Materials，Vol. 523-524，p. 1076-1079，2012年11月，研究論文（学術雑誌）
Development of an ultraprecise piezoelectric deformable mirror for adaptive X-ray optics，H. Nakamori,S. Matsuyama,S. Imai,T. Kimura,Y. Sano,Y. Kohmura,K. Tamasaku,M. Yabashi,T. Ishikawa,K. Yamauchi，14th International Conference on Precision Engineering，Vol. 523-524，p. 50-53，2012年11月，研究論文（学術雑誌）
Development of ultraprecise piezoelectric deformable mirror for adaptive X-ray focusing，Hiroki Nakamori,Satoshi Matsuyama,Shota Imai,Takashi Kimura,Yasuhisa Sano,Yoshiki Kohmura,Kenji Tamasaku,Makina Yabashi,Tetsuya Ishikawa,Kazuto Yamauchi，Extended Abstracts of 5th International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology，2012年10月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
First-Principles Analysis of CARE Process of GaN -Initial Stage of Etching Process-，M. Oue,K. Inagaki,K. Yamauchi,Y. Morikawa，2012年10月
First-Principles Simulations of Catalyst Assisted Wet-etching Processes at Semiconductor Surfaces，K. Inagaki,M. Oue,B.V. Pho,D. Hirose,K. Yamauchi,Y. Morikawa，2012年10月
Fabrication of ultraprecise X-ray mirrors by ion beam figuring system: Fabrication and evaluation of aspheric shape on silicon surface，Shinichi Kitamura,Satoshi Matsuyama,Yasuhisa Sano,Kazuto Yamauchi，Extended Abstracts of 5th International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology，2012年10月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Development of a High-resolution Full-field Hard X-ray Imaging Microscope Based On Four Aspherical Mirrors，Yoji Emi,Satoshi Matsuyama,Yoshiki Kohmura,Tetsuya Ishikawa,Kazuto Yamauchi，Extended Abstracts of 5th International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology，2012年10月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Development of one-dimensional Wolter mirror figured on a single substrate for full-field X-ray microscopy，Satoshi Matsuyama,Yoji Emi,Yasuhisa Sano,Kazuto Yamauchi，Extended Abstracts of 5th International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology，2012年10月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Study of Pt/C multilayers for X-ray mirrors improvement of reflectivity，J. Kim,A. Nagahira,S. Matsuyama,Y. Sano,K. Yamauchi，Extended Abstracts of 5th International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology，2012年10月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Wavefront measurement for a hard-X-ray nanobeam using single-grating interferometry based on a phase grating and Fourier transform method，Ryosuke Fukui,Hikaru Yokoyama,Satoshi Matsuyama,Yoshiki Kohmura,Kenji Tamasaku,Makina Yabashi,Wataru Yashiro,Atsushi Momose,Tetsuya Ishikawa,Kazuto Yamauchi，Extended Abstracts of 5th International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology，2012年10月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Analysis of Enhanced Oxygen Reduction Reaction on Ge(100) Surface in Water Toward Metal-free Machining Process，Atsushi Mura,Yoshie Kawai,Tatsuya Kawase,Kentaro Kawai,Yasuhisa Sano,Junichi Uchikoshi,Kazuto Yamauchi,Mizuho Morita,Kenta Arima，Extended Abstracts of Fifth International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology，2012年10月
Low Temparature Growth of Graphene on Atomically Flat SiC Assited by Plasma Oxidation，Kenta Arima,Naoki Saito,Hiroaki Nishikawa,Yasuhisa Sano,Kentaro Kawai,Junichi Uchikoshi,Kazuto Yamauchi,Mizuho Morita，Extended Abstracts of Fifth International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology，2012年10月
First-Principles Study of Platinum Catalyst-Assisted Hydrogen Fluoride Adsorption on SiC Surfaces，B.V. Pho,K. Inagaki,Y. Sano,K. Yamauchi,Y. Morikawa，2012年10月
Wavefront measurement for a hard-X-ray nanobeam using single-grating interferometry，Satoshi Matsuyama,Hikaru Yokoyama,Ryosuke Fukui,Yoshiki Kohmura,Kenji Tamasaku,Makina Yabashi,Wataru Yashiro,Atsushi Momose,Tetsuya Ishikawa,Kazuto Yamauchi，Optics Express，Vol. 20，No. 22，p. 24977-24986，2012年10月，研究論文（学術雑誌）
Development of an adaptive hard X-ray focusing system with deformable mirrors，Shota Imai,Hiroki Nakamori,Satoshi Matsuyama,Takashi Kimura,Yoshiki Kohmura,Tetsuya Ishikawa,Kazuto Yamauchi，Extended Abstracts of 5th International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology，2012年10月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Advanced Kirkpatrick-Baezミラー結像光学系を用いた高分解能硬X線顕微鏡の開発，松山智至,恵美陽治,佐野泰久,香村芳樹,石川哲也,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，公益社団法人精密工学会，Vol. 2012，p. 399-400，2012年09月
第一原理計算によるGaN表面エッチング現象初期過程の解明，大上まり,稲垣耕司,山内和人,森川良忠，2012年09月
形状可変ミラーを用いた硬X線アダプティブ集光光学系の開発，今井将太,中森紘基,松山智至,木村隆志,香村芳樹,石川哲也,山内和人，2012年09月
Ion Beam Figuring を用いた高精度Ｘ線ミラーの作製第 4 報 ―シリコン表面に対する非球面形状の作製と評価―，北村真一,松山智至,佐野泰久,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，公益社団法人精密工学会，Vol. 2012，p. 411-412，2012年09月
硬Ｘ線集光用形状可変ミラーの開発－形状可変ミラー変形性能の評価－，中森紘基,松山智至,今井将太,木村隆志,佐野泰久,香村芳樹,玉作賢治,矢橋牧名,石川哲也,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，公益社団法人精密工学会，Vol. 2012，p. 401-402，2012年09月
A Study of Terminated Species on 4H-SiC (0001) Surfaces Planarized using Hydrofluoric Acid，P. V. Bui,S. Sadakuni,T. Okamoto,K. Arima,Y. Sano,K. Yamauchi，2012年09月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Low temperature growth of graphene on 4H-SiC(0001) flattened by catalyst-assisted etching in HF solution，K. Arima,K. Nishitani,N. Saito,K. Kawai,J. Uchikoshi,K. Yamauchi,Y. Sano,M. Morita，Abstract book of 24th General Conference of the Condensed Matter Division of the European Physical Society held jointly with 29th European Conference on Surface Science，Institute of Physics，2012年09月
Basic experiment on atmospheric-pressure plasma etching with slit aperture for high-efficiency dicing of SiC wafer，Yasuhisa Sano,Hiroaki Nishikawa,Kohei Aida,Chaiyapat Tangpatjaroen,Kazuya Yamamura,Satoshi Matsuyama,Kazuto Yamauchi，Materials Science Forum，Vol. 740-742，p. 813-816，2012年09月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Development of Achromatic Full-Field Hard X-ray Microscopy Using Four Total-Reflection Mirrors，Satoshi Matsuyama,Youji Emi,Naotaka Kidani,Yoshiki Kohmura,Kenji Tamasaku,Tetsuya Ishikawa,Kazuto Yamauchi，Conference information and abstracts，Vol. 463，2012年08月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Atomically Controlled SiC, GaN and ZnO Surfaces by Catalyst Referredetching，K. Yamauchi，2012年07月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Improved reflectivity of platinum/carbon multilayers for X-ray mirrors by carbon doping into platinum layer，J. Kim,H. Yokoyama,S. Matsuyama,Y. Sano,K. Yamauchi，Current Applied Physics，Vol. 12，p. S20-S23，2012年07月，研究論文（学術雑誌）
Fabrication of a Bragg beam splitter for hard X-ray free-electron laser，OSAKA Taito,YABASHI Makina,SANO Yasuhisa,TONO Kensuke,INUBUSHI Yuichi,SATO Takahiro,MATSUYAMA Satoshi,ISHIKAWA Tetsuya,YAMAUCHI Kazuto，Journal of Physics: Conference Series，Vol. 425，No. 5，2012年07月，研究論文（学術雑誌）
Back-side thinning of silicon carbide wafer by plasma etching using atmospheric-pressure plasma，Y. Sano,K. Aida,H. Nishikawa,K. Yamamura,S. Matsuyama,K. Yamauchi，Key Engineering Materials，Vol. 516，p. 108-+，2012年07月，研究論文（学術雑誌）
Structural and chemical characteristics of atomically smooth GaN surfaces prepared by abrasive-free polishing with Pt catalyst，Junji Murata,Shun Sadakuni,Takeshi Okamoto,Azusa N. Hattori,Keita Yagi,Yasuhisa Sano,Kenta Arima,Kazuto Yamauchi，Journal of Crystal Growth，Vol. 349，No. 1，p. 83-88，2012年06月15日，研究論文（学術雑誌）
Progress of Mirror-based Focusing Optics for X-ray Free Electron Laser，K. Yamauchi，2012年06月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Nanofocusing and wavefront analysis of SACLA，K. Yamauchi，2012年06月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Surface processing of Crystal，K. Yamauchi，2012年05月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Experimental and simulation study of undesirable short-period deformation in piezoelectric deformable x-ray mirrors，Hiroki Nakamori,Satoshi Matsuyama,Shota Imai,Takashi Kimura,Yasuhisa Sano,Yoshiki Kohmura,Kenji Tamasaku,Makina Yabashi,Tetsuya Ishikawa,Kazuto Yamauchi，Review of Scientific Instruments，Vol. 83，No. 5，2012年05月，研究論文（学術雑誌）
Hard-X-ray imaging optics based on four aspherical mirrors with 50 nm resolution，Satoshi Matsuyama,Naotaka Kidani,Hidekazu Mimura,Yasuhisa Sano,Yoshiki Kohmura,Kenji Tamasaku,Makina Yabashi,Tetsuya Ishikawa,Kazuto Yamauchi，Optics Express，Vol. 20，No. 9，2012年04月，研究論文（学術雑誌）
Improvement of Removal Rate in Abrasive-Free Planarization of 4H-SiC Substrates Using Catalytic Platinum and Hydrofluoric Acid，Takeshi Okamoto,Yasuhisa Sano,Kazuma Tachibana,Bui Van Pho,Kenta Arima,Kouji Inagaki,Keita Yagi,Junji Murata,Shun Sadakuni,Hiroya Asano,Ai Isohashi,Kazuto Yamauchi，Japanese Journal of Applied Physics，Vol. 51，No. 4，2012年04月，研究論文（学術雑誌）
Atomically Smooth Gallium Nitride Surfaces Prepared by Chemical Etching with Platinum Catalyst in Water，Junji Murata,Takeshi Okamoto,Shun Sadakuni,Azusa N. Hattori,Keita Yagi,Yasuhisa Sano,Kenta Arima,Kazuto Yamauchi，Journal of Electrochemical Society，Vol. 159，No. 4，p. H417-H420，2012年04月，研究論文（学術雑誌）
Pt触媒を用いた水分子によるGaN表面エッチング現象初期過程の第一原理計算による解明，大上まり,稲垣耕司,山内和人,森川良忠，2012年03月
Current status of mirror-based optics for coherent x-ray science，K. Yamauchi，2012年03月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Atomically controlled chemical polishing of GaN using platinum and hydrofluoric acid，S. Sadakuni,J. Murata,Y. Sano,K. Yagi,T. Okamoto,K. Tachibana,H. Asano,K. Yamauchi，Physica Status Solidi C，Vol. 9，No. 3-4，p. 433-435，2012年03月，研究論文（学術雑誌）
PtC/C多層膜を用いた硬X線集光用ミラーの反射率改善，金章雨,横山光,松山智至,佐野泰久,山内和人，2012年度精密工学会春季大会プログラム＆アブストラクト集，2012年03月，研究論文（その他学術会議資料等）
硬X線集光用形状可変ミラーの開発－SPring-8での集光特性－，松山智至,中森紘基,今井将太,横山光,木村隆志,佐野泰久,香村芳樹,石川哲也,山内和人，2012年度精密工学会春季大会プログラム＆アブストラクト集，2012年03月，研究論文（その他学術会議資料等）
Ion Beam Figuringを用いた高精度X線ミラーの作製第3報－シリコン表面に対する楕円形状の作製と評価－，北村真一,松山智至,佐野泰久,山内和人，2012年度精密工学会春季大会プログラム＆アブストラクト集，2012年03月，研究論文（その他学術会議資料等）
10KeV mirror project，K. Yamauchi，2012年02月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
表面清浄化処理によるGaN(0001)からの発光強度の増大，服部梓,遠藤勝義,服部賢,森脇祐太,山本愛士,有馬健太,佐野泰久,山内和人,大門寛，表面科学学術講演会要旨集，公益社団法人日本表面科学会，Vol. 32，p. 72-72，2012年
大気圧プラズマエッチングを用いたブラッグビームスプリッタの作製，大坂泰斗,矢橋牧名,佐野泰久,登野健介,犬伏雄一,佐藤堯洋,松山智至,石川哲也,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，公益社団法人精密工学会，Vol. 2012，p. 415-416，2012年
ステップフロー型研磨法によるGaN基板の平坦化加工と除去速度増加の検討，浅野博弥,定國峻,佐野泰久,八木圭太,松山智至,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，公益社団法人精密工学会，Vol. 2012，p. 427-428，2012年
純水を用いた触媒表面基準エッチング法における加工原理の検討，礒橋藍,佐野泰久,大上まり,八木圭太,定國峻,森川良忠,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，公益社団法人精密工学会，Vol. 2012，p. 429-430，2012年
プラズマ発生領域制限マスクを用いたPCVM(Plasma Chemical Vaporization Machining) によるSiC基板の切断加工の検討，西川央明,佐野泰久,会田浩平,岡田悠,山村和也,松山智至,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，公益社団法人精密工学会，Vol. 2012，p. 425-426，2012年
三面合わせ法を用いた平面基板の絶対形状校正，湯本博勝,松山智至,三村秀和,山内和人,大橋治彦，精密工学会学術講演会講演論文集，公益社団法人精密工学会，Vol. 2012，p. 405-406，2012年
加工メカニズムに基づくelastic emission machiningの加工能率向上化，金岡政彦,野村和司,山内和人,森勇藏，精密工学会学術講演会講演論文集，公益社団法人精密工学会，Vol. 2012，p. 419-420，2012年
ウェットエッチングによるSiC、GaN表面の原子スケール平滑化，山内和人，2012年01月
Development of Focusing System for X-ray Free Electron Laser，Hidekazu Mimura,Hitoshi Ohmori,Kazuto Yamauchi，PROCEEDINGS OF PRECISION ENGINEERING AND NANOTECHNOLOGY (ASPEN2011)，TRANS TECH PUBLICATIONS LTD，Vol. 516，p. 251-+，2012年，研究論文（国際会議プロシーディングス）
First-principles Analysis of Dissociative Absorption of HF Molecule at SiC Surface Step Edge，Kouji Inagaki,Bui Van Pho,Kazuto Yamauchi,Yoshitada Morikawa，SILICON CARBIDE AND RELATED MATERIALS 2011, PTS 1 AND 2，TRANS TECH PUBLICATIONS LTD，Vol. 717-720，p. 581-584，2012年，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Rapid planarization method by ultraviolet light irradiation for gallium nitride using platinum catalyst，Hiroya Asano,Shun Sadakuni,K. Yagi,Y. Sano,S. Matsuyama,T. Okamoto,K. Tachibana,K. Yamauchi，EMERGING TECHNOLOGY IN PRECISION ENGINEERING XIV，TRANSACTION PUBLISHERS，Vol. 523-524，p. 46-+，2012年，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Fabrication of ultrathin Bragg beam splitter by plasma chemical vaporization machining，T. Osaka,M. Yabashi,Y. Sano,K. Tono,Y. Inubushi,T. Sato,S. Matsuyama,T. Ishikawa,K. Yamauchi，EMERGING TECHNOLOGY IN PRECISION ENGINEERING XIV，TRANSACTION PUBLISHERS，Vol. 523-524，p. 40-+，2012年，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Improving the Accuracy of Numerically Controlled Sacrificial Plasma Oxidation Using Array of Electrodes to Improve the Thickness Uniformity of SOI，H. Takei,K. Yoshinaga,Y. Sano,S. Matsuyama,K. Yamauchi，IEEE INTERNATIONAL SOI CONFERENCE，IEEE，2012年，研究論文（国際会議プロシーディングス）
開口シフトを用いた位相回復計算による硬X線集光光学素子の波面収差算出法の開発，横山光,三村秀和,木村隆志,今井将太,松山智至,佐野泰久,香村秀樹,玉作賢治,矢橋牧名,石川哲也,山内和人，第25回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム，2012年01月，研究論文（その他学術会議資料等）
回折限界下で集光径可変なミラー集光光学系の開発，松山智至,木村隆志,中森紘基,今井将太,香村芳樹,玉作賢治,矢橋牧名,石川哲也,西野吉則,山内和人，第25回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム，2012年01月，研究論文（その他学術会議資料等）
PtC/C多層膜を用いたX線集光用ミラーの反射率改善，金章雨,横山光,松山智至,佐野泰久,香村芳樹,玉作賢治,矢橋牧名,石川哲也,山内和人，第25回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム，2012年01月，研究論文（その他学術会議資料等）
Back-side Thinning of Silicon Carbide Wafer by Plasma Etching using Atmospheric-pressure Plasma，Yasuhisa Sano,Kohei Aida,Hiroaki Nishikawa,Kazuya Yamamura,Satoshi Matsuyama,Kazuto Yamauchi，PROCEEDINGS OF PRECISION ENGINEERING AND NANOTECHNOLOGY (ASPEN2011)，TRANS TECH PUBLICATIONS LTD，Vol. 516，p. 108-+，2012年，研究論文（国際会議プロシーディングス）
グリーンデバイスの将来展望―超精密加工技術の開発の立場から―，山内和人，2011年12月
Surface Observation of 4H-SiC (0001) Planarized by Catalyst-Referred Etching，Shun Sadakuni,Bui Van Pho,Ngo Xuan Dai,Yasuhisa Sano,Keita Yagi,Junji Murata,Takeshi Okamoto,Kazuma Tachibana,Kazuto Yamauchi，Vol. 516，p. 452-+，2011年11月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
KBミラー光学系を用いた硬X線二次元Sub-10nm集光システムの開発，横山光,三村秀和,木村隆志,今井将太,松山智至,佐野泰久,香村秀樹,玉作賢治,矢橋牧名,石川哲也,山内和人，プログラム予稿集第11回X線結像光学シンポジウム，2011年11月，研究論文（その他学術会議資料等）
4枚の高精度形状可変ミラーを用いたアダプティブ集光光学系の開発，松山智至,木村隆志,中森紘基,今井将太,香村芳樹,玉作賢治,矢橋牧名,石川哲也,西野吉則,山内和人，プログラム予稿集第11回X線結像光学シンポジウム，公益社団法人精密工学会，Vol. 2012，p. 403-404，2011年11月，研究論文（その他学術会議資料等）
Determination of Had X-ray Focusing Mirror Aberration using Phase Retrieval with Transverse Translation Diversity，H. Yokoyama,T. Kimura,H. Mimura,S. Imai,S. Matsuyama,Y. Kohmura,T. Ishikawa,K. Yamauchi，Extended Abstracts of 4th International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology，2011年11月
Development of Hard X-ray Imaging Optics for Achromatic Full-Field X-ray Microscopy，Satoshi Matsuyama,Naotaka Kidani,Yoji Emi,Yasuhisa Sano,Yoshiki Kohmura,Tetsuya Ishikawa,Kazuto Yamauchi，Extended Abstracts of 4th International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology，2011年11月
Development of an ultra-precise deformable mirror for hard X-ray nanofocusing，Hiroki Nakamori,Satoshi Matsuyama,Takashi Kimura,Shouta Imai,Yoshiki Kohmura,Tetsuya Ishikawa,Yoshinori Nishino,Kazuto Yamauchi，Program of 7th Handai Nanoscience and Nanotechnology International Symposium，2011年11月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Development of an Adaptive X-Ray Focusing Mirror with Large NA -Evaluation of Reproducibility of Deformable Mirror-，H. Nakamori,S. Matsuyama,S. Imai,H. Yokoyama,T. Kimura,H. Mimura,Y. Sano,Y. Kohmura,T. Ishikawa,K. Yamauchi，Extended Abstracts of 4th International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology，2011年11月
Reflectivity improvement using PtC/C multilayers for X-ray mirrors，Jangwoo Kim,Hikaru Yokoyama,Satoshi Matsuyama,Yasuhisa Sano,Kazuto Yamauchi，Extended Abstracts of 4th International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology，2011年11月
Plasma Chemical Vaporization Machining of Silicon Carbide Wafer Using Flat-bar Electrode with Multiple Gas Nozzles，Y. Sano,K. Aida,H. Nishikawa,K. Yamamura,S. Matsuyama,K. Yamauchi，Proceeding of the 8th CHINA-JAPAN International Conference on Ultra-Precision Machining, 31.，Vol. 497，p. 160-+，2011年11月，研究論文（学術雑誌）
Back-side thinning of silicon carbide wafer by plasma etching using atmospheric-pressure plasma，Y. Sano,K. Aida,H. Nishikawa,K. Yamamura,S. Matsuyama,K. Yamauchi，Abstracts of 4th International Conference of Asian Society for Precision Engineering and Nanotechnology, 72，Vol. 516，p. 108-+，2011年11月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Cutting of SiC substrates by atmospheric-pressure plasma etching with slit mask for plasma confinement，H. Nishikawa,Y. Sano,K. Aida,T. Chaiyapat,K. Yamamura,S. Matsuyama,K. Yamauchi，Abstracts of The 33rd International Symposium on Dry Process, 35-36.，2011年11月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
X-ray nanofocusing by mirror optical systems，K. Yamauchi，2011年10月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Single-nanometer focusing of hard x-rays by Kirkpatrick-Baez mirrors，Kazuto Yamauchi,Hidekazu Mimura,Takashi Kimura,Hirokatsu Yumoto,Soichiro Handa,Satoshi Matsuyama,Kenta Arima,Yasuhisa Sano,Kazuya Yamamura,Koji Inagaki,Hiroki Nakamori,Jangwoo Kim,Kenji Tamasaku,Yoshinori Nishino,Makina Yabashi,Tetsuya Ishikawa，JOURNAL OF PHYSICS: CONDENSED MATTER，Vol. 23，No. 39，p. 394206 1-394206 2，2011年10月，研究論文（学術雑誌）
Single-nanometer focusing of hard x-rays by Kirkpatrick-Baez mirrors，Kazuto Yamauchi,Hidekazu Mimura,Takashi Kimura,Hirokatsu Yumoto,Soichiro Handa,Satoshi Matsuyama,Kenta Arima,Yasuhisa Sano,Kazuya Yamamura,Koji Inagaki,Hiroki Nakamori,Jangwoo Kim,Kenji Tamasaku,Yoshinori Nishino,Makina Yabashi,Tetsuya Ishikawa，JOURNAL OF PHYSICS-CONDENSED MATTER，IOP PUBLISHING LTD，Vol. 23，No. 39，p. 394206 1-394206 2，2011年10月，研究論文（学術雑誌）
Cutting of SiC substrates by atmospheric-pressure plasma etching with slit mask for plasma confinement，H. Nishikawa,Y. Sano,K. Aida,T. Chaiyapat,K. Yamamura,S. Matsuyama,K. Yamauchi，Extended Abstracts of Fourth International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology, 172-173.，2011年10月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
First-Principles Molecular-Dynamics Analysis of Reaction Process Between SiC Surface and HF Molecule，Kouji Inagaki,Bui Van Pho,Kazuto Yamauchi,Yoshitada Morikawa，2011年09月
Mirror‐based optical systems for nanofocusing and nanoimaging of hard x‐rays，K. Yamauchi，2011年09月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Mechanism of atomic-scale passivation and flattening of semiconductor surfaces by wet-chemical preparations，Kenta Arima,Katsuyoshi Endo,Kazuto Yamauchi,Kikuji Hirose,Tomoya Ono,Yasuhisa Sano，Journal of Physics: Condensed Matter，IOP Publishing，Vol. 23，No. 39，p. 394202 1-394202 14，2011年09月，研究論文（学術雑誌）
Development of Coherent X-ray Diffraction Apparatus with Kirkpatrick-Baez Mirror Optics，Y. Takahashi,R. Tsutsumi,H. Kubo,Y. Nishino,H. Mimura,S. Matsuyama,T. Ishikawa,K. Yamauchi，AIP Conference Proceedings (The 10th International Conference on x-ray microscopy)，Vol. 1365，p. 231-234，2011年09月，研究論文（学術雑誌）
Multiscale element mapping of buried structures by ptychographic x-ray diffraction microscopy using anomalous scattering，Y. Takahashi,A. Suzuki,N. Zettsu,Y. Kohmura,K. Yamauchi,T. Ishikawa，Applied Physics Letters，Vol. 99，No. 13，2011年09月，研究論文（学術雑誌）
4枚の非球面ミラーを用いた硬X線結像光学系の開発，松山智至,木谷直隆,恵美陽治,佐野泰久,香村芳樹,石川哲也,山内和人，2011年度精密工学会秋季大会学術講演会アブストラクト集，公益社団法人精密工学会，Vol. 2011，p. 469-470，2011年09月，研究論文（その他学術会議資料等）
硬X線集光用形状可変ミラーの開発－変形再現性の評価―，中森紘基,松山智至,今井将太,横山光,木村隆志,三村秀和,佐野泰久,香村芳樹,石川哲也,山内和人，2011年度精密工学会秋季大会学術講演会アブストラクト集，2011年09月，研究論文（その他学術会議資料等）
硬X線集光用多層膜ミラーの開発，金章雨,横山光,松山智至,三村秀和,佐野泰久,香村芳樹,石川哲也,山内和人，2011年度精密工学会秋季大会学術講演会アブストラクト集，公益社団法人精密工学会，Vol. 2011，p. 473-474，2011年09月，研究論文（その他学術会議資料等）
IBF(Ion Beam Figuring)を用いた高精度X線ミラーの作製 ―シリコン表面の加工特性とビームの安定性の評価―，北村真一,松山智至,佐野泰久,山内和人，2011年度精密工学会秋季大会学術講演会アブストラクト集，公益社団法人精密工学会，Vol. 2011，p. 475-476，2011年09月，研究論文（その他学術会議資料等）
Trace element mapping of a single cell using a hard X-ray nanobeam focused by a Kirkpatrick-Baez mirror system，Satoshi Matsuyama,Kazuto Yamauchi，SPring-8 Research Frontiers 2010，Wiley InterScience，2011年09月，研究論文（大学，研究機関等紀要）
Numerically controlled sacrificial plasma oxidation using array-type electrode toward high-throughput deterministic machining，Yasuhisa Sano,Keinosuke Yoshinaga,Shohei Kamisaka,Hidekazu Mimura,Satoshi Matsuyama,Kazuto Yamauchi，International Journal of Nanomanufacturing，Vol. 7，No. 3-4，p. 289-297，2011年09月，研究論文（学術雑誌）
HRTEM Observation of 4H-SiC (0001) Surface Planarized by Catalyst-Referred Etching，Bui Van Pho,Shun Sadakuni,Takesi Okamoto,Kenta Arima,Yasuhira Sano,Kazuto Yamauchi，Materials Science Forum，Vol. 717-720，p. 873-+，2011年09月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Cutting of SiC Wafer by Atmospheric-Pressure Plasma Etching With Wire Electrode，Yasuhisa Sano,Kohei Aida,Takehiro Kato,Kazuya Yamamura,Hidekazu Mimura,Satoshi Matsuyama,Kazuto Yamauchi，Materials Science Forum，Vol. 717-720，p. 865-+，2011年09月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
第一原理計算によるGaN表面エッチング現象の解明-表面終端構造とエッチング初期過程の解析，大上まり,稲垣耕司,山内和人,森川良忠，2011年08月
Development of a one-dimensional Wolter mirror for achromatic full-field X-ray microscopy，S. Matsuyama,N. Kidani,H. Mimura,J. Kim,Y. Sano,K. Tamasaku,Y. Kohmura,M. Yabashi,T. Ishikawa,K. Yamauchi，Proc. SPIE，Vol. 8139，2011年08月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Influence of gallium additives on surface roughness for photoelectrochemical planarization of GaN，S. Sadakuni,J. Murata,K. Yagi,Y. Sano,K. Arima,T. Okamoto,K. Tachibana,K. Yamauchi，Physica Status Solidi C，Vol. 8，No. 7-8，p. 2223-2225，2011年07月，研究論文（学術雑誌）
Deterministic fabrication process for precision X-ray mirrors，K. Yamauchi，2011年05月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Current status of precision mirror development for coherent X-rays，K. Yamauchi，2011年04月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Single-nanometer focusing of hard x-rays using novel adaptive optical system，Kazuto Yamauchi，2011年04月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Ⅹ線ナノ集光技術の展望，山内和人，2011年04月
Electroforming for Replicating Nanometer-Level Smooth Surface，Hidekazu Mimura,Hiroyuki Ishikura,Satoshi Matsuyama,Yasuhisa Sano,Kazuto Yamauchi，Journal of Nanoscience and Nanotechnology，Vol. 11，No. 4，p. 2886-2889，2011年04月，研究論文（学術雑誌）
Efficient Wet Etching of GaN (0001) Substrate with Subsurface Damage Layer，Shun Sadakuni,Junji Murata,Keita Yagi,Yasuhisa Sano,Takeshi Okamoto,Arima Kenta,Azusa N. Hattori,Kazuto Yamauchi，Journal of Nanoscience and Nanotechnology，Vol. 11，No. 4，p. 2979-2982，2011年04月，研究論文（学術雑誌）
Improved Optical and Electrical Characteristics of Free-Standing GaN Substrates by Chemical Polishing Utilizing Photo-Electrochemical Method，Junji Murata,Yuki Shirasawa,Yasuhisa Sano,Shun Sadakuni,Keita Yagi,Takeshi Okamoto,Azusa N. Hattori,Kenta Arima,Kazuto Yamauchi，Journal of Nanoscience and Nanotechnology，Vol. 11，No. 4，p. 2882-2885，2011年04月，研究論文（学術雑誌）
Structure and Magnetic Properties of Mono- and Bi-Layer Graphene Films on Ultraprecision Figured 4H-SiC(0001) Surfaces，Azusa N. Hattori,Takeshi Okamoto,Shun Sadakuni,Junji Murata,Hideo Oi,Kenta Arima,Yasuhisa Sano,Ken Hattori,Hiroshi Daimon,Katsuyoshi Endo,Kazuto Yamauchi，JOURNAL OF NANOSCIENCE AND NANOTECHNOLOGY，AMER SCIENTIFIC PUBLISHERS，Vol. 11，No. 4，p. 2897-2902，2011年04月，研究論文（学術雑誌）
Simulation Study of Adaptive Mirror for Hard X-ray Focusing，Hiroki Nakamori,Satoshi Matsuyama,Takashi Kimura,Shouta Imai,Hidekazu Mimura,Yasuhisa Sano,Kazuto Yamauchi，Programme of ACTOP11，2011年04月
Dependence of Process Characteristics on Atomic-Step Density in Catalyst-Referred Etching of 4H-SiC(0001) Surface，Takeshi Okamoto,Yasuhisa Sano,Kazuma Tachibana,Kenta Arima,Azusa N. Hattori,Keita Yagi,Junji Murata,Shun Sadakuni,Kazuto Yamauchi，Journal of Nanoscience and Nanotechnology，Vol. 11，No. 4，p. 2928-2930，2011年04月，研究論文（学術雑誌）
Evaluation of Schottky Barrier Diodes Fabricated Directly on Processed 4H-SiC(0001) Surfaces，Yasuhisa Sano,Yuki Shirasawa,Takeshi Okamoto,Kazuto Yamauchi，Journal of Nanoscience and Nanotechnology，Vol. 11，No. 4，p. 2809-2813，2011年04月，研究論文（学術雑誌）
Thinning of 2-inch SiC wafer by plasma chemical vaporization machining using cylindrical rotary electrode，Yasuhisa Sano,Takehiro Kato,Kohei Aida,Kazuya Yamamura,Hidekazu Mimura,Satoshi Matsuyama,Kazuto Yamauchi，Materials Science Forum，Vol. 679-680，p. 481-+，2011年04月，研究論文（学術雑誌）
One-dimensional sub-10-nm hard X-ray focusing using laterally graded multilayer mirror，Hidekazu Mimura,Takashi Kimura,Hirokatsu Yumoto,Hikaru Yokoyama,Hiroki Nakamori,Satoshi Matsuyama,Kenji Tamasaku,Yoshinori Nishino,Makina Yabashi,Tetsuya Ishikawa,Kazuto Yamauchi，Nuclear Instruments and Methods in Physics Reserch A，Vol. 635，p. S16-S18，2011年04月，研究論文（学術雑誌）
Abrasive-Free Planarization of 3-Inch 4H-SiC Substrate Using Catalyst-Referred Etching，T. Okamoto,Y. Sano,K. Tachibana,K. Arima,A. N. Hattori,K. Yagi,J. Murata,S. Sadakuni,K. Yamauchi，Materials Science Forum，Vol. 679-680，p. 493-495，2011年03月，研究論文（学術雑誌）
TEM Observation of 8 Deg Off-Axis 4H-SiC (0001) Surfaces Planarized by Catalyst-Referred Etching，S. Sadakuni,N. X. Dai,Y. Sano,K. Arima,K. Yagi,J. Murata,T. Okamoto,K. Tachibana,K. Yamauchi，Materials Science Forum，Vol. 679-680，p. 489-492，2011年03月，研究論文（学術雑誌）
Element-specific High-resolution Diffraction Microscopy using Focused Hard X-ray Beam，Y. Takahashi,Y. Nishino,R. Tsutsumi,H. Kubo,N. Zettsu,K. Yamauchi,T. Ishikawa,E. Matsubara，Diamond Light Source Proceedings (SRMS-7 2011)，Vol. 1，No. e136，p. 1-3，2011年03月，研究論文（学術雑誌）
Formation of wide and atomically flat graphene layers on ultraprecision-figured 4H-Si(0001) surfaces，A. N. Hattori,T. Okamoto,S. Sadakuni,J. Murata,K. Arima,Y. Sano,K. Hattori,H. Daimon,K. Endo,K. Yamauchi，Surface Science，Vol. 605，No. 5-6，p. 597-605，2011年03月，研究論文（学術雑誌）
高能率高精度Ｘ線ミラー加工のためのIBF(Ion Beam Figuring)システムの開発，北村真一,松山智至,三村秀和,佐野泰久,山内和人，2011年度精密工学会春季大会学術講演会講演論文集，2011年03月，研究論文（その他学術会議資料等）
硬X 線集光用ナノ精度形状可変ミラーの開発（第２報），今井将太,木村隆志,三村秀和,横山光,松山智至,佐野泰久,山内和人，2011年度精密工学会春季大会学術講演会講演論文集，2011年03月，研究論文（その他学術会議資料等）
シミュレーションを用いた硬X線用形状可変ミラー設計に関する研究，中森紘基,松山智至,今井将太,木村隆志,三村秀和,佐野泰久,山内和人，2011年度精密工学会春季大会学術講演会講演論文集，2011年03月，研究論文（その他学術会議資料等）
高密度X線ナノビーム形成のための並列型Kirkpatrick-Baezミラー光学系の開発，松山智至,脇岡敏之,木谷直隆,横山光,三村秀和,佐野泰久,山内和人，2011年度精密工学会春季大会学術講演会講演論文集，2011年03月，研究論文（その他学術会議資料等）
バイアス電圧印加を併用した光電気化学反応によるGaN基板の高能率平坦加工，浅野博弥,定國峻,佐野泰久,八木圭太,村田順二,岡本武志,橘一真,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，公益社団法人精密工学会，Vol. 2011，p. 181-182，2011年
多段階の化学的平坦化手法を用いたGaN単結晶基板の高能率・超平坦化加工，定國峻,村田順二,佐野泰久,八木圭太,岡本武志,橘一真,浅野博弥,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，公益社団法人精密工学会，Vol. 2011，p. 179-180，2011年
原子レベルで平坦化された4H-SiC(0001)表面上への高品質グラフェンの形成，西谷恵介,坂根宏樹,山口崇光,岡本武志,川合健太郎,打越純一,山内和人,森田瑞穂,有馬健太，精密工学会学術講演会講演論文集，公益社団法人精密工学会，Vol. 2011，p. 996-997，2011年
硬X線自由電子レーザー用オートコリレータの開発:硬X線ビームスプリッタの作製，大坂泰斗,矢橋牧名,佐野泰久,登野健介,犬伏雄一,佐藤堯洋,松山智至,石川哲也,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，公益社団法人精密工学会，Vol. 2011，p. 453-454，2011年
触媒基準エッチング法による4H-SiCの平坦化における加工速度の検討，橘一真,佐野泰久,岡本武志,礒橋藍,有馬健太,稲垣耕司,八木圭太,定國峻,森川良忠,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，公益社団法人精密工学会，Vol. 2011，p. 457-458，2011年
Development of an Adaptive Optical System for Sub-10-nm Focusing of Synchrotron Radiation Hard X-rays，H. Mimura,T. Kimura,H. Yokoyama,H. Yumoto,S. Matsuyama,K. Tamasaku,Y. Koumura,M. Yabashi,T. Ishikawa,K. Yamauchi，10TH INTERNATIONAL CONFERENCE ON X-RAY MICROSCOPY，AMER INST PHYSICS，Vol. 1365，p. 13-17，2011年，研究論文（国際会議プロシーディングス）
TEM observation of 8 deg off-axis 4H-SiC (0001) surfaces planarized by catalyst-referred etching，Shun Sadakuni,Ngo Xuan Dai,Yasuhisa Sano,Kenta Arima,Keita Yagi,Junji Murata,Takeshi Okamoto,Kazuma Tachibana,Kazuto Yamauchi，SILICON CARBIDE AND RELATED MATERIALS 2010，TRANS TECH PUBLICATIONS LTD，Vol. 679-680，p. 489-+，2011年，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Towards High-Resolution Ptychographic X-ray Diffraction Microscopy，Y. Takahashi,A. Suzuki,N. Zettsu,Y. Kohmura,Y. Senba,H. Ohashi,K. Yamauchi,T. Ishikawa，Physical Review B，Vol. 83，No. 21，p. 214109-214109，2011年01月，研究論文（学術雑誌）
色収差のない結像型硬X線顕微鏡構築のためのAdvanced Kirkpatrick-Baez ミラー光学系の開発，木谷直隆,松山智至,脇岡敏之,中森紘基,三村秀和,木村隆志,佐野泰久,西野吉則,玉作賢治,香村芳樹,矢橋牧名,石川哲也,山内和人，第24回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム，2011年01月，研究論文（その他学術会議資料等）
波動光学シミュレーションを用いたAdvanced Kirkpatrick-Baez ミラー光学系の検討，中森紘基,松山智至,脇岡敏之,木谷直隆,三村秀和,佐野泰久,西野吉則,香村芳樹,玉作賢治,矢橋牧名,石川哲也,山内和人，第24回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム，2011年01月，研究論文（その他学術会議資料等）
高密度X線ナノビーム形成のための並列型Kirkpatrick-Baezミラー光学系の開発，脇岡敏之,松山智至,木谷直隆,三村秀和,佐野泰久,香村芳樹,玉作賢治,矢橋牧名,石川哲也,山内和人，第24回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム，2011年01月，研究論文（その他学術会議資料等）
High-Resolution Projection Image Reconstruction of Thick Objects by Hard X-ray Diffraction Microscopy，Y. Takahashi,Y. Nishino,R. Tsutsumi,N. Zettsu,E. Matsubara,K. Yamauchi,T. Ishikawa，Physical Review B，Vol. 82，No. 21，p. 214102-214102，2010年12月，研究論文（学術雑誌）
Wavefield characterization of nearly diffraction-limited focused hard x-ray beam with size less than 10 nm，Takashi Kimura,Hidekazu Mimura,Soichiro Handa,Hirokatsu Yumoto,Hikaru Yokoyama,Shota Imai,Satoshi Matsuyama,Yasuhisa Sano,Kenji Tamasaku,Yoshiki Komura,Yoshinori Nishino,Makina Yabashi,Tetsuya Ishikawa,Kazuto Yamauchi，Review of Science Instruments，Vol. 81，No. 12，2010年12月，研究論文（学術雑誌）
One-dimensional Wolter optics with a sub-50-nm spatial resolution，S. Matsuyama,T. Wakioka,N. Kidani,T. Kimura,H. Mimura,Y. Sano,Y. Nishino,M. Yabashi,K. Tamasaku,T. Ishikawa,K. Yamauchi，Optics Letters，Vol. 35，No. 21，p. 3583-3585，2010年11月，研究論文（学術雑誌）
Development of Side-By-Side Kirkpatrick-Baez mirror for high-density X-ray nanobeam，T. Wakioka,S. Matsuyama,N. Kidani,H. Mimura,Y. Sano,K. Yamauchi，Extended Abstracts of Third International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology，2010年11月
Development of Advanced Kirkpatrick-Baez mirror for achromatic hard X-ray microscopy，N. Kidani,S. Matsuyama,T. Wakioka,S. Kitamura,H. Mimura,K. Yamauchi，Extended Abstracts of Third International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology，2010年11月
One-Dimensional Wolter Mirror for Achromatic Hard X-ray Microscopy，S. Matsuyama,N. Kidani,T. Wakioka,H. Mimura,K. Yamauchi，Extended Abstracts of Third International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology，2010年11月
Development of Chemical Processing Methods for Silicon Carbide Wafering and Device Processing，Y. Sano,K. Yamamura,K. Arima,K. Yamauchi，Extended Abstracts of Third International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology, 6.2, 54-55.，2010年11月
Optimized Logarithmic Roller Crowning Design of Cylindrical Roller Bearings and Its Experimental Demonstration，H. Fujiwara,T. Kawase,T. Kobayashi,K. Yamauchi，Tribology Transactions，Vol. 53，No. 6，p. 909-916，2010年10月，研究論文（学術雑誌）
Numerically Controlled Sacrificial Plasma Oxidation Using Array-Type Electrode toward High-Throughput Deterministic Machining，Yasuhisa Sano,Keinosuke Yoshinaga,Shohei Kamisaka,Hidekazu Mimura,Satoshi Matsuyama,Kazuto Yamauchi，Proceedings of the 2nd International Conference on Nanomanufacturing，Vol. 7，No. 3-4，p. 289-297，2010年09月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
X線ミラー用ナノ精度表面創成法の開発 —形状修正加工の高分解能化とX線集光ミラーへの適応—，三村秀和,湯本博勝,松山智至,佐野泰久,山内和人，精密工学会誌，公益社団法人精密工学会，Vol. 76，No. 3，p. 338-342，2010年09月，研究論文（学術雑誌）
4枚の非球面ミラーを用いた結像型硬X線顕微鏡の開発，松山智至,脇岡敏之,木谷直隆,三村秀和,山内和人，2010年度精密工学会秋季大会学術講演会アブストラクト集，2010年09月，研究論文（その他学術会議資料等）
Development of a one-dimensional Wolter mirror for an advanced Kirkpatrick-Baez mirror，S. Matsuyama,T. Wakioka,H. Mimura,T. Kimura,N. Kidani,Y. Sano,Y. Nishino,K. Tamasaku,M. Yabashi,T. Ishikawa,K. Yamauchi，Proc. SPIE，Vol. 7802，2010年09月，研究論文（学術雑誌）
高密度X線ナノビーム形成のための並列型Kirkpatrick-Baezミラー光学系の開発，脇岡敏之,松山智至,木谷直隆,三村秀和,山内和人，2010年度精密工学会秋季大会学術講演会アブストラクト集，2010年09月，研究論文（その他学術会議資料等）
Adaptive optical system for sub-10nm hard X-ray focus，K. Yamauchi，2010年08月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Hard X-ray Imaging Optics with Elliptical mirrors and Hyperbolic Mirrors，S. Matsuyama,T. Wakioka,H. Mimura,T. Kimura,N. Kidani,Y. Sano,Y. Nishino,K. Tamasaku,M. Yabashi,T. Ishikawa,K. Yamauchi，SPIE Optics+Photonics, Technical Program，2010年08月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Dicing of SiC wafer by atmospheric-pressure plasma etching process with wire electrode，Yasuhisa Sano,Kohei Aida,Kazuya Yamamura,Hidekazu Mimura,Satoshi Matsuyama,Kazuto Yamauchi，Vol. 717-720，p. 865-+，2010年08月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Abrasive-free planarization of 3-inch 4H-SiC substrate by catalyst-referred etching，T. Okamoto,Y. Sano,K. Tachibana,K. Arima,A. N. Hattori,K. Yagi,J. Murata,S. Sadakuni,K. Yamauchi，Abstract Booklet of the 8th European Conference on Silicon Carbide and Related Materials，Vol. 679-680，p. 493-+，2010年08月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Thinning of 2-inch SiC wafer by plasma chemical vaporization machining，Y. Sano,T. Kato,K. Yamamura,H. Mimura,S. Matsuyama,K. Yamauchi，Abstract Booklet of the 8th European Conference on Silicon Carbide and Related Materials，2010年08月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Improvement of Thickness Uniformity of Silicon on Insulator Layer by Numerically Controlled Sacrificial Oxidation Using Atmospheric-Pressure Plasma with Electrode Array System，Shohei Kamisaka,Keinosuke Yoshinaga,Yasuhisa Sano,Hidekazu Mimura,Satoshi Matsuyama,Kazuto Yamauchi，Japanese Journal of Applied Physics，Vol. 49，No. 8，2010年08月，研究論文（学術雑誌）
Tolerance Design of Logarithmic Roller Profiles in Cylindrical Roller Bearings，Hiroki FUJIWARA,Kazuto YAMAUCHI，Journal of Advanced Mechanical Design, Systems and Manufacturing，Vol. 4，No. 4，p. 728-738，2010年07月，研究論文（学術雑誌）
Development of Hard X-ray Imaging Optics with Two Pairs of Elliptical and Hyperbolic Mirrors，S. Matsuyama,M. Fujii,T. Wakioka,H. Mimura,S. Handa,T. Kimura,Y. Nishino,K. Tamasaku,Y. Makina,T. Ishikawa,K. Yamauchi，AIP Conf. Proc.，Vol. 1234，p. 267-+，2010年06月，研究論文（学術雑誌）
大気圧プラズマによるエッチングを応用した種々の加工法とその特性，佐野泰久,山村和也,山内和人，光技術コンタクト，p. 313-330，2010年06月，論文集(書籍)内論文
First-Principles study of electron transfer from 4H-SiC(0001) to Pt，Shintaro Iseki,Kouji Inagaki,Kazuto Yamauchi,Yoshitada Morikawa，2010年05月
Spherical concave mirror measurement by phase-shifting point diffraction interferometer with two optical fibers，Toshiaki Matsuura,Kazuaki Udaka,Yasushi Oshikane,Haruyuki Inoue,Motohiro Nakano,Kazuto Yamauchi,Toshihiko Kataoka，Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section A，Vol. 616，No. 2-3，p. 233-236，2010年05月，研究論文（学術雑誌）
Two-dimensional measurement of focused x-ray beam profile using coherent x-ray diffraction of isolated nanoparticle，Y. Takahashi,H. Kubo,R. Tsutsumi,S. Sakaki,N. Zettsu,Y. Nishino,T. Ishikawa,K. Yamauchi，Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section A，Vol. 616，No. 2-3，p. 266-269，2010年05月，研究論文（学術雑誌）
One-dimensional surface profile retrieval from grazing incidence images under coherent X-ray illumination，A. Suvorov,H. Ohashi,S. Goto,K. Yamauchi,T. Ishikawa，Nuclear Instruments and Methods in Physics Research A，Vol. 616，No. 2-3，p. 277-280，2010年05月，研究論文（学術雑誌）
New X-ray microprobe system for trace heavy element analysis using ultraprecise X-ray mirror optics of long working distance，Y. Terada,H. Yumoto,A. Takeuchi,Y. Suzuki,K. Yamauchi,T. Uruga，Nuclear Instruments and Methods in Physics Research A，Vol. 616，No. 2-3，p. 270-272，2010年05月，研究論文（学術雑誌）
Stitching-angle measurable microscopic-interferometer: surface-figure metrology tool for hard X-ray nanofocusing mirrors with large curvature，H. Yumoto,H. Mimura,S. Handa,T. Kimura,S. Matsuyama,Y. Sano,H. Ohashi,K. Yamauchi,T. Ishikawa，Nuclear Instruments and Methods in Physics Research A，Vol. 616，No. 2-3，p. 203-206，2010年04月，研究論文（学術雑誌）
A Stitching Figure Profiler of Large X-ray Mirrors Using RADSI for Subaperture Data Acquisition，T. Kimura,H. Ohashi,H. Mimura,D. Yamakawa,H. Yumoto,S. Matsuyama,N. Tsumura,H. Okada,T. Masunaga,Y. Senba,S. Goto,T. Ishikawa,K. Yamauchi，clear Instruments and Methods in Physics Research A，Vol. 616，No. 2-3，p. 229-232，2010年04月，研究論文（学術雑誌）
Ray-tracing analysis in aberration of a lateral-graded multilayer mirror，H. Mimura,S. Handa,Ch. Morawe,H. Yokoyama,T. Kimura,S. Matsuyam,K. Yamauchi，Nuclear Instruments and Methods in Physics Research A，Vol. 616，No. 2-3，p. 251-254，2010年04月，研究論文（学術雑誌）
Extended knife-edge method for characterizing Sub-10-nm X-ray beams，Handa,H. Mimura,H. Yumoto,T. Kimura,S. Matsuyama,Y. Sano,K. Tamasaku,Y. Nishino,M. Yabashi,T. Ishikawa,K. Yamauchi，Nuclear Instruments and Methods in Physics Reserch A，Vol. 616，No. 2-3，p. 246-250，2010年04月，研究論文（学術雑誌）
Three-dimensional electron density mapping of shape-controlled nanoparticle by focused hard x-ray diffraction microscopy，Y. Takahashi,N. Zettsu,Y. Nishino,R. Tsutsumi,E. Matsubara,T. Ishikawa,K. Yamauchi，Nano Letters，Vol. 10，No. 5，p. 1922-1926，2010年04月，研究論文（学術雑誌）
Elemental mapping of frozen hydrated cells with cryo-scanning X-ray fluorescence microscopy，S. Matsuyama,M. Shimura,M. Fujii,K. Maeshima,H. Yumoto,H. Mimura,Y. Sano,M. Yabashi,Y. Nishino,K. Tamasaku,Y. Ishizaka,T. Ishikawa,K. Yamauchi，X-Ray Spectrometry，Vol. 39，No. 4，p. 260-266，2010年03月，研究論文（学術雑誌）
An experimental procedure for precise evaluation of electron density distribution of a nanostructured material by coherent x-ray diffraction microscopy，Y. Takahashi,H. Kubo,Y. Nishino,H. Furukawa,R. Tsutsumi,K. Yamauchi,T. Ishikawa,E. Matsubara，Review of Scientific Instruments，Vol. 81，No. 3，p. 033707-033707，2010年03月，研究論文（学術雑誌）
4枚の非球面ミラーを用いた硬X線結像光学系の開発，木谷直隆,松山智至,藤井正輝,脇岡敏之,三村秀和,山内和人，第57回応用物理学関係連合講演会予稿集，2010年03月，研究論文（その他学術会議資料等）
Influence of the UV Light Intensity on the Photoelectrochemical Planarization Technique for Gallium Nitride，Shun Sadakuni,Junji Murata,Keita Yagi,Yasuhisa Sano,Kenta Arima,Azusa Hattori,Takeshi Okamoto,Kazuto Yamauchi，Materials Science Forum，Vol. 645-648，p. 795-+，2010年03月，研究論文（学術雑誌）
Reduction of surface roughness of 4H-SiC by catalyst-referred etching，T. Okamoto,Y. Sano,H. Hara,T. Hatayama,K. Arima,K. Yagi,J. Murata,S. Sadakuni,K. Tachibana,Y. Shirasawa,H. Mimura,T. Fuyuki,K. Yamauchi，Materials Science Forum，Vol. 645-648，p. 775-+，2010年03月，研究論文（学術雑誌）
Breaking the 10nm barrier in hard-X-ray focusing，H. Mimura,S. Handa,T. Kimura,H. Yumoto,D. Yamakawa,H. Yokoyama,S. Matsuyama,K. Inagaki,K. Yamamura,Y. Sano,K. Tamasaku,Y. Nishino,M. Yabashi,T. Ishikawa,K. Yamauchi，Nature Physics，Vol. 6，No. 2，p. 122-125，2010年02月，研究論文（学術雑誌）
X-ray photon correlation spectroscopy study in valence fluctuation compound Eu3S4，H. Nakao,K. Ohwada,S. Shimomura,A. Ochiai,K. Namikawa,J. Mizuki,H. Mimura,K. Yamauchi,Y. Murakami，AIP Conference Proceedings，Vol. 1234，p. 935-938，2010年，研究論文（国際会議プロシーディングス）
An Adaptive Optical System for Sub-10nm Hard X-ray Focusing，H. Mimura,T. Kimura,H. Yokoyama,H. Yumoto,S. Matsuyama,K. Tamasaku,Y. Koumura,M. Yabashi,T. Ishikawa,K. Yamauchi，ADAPTIVE X-RAY OPTICS，SPIE-INT SOC OPTICAL ENGINEERING，Vol. 7803，2010年，研究論文（国際会議プロシーディングス）
OPTIMIZED LOGARITHMIC ROLLER CROWNING DESIGN OF CYLINDRICAL ROLLER BEARINGS AND ITS EXPERIMENTAL DEMONSTRATION，Hiroki Fujiwara,Tatsuo Kawase,Takuji Kobayashi,Kazuto Yamauchi，PROCEEDINGS OF THE ASME/STLE INTERNATIONAL JOINT TRIBOLOGY CONFERENCE - 2009，AMER SOC MECHANICAL ENGINEERS，p. 217-219，2010年，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Numerically Controlled Sacrificial Plasma Oxidation Using Array of Electrodes for Improving Thickness Uniformity of SOI，Y. Sano,S. Kamisaka,K. Yoshinaga,H. Mimura,S. Matsuyama,K. Yamauchi，2010 IEEE INTERNATIONAL SOI CONFERENCE，IEEE，2010年，研究論文（国際会議プロシーディングス）
高密度X線ナノビーム形成のための並列型Kirkpatrick-Baezミラー光学系の開発，脇岡敏之,松山智至,藤井正輝,木谷直隆,三村秀和,佐野泰久,西野吉則,玉作賢治,矢橋牧名,石川哲也,山内和人，第23回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム，2010年01月，研究論文（その他学術会議資料等）
Thinning of SiC wafer by plasma chemical vaporization machining，Yasuhisa Sano,Takehiro Kato,Tsutomu Hori,Kazuya Yamamura,Hidekazu Mimura,Yoshiaki Katsuyama,Kazuto Yamauchi，SILICON CARBIDE AND RELATED MATERIALS 2009, PTS 1 AND 2，TRANS TECH PUBLICATIONS LTD，Vol. 645-648，p. 857-+，2010年，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Thinning of SiC wafer by plasma chemical vaporization machining，Yasuhisa Sano,Takehiro Kato,Tsutomu Hori,Kazuya Yamamura,Hidekazu Mimura,Yoshiaki Katsuyama,Kazuto Yamauchi，Material Science Forum, 645-648 (2010) 857-860.，Vol. 645-648，p. 857-+，2010年01月，研究論文（学術雑誌）
Advanced Kirkpatrick-Baezミラー光学系の開発，藤井正輝,松山智至,三村秀和,脇岡敏之,半田宗一郎,木村隆志,佐野泰久,西野吉則,玉作賢治,矢橋牧名,石川哲也,山内和人，第23回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム，2010年01月，研究論文（その他学術会議資料等）
Planarization of GaN(0001) Surface by Photo-Electrochemical Method with Solid Acidic or Basic Catalyst，J. Murata,S. Sadakuni,K. Yagi,Y. Sano,T. Okamoto,K. Arima,A. N. Hattori,H. Mimura,K. Yamauchi，Japanese Journal of Applied Physics，Vol. 48，No. 12，2009年12月，研究論文（学術雑誌）
Development of Achromatic X-ray Imaging System with 4 Aspherical Mirrors，S. Matsuyama,M. Fujii,T. Wakioka,H. Mimura,Y. Sano,Y. Nishino,M. Yabashi,K. Tamasaku,T. Ishikawa,K. Yamauchi，Extended Abstracts of Second International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology，2009年11月
Development of a Mirror Manipulator for Advanced Kirkpatrick-Baez Optics，M. Fujii,S. Matsuyama,T. Wakioka,H. Mimura,Y. Sano,Y. Nishino,M. Yabashi,K. Tamasaku,T. Ishikawa,K. Yamauchi，Extended Abstracts of Second International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology，2009年11月
Dicing of SiC Wafer by Plasma Chemical Vaporization Machining with Wire Electrode，K. Aida,Y. Sano,K. Yamamura,H. Mimura,S. Matsuyama,K. Yamauchi，Second International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology，2009年11月
X-ray Intensity Fluctuation Spectroscopy Using Nanofocused Hard X-rays: Its Application to Study of Relaxor Ferroelectrics，K. Ohwada,K. Namikawa,S. Shimomura,H. Nakao,H. Mimura,K. Yamauchi,M. Matsushita,J. Mizuki，Japanese Journal of Applied Physics，Vol. 49，No. 2，2009年10月，研究論文（学術雑誌）
Planarization of GaN using photoelectrochemical process and solid catalyst，S. Sadakuni,J. Murata,K. Yagi,Y. Sano,T. Okamoto,K. Arima,H. Mimura,K. Yamauchi，Technical Digest of International Conference on Silicon Carbide and Related Materials 2009，2009年10月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Reduction of surface roughness by catalyst-referred etching，T. Okamoto,Y. Sano,H. Hara,T. Hatayama,K. Arima,K. Yagi,J. Murata,H. Mimura,T. Fuyuki,K. Yamauchi，Technical Digest of International Conference on Silicon Carbide and Related Materials 2009，Vol. 645-648，p. 775-+，2009年10月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Thinning of SiC wafer by plasma chemical vaporization machining，Y. Sano,T. Kato,T. Hori,K. Yamamura,H. Mimura,Y. Katsuyama,K. Yamauchi，Technical Digest of International Conference on Silicon Carbide and Related Materials 2009，Vol. 645-648，p. 857-+，2009年10月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Simulation study of four-mirror alignment of advanced Kirkpatrick－Baez optics，S. Matsuyama,M. Fujii,K. Yamauchi，Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section A: Accelerators, Spectrometers, Detectors and Associated Equipment，Vol. 616，No. 2-3，p. 241-245，2009年10月，研究論文（学術雑誌）
4枚の非球面ミラーを用いた硬X線結像光学系の開発，藤井正輝,松山智至,脇岡敏之,三村秀和,佐野泰久,山内和人，2009年秋季第70回応用物理学会学術講演会予稿集，2009年09月
高密度X線ナノビーム形成のための並列型Kirkpatrick-Baezミラー光学系の開発，脇岡敏之,松山智至,藤井正輝,三村秀和,佐野泰久,山内和人，精密工学会秋季大会プログラム＆アブストラクト集，2009年09月，研究論文（その他学術会議資料等）
Development of Hard X-ray Imaging Optics with Two Pairs of Elliptical and Hyperbolic Mirrors，S. Matsuyama,M. Fujii,T. Wakioka,H. Mimura,S. Handa,T. Kimura,Y. Nishino,K. Tamasaku,Y. Makina,T. Ishikawa,K. Yamauchi，The 10th International Conference on Synchrotron Radiation Instrumentation 2009 (SRI09)，Vol. 1234，p. 267-+，2009年09月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Development of incident x-ray flux monitor for coherent x-ray diffraction microscopy，Y. Takahashi,H. Kubo,H. Furukawa,K. Yamauchi,E. Matsubara,T. Ishikawa,Y. Nishino，Journal of Physics: Conference Series，Vol. 186，No. 1，p. 12060-12060，2009年09月，研究論文（学術雑誌）
Improvement of Thickness Uniformity of SOI Layer by Numerically Controlled Sacrificial Oxidation using Atmospheric-Pressure Plasma with Electrode Array System，S. Kamisaka,Y. Sano,H. Mimura,S. Matsuyama,K. Yamauchi，Proceedings of 31st International Symposium on Dry Process，2009年09月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Novel Scheme of Figure-Error Correction for X-ray Nanofocusing Mirror，Soichiro Handa,Hidekazu Mimura,Hirokatsu Yumoto,Takashi Kimura,Satoshi Matsuyama,Yasuhisa Sano,Kazuya Yamamura,Kenji Tamasaku,Yoshinori Nishino,Makina Yabashi,Tetsuya Ishikawa,Kazuto Yamauchi，Japanese Journal of Applied Physics, 48 (2009) 096507-1_4.，Vol. 48，No. 9，2009年09月，研究論文（学術雑誌）
High-resolution diffraction microscopy using the plane-wave field of a nearly diffraction limited focused x-ray beam，Y Takahashi,Y Nishino,R Tsutsumi,H Kubo,H Furukawa,H Mimura,S Matsuyama,N Zettsu,E Matsubara,T Ishikawa,K Yamauchi，PHYSICAL REVIEW B，American Physical Society，Vol. 80，No. 5，p. 54103-54103，2009年08月，研究論文（学術雑誌）
High-Resolution Diffraction Microscopy Using the Plane-Wave Field of a Nearly Diffraction-Limited Focusing X ray，Y. Takahashi,Y. Nishino,R. Tsutsumi,H. Kubo,H. Furukawa,H. Mimura,S. Matsuyama,N. Zettsu,E. Matsubara,T. Ishikawa,K. Yamauchi，Physical Reivew B，Vol. 80，No. 5，2009年08月，研究論文（学術雑誌）
Wavefront control system for phase compensation in hard X-ray optics，Takashi Kimura,Soichiro Handa,Hidekazu Mimura,Hirokatsu Yumoto,Daisuke Yamakawa,Satoshi Matsuyama,Kouji Inagaki,Yasuhisa Sano,Kenji Tamasaku,Yoshinori Nishino,Makina Yabashi,Tetsuya Ishikawa,Kazuto Yamauchi，Japanese Journal of Applied Physics，Vol. 48，No. 7，2009年07月，研究論文（学術雑誌）
Observation of electromigration voids in a Cu thin line by in situ coherent x-ray diffraction microscopy，Y. Takahashi,Y. Nishino,H. Furukawa,H. Kubo,K. Yamauchi,T. Ishikawa,E. Matsubara，Journal of Applied Physics，Vol. 105，No. 12，2009年06月，研究論文（学術雑誌）
Feasibility study of high-resolution coherent diffraction microscopy using synchrotron x rays focused by Kirkpatrick–Baez mirrors，Yukio Takahashi,Yoshinori Nishino,Hidekazu Mimura,Ryosuke Tsutsumi,Hideto Kubo,Tetsuya Ishikawa,Kazuto Yamauchi，Journal of Applied Physics，AIP Publishing，Vol. 105，No. 8，p. 083106-083106，2009年04月15日，研究論文（学術雑誌）
Termination dependence of surface stacking at 4H-SiC(0001)-1×1: Density functional theory calculations，Hideyuki Hara,Yoshitada Morikawa,Yasuhisa Sano,Kazuto Yamauchi，Physical Review B，Vol. 79，No. 15，2009年04月，研究論文（学術雑誌）
Trace element mapping of a single cell using a hard x-ray nanobeam focused by a Kirkpatrick-Baez mirror system，S. Matsuyama,M. Shimura,H. Mimura,M. Fujii,H. Yumoto,Y. Sano,M. Yabashi,Y. Nishino,K. Tamasaku,T. Ishikawa,K. Yamauchi，X-ray Spectrometry，Wiley InterScience，Vol. 38，No. 2，p. 89-94，2009年03月，研究論文（学術雑誌）
Development of Advanced Kirkpatrick -Baez System for X- ray Nano- Imaging，M. Fujii,S. Matsuyama,T. Wakioka,H. Mimura,Y. Sano,K. Yamauchi，Extended Abstracts of First International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology -Surface and Thin Film Processing，2009年02月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
A Study on a Surface Preparation Method for Single-Crystal SiC Using an Fe Catalyst，AKIHIASA KUBOTA,KEITA YAGI,JUNJI MURATA,HEIJI YASUI,SHIRO MIYAMOTO,HIDEYUKI HARA,YASUHISA SANO,KAZUTO YAMAUCHI，Journal of ELECTRONIC MATERIALS，Vol. 38，No. 1，p. 159-163，2009年02月，研究論文（学術雑誌）
New chemical planarization of SiC and GaN using an Fe plate in H2O2 solution，J. Murata,A. Kubota,K. Yagi,Y. Sano,H. Hara,K. Aeima,T. Okamoto,H. Mimura,K. Yamauchi，Materials Science Forum，Vol. 600-603，p. 815-+，2009年02月，研究論文（学術雑誌）
Temperature Dependence of Plasma Chemical Vaporization Machining of Silicon and Silicon Carbide，Yasuhisa Sano,Masayo Watanabe,Takehiro Kato,Kazuya Yamamura,Hidekazu Mimura,Kazuto Yamauchi，Materials Science Forum，Vol. 600-603，p. 847-+，2009年02月，研究論文（学術雑誌）
Damage-free Planarization of 2-inch 4H-SiC Wafer Using Pt Catalyst Plate and HF Solution，Takeshi Okamoto,Yasuhisa Sano,Hideyuki Hara,Kenta Arima,Keita Yagi,Junji Murata,Hedekazu Mimura,Kazuto Yamauchi，Materials Science Forum，Vol. 600-603，p. 835-+，2009年02月，研究論文（学術雑誌）
Beveling of Silison Carbide Wafer by Plasma Chemical Vaporization Machining，Takehiro Kato,Yasuhisa Sano,Hideyuki Hara,Hidekazu Mimura,Kazuya Yamamura,Kazuto Yamauchi，Materials Science Forum，2009年02月，研究論文（学術雑誌）
Requirements on Hard X-ray Grazing Incidence Optics for European XFEL: Analysis and Simulation of Wavefront Transformations，Liubov Samoylova,Harald Sinn,Frank Siewert,Hidekazu Mimura,Kazuto Yamauchi,Thomas Tschentscher，EUV AND X-RAY OPTICS: SYNERGY BETWEEN LABORATORY AND SPACE，SPIE-INT SOC OPTICAL ENGINEERING，Vol. 7360，2009年，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Stitching interferometric measurement system for hard X-ray nanofocusing mirrors，Hirokatsu Yumoto,Hidekazu Mimura,Soichiro Handa,Takashi Kimura,Satoshi Matsuyama,Yasuhisa Sano,Makina Yabashi,Yoshinori Nishino,Kenji Tamasaku,Tetsuya Ishikawa,Kazuto Yamauchi，Journal of Physics: Conference Series，Vol. 186，2009年，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Beveling of Silicon Carbide Wafer by Plasma Chemical Vaporization Machining，Takehiro Kato,Yasuhisa Sano,Hideyuki Hara,Hidekazu Mimura,Kazuya Yamamura,Kazuto Yamauchi，SILICON CARBIDE AND RELATED MATERIALS 2007, PTS 1 AND 2，TRANS TECH PUBLICATIONS LTD，Vol. 600-603，p. 843-846，2009年，研究論文（国際会議プロシーディングス）
円筒ころ軸受における対数クラウニングの公差設計，藤原宏樹,山内和人，日本機械学会論文集 C編，Vol. 75，No. 749，p. 1-7，2009年01月，研究論文（学術雑誌）
Plasma Chemical Vaporization Machining and Elastic Emission Machining，Yasuhisa Sano,Kazuya Yamamura,Hidekazu Mimura,Kazuto Yamauchi,Yuzo Mori，Crystal Growth Technology: From Fundamentals and Simulation to Large-scale Production，Wiley-VCH Verlag GmbH & Co. KGaA，p. 475-495，2008年11月25日，論文集(書籍)内論文
Improvement of Thickness Uniformity of SOI by Numerically Controlled Sacrificial Oxidation Using Atmospheric-Pressure Plasma，Y. Sano,T. Masuda,S. Kamisaka,H. Mimura,S. Matsuyama,K. Yamauchi，2008 IEEE International SOI Conference Proceedings，p. 165-166，2008年10月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Element-specific hard-x-ray diffraction microscopy，Y. Takahashi,H. Kubo,H. Furukawa,K. Yamauchi,E. Matsubara,T. Ishikawa,Y. Nishino，Physical Review B，Vol. 78，No. 9，2008年09月，研究論文（学術雑誌）
Fabrication of a 400-mm-long mirror for focusing x-ray free-electron lasers to sub-100 nm，H. Mimura,S. Morita,T. Kimura,D. Yamakawa,W. Lin,Y. Uehara,S. Matsuyama,H. Yumoto,H. Ohashi,K. Tamasaku,Y. Nishino,M. Yabashi,T. Ishikawa,H. Ohmori,K. Yamauchi，Proceeding of SPIE，Vol. 7077，2008年08月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Focusing mirror for x-ray free-electron lasers，Focusing mirror for,x-ray free-electron lasers，Review of Scientific Instruments，Vol. 79，No. 8，2008年08月，研究論文（学術雑誌）
Nanotstructure analysis of metallic materials by coherent x-ray diffraction microscopy，Y. Takahashi,H. Furukawa,H. Kubo,K. Yamauchi,Y. Nishino,T. Ishikawa,E. Matsubara，Book of abstracts of 57th Denver x-ray conference，Vol. 186，p. 1-3，2008年08月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Catalyst-referred etching of 4H-SiC substrate utilizing hydroxyl radicals generated from hydrogen peroxide molecules，Keita Yagi,Junji Murata,Akihisa Kubota,Yasuhisa Sano,Hideyuki Hara,Takeshi Okamoto,Kenta Arima,Hidekazu Mimura,Kazuto Yamauchi，Surface and Interface Analysis，Vol. 40，No. 6-7，p. 998-1001，2008年06月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Crystal machining using atmospheric pressure plasma，Y. Sano,K. Yamamura,K. Yamauchi,Y. Mori，Book of Lecture Notes, 4th International Workshop on Crystal Growth Technology，2008年05月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Catalyst-referred etching，K. Yamauchi,Y. Sano,K. Arima,H. Hara，Book of Lecture Notes, 4th International Workshop on Crystal Growth Technology，2008年05月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
円筒ころ軸受における部分円弧クラウニングと対数クラウニングの実験的比較，藤原宏樹,山内和人，日本機械学会論文集 C編，Vol. 74，No. 745，p. 2308-2314，2008年04月，研究論文（学術雑誌）
Chemical planarization of GaN using hydroxyl radicals generated on a catalyst plate in H2O2 solution，J. Murata,A. Kubota,K. Yagi,Y. Sano,H. Hara,K. Arima,T. Okamoto,H. Mimura,K. Yamauchi，Journal of Crstal Growth，Vol. 310，No. 7-9，p. 1637-1641，2008年04月，研究論文（学術雑誌）
Ultraprecision finishing technique by numerically controlled sacrificial oxidation，Yasuhisa Sano,Takaya Masuda,Hidekazu Mimura,Kazuto Yamauchi，Journal of Crystal Growth，Vol. 310，No. 7-9，p. 2173-2177，2008年04月，研究論文（学術雑誌）
Processing efficiency of elastic emission machining for low-thermal-expansion material，M.Kanaoka,C.Liu,K.Nomura,M.Ando,H.Takino,Y.Fukuda,Y.Mori,H.Mimura,K.Yamauchi，Surface and Interface Analysis，Vol. 40，No. 6-7，p. 1002-1006，2008年03月，研究論文（学術雑誌）
Stitching interferometric metrology for steeply curved x-ray mirrors，H.Yumoto,H.Mimura,T.Kimura,S.Handa,S.Matsuyama,Y.Sano,K.Yamauchi，Surface and Interface Analysis，Vol. 40，No. 6-7，p. 1023-1027，2008年03月，研究論文（学術雑誌）
Highly accurate differential deposition for X-ray reflective optics，S.Handa,H.Mimura,H.Yumoto,T.Kimura,S.Matsuyama,Y.Sano,Kazuto Yamauchi，Surface and Interface Analysis，Vol. 40，No. 6-7，p. 1019-1022，2008年03月，研究論文（学術雑誌）
Trace element mapping using a high-resolution scanning X-ray fluorescence microscope equipped with a Kirkpatrick-Baez mirror system，S. Matsuyama,H. Mimura,K. Katagishi,H. Yumoto,S. Handa,M. Fujii,Y. Sano,M. Shimura,M. Yabashi,Y. Nishino,K. Tamasaku,T. Ishikawad,K. Yamauchi，Surface and interface analysis，Vol. 40，No. 6-7，p. 1042-1045，2008年03月，研究論文（学術雑誌）
Direct Determination of the Wave Field of an X-ray Nanobeam，H.Mimura,H. Yumoto,S. Matsuyama,S. Handa,T. Kimura,Y. Sano,M. Yabashi,Y. Nishino,K. Tamasaku,T. Ishikawa,K. Yamauchi，Physical Review A，Vol. 77，No. 1，2008年02月，研究論文（学術雑誌）
触媒基準エッチング法，原英之,佐野泰久,有馬健太,山内和人，応用物理，Vol. 53，No. 8，p. 20-24，2008年02月
Defect-free planarization of 4H-SiC(0001) substrate using reference plate，Keita Yagi,Junji Murata,Akihisa Kubota,Yasuhisa Sano,Hideyuki Hara,Kenta Arima,Takeshi Okamoto,Hidekazu Mimura,Kazuto Yamauchi，Japanese Journal of Applied Physics，Vol. 47，No. 1，p. 104-107，2008年01月18日，研究論文（学術雑誌）
Aberrations in curved x-ray multilayers，Ch Morawe,J. P. Guigay,V. Mocella,C. Ferrero,H. Mimura,S. Handa,K. Yamauchi，Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering，Vol. 7077，2008年，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Development of adaptive mirror for wavefront correction of hard X-ray nanobeam，Takashi Kimura,Soichiro Handa,Hidekazu Mimura,Hirokatsu Yumoto,Daisuke Yamakawa,Satoshi Matsuyama,Yasuhisa Sano,Kenji Tamasaku,Yoshinori Nishino,Makina Yabashi,Tetsuya Ishikawa,Kazuto Yamauchi，ADVANCES IN X-RAY/EUV OPTICS AND COMPONENTS III，SPIE-INT SOC OPTICAL ENGINEERING，Vol. 7077，2008年，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Coherent x-ray diffraction measurements of Cu thin lines，Y. Takahashi,H. Furukawa,H. Kubo,K. Yamauchi,Y. Nishino,T. Ishikawa,E. Matsubara，Surface and Interface Analysis，Vol. 40，No. 6-7，p. 1046-1049，2008年01月，研究論文（学術雑誌）
Development of coherent x-ray diffraction microscopy for nano structure analysis of metallic materials，Y. Takahashi,H. Furukawa,H. Kubo,Y. Nishino,K. Yamauchi,T. Ishikawa,E. Matsubara，The 18th Symposium ofThe Materials Research Sosiety ofJapan, Program and Abstracts，2007年12月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
走査型蛍光X線顕微鏡による細胞内元素分布の測定，藤井正輝,松山智至,志村まり,三村秀和,前島一博,片岸恵子,湯本博勝,半田宗一郎,木村隆志,佐野泰久,西野吉則,玉作賢治,矢橋牧名,石川哲也,山内和人，第9回Ｘ線結像光学シンポジウム要旨集，2007年11月
Figuring and smoothing capabilities of elastic emission machining for low-thermal-expansion glass optics，M. Kanaoka,C, Liu,K. Nomura,M. Ando,H. Takino,Y. Fukuda,Y. Mori,H. Mimura,K. Yamauchi，J. Vac. Sci. Technol. B，Vol. 25，No. 6，p. 2110-2113，2007年11月，研究論文（学術雑誌）
Experimental determination of the wave field of X-ray nanobeam，Hidekazu Mimura,Hirokatsu Yumoto,Soichiro Handa,Takashi Kimura,Satoshi Matsuyama,Yasuhisa Sano,Yoshinori Nishino,Kenji Tamasaku,Yabashi Makina,Tetsuya Ishikawa,Kazuto Yamauchi，2007年10月
Three-dimensional observation of internal structures in metallic materials by coherent x-ray diffraction microscopy，Y. Takahashi,H. Furukawa,H. Kubo,Y. Nishino,K. Yamauchi,T. Ishikawa,E. Matsubara，Extended Abstracts of International 21st Century COE Symposium on Atomic Fabrication Technology 2007，2007年10月
Development of Cryo Scanning X-ray Fluorescent Microscopy to Observe Frozen Hydrated Cells and Tissues，Masaki Fujii,Satoshi Matsuyama,Mari Shimura,Keiko Katagishi,Hidekazu Mimura,Hirokatsu Yumoto,Soichiro Handa,Takashi Kimura,Yasuhisa Sano,Kenji Tamasaku,Yoshinori Nishin,Makina Yabashi,Tetsuya Ishikawa,Kazuto Yamauchi，2007年10月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
High-resolution and Highly Sensitive Scanning X-ray Fluorescence Microscopy Using Kirkpatrick-Baez Mirror Optics，Satoshi Matsuyama,Hidekazu Mimura,Keiko Katagishi,Mari Shimura,Masaki Fujii,Hirokatsu Yumoto,Soichiro Handa,Takashi Kimura,Yasuhisa Sano,Kenji Tamasaku,Yoshinori Nishino,Makina Yabashi,Tetsuya Ishikawa,Kazuto Yamauchi，2007年10月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Atomically Resolved STM Study of 4H-SiC(0001) Surfaces Flattened by Chemical Etching in HF solutions with Pt Catalyst，Kenta Arima,Ryosuke Suga,Hideyuki Hara,Junji Murata,Keita Yagi,Hidekazu Mimura,Yasuhisa Sano,Kazuto Yamauchi，Technical Digest of International Conference on Silicon Carbide and Related Materials 2007, Ohtsu, pp. We 28-29，The Japan Society of Applied Physics，2007年10月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Damage-free Planarization of 2-inch 4H-SiC Wafer Using Pt Catalyst Plate and HF Solution，T. Okamoto,Y. Sano,H. Hara,K. Arima,K. Yagi,J. Murata,H. Mimura,K. Yamauchi，International Conference on Silicon Carbide and Related Materials 2007 Technical Digest，Vol. 600-603，p. 835-+，2007年10月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Temperature Dependence of Plasma Chemical Vaporization Machining of Silicon and Silicon Carbide，Y. Sano,M. Watanabe,T. Kato,K. Yamamura,H. Mimura,K. Yamauchi，International Conference on Silicon Carbide and Related Materials 2007 Technical Digest，Vol. 600-603，p. 847-+，2007年10月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
New Chemical Planarization of SiC and GaN Using Fe Plate in H2O2 solution，Junji Murata,Akihisa Kubota,Keita Yagi,Yasuhisa Sano,Hideyuki Hara,Kenta Arima,Takeshi Okamoto,Hidekazu Mimura,Kazuto Yamauchi，International Conference on Silicon Carbide and Related Materials 2007 Technical Digest，Vol. 600-603，p. 815-+，2007年10月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Microstitching interferometer and relative angle determinable stitching interferometer for half-meter-long X-ray mirror，Haruhiko Ohashi,Takashi Tsumura,Hiromi Okada,Hidekazu Mimura,Tatsuhiko Masunaga,Yasunori Senba,Shunji Goto,Kazuto Yamauchi,Tetsuya Ishikawa，Proc. SPIE 6704, Advances in Metrology for X-Ray and EUV Optics II, 670405，Vol. 6704，No. 1，p. 670405-1-670405-8，2007年10月，研究論文（学術雑誌）
Ultraprecision Finishing Technique by Numerically Controlled Sacrificial Oxidation，Yasuhisa Sano,Takaya Masuda,Hidekazu Mimura,Kazuto Yamauchi，Proceedings of 15th International Conference on Crystal Growth，2007年08月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Damage-free planarization of GaN using a catalyst plate，Junji Murata,Akihisa Kubota,Keita Yagi,Yasuhisa Sano,Hideyuki Hara,Kenta Arima,Takeshi Okamoto,Hidekazu Mimura,Kazuto Yamauchi，Proceedings of 15th International Conference on Crystal Growth，2007年08月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
New Crystal Planarization Technique using a catalyst plate，Hideyuki Hara,Yasuhisa Sano,Kenta Arima,Keita Yagi,Junji Murata,Takeshi Okamoto,Hidekazu Mimura,Kazuto Yamauchi，Proceedings of 15th International Conference on Crystal Growth，2007年08月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Fabrication of ultrathin and highly uniform silicon on insulator by numerically controlled plasma chemical vaporization machining，Yasuhisa Sano,Kazuya Yamamura,Hidekazu Mimura,Kazuto Yamauchi,Yuzo Mori，Rev. Sci. Instrum，Vol. 78，No. 8，2007年08月，研究論文（学術雑誌）
Polishing Characteristics of 4H-SiC Si-Face and C-Face by Plasma Chemical Vaporization Machining，Yasuhisa Sano,Masayo Watanabe,Kazuya Yamamura,Kazuto Yamauchi,Takeshi Ishida,Kenta Arima,Akihisa Kubota,Yuzo Mori，Materials Science Forum，Vol. 556-557，p. 757-+，2007年08月，研究論文（学術雑誌）
Damage-free Planarization of 4H-SiC (0001) by Catalyst-Referred Etching，Hideyuki Hara,Yasuhisa Sano,Hidekazu Mimura,Kenta Arima,Akihisa Kubota,Keita Yagi,Junji Murata,Kazuto Yamauchi，Materials Science Forum，2007年08月，研究論文（学術雑誌）
位相回復波面計測法に基づくＸ線ナノ集光ミラーの開発，三村秀和,湯本博勝,松山智至,山内和人，光アライアンス，日本工業出版，Vol. 18，No. 6，p. 42-46，2007年06月
Atomic-scale flattening of SiC surfaces by electroless chemical etching in HF solution with Pt catalyst，Kenta Arima,Hideyuki Hara,Junji Murata,Takeshi Ishida,Ryota Okamoto,Keita Yagi,Yasuhisa Sano,Hidekazu Mimura,Kazuto Yamauchi，Applied Physics Letters，American Institute of Physics，Vol. 90，No. 20，p. 202106 1-202106 3，2007年05月，研究論文（学術雑誌）
Removal properties of low-thermal-expansion materials with rotating-sphere elastic emission machining，Masahiko Kanaoka,Hideo Takino,Kazushi Nomura,Yuzo Mori,Hidekazu Mimura,Kazuto Yamauchi，SCIENCE AND TECHNOLOGY OF ADVANCED MATERIALS，TAYLOR & FRANCIS LTD，Vol. 8，No. 3，p. 170-172，2007年04月，研究論文（学術雑誌）
Fabrication of damascene Cu wirings using solid acidic catalyst，K. Yagi,J. Murata,H. Hara,Y. Sano,K. Yamauchi,H. Goto，Science and Technology of Advanced Materials，Vol. 8，No. 3，p. 166-169，2007年04月，研究論文（学術雑誌）
CAtalyst-Referred Etching of Silicon，H. Hara,Y. Sano,K. Arima,K. Yagi,J. Murata,A. Kubota,H. Mimura,K. Yamauchi，Science and Technology of Advanced Materials，Vol. 8，No. 3，p. 162-165，2007年04月，研究論文（学術雑誌）
高精度非球面ミラーの加工技術，佐野泰久,三村秀和,山村和也,山内和人,森勇藏，レーザー学会誌，Vol. 35，No. 3，p. 162-167，2007年03月
Atomic-scale Observations of Si(001) Surfaces Flattened by SiO2 Particles in Ultrapure Water and Elucidation of Its Surface Formation Mechanism，K. Arima,A. Kubota,H. Mimura,J. Katoh,K. Inagaki,Y. Mori,K. Endo,K. Yamauchi，Extended Abstracts of the 12th Workshop on Gate Stack Technology and Physics, pp. 125-130，2007年02月
Investigation of Surface Roughness of Silicon Carbide in Elastic Emission Machining，A. Kubota,Y. Shinbayashi,H. Mimura,Y.Sano,K.Inagaki,Y.Mori,K.Yamauchi，Journal of Electronic Materials，Vol. 36，No. 1，p. 92-97，2007年02月，研究論文（学術雑誌）
Efficient focusing of hard x-rays to 25nm by a total reflection mirror，H. Mimura,H. Yumoto,S. Matsuyama,Y. Sano,K. Yamamura,Y. Mori,M. Yabashi,Y. Nishino,K. Tamasaku,T. Ishikawa,K. Yamauchi，Applied Physcics Letters，Vol. 90，No. 5，2007年02月，研究論文（学術雑誌）
走査型蛍光X線顕微鏡を用いた細胞内元素の高感度観察，片岸恵子,松山智至,三村秀和,湯本博勝,佐野泰久,西野吉則,玉作賢治,矢橋牧名,石川哲也,山内和人，第20回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム要旨集, 133, 2007，2007年01月
Global high-accuracy intercomparison of slope measuring instruments，Frank Siewert,Lahsen Assoufid,Daniele Cocco,Olivier Hignette,Steve Irick,Heiner Lammert,Wayne McKinney,Haruhiko Ohashi,Francois Polack,Shinan Qian,Seungyu Rah,Amparo Rommeveaux,Veit Schönherr,Giovani Sostero,Peter Takacs,Muriel Thomasset,Kazuto Yamauchi,Valeriy Yashchuk,Thomas Zeschke，AIP Conference Proceedings，Vol. 879，p. 706-709，2007年，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Reflective optics for sub-10nm hard X-ray focusing，H. Mimura,S. Matsuyama,H. Yumoto,S. Handa,T. Kimura,Y. Sano,K. Tamasaku,Y. Nishino,M. Yabashi,T. Ishikawa,K. Yamauchi，ADVANCES IN X-RAY/EUV OPTICS AND COMPONENTS II，SPIE-INT SOC OPTICAL ENGINEERING，Vol. 6705，2007年，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Novel abrasive-free planarization of Si and SiC using catalyst，Hideyuki Hara,Yasuhisa Sano,Hidekazu Mimura,Kenta Arima,Akihisa Kubota,Keita Yagi,Junji Murata,Kazuto Yamauchi，TOWARDS SYNTHESIS OF MICRO - /NANO - SYSTEMS，SPRINGER-VERLAG LONDON LTD，No. 5，p. 267-+，2007年，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Second metrology round-robin of APS, ESRF and SPring-8 laboratories of elliptical and spherical hard-x-ray mirrors，A. Rommeveaux,L. Assoufid,H. Ohashi,H. Mimura,K. Yamauchi,J. Qian,T. Ishikawa,C. Morawe,A. T. Macrander,A. Khounsary,S. Goto，ADVANCES IN METROLOGY FOR X-RAY AND EUV OPTICS II，SPIE-INT SOC OPTICAL ENGINEERING，Vol. 6704，2007年，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Hard x-ray wavefront measurement and control for hard x-ray nanofocusing，Soichiro Handa,Hidekazu Mimura,Satoshi Matsuyama,Hirokatsu Yumoto,Takashi Kimura,Yasuhisa Sano,Kenji Tamasaku,Yoshinori Nishino,Makina Yabashi,Tetsuya Ishikawa,Kazuto Yamauchi，Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering，Vol. 6704，2007年，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Microstitching interferometer and relative angle determinable stitching interferometer for half-meter-long X-ray mirror，Haruhiko Ohashi,Takashi Tsumura,Hiromi Okada,Hidekazu Mimura,Tatsuhiko Masunaga,Yasunori Senba,Shunji Goto,Kazuto Yamauchi,Tetsuya Ishikawa，ADVANCES IN METROLOGY FOR X-RAY AND EUV OPTICS II，SPIE-INT SOC OPTICAL ENGINEERING，Vol. 6704，No. 1，p. 670405-1-670405-8，2007年，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Polishing characteristics of 4H-SiC Si-face and C-face by plasma chemical vaporization machining，Yasuhisa Sano,Masayo Watanabe,Kazuya Yamamura,Kazuto Yamauchi,Takeshi Ishida,Kenta Arima,Akihisa Kubota,Yuzo Mori，SILICON CARBIDE AND RELATED MATERIALS 2006，TRANS TECH PUBLICATIONS LTD，Vol. 556-557，p. 757-+，2007年，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Hard X-ray nano-focusing with ultraprecisely figured mirrors，H. Mimura,K. Yamauchi，2006年11月
Formation of Atomically Flat 4H-SiC(0001) Surfaces by Wet-chemical Preparations，Kenta Arima,Kazuto Yamauchi，Abstracts of Handai Nanoscience and Nanotechnology International Symposium 2006, pp.31-32，2006年11月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Effect of Particle Morphology on Removal Rate and Surface Topography in Elastic Emission Machining，A. Kubota,H. Mimura,K. Inagaki,Y. Mori,K. Yamauchi，Journal of Electrochemical Society，Vol. 153，No. 9，p. G874-G878，2006年10月，研究論文（学術雑誌）
Development of mirror manipulator for hard x-ray nanofocusing at sub-50nm level，S. Matsuyama,H. Mimura,H. Yumoto,H. Hara,S. Handa,K. Yamamura,Y. Sano,K. Endo,Y. Mori,M. Yabashi,Y. Nishino,K. Tamasaku,T. Ishikawa,K. Yamauchi，Review of Scientific Instruments，Vol. 77，No. 9，2006年10月，研究論文（学術雑誌）
Surface Gradient Integrated Profiler for X-ray and EUV Optics，Y. Higashi,Y. Takaie,K. Endo,Y. Mori,K. Yamauchi,T. Kume,K. Enami,K. Yamamura,Y. Sano,K. Ueno，Proceedings of International 21st Century COE Symposium on Atomistic Fabrication Technology，Vol. 8，No. 3，p. 177-180，2006年10月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Ultraprecision machining utilizing numerically controlled scanning of localized atmospheric pressure plasma，Kazuya Yamamura,Yasuhisa Sano,Masafumi Shibahara,Kazuto Yamauchi,Hidekazu Mimura,Katsuyoshi Endo,Yuzo Mori，JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS BRIEF COMMUNICATIONS & REVIEW PAPERS，INST PURE APPLIED PHYSICS，Vol. 45，No. 10B，p. 8270-8276，2006年10月，研究論文（学術雑誌）
Polishing characteristics of silicon carbide by plasma chemical vaporization machining，Yasuhisa Sano,Masayo Watanabe,Kazuya Yamamura,Kazuto Yamauchi,Takeshi Ishida,Kenta Arima,Akihisa Kubota,Yuzo Mori，Jpn. J. Appl. Phys. 45 No.10B，Vol. 45，No. 10，p. 8277-8280，2006年10月，研究論文（学術雑誌）
Scanning X-ray Fluorescence Microscope Using Kirkpatrick-Baez Optics with Spatial Resolution Better than 50nm，Satoshi Matsuyama,Hidekazu Mimura,Mari Shimura,Hirokatsu Yumoto,Keiko Katagishi,Soichiro Handa,Akihiko Shibatani,Yasuhisa Sano,Kazuya Yamamura,Katsuyoshi Endo,Yuzo Mori,Yoshinori Nishino,Kenji Tamasaku,Makina Yabashi,Tetsuya Ishikawa,Kazuto Yamauchi，The 16th International Microscopy Congress (IMC16)，2006年09月
Observation of Intracellular Elements by Scanning X-ray Fluorescence Microscopy with Spatial Resolution of 50nm，Keiko Katagishi,Satoshi Matsuyama,Hidekazu Mimura,Mari Shimura,Hirokatsu Yumoto,Soichiro Handa,Akihiko Shibatani,Yasuhisa Sano,Kazuya Yamamura,Yoshinori Nishino,Kenji Tamasaku,Makina Yabashi,Tetsuya Ishikawa,Kazuto Yamauchi，2006年09月
Development of scanning X-ray fluorescence microscope with spatial resolution of 30nm using K-B mirrors optics，S.Matsuyama,H.Mimura,H.Yumoto,K.Yamamura,Y.Sano,M.Yabashi,Y.Nishino,K.Tamasaku,T. Ishikawa,K.Yamauchi，Review of Scientific Instruments，Vol. 77，No. 10，2006年09月，研究論文（学術雑誌）
Scanning X-ray Fluorescence Microscope Using Kirkpatrick-Baez Optics with Spatial Resolution Better than 50nm，Satoshi Matsuyama,Hidekazu Mimura,Mari Shimura,Hirokatsu Yumoto,Keiko Katagishi,Soichiro Handa,Akihiko Shibatani,Yasuhis Sano,Kazuya Yamamura,Yoshinori Nishino,Kenji Tamasaku,Makina Yabashi,Tetsuya Ishikawa,Kazuto Yamauchi，Proc. SPIE，2006年08月
Waveoptical simulation for designing and evaluating hard X-ray nanofocusing mirror，H. Mimura,S. Matsuyama,H. Yumoto,S. Handa,A. Shibatani,K. Katagishi,Y. Sano,M. Yabashi,Y. Nishino,K. Tamasaku,T. Ishikawa,K. Yamauchi，2006年08月
Single-Shot Spectrometry for X-Ray Free-Electron Lasers，M. Yabashi,J B. Hastings,M.S. Zolotorev,H. Mimura,H. Yumoto,S. Matsuyama,K. Yamauchi,T. Ishikawa，Physical Review Letters，Vol. 97，No. 8，2006年08月，研究論文（学術雑誌）
Highly resolved scanning tunneling microscopy study of Si(001) surfaces flattened in aqueous environment，Kenta Arima,Akihisa Kubota,Hidekazu Mimura,Kouji Inagaki,Katsuyoshi Endo,Yuzo Mori,Kazuto Yamauchi，Surface Science Letters，Elsevier，Vol. 600，No. 15，p. L185-L188，2006年08月，研究論文（学術雑誌）
Novel Abrasive-Free Planarization of 4H-SiC(0001) Using Catalyst，Hideyuki Hara,Yasuhisa Sano,Hidekazu Mimura,Kenta Arima,Akihisa Kubota,Keita Yagi,Junji Murata,Kazuto Yamauchi，Journal of Electronic Materials，Vol. 35，No. 8，p. L11-L14，2006年08月，研究論文（学術雑誌）
Hard X-ray focusing with a beam size less than 30 nm by total reflection mirror，H. Mimura,H. Yumoto,S. Matsuyama,S. Handa,Y. Sano,K. Yamamura,K. Tamasaku,Y. Nishino,M. Yabashi,T. Ishikawa,K. Yamauchi，2006年07月
Diffraction-limited X-ray nanobeam with KB mirrors，K. Yamauchi,H. Mimura,S. Matsuyama,H. Yumoto,S. Handa,Y. Sano,K. Yamamura,K. Tamasaku,Y. Nishino,M. Yabashi,T. Ishikawa，2006年07月
Surface Gradient Integrated Profiler for X-ray and EUV Optics-Calibration of the rotational angle error of the rotary encoders-，Yasuo Higashi,Yuichi Takaie,Katsuyoshi Endo,Tatsuya Kume,Kazuhiro Enami,Kazuto Yamauchi,Kazuya Ymamura,Yasushi Sano,Kenji Ueno,Yuzo Mori，Ninth International Conference on Synchrotron Radiation Instrumentation，Vol. 879，p. 726-+，2006年06月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Atomic-Scale Evaluation of Si(111) Surfaces Finished by the Planarization Process Utilizing SiO2 Particles Mixed with Water，Jun Katoh,Kenta Arima,Akihisa Kubota,Hidekazu Mimura,Kouji Inagaki,Yuzo Mori,Kazuto Yamauchi,Katsuyoshi Endo，Journal of The Electrochemical Society，Electrochemical Society，Vol. 153，No. 6，p. G560-G565，2006年06月，研究論文（学術雑誌）
At-wavelength figure metrology of hard x-ray focusing mirrors，Hirokatsu Yumoto,Hidekazu Mimura,Satoshi Matsuyama,Soichiro Handa,Yasuhisa Sano,Makina Yabashi,Yoshinori Nishino,Kenji Tamasaku,Tetsuya Ishikawa,Kazuto Yamauchi，Review of Scientific Instruments，AIP Publishing，Vol. 77，No. 6，p. 063712-1-063712-6，2006年06月，研究論文（学術雑誌）
Development of Surface Measurement Technologies for Hard X-ray Nanofocusing Mirror at Osaka University and SPring-8，H. Mimura,H. Yumoto,S. Matsuyama,K. Yamamura,Y. Sano,K. Endo,Y. Mori,M. Yabashi,Y. Nishino,K. Tamasaku,T. Ishikawa,K. Yamauchi，The 3rd International Workshop on Metrology for X-ray Optics，2006年05月
Development of K-B Mirror Manipulator for Hard X-ray Sub-50nm Focusing，Satoshi Matsuyama,Hidekazu Mimura,Hirokatsu Yumoto,Soichiro Handa,Keiko Katagishi,Akihiko Shibatani,Kazuya Yamamura,Yasuhisa Sano,Yoshinori Nishino,Kenji Tamasaku,Makina Yabashi,Tetsuya Ishikawa,Kazuto Yamauchi，International Workshop on Mechanical Engineering Design of Synchrotron Radiation Equipment and Instrumentation 2006，2006年05月
Electrochemical Etching Using Surface-Sulfonated Electrodes in Ultrapure Water，Yoshio Ichii,Yuzo Mori,Kikuji Hirose,Katsuyoshi Endo,Kazuto Yamauchi,Hidekazu Goto，Journal of The Electrochemical Society，Vol. 153，No. 5，p. C344-C348，2006年05月，研究論文（学術雑誌）
超純水・高速せん断流による洗浄法の開発(第2報)：超純水・高速せん断流によるCu除去メカニズムの研究，森田健一,後藤英和,遠藤勝義,山内和人,堤健一,森勇藏，精密工学会誌論文集，公益社団法人精密工学会，Vol. 72，No. 4，p. 529-533，2006年04月，研究論文（学術雑誌）
超純水・高速せん断流によるSi基板洗浄法の研究：Si基板表面のDOP汚染の洗浄効果，森田健一,後藤英和,山内和人,遠藤勝義,森勇藏，精密工学会誌論文集，公益社団法人精密工学会，Vol. 72，No. 3，p. 383-392，2006年03月，研究論文（学術雑誌）
Atomic-level STM analyses of Si(001) surfaces prepared in aqueous environment，Kenta Arima,Kazuto Yamauchi,Hidekazu Mimura,Akihisa Kubota,Kouji Inagaki,Yuzo Mori,Katsuyoshi Endo，Abstract Book of 33rd Conference on the Physics & Chemistry of Semiconductor Interfaces, Cocoa Beach (Florida), Mo1355 (2006).，American Vacuum Society，2006年01月
SCSS X-FEL conceptual design report，Makina Yabashi,Jerome B. Hastings,Max S. Zolotorev,Hidekazu Mimura,Hirokatsu Yumoto,Satoshi Matsuyama,Kazuto Yamauchi,Tetsuya Ishikawa，Physical Review Letters，Vol. 97，No. 8，2006年，研究論文（学術雑誌）
High-spatial-resolution scanning X-ray fluorescence microscope with Kirkpatrick-Baez mirrors，Satoshi Matsuyama,Hidekazu Mimura,Mari Shimura,Hirokatsu Yumoto,Keiko Katagishi,Soichiro Handa,Akihiko Shibatani,Yasuhis Sano,Kazuya Yamamura,Yoshinori Nishino,Kenji Tamasaku,Makina Yabashi,Tetsuya Ishikawa,Kazuto Yamauchi，ADVANCES IN X-RAY/EUV OPTICS, COMPONENTS, AND APPLICATIONS，SPIE-INT SOC OPTICAL ENGINEERING，Vol. 6317，2006年，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Surface gradient integrated profiler for x-ray and EUV optics - 3D mapping of 1m-long flat mirror and off-axis parabolic mirror，Y. Higashi,Y. Takaie,K. Endo,T. Kume,K. Enami,K. Yamauchi,K. Yamamura,H. Sano,J. Uchikoshi,K. Ueno,Y. Mori，ADVANCES IN X-RAY/EUV OPTICS, COMPONENTS, AND APPLICATIONS，SPIE-INT SOC OPTICAL ENGINEERING，Vol. 6317，2006年，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Wave-optical simulations for designing and evaluating hard x-ray reflective optics，H. Mimura,S. Matsuyama,H. Yumoto,S. Handa,A. Shibatani,K. Katagishi,Y. Sano,Y. Nishino,M. Yabashi,K. Tamasaku,T. Ishikawa,K. Yamauchi，ADVANCES IN X-RAY/EUV OPTICS, COMPONENTS, AND APPLICATIONS，SPIE-INT SOC OPTICAL ENGINEERING，Vol. 6317，2006年，研究論文（国際会議プロシーディングス）
超純水・高速せん断流による洗浄法の開発(第1報)：Si基板表面のCu汚染の洗浄効果，森田健一,後藤英和,山内和人,遠藤勝義,森勇藏，精密工学会誌論文集，公益社団法人精密工学会，Vol. 72，No. 1，p. 89-94，2006年01月，研究論文（学術雑誌）
Cutting of functional materials by plasma chemical vaporization machining with inner-diameter blade electrode，Y. Sano,K. Yamamura,H. Mimura,K. Yamauchi,A. Kubota,Y. Mori，Proc. ICRP-6/SPP-23，2006年01月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Ultra precision machining utilizing numerically controlled scanning of localized atmospheric pressure plasma，K. Yamamura,Y. Sano,M. Shibahara,K. Yamauchi,H. Mimura,K. Endo,Y. Mori，Proceedings of ICRP6/SPP23，2006年01月，研究論文（その他学術会議資料等）
Wave-optical evaluation of interference fringes and wavefront phase in a hard-x-ray beam totally reflected by mirror optics，Kazuto Yamauchi,Kazuya Yamamura,Hidekazu Mimura,Yasuhisa Sano,Akira Saito,Katsuyoshi Endo,Alexei Souvorov,Makina Yabashi,Kenji Tamasaku,Tetsuya Ishikawa,Yuzo Mori，Applied Optics，Vol. 44，No. 32，p. 6927-6932，2005年11月，研究論文（学術雑誌）
A new designed ultra-high precision profiler，Y. Higashi,Y. Takaie,K. Endo,T. Kume,K. Enami,K. Yamauchi,K. Yamamura,Y. Sano,K. Ueno,Y. Mori，Proccedings of SPIE 5921，Vol. 5921，p. 1-9，2005年10月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Results of x-ray mirror round-robin metrology measurements at the APS, ESRF, and SPring-8 optical metrology laboratories，L. Assoufid,A. Rommeveaux,H. Ohashi,K. Yamauchi,H. Mimura,J. Qian,O. Hignette,T. Ishikawa,C. Morawe,A. Macrander,A. Khounsary,S. Goto，Proc. SPIE，Vol. 5921，p. 59210J-12，2005年09月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
硬X線ナノ集光用超高精度楕円ミラーの作製と1次元集光性能の評価，湯本博勝,三村秀和,松山智至,原英之,山村和也,佐野泰久,上野一匡,遠藤勝義,森勇藏,西野吉則,玉作賢治,矢橋牧名,石川哲也,山内和人，精密工学会誌，公益社団法人精密工学会，Vol. 71，No. 9，p. 1137-1140，2005年09月，研究論文（学術雑誌）
Surface figuring and measurement methods with spatial resolution close to 0.1 mm for x-ray mirror fabrication，H. Mimura,H. Yumoto,S. Matsuyama,K. Yamamura,Y. Sano,K.Endo,Y. Mori,Y. Nishino,M. Yabashi,K. Tamasaku,T. Ishikawa,K.Yamauchi，Vol. 5921，p. 1-8，2005年08月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Diffraction-limited two-dimensional hard-X-rays focusing in 100nm level using K-B mirror arrangement，S. Matsuyama,H. Mimura,H. Yumoto,K. Yamamura,Y. Sano,K. Endo,Y. Mori,M. Yabashi,K. Tamasaku,Y. Nishino,T. Ishikawa,K. Yamauchi，Review of Scientific Instruments，Vol. 76，No. 8，p. 1-5，2005年08月，研究論文（学術雑誌）
Morphological Stability of Si(001) Surface Immersed in Fluid Mixture of Ultrapure Water and Silica Powder Particles in Elastic Emission Machining，Akihisa Kubota,Hidekazu Mimura,Kouji Inagaki,Hirokatsu Yumoto,Yuzo Mori,Kazuto Yamauchi，Japanese Journal of Applied Physics，Vol. 44，No. 8，p. 5893-5897，2005年08月，研究論文（学術雑誌）
A new Designed High-Precision Profiler - Study on Mandrel measurement-，Y.Higashi,Y.Takaie,K.Endo,T.Kume,K.Enami,K.Yamauchi,K.Yamamura,K.Ueno,Y.Mori，Proc. 8th Cof. X-ray Microscopy IPAP Conf. Series 7，2005年07月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Scanning hard-X-ray microscope with spatial resolution better than 50nm，S. Matsuyama,H. Mimura,H. Yumoto,H. Hara,K. Yamamura,Y. Sano,K.Endo,Y. Mori,M. Yabashi,Y. Nishino,K. Tamasaku,T. Ishikawa,K.Yamauchi，2005年07月，研究論文（学術雑誌）
Hard X-ray Diffraction-Limited Nanofocusing with unprecidently accurate mirrors，H. Mimura,S. Matsuyama,H. Yumoto,H. Hara,K. Yamamura,Y. Sano,M. Shibahara,K. Endo,Y. Mori,Y. Nishino,K. Tamasaku,M. Yabashi,T. Ishikawa,K. Yamauchi，2005年07月，研究論文（学術雑誌）
Investigation of machining mechanism in Elastic Emission Machining (EEM) on the atomic scale，J. Katoh,A. Kubota,H. Mimura,K. Yamauchi,K. Arima,K. Inagaki,Y. Mori,K. Endo，Abstracts of 13th International Conference on Scanning Tunneling Microscopy/Spectroscopy and Related Techniques, pp. 89-89，The Japan Society of Applied Physics，2005年07月
Atomic-Scale Evaluation of Si(001) Surfaces Finished by Novel Global Planarization Process，K. Arima,K. Yamauchi,H. Mimura,A. Kubota,K. Inagaki,Y. Mori,K. Endo，Abstracts of 13th Internatinal Conference on Scanning Tunneling Microscopy/Spectroscopy and Related Techniques, pp. 335-335，The Japan Society of Applied Physics，2005年07月
Element Array by Scanning X-ray Fluorescence Microscopy after Cis-Diamminedichloro-Platinum(II) Treatment，M. Shimura,A. Saito,S. Matsuyama,T. Sakuma,Y. Terui,K. Ueno,H. Yumoto,K. Yamauchi,K. Yamamura,H. Mimura,Y. Sano,M. Yabashi,K. Tamasaku,K. Nishio,Y. Nishino,K. Endo,K. Hatake,Y. Mori,Y. Ishizaka,T. Ishikawa，Cancer Research, 65 (12), 4998-5002, (2005).，Vol. 65，No. 12，p. 4998-5002，2005年07月，研究論文（学術雑誌）
EEM（Elastic Emission Machining）プロセスにおける微粒子表面の形態が加工表面に及ぼす影響，久保田章亀,三村秀和,稲垣耕司,森勇藏,山内和人，精密工学会誌論文集，公益社団法人精密工学会，Vol. 71，No. 6，p. 762-766，2005年06月，研究論文（学術雑誌）
Electrochemical Etching Using Surface Modified Graphite Electrodes in Ultrapure Water，Y.Ichii,Y.Mori,K.Hirose,K.Endo,K.Yamauchi,K.Yagi,H.Goto，Proceedings of The 5th Asian Conference on Electrochemistry 2005，2005年05月
Electrochemical etching using surface carboxylated graphite electrodes in ultrapure water，Yoshio Ichii,Yuzo Mori,Kikuji Hirose,Katsuyoshi Endo,Kazuto Yamauchi,Hidekazu Goto，Electrochimica Acta，Elsevier，Vol. 50，No. 27，p. 5379-5383，2005年05月，研究論文（学術雑誌）
EEM（Elastic Emission Machining）プロセスにおける加工液がSi(001)表面のマイクロラフネスに及ぼす影響，久保田章亀,三村秀和,湯本博勝,森勇藏,山内和人，精密工学会誌論文集，公益社団法人精密工学会，Vol. 71，No. 5，p. 628-632，2005年05月，研究論文（学術雑誌）
Preparation of Ultrasmooth and defect-free 4H-SiC(0001) Surfaces by Elastic Emission Machining，A. Kubota,H. Mimura,K. Inagaki,K. Arima,Y. Mori,K. Yamauchi，Journal of Electronic Material, 34(4), pp. 439-443 (2005)，Vol. 34，No. 4，p. 439-443，2005年04月，研究論文（学術雑誌）
Hard X-ray Diffraction-Limited Nanofocusing with Kirkpatrick-Baez Mirrors，H. Mimura,S. Matsuyama,H. Yumoto,H. Hara,K. Yamamura,Y. Sano,M. Shibahara,K. Endo,Y. Mori,Y. Nishino,K. Tamasaku,M. Yabashi,T. Ishikawa,K. Yamauchi，Japanese Journal of Applied Physics Part 2，Vol. 44，No. 16-19，p. L539-L542，2005年04月，研究論文（学術雑誌）
EEM（Elastic Emission Machining）による4H-SiC(0001)表面の平滑化，久保円章亀,三村秀和,佐野泰久,山村和也,山内和人,森勇藏，精密工学会誌論文集，公益社団法人精密工学会，Vol. 71，No. 4，p. 477-480，2005年04月，研究論文（学術雑誌）
Development of surface figuring and smoothing technologies for ultraprecise X-ray mirror Fabrication，H. Mimura,H. Yumoto,S. Matsuyama,K. Yamamura,Y. Sano,K. Endo,Y. Mori,Y. Nishino,K. Tamasaku,M. Yabashi,T. Ishikawa,K. Yamauchi，2005年02月
Fabrication of ultraprecisely figured and ultrasmooth elliptical mirrors for hard X-ray nanofocusing，K.Yamauchi,H. Mimura,K. Yamamura,Y. Sano,K. Ueno,S. Matsuyama,K. Endo,Y. Nishino,K. Tamasaku,M. Yabashi,T. Ishikawa，Towards Synthesis of Micro-/Nano-systems，No. 5，p. 295-+，2005年02月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Development of elliptical kirkpatrick-baez mirrors for hard X-ray nanofocusing，K. Yamauchi,H. Mimura,K. Yamamura,Y. Sano,H. Yumoto,S. Matsuyama,K. Endo,Y. Nishino,K. Tamasaku,M. Yabashi,T. Ishikawa,Y. Mori，Optics InfoBase Conference Papers，2005年，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Focusing hard X-rays to sub-50 nm size by elliptically figured: Mirror，Hirokatsu Yumoto,Hidekazu Mimura,Satoshi Matsuyama,Hideyuki Hara,Kazuya Yamamura,Yasuhisa Sano,Kazumasa Ueno,Katsuyoshi Endo,Yuzo Mori,Makina Yabashi,Yoshinori Nishino,Kenji Tamasaku,Tetsuya Ishikawa,Kazuto Yamauchi，Optics InfoBase Conference Papers，2005年，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Stitching interferometry for surface figure measurement of X-ray reflective optics，Hidekazu Mimura,Hirokatsu Yumoto,Satoshi Matsuyama,Hideyuki Hara,Kazuya Yamamura,Yasuhisa Sano,Kazumasa Ueno,Katsuyoshi Endo,Yuzo Mori,Makina Yabashi,Yoshinori Nishino,Kenji Tamasaku,Tetsuya Ishikawa,Kazuto Yamauchi，Optics InfoBase Conference Papers，2005年，研究論文（国際会議プロシーディングス）
First-Principles Molecular-Dynamics Simulations of Dissociation Process of Water Molecule by Catalytic Reaction of Ion-Exchange Group，K. Yagi,Y. Ichii,T. Ono,H. Goto,K. Inagaki,K. Yamauchi,K. Endo,Y. Mori,K. Hirose，The 7th Asian Workshop on First-Principles Electronic Structure Calculations, Program & Abstracts, 140-140，2004年11月，研究論文（その他学術会議資料等）
First-Principles Molecular-Dynamics Simulations of Electrochemical Etching Process on Al(001) Cathode Surface，Y. Ichii,K. Yagi,T. Ono,H. Goto,K. Inagaki,K. Yamauchi,K. Endo,Y. Mori,K. Hirose，The 7th Asian Workshop on First-Principles Electronic Structure Calculations, Program & Abstracts, 84-84，2004年11月，研究論文（その他学術会議資料等）
Development of hard X-ray nanofocusing system using ultraprecisely figured mirrors at SPring-8，H. Mimura,K. Yamauchi，2004年10月
Surface Figure Metrology of x-ray mirrors using optical interferometry，K. Yamauchi,K. Yamamura,H. Mimura,Y. Sano,S. Matsuyama,H. Yumoto,K. Ueno,K. Endo,M. Yabashi,K. Tamasaku,Y. Nishino,T. Ishikawa,Y. Mori，2004年09月
Wave-optical and ray-tracing analysis to establish a two dimensional focusing unit using K-B arrangement，S. Matsuyama,H. Mimura,K. Yamamura,H. Yumoto,Y. Sano,K. Endo,Y. Mori,M. Yabashi,K. Tamasaku,Y. Nishino,T. Ishikawa,K. Yamauchi，Proceedings of SPIE，Vol. 5533，p. 181-191，2004年08月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Fabrication technology of ultraprecise mirror optics to realize hard X-ray nanobeam, SPIE International Symposium, Optical Science and Technology，K. Yamauchi,K. Yamamura,H. Mimura,Y. Sano,S. Matsuyama,H. Yumoto,K. Ueno,M. Shibahara,K. Endo,M. Yabashi,K. Tamasaku,Y. Nishino,T. Ishikawa,Y. Mori，Proceedings of SPIE,，Vol. 5533，p. 116-123，2004年08月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Microstitching Interferometry for hard X-ray nanofocusing mirrors，H. Mimura,H. Yumoto,K. Yamamura,Y. Sano,S. Matsuyama,K. Ueno,K. Endo,Y. Mori,M. Yabashi,K. Tamasaku,Y. Nishino,T. Ishikawa,K. Yamauchi，Proceedings of SPIE，Vol. 5533，p. 171-180，2004年08月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Creation of perfect surfaces，Yuzo Mori,Kazuya Yamamura,Katsuyoshi Endo,Kazuto Yamauchi,Kiyoshi Yasutake,Hidekazu Goto,Hiroaki Kakiuchi,Yasuhisa Sano,Hidekazu Mimura，The 14th international conference on crystal growth，Elsevier，Vol. 275，No. 1-2，p. 39-50，2004年08月，研究論文（学術雑誌）
Image quality improvement in hard X-ray projection microscope using total reflection mirror optics，H. Mimura,K. Yamauchi,K. Yamamura,A. Kubota,S. Matsuyama,Y. Sano,K. Ueno,K. Endo,Y. Nishino,K. Tamasaku,M. Yabashi,T. Ishikawa,Y. Mori，Journal of Synchrotoron Radiation, 11, pp. 343-346.，2004年07月，研究論文（学術雑誌）
Surface figure metrology of total reflection X-ray mirror using optical interferometry at Osaka Univ. and SPring-8，K.Yamauchi,H.Mimura,K.Yamamura,Y.Sano,K.Ueno,S.Matsuyama,K.Endo,Y.Nishino,K.Tamasaku,M.Yabashi,T.Ishikawa，Proceedings of Second International Workshop on Metrology for X-ray Optics，2004年04月
EEM（Elastic Emission Machining)によるSi（001）表面の平坦化（第2報）-加工表面の原子像観察と構造評価ー，山内和人,三村秀和,久保田章亀,有馬健太,稲垣耕司,遠藤勝義,森勇藏，精密工学会誌論文集, 70, 547-551, (2004).，公益社団法人精密工学会，Vol. 70，No. 4，p. 547-551，2004年04月，研究論文（学術雑誌）
EEM（Elastic Emission Machining)によるSi（001）表面の平坦化（第１報）-超清浄EEM加工システムの開発ー，森勇藏,山内和人,三村秀和,稲垣耕司,久保田章亀,遠藤勝義，精密工学会誌論文集,70, 391-396, (2004).，2004年03月，研究論文（学術雑誌）
Fabrication technology for hard X-ray reflective optics，Y. Mori,K.Yamauchi,K. Yamamura,H. Mimura,Y.Sano,S. Matsuyama,K. Endo,Y. Nishino,K. Tamasaku,M. Yabashi,T. Ishikawa，Proceedings of Second International Workshop on Metrology for X-ray Optics，2004年03月，研究論文（その他学術会議資料等）
超高精度硬Ｘ線集光ミラーの製作とナノスペクトロスコピーへの応用，山村和也,山内和人,佐野泰久,三村秀和,遠藤勝義,森勇藏，大阪大学低温センターだより，125, 4-10，大阪大学低温センター，Vol. 125，p. 4-10，2004年01月，研究論文（大学，研究機関等紀要）
原子の滑らかさの加工技術，森勇藏,山村和也,山内和人,佐野泰久,三村秀和，O plus E, Vol. 26, No.1, pp.36-42，(株)新技術コミュニケーションズ，Vol. 26，No. 1，p. 36-42，2004年01月
原子の滑らかさの加工技術，森勇藏,山村和也,山内和人,佐野泰久,三村秀和，O plus E, Vol. 26, No.1, pp.36-42，(株)新技術コミュニケーションズ，2004年01月
Two-dimensional Submicron Focusing of Hard X-rays by Two Elliptical Mirrors Fabricated by Plasma Chemical Vaporization Machining and Elastic Emission Machining，K. Yamauchi,K. Yamamura,H. Mimura,Y. Sano,A. Saito,K. Endo,A. Souvorov,M. Yabashi,K. Tamasaku,T. Ishikawa,Y. Mori，Jpn. J. Appl. Phys. Part1，Vol. 42，No. 11，p. 7129-7134，2003年11月，研究論文（学術雑誌）
Fabrication of elliptical mirror at nanometer-level accuracy for hard x-ray focusing by numerically controlled plasma chemical vaporization machining.，K. Yamamura,K. Yamauchi,H. Mimura,Y. Sano,A. Saito,K. Endo,A. Souvorov,M. Yabashi,K. Tamasaku,T. Ishikawa,Y. Mori，Review of Sceintific Instruments, 74, (10), pp.4549-4553，Vol. 74，No. 10，p. 4549-4553，2003年10月，研究論文（学術雑誌）
Fabrication technology of hard X-ray aspherical mirror optics and application to nanospectroscopy，Y. Mori,K. Yamauchi,K. Yamamura,H. Mimura,Y. Sano,A. Saito,K. Endo,A. Souvorov,M. Yabashi,K. Tamasaku,T. Ishikawa,M. Shimura,Y. Ishizaka，Proc. SPIE 5193, pp.11-17，Vol. 5193，p. 11-17，2003年08月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Development of a figure correction method having spatial resolution close to 0.1mm，Y. Mori,K. Yamauchi,K. Yamamura,H. Mimura,Y. Sano,A. Saito,K. Endo,A. Souvorov,M. Yabashi,K. Tamasaku,T. Ishikawa，Proc. SPIE 5193, pp.105-111，Vol. 5193，p. 105-111，2003年08月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
硬X線用斜入射平面ミラーの形状誤差が反射X線強度・位相分布に及ぼす影響の波動光学的評価，山内和人,山村和也,三村秀和,佐野泰久,齋藤彰,久保田章亀,金岡政彦,SOUVOROV Alexei,玉作賢治,矢橋牧名,石川哲也,森勇藏，精密工学会誌，公益社団法人精密工学会，Vol. 69，No. 7，p. 997-1001，2003年07月，研究論文（学術雑誌）
硬Ｘ線用斜入射平面ミラーの形状誤差が反射Ｘ線強度・位相分布に及ぼす影響の波動光学的評価，山内和人,山村和也,三村秀和,佐野泰久,齋藤彰,久保田章亀,金岡政彦,Alexei Souvorov,玉作賢治,矢橋牧名,石川哲也,森勇藏，精密工学会誌, 69, 2003, 997-1001，公益社団法人精密工学会，Vol. 69，No. 7，p. 997-1001，2003年07月，研究論文（学術雑誌）
硬Ｘ線用斜入射平面ミラーの形状誤差が反射Ｘ線強度・位相分布に及ぼす影響の波動光学的評価，山内和人,山村和也,三村秀和,佐野泰久,齋藤彰,久保田章亀,金岡政彦,Alexei Souvorov,玉作賢治,矢橋牧名,石川哲也,森勇藏，精密工学会誌, 69, 2003, 997-1001，公益社団法人精密工学会，Vol. 69，No. 7，p. 997-1001，2003年07月，研究論文（学術雑誌）
高精度X線ミラーのための干渉計を利用した形状計測システムの開発，山内和人,山村和也,三村秀和,佐野泰久,久保田章亀,関戸康裕,上野一匡,Alexei SOUVOROV,玉作賢治,矢橋牧名,石川哲也,森勇藏，精密工学会誌，公益社団法人精密工学会，Vol. 69，No. 6，p. 856-860，2003年06月，研究論文（学術雑誌）
高精度X線ミラーのための干渉計を利用した形状計測システムの開発，山内和人,山村和也,三村秀和,佐野泰久,久保田章亀,関戸康裕,上野一匡,Alexei Souvorov,玉作賢治,矢橋牧名,石川哲也,森勇藏，精密工学会誌, 69, 6, 856-860，公益社団法人精密工学会，Vol. 69，No. 6，p. 856-860，2003年06月，研究論文（学術雑誌）
高精度X線ミラーのための干渉計を利用した形状計測システムの開発，山内和人,山村和也,三村秀和,佐野泰久,久保田章亀,関戸康裕,上野一匡,Alexei Souvorov,玉作賢治,矢橋牧名,石川哲也,森勇藏，精密工学会誌, 69, 6, 856-860，公益社団法人精密工学会，Vol. 69，No. 6，p. 856-860，2003年06月，研究論文（学術雑誌）
Microstitching interferometry for x-ray reflective optics，K. Yamauchi,K. Yamamura,H. Mimura,Y. Sano,A. Saito,K. Ueno,K. Endo,A. Souvorov,M. Yabashi,K. Tamasaku,T. Ishikawa,Y. Mori，Review of Scientific Instruments 74 (2003) 2894-2898.，Vol. 74，No. 5，p. 2894-2898，2003年05月，研究論文（学術雑誌）
Ultraprecision Machining based on Physics and Chemistry，Yuzo Mori,Kikuji Hirose,Kazuto Yamauchi,Hidekazu Goto,Kazuya Yamamura,Yasuhisa Sano，Vol. 15，No. 1，p. 1-19，2003年01月，研究論文（学術雑誌）
Ultraprecision Machining based on Physics and Chemistry，Yuzo Mori,Kikuji Hirose,Kazuto Yamauchi,Hidekazu Goto,Kazuya Yamamura,Yasuhisa Sano，Sensors and Materials Sensors and Materials，Vol. 15，No. 1，p. 001-019，2003年01月，研究論文（学術雑誌）
Figuring with subnanometer-level accuracy by numerically controlled elastic emission machining，Kazuto Yamauchi,Hidekazu Mimura,Kouji Inagaki,Yuzo Mori，Rev. Sci. Instr.，Vol. 73，No. 11，p. 4028-4033，2002年11月，研究論文（学術雑誌）
Figuring with subnanometer-level accuracy by numerically controlled elastic emission machining，K Yamauchi,H Mimura,K Inagaki,Y Mori，REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS，AMER INST PHYSICS，Vol. 73，No. 11，p. 4028-4033，2002年11月，研究論文（学術雑誌）
プラズマCVMおよびEEMによるシンクロトロン放射X線用楕円ミラーの作製と集光特性の評価，森勇藏,山内和人,山村和也,三村秀和,佐野泰久,斎藤彰,Alexei SOUVOROV,玉作賢治,矢橋牧名,石川哲也，精密工学会誌，公益社団法人精密工学会，Vol. 68，No. 10，p. 1347-1350，2002年10月，研究論文（学術雑誌）
プラズマCVMおよびEEMによるシンクロトロン放射X線用楕円ミラーの作製と集光特性の評価，森勇藏,山内和人,山村和也,三村秀和,佐野泰久,齋藤彰,Alexei Souvorov,玉作賢治,矢橋牧名,石川哲也，精密工学会誌, Vol.68, p.1347-1350，公益社団法人精密工学会，Vol. 68，No. 10，p. 1347-1350，2002年10月，研究論文（学術雑誌）
コヒーレント照射でのＸ線全反射ミラー，石川哲也,矢橋牧名,玉作賢治,スボロフアレクセイ,山内和人,山村和也,三村秀和,齋藤彰,森勇藏，放射光, Vol.15, p.296-302，2002年09月
ナノパーティクル測定機によるシリコンウエハ面のナノ欠陥計測，佐々木都至,安弘,森勇藏,片岡俊彦,遠藤勝義,山内和人,井上晴行，精密工学会誌, 68, 9, 1200-1205，精密工学会，Vol. 68，No. 9，p. 1200-1205，2002年09月，研究論文（学術雑誌）
コヒーレント照射でのＸ線全反射ミラー，石川哲也,矢橋牧名,玉作賢治,スボロフアレクセイ,山内和人,山村和也,三村秀和,齋藤彰,森勇藏，放射光, Vol.15, p.296-302，2002年09月
Nearly diffraction-limited line focusing of a hard-X-ray beam with an elliptically figured mirror，K. Yamauchi,K. Yamamura,H. Mimura,Y. Sano,A. Saito,A. Souvorov,M. Yabashi,K. Tamasaku,T. Ishikawa,Y. Mori，J. Synchrotron Rad., vol.9, p.313-316，Vol. 9，p. 313-316，2002年09月，研究論文（学術雑誌）
Deterministic retrieval of surface waviness by means of topography with coherent X-rays，A. Souvorov,M. Yabashi,K. Tamasaku,T. Ishikawa,Y. Mori,K. Yamauchi,K. Yamamura,A. Saito，J. Synchrotron Rad., Vol.9, p.223-228，Vol. 9，No. 4，p. 223-228，2002年09月，研究論文（学術雑誌）
Sub-micron focusing of hard X-ray by reflective optics for scanning x-ray microscopy，Y. Mori,K. Yamauchi,K. Yamamura,H. Mimura,Y. Sano,A. Saito,K. Ueno,K. Endo,A. Souvorov,M. Yabashi,K. Tamasaku,T. Ishikawa，SPIE Vol.4782，2002年07月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Aspheric surface fabrication in nm-level accuracy by numerically controlled plasma CVM and EEM，K. Yamamura,H. Mimura,K. Yamauchi,Y. Sano,A. Saito,T. Kinoshita,K. Endo,A. Souvorov,M. Yabashi,K. Tamasaku,T. Ishikawa,Y. Mori，Proc. SPIE, Vol.4782，2002年07月，研究論文（その他学術会議資料等）
Wave-optical analysis of sub-micron focusing of hard X-ray by reflective optics，K. Yamauchi,K. Yamamura,H. Mimura,Y. Sano,A. Saito,M. Kanaoka,K. Endo,A. Souvorov,M. Yabashi,K. Tamasaku,T. Ishikawa,Y. Mori，Proc. SPIE, Vol.4782，Vol. 4782，p. 271-276，2002年07月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Wave-optical analysis of sub-micron focusing of hard X-ray by reflective optics，K. Yamauchi,K. Yamamura,H. Mimura,Y. Sano,A. Saito,M. Kanaoka,K. Endo,A. Souvorov,M. Yabashi,K. Tamasaku,T. Ishikawa,Y. Mori，Proc. SPIE, Vol.4782，Vol. 4782，p. 271-276，2002年07月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Aspheric surface fabrication in nm-level accuracy by numerically controlled plasma CVM and EEM，K. Yamamura,H. Mimura,K. Yamauchi,Y. Sano,A. Saito,T. Kinoshita,K. Endo,A. Souvorov,M. Yabashi,K. Tamasaku,T. Ishikawa,Y. Mori，Proc. SPIE, Vol.4782，2002年07月，研究論文（その他学術会議資料等）
Sub-micron focusing by reflective optics for scanning x-ray microscopy，Y. Mori,K. Yamauchi,K. Yamamura,H. Mimura,Y. Sano,A. Saito,K. Ueno,K. Endo,A. Souvorov,M. Yabashi,K. Tamasaku,T. Ishikawa，Proc. SPIE，Vol. 4782，p. 58-64，2002年07月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Ultra-Precision Machining based on Physics and Chemistry，Y. Mori,K. Hirose,K. Yamauchi,H. Goto,K. Yamamura,Y. Sano，Proceedings of Proceedings of 3rd Workshop on Physical Chemistry of Wet Etching of Silicon, p.10-26，2002年06月，研究論文（その他学術会議資料等）
Elastic Emission Machiningにおける表面原子除去過程の解析とその機構の電子論的な解釈，山内和人,稲垣耕司,三村秀和,杉山和久,広瀬喜久治,森勇藏，精密工学会誌,68(3),456，公益社団法人精密工学会，Vol. 68，No. 3，p. 456-460，2002年03月，研究論文（学術雑誌）
Aspheric surface fabrication in nm-level accuracy by numerically controlled plasma chemical vaporization machining (CVM) and elastic emission machining (EEM)，K Yamamura,H Mimura,K Yamauchi,Y Sano,A Saito,T Kinoshita,K Endo,Y Mori,A Souvorov,M Yabashi,K Tamasaku,D Ishikawa，X-RAY MIRRORS, CRYSTALS, AND MULTILAYERS II，SPIE-INT SOC OPTICAL ENGINEERING，Vol. 4782，p. 265-270，2002年，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Sub-micron focusing of hard X-ray beam by elliptically figured mirrors for scanning X-ray microscopy，Y Mori,K Yamauchi,K Yamamura,H Mimura,Y Sano,A Saito,K Ueno,K Endo,A Souvorov,M Yabashi,K Tamasaku,T Ishikawa，X-RAY MIRRORS, CRYSTALS, AND MULTILAYERS II，SPIE-INT SOC OPTICAL ENGINEERING，Vol. 4782，p. 58-64，2002年，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Sub-micron focusing of hard X-ray beam by elliptically figured mirrors for scanning X-ray microscopy，Y. Mori,K. Yamauchi,K. Yamamura,H. Mimura,Y. Sano,A. Saito,K. Ueno,K. Endo,A. Souvorov,M. Yabashi,K. Tamasaku,T. Ishikawa，Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering，Vol. 4782，p. 58-64，2002年，研究論文（国際会議プロシーディングス）
レーザー光散乱法によるSiウエハ表面上のナノパーティクルの計測，佐々木都至,安弘,森勇藏,片岡俊彦,遠藤勝義,山内和人,井上晴行，精密工学会誌, 67, 11, 1818-1823，精密工学会，Vol. 67，No. 11，p. 1818-1823，2001年11月，研究論文（学術雑誌）
First-principles evaluation of machinability dependence on powder materials in elastic emission machining，K. Inagaki,K. Yamauchi,K. Hirose,Y. Mori，Mterial Trans.，Vol. 42，No. 11，p. 2290-2294，2001年08月，研究論文（学術雑誌）
Development of plasma chemical vaporization machining and elastic emission machining systems for coherent x-ray optics，Y. Mori,K. Yamauchi,K. Yamamura,H. Mimura,A. Saito,H. Kishimoto,Y. Sekito,M. Kanaoka,A. Souvorov,M. Yabashi,K. Tamasaku,T. Ishikawa，Proc. SPIE, Vol.4501, p.30-42，Vol. 4501，p. 30-42，2001年07月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
プラズマCVMによる機能材料の切断加工 : 内周刃型切断加工装置の試作とその切断加工特性，森勇藏,山内和人,山村和也,佐野泰久，精密工学会誌，Vol. 67，No. 2，p. 295-299，2001年02月，研究論文（学術雑誌）
プラズマCVMによる機能材料の切断加工 ---内周刃型切断加工装置の試作とその切断加工特性---，森勇藏,山内和人,山村和也,佐野泰久，精密工学会誌, Vol.~67, No.~2, pp.~295-299，公益社団法人精密工学会，Vol. 67，No. 2，p. 295-299，2001年02月，研究論文（学術雑誌）
Development of plasma chemical vaporization machining and elastic emission machining systems for coherent x-ray optics，Y Mori,K Yamauchi,K Yamamura,H Mimura,A Saito,H Kishimoto,Y Sekito,M Kanaoka，X-RAY MIRRORS, CRYSTALS AND MULTILAYERS，SPIE-INT SOC OPTICAL ENGINEERING，Vol. 4501，p. 30-42，2001年，研究論文（国際会議プロシーディングス）
Development of Plasma Chemical Vaporization Machining，Yuzo Mori,Kazuto Yamauchi,Kazuya Yamamura,Yasuhisa Sano，Review of Scientific Instruments, Vol.~71, No.~12, pp.~4627-4632，Vol. 71，No. 12，p. 4627-4632，2000年12月，研究論文（学術雑誌）
Evaluation of Particles on a Si Wafer before and after Cleaning Using a New Laser Particle Counter，Satoshi Sasaki,Hiroshi An,Yuzo Mori,Toshihiko Kataoka,Kaituyoshi Endo,Kazuto Yamauchi,Haruyuki Inoue,Shigenori Mizuhara，Proceedings of the 9th Interenational Symposium on Semiconductor Manufacturing, pp.~317-320，p. 317-320，2000年09月，研究論文（国際会議プロシーディングス）
プラズマCVMの開発，森勇藏,山内和人,山村和也,佐野泰久，精密工学会誌, Vol.~66, No.~8, pp.~1280-1285，Vol. 66，No. 8，p. 1280-1285，2000年08月，研究論文（学術雑誌）
スーパーコンピュータを用いたシミュレーションによる超精密加工プロセスの原子レベルでの解析，稲垣耕司,山内和人,杉山和久,広瀬喜久治，東北大学大型計算機センター広報, Vol.~33, No.~3, pp.~25-34，2000年07月
SPV (Surface Photo-voltage)スペクトロスコピーによる超精密加工表面評価法の開発，山内和人,杉山和久,稲垣耕司,山村和也,佐野泰久,森勇藏，精密工学会誌，公益社団法人精密工学会，Vol. 66，No. 4，p. 630-634，2000年04月，研究論文（学術雑誌）
SPV(Surface Photo-voltage)スペクトロスコピーによる超精密加工表面評価法の開発，山内和人,杉山和久,稲垣耕司,山村和也,佐野泰久,森勇藏，精密工学会誌, Vol.~66, No.~4, pp.~630-634，公益社団法人精密工学会，Vol. 66，No. 4，p. 630-634，2000年04月，研究論文（学術雑誌）
First-Principles Molecular-Dynamics Simulations of Atomic Removal Process and Binding Energy Analysis in EEM(Elastic Emission Machining)，Kazuto Yamauchi,Kouji Inagaki,Mitsuhiro Sugimoto,Kouji Yamamoto,Kazuhisa Sugiyama,Kikuji Hirose,Yuzo Mori，Technology Reports of the Osaka University, Vol.~50, pp.~27-32，2000年04月，研究論文（大学，研究機関等紀要）
光散乱法によるナノメータオーダの粒径測定法の開発（第5報）---Siウエハ表面に対する洗浄前後の微粒子測定による表面評価---，安弘,大,佐々木都至,森勇藏,片岡俊彦,遠藤勝義,井上晴行,山内和人,谷口浩之，精密工学科会誌, Vol.~65, No.~10, pp.~1435-1439，公益社団法人精密工学会，Vol. 65，No. 10，p. 1435-1439，1999年10月，研究論文（学術雑誌）
Development of Numerically Controlled EEM (Elastic Emission Machining) System for Ultraprecision Figuring and Smoothing of Aspherical Surfaces，Yuzo Mori,Kazuto Yamauchi,Kazuhisa Sugiyama,Kouji Inagaki,Shoichi Shimada,Junichi Uchikoshi,Hidekazu Mimura,Toshiyuki Imai,Kazuhide Kanemura，Precision Science and Technology for Perfect Surfaces, pp.~207-212，JSPE，Vol. 207，1999年09月，研究論文（学術雑誌）
Evaluation of Si Wafer Surface Using a New apparatus for Measuring Particle of the Order of Nanometer，Hiroshi An,Satoshi Sasaki,Yuzo Mori,Toshihiko Kataoka,Katsuyoshi Endo,Haruyuki Inoue,Kazuto Yamauchi，Precision Science and Technology for Perfect Surfaces/JSPE Publication Series No.3,372-377，1999年09月，研究論文（学術雑誌）
First-Principles Molecular-Dynamics Calculation for Evaluating Energy and Force between Powder and Work Surfaces in EEM(Elastic Emission Machining) Process，Kouji Inagaki,Kazuto Yamauchi,Kouji Yamamoto,Mitsuhiro Sugimoto,Hiromichi Toyota,Ehime Uni,Kazuhisa Sugiyama,Kikuji Hirose,Yuzo Mori，Precision Science and Technology for Perfect Surface, pp.~929-934，1999年08月，研究論文（学術雑誌）
A Simulation of Removal Process in EEM(Elastic Emission Machining) by ab initio Molecular Orbital Method，Ryutaro Hosoi,Kikuji Hirose,Kazuto Yamauchi,Kazuhisa Sugiyama,Kouji Inagaki,Kouji Yamamoto,Yuzo Mori，Transactions of the Materials Research Society of Japan, Vol.~24, No.~2, pp.~229-232，1999年06月，研究論文（学術雑誌）
First-Principles Simulation of Removal Process in EEM(Elastic Emission Machining)，Kazuto Yamauchi,Kikuji Hirose,Hidekazu Goto,Kazuhisa Sugiyama,Kouji Inagaki,Kazuya Yamamura,Yasuhisa Sano,Yuzo Mori，Computational Materials Science, Vol.~14, pp.~232-235，1999年04月，研究論文（学術雑誌）
A Simulation of Removal Process in EEM(Elastic Emission Machining) by Ab Initio Molecular Orbital Method，Ryutaro Hosoi,Kikuji Hirose,Kazuto Yamauchi,Kazuhisa Sugiyama,Koji Inagaki,Koji Yamamoto,Yuzo Mori，The Materials Research Society of Japan, Symposium 7, 124-124，1998年12月，研究論文（その他学術会議資料等）
Development of New Ultra Precision Machining Methods --- Plasma CVM and EEM ---，Yuzo Mori,Kazuto Yamauchi,Kazuya Yamamura,Yasuhisa Sano，First International School on Crystal Growth Technology, pp. 218-228，1998年09月，研究論文（その他学術会議資料等）
EEM (Elastic Emission Machinig) に関する研究 -加工液中の溶存酸素がSiウエハ表面に与える影響-，山内和人,片岡俊彦,遠藤勝義,稲垣耕司,杉山和久,牧野修之,森勇藏，精密工学会誌, Vol.~64, No.~6, pp.~907-912，公益社団法人精密工学会，Vol. 64，No. 6，p. 907-912，1998年06月，研究論文（学術雑誌）
First-principles Analysis of Chemical Reactions between Metal Oxide Fine Powders and Si(100) Surface in EEM(Elastic Emission Machining)，Kazuto Yamauchi,Kikuji Hirose,Hidekazu Goto,Masao Sakamoto,Kazuya Yamamura,Yasuhisa Sano,Yuzo Mori，Transactions of the Materials Research Society of Japan, Vol.20, pp.867-870，1996年12月，研究論文（その他学術会議資料等）
First-principles Analysis of Removal Mechanism in EEM(Elastic Emission Machining)，Kazuto Yamauchi,Kikuji Hirose,Hidekazu Goto,Kazuya Yamamura,Yasuhisa Sano,Yuzo Mori，Proceedings of 1996 the Japan-China Bilateral Symposium on Advanced Manufacturing Engineering, pp.60-64，1996年09月，研究論文（その他学術会議資料等）
Polishing of Si Wafer by Plasma CVM(Chemical Vaporization Machining)，Yuzo Mori,Kazuya Yamamura,Kazuto Yamauchi,Yasuhisa Sano，Proceedings of 1996 the Japan-China Bilateral Symposium on Advanced Manufacturing Engineering, pp.65-68，1996年09月，研究論文（その他学術会議資料等）
Slicing of Silicon by Plasma CVM(Chemical Vaporization Machining)，Yuzo Mori,Kazuto Yamauchi,Kazuya Yamamura,Yasuhisa Sano，Proceedings of 1996 the Japan-China Bilateral Symposium on Advanced Manufacturing Engineering, pp.69-72，1996年09月，研究論文（その他学術会議資料等）
光散乱法によるナノメータオーダの粒径測定法の開発(第4報) : 光電子増倍管出力特性の定式化とダイナミックレンジの改善法，安弘,森勇藏,片岡俊彦,遠藤勝義,山内和人,稲垣耕司,山村和也,井上晴行,佐野泰久，精密工学会誌，公益社団法人精密工学会，Vol. 62，No. 8，p. 1198-1202，1996年08月，研究論文（学術雑誌）
光散乱法によるナノメータオーダの粒径測定法の開発(第4報) -- 光電子増倍管出力特性の定式化とダイナミックレンジの改善法 --，安弘,森勇藏,片岡俊彦,遠藤勝義,山内和人,稲垣耕司,山村和也,井上晴行,佐野泰久，精密工学会誌, Vol.62, No.8, pp.1198-1202，公益社団法人精密工学会，Vol. 62，No. 8，p. 1198-1202，1996年08月，研究論文（学術雑誌）
次世代を担う原子・電子レベルの先端技術，森勇藏,安武潔,遠藤勝義,山内和人，精密工学会誌, Vol.62, No.6, pp.766-772，1996年06月
A New Apparatus for Measuring Particle Sizes of the Order of Nanometer (2nd Report) -Evaluation of Measuring System by using Standard Partides-，Hiroshi AN,Yuzo MORI,Tosihiko KATAOKA,Katsuyoshi ENDO,Kohji INAGAKI,Kazuya YAMAMURA,Kazuto YAMAUCHI,Takashige FUKUIKE，Int. J. Japan Soc. Prec. Eng. 28 (1994) 356-361.，International Journal of The Japan Society for Precision Engineering，Vol. 28，No. 4，p. 356-361，1994年12月，研究論文（学術雑誌）
光反射率スペクトルによる超精密加工表面の評価法の開発，森勇藏,片岡俊彦,遠藤勝義,山内和人,稲垣耕司,山村和也,広瀬喜久治，精密工学会誌，精密工学会誌，Vol. 60，No. 9，p. 1360-1364，1994年09月，研究論文（学術雑誌）
水分子と相互作用するシリコン単結晶(001)水素終端化表面の第一原理分子動力学シミュレーション，広瀬喜久治,後藤英和,土屋八郎,森勇藏,遠藤勝義,山内和人，精密工学会誌，第60巻，第8号 (1994) pp.1139-1143.，Vol. 60，No. 8，p. 1139-1143，1994年08月，研究論文（学術雑誌）
材料表面現象の第一原理分子動力学シミュレーション－シリコン単結晶(001)表面の水素終端化反応－，広瀬喜久治,後藤英和,土屋八郎,森勇藏,遠藤勝義,山内和人，精密工学会誌，第60巻，第3号 (1994) pp.402-406.，Vol. 60，No. 3，p. 402-406，1994年03月，研究論文（学術雑誌）
Plasma CVM (chemical vaporization machining): an ultra precision machining technique using high-pressure reactive plasma，Y.Mori,K.Yamamura,K.Yamauchi,K.Yoshii,T.Kataoka,K.Endo,K.Inagaki,H.Kakiuchi，Nanotechnology, 4, 225-229 (1993)，Vol. 4，No. 4，p. 225-229，1993年10月，研究論文（学術雑誌）
Plasma CVM (Chemical Vaporization Machining) - An Ultra Precision Machining with High Pressure Reactive Plasma-，Y.Mori,K.Yamamura,K.Yamauchi,K.Yoshii,T.Kataoka,K.Endo,K.Inagaki,H.Kakiuchi，TECHNOLOGY RERORTS OF THE OSAKA UNIVERSITY, 43, 261-266 (1993)，1993年10月，研究論文（大学，研究機関等紀要）
光散乱法によるナノメータオーダの粒径測定法の開発(第3報)-標準微粒子による粒径測定法の評価-，森勇蔵,安弘,片岡俊彦,遠藤勝義,稲垣耕司,山内和人,山村和也,福池敬重，59/7,1121，精密工学会誌，Vol. 59，No. 7，p. 1121-1126，1993年07月，研究論文（学術雑誌）
Low Temperature Growth of Polycrystalline Silicon Films by Plasma Chemical Vapor Deposition under Higher Pressure than Atmospheric Pressure，H.Kawabe,Y.Mori,K.Yoshii,T.Kataoka,K.Yasutake,K.Endo,K.Yamauchi,K.Yamamura,H.Kakiuchi，Proceeding of 7th International Precision Engineering Seminar, 554-565 (1993)，1993年05月，研究論文（その他学術会議資料等）
Plasma CVM (chemical vaporization machining) -- A Chemical Machining Method With Equal Performances to Conventional Mechanical Methods from the Sense of Removal Rates and Spatial Resolutions，Y.Mori,K.Yamamura,K.Yamauchi,K.Yoshii,T.Kataoka,K.Endo,K.Inagaki,H.Kakiuchi，Proceeding of 7th International Precision Engineering Seminar, 78-87 (1993)，1993年05月，研究論文（その他学術会議資料等）
Plasma CVM (chemical vaporization machining) -- A Chemical Machining Method With Equal Performances to Conventional Mechanical Methods from the Sense of Removal Rates and Spatial Resolutins，Y.Mori,K.Yamamura,K.Yamauchi,K.Yoshii,T.Kataoka,K.Endo,K.Inagaki,H.Kakiuchi，Proceeding of 7th International Precision Engineering Seminar, 78-87 (1993)，1993年05月
Low Temperature Growth of Polycrystalline Silicon Films by Plasma Chemical Vapor Deposition under Higher Pressure than Atmospheric Pressure，H.Kawabe,Y.Mori,K.Yoshii,T.Kataoka,K.Yasutake,K.Endo,K.Yamauchi,K.Yamamura,H.Kakiuchi，Proceeding of 7th International Precision Engineering Seminar, 554-565 (1993)，1993年05月
超精密加工とマイクロトライボロジー，森勇藏,山内和人，トライボロジスト, 37,11,37-41，トライボロジスト，Vol. 37，No. 11，p. 913-917，1992年11月，研究論文（学術雑誌）
Ultra-Smooth Surface Machining by Means of Atomistic Processes‐EEM(Elastic Emission Machining) and CVM(Chemical Vaporization Machining)，Yuzo Mori,Kazuto Yamauchi,Kazuya Yamamura,Toshihiko Kataoka,Katsuyoshi Endo，Proc.14th Symposium on ULSI ultra clean technology‐Advanced Semiconductor Manufacturing System‐(1991) 123-140.，1991年10月，研究論文（その他学術会議資料等）
ダイヤモンドと金属の表面原子間の結合力に関する研究，森勇藏,遠藤勝義,山内和人,王暉,井出敞,後藤英和，精密工学会誌，第57巻，第5号 (1991) pp.881-886.，公益社団法人精密工学会，Vol. 57，No. 5，p. 881-886，1991年05月，研究論文（学術雑誌）
ダイヤモンドと金属の表面原子間の結合力に関する研究，森勇藏,遠藤勝義,山内和人,王暉,井出敞,後藤英和，精密工学会誌，第57巻，第5号 (1991) pp.881-886.，公益社団法人精密工学会，Vol. 57，No. 5，p. 881-886，1991年05月，研究論文（学術雑誌）
超高真空用大電流イオンビーム表面改質装置の開発，森勇藏,王暉,遠藤勝義,山内和人,井出敞,後藤英和，精密工学会誌，第57巻，第4号 (1991) pp.674-680.，公益社団法人精密工学会，Vol. 57，No. 4，p. 674-680，1991年04月，研究論文（学術雑誌）
超高真空用大電流イオンビーム表面改質装置の開発，森勇藏,王暉,遠藤勝義,山内和人,井出敞,後藤英和，精密工学会誌，第57巻，第4号 (1991) pp.674-680.，公益社団法人精密工学会，Vol. 57，No. 4，p. 674-680，1991年04月，研究論文（学術雑誌）
A New Apparatus for Measuring Particle Sized of Order of Nanometer，山内和人，25/3,214，Int. J. Japan Soc. Prec. Eng.，Vol. 25，No. 3，p. 214-219，1991年，研究論文（学術雑誌）
摩擦力の原子論的考察(第2報)-弾性接触状態における摩擦力の測定-，山内和人，57/6,1017，精密工学会誌，Vol. 57，p. 1017-1017，1991年，研究論文（学術雑誌）
粉末粒子の静電加速による特殊加工法の研究(第5報)-タングステン微粒子の高速衝撃付着とその界面特性-，山内和人，57/6,999，精密工学会誌，Vol. 57，No. 6，p. 999-999，1991年，研究論文（学術雑誌）
超微粒子の静電高速衝撃による薄膜形成法(第2報)-ダイヤモンド状膜形成の試み-，山内和人，57/5,887，精密工学会誌，Vol. 57，p. 887-887，1991年，研究論文（学術雑誌）
固体表面間の相互作用力に関する研究(第2報)-超高真空中における同種金属間の相互作用力と接触領域-，山内和人，57/2,310，精密工学会誌，Vol. 57，No. 2，p. 310-317，1991年，研究論文（学術雑誌）
極限加工技術，山内和人，57/1，精密工学会誌，1991年，研究論文（学術雑誌）
加工と量子力学，森勇藏,山内和人,後藤英和,遠藤勝義，日本機械学会誌，第93巻，第862号 (1990) pp.773-778.，日本機械学会，Vol. 93，No. 862，p. 773-778，1990年01月
Ultra High Vacuum Compatible Metal Ion Beam Surface Modification System，山内和人，61/11,3412，Rev. Sci. Instrum.，Vol. 61，No. 11，p. 3412-3415，1990年，研究論文（学術雑誌）
Substrate Surface Modification by Ion Irradiation. I : Formation of A Sn Ultra-Thin Films on the SiO┣D22┫D2 Substrate Modificated by Sn┣D1+┫D1 Irradiation，山内和人，40/2021,303，Technol. Repts. of the Osaka Univ.，1990年，研究論文（大学，研究機関等紀要）
光散乱法によるナノメータオーダの粒径測定法の開発(第2報)，山内和人，56/10,1847，精密工学会誌，Vol. 56，No. 10，p. 1847-1852，1990年，研究論文（学術雑誌）
Observation of Elastic Emission Machined Surfaces by Scanning Tunneling Microscopy，山内和人，40/2000,113，Technol. Repts. of the Osaka Univ.，1990年，研究論文（大学，研究機関等紀要）
Design of a Large Current Liquid Metal Ion Source，山内和人，40/2000,113，Technol. Repts. of the Osaka Univ.，Vol. 61，No. 7，p. 1874-1879，1990年，研究論文（大学，研究機関等紀要）
加工と量子論，山内和人，93，日本機械工学会誌，1990年，研究論文（学術雑誌）
Sub-Band-Gap Surface Photovoltage in Finely-Polished Si，山内和人，40，Technology Reports of Osaka University，1990年，研究論文（大学，研究機関等紀要）
A Design of Large Current Ion Gun Empolying Liquid Metal Ion Source，山内和人，61，Review of Scientific Instrument，Vol. 61，No. 7，p. 1874-1879，1990年，研究論文（学術雑誌）
Evaluation of Elastic Emission Machined Surfaces by Scanning Tunneling Microscopy，山内和人，40，Journal of Vacuum Science and Technology A，Vol. 8，No. 1，p. 621-624，1990年，研究論文（学術雑誌）
NEW MACHINING METHOD FOR MAKING PRECISE AND VERY SMOOTH MIRROR SURFACES MADE FROM CU AND AL-ALLOYS FOR SYNCHROTRON RADIATION OPTICS，Y HIGASHI,T MEIKE,J SUZUKI,Y MORI,K YAMAUCHI,K ENDO,H NAMBA，REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS，AMER INST PHYSICS，Vol. 60，No. 7，p. 2120-2123，1989年07月，研究論文（学術雑誌）
Elastic Emission Machining，Yuzo Mori,Kazuto Yamauchi,Katsuyoshi Endo，Journal of the Japan Society for Precision Engineering，Prec. Engineering，Vol. 55，No. 3，p. 480-484，1989年，研究論文（学術雑誌）
熱化学反応を用いたSi3N4の除去加工，土屋八郎,後藤英和,森勇藏,遠藤勝義,山内和人,宮崎眞,西雅文，精密工学会誌，第54巻，第1号 (1988) pp.96-100.，公益社団法人精密工学会，Vol. 54，No. 1，p. 96-100，1988年01月，研究論文（学術雑誌）
熱化学反応を用いたSi3N4の除去加工，土屋八郎,後藤英和,森勇藏,遠藤勝義,山内和人,宮崎眞,西雅文，精密工学会誌，第54巻，第1号 (1988) pp.96-100.，公益社団法人精密工学会，Vol. 54，No. 1，p. 96-100，1988年01月，研究論文（学術雑誌）
Designing a New Apparatus for Measuring Particle Sizes of the Order of Nanometer by Light-Scattering，山内和人，38/1924,135，Technol. Repts. of the Osaka Univ.，Vol. 54，No. 11，p. 2132-2137，1988年，研究論文（大学，研究機関等紀要）
Sintering Mechanism II-Influence Atmospheric Gas on Neck Growth-，山内和人，38/1923,127，Technol. Repts. of the Osaka Univ.，1988年，研究論文（大学，研究機関等紀要）
Sintering Mechanism I-A New Sintering Equation.，山内和人，38/1922,119，Technol. Repts. of the Osaka Univ.，1988年，研究論文（大学，研究機関等紀要）
熱化学反応を用いたSi┣D23┫D2N┣D24┫D2の除去加工，山内和人，54/1,96，精密工学会誌，Vol. 54，No. 1，p. 96-100，1988年，研究論文（学術雑誌）
Mechanism of Atomic Removal in Elastic Emission Machining，山内和人，10，Precision Engineering，Vol. 10，No. 1，p. 24-28，1988年，研究論文（学術雑誌）
CO2レーザによるSiおよびSi3N4表面酸化反応層の形成と表面層の除去機構，土屋八郎,後藤英和,森勇藏,広瀬喜久治,遠藤勝義,山内和人,宮崎眞,西雅文，精密工学会誌，第53巻，第11号 (1987) pp.107-113.，公益社団法人精密工学会，Vol. 53，No. 11，p. 1765-1771，1987年11月，研究論文（学術雑誌）
CO┣D22┫D2レーザーによるSiおよびSi┣D23┫D2N┣D24┫D2表面酸化反応層の形成と表面の除去機構，山内和人，53/11,1765，精密工学会誌，Vol. 53，No. 11，p. 1765-1771，1987年，研究論文（学術雑誌）
Elastic Emission Machining，山内和人，9/3,123，Prec. Engineering，Vol. 9，No. 3，p. 123-128，1987年，研究論文（学術雑誌）
焼結機構(II)-雰囲気ガスのネック成長におよぼす影響-，山内和人，33/6,296，粉体および粉末冶金，Vol. 33，No. 6，p. 296-301，1986年，研究論文（学術雑誌）
焼結機構(I)-新しい焼結式の提案-，山内和人，33/6,291，粉体および粉末冶金，Vol. 33，No. 6，p. 291-295，1986年，研究論文（学術雑誌）
原子の大きさに迫る加工，山内和人，51/1,12，精密工学会誌，1985年，研究論文（学術雑誌）
EEM(Elastic Emission Machining)の基礎研究(第2報)-応力場から見た格子欠陥の発生,増殖の可能性-，山内和人，51/6,1187，精密機械，Vol. 51，No. 6，p. 1187-1194，1985年，研究論文（学術雑誌）
EEM(Elastic Emission Machining)による超精密数値制御加工法-流体中の粉末の挙動と加工特性-，山内和人，51/5,1033，精密機械，Vol. 51，No. 5，p. 1033-1039，1985年，研究論文（学術雑誌）
A High-Accuracy Method for Merasuring Surface Profile，山内和人，35/1792,83，Technol. Repts. of Osaka Univ.，1985年，研究論文（大学，研究機関等紀要）
Development of High-Accuracy Profile Measuring System for Focusing Mirror of SOR (Synchrotron Drbital Radiation)，山内和人，19，Bulletin of the Jpan Society of Preclsion Engineering，Vol. 19，No. 2，p. 108-108，1985年
EEM(Elastic Emission Machining)による超精密数値制御加工法-流体の挙動と膜厚分布-，山内和人，49/11,1540，精密機械，Vol. 49，No. 11，p. 1540-1548，1983年，研究論文（学術雑誌）

MISC

Advanced KBミラーに基づく硬X線自由電子レーザーsub-10nm集光システム，山田純平,松山智至,井上陽登,伊藤篤輝,田中優人,大坂泰斗,井上伊知郎,犬伏雄一,湯本博勝,湯本博勝,小山貴久,小山貴久,大橋治彦,大橋治彦,山内和人,矢橋牧名,矢橋牧名，日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム(Web)，Vol. 35th，2022年
大気圧プラズマによる表面処理を利用した常温接合技術の開発，櫛川新太,西岡柚香,藤大雪,山内和人,佐野泰久，精密工学会関西地方定期学術講演会講演論文集，Vol. 2022，2022年
水素ガスを用いた大気圧プラズマによる窒化ガリウム基板の高能率エッチング，中上元太,崔泰樹,藤大雪,山内和人,佐野泰久，精密工学会関西地方定期学術講演会講演論文集，Vol. 2022，2022年
紫外光照射を援用した触媒表面基準エッチング法を用いた窒化ガリウム基板の高能率平滑化，萱尾澄人,藤大雪,山田純平,山内和人,佐野泰久，精密工学会関西地方定期学術講演会講演論文集，Vol. 2022，2022年
Wolter III型advanced KBミラーによるXFEL sub-10nm集光光学系の開発，山田純平,松山智至,松山智至,井上陽登,中村南美,田中優人,大坂泰斗,井上伊知郎,犬伏雄一,犬伏雄一,湯本博勝,湯本博勝,小山貴久,小山貴久,大橋治彦,大橋治彦,山内和人,矢橋牧名,矢橋牧名，日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム(Web)，Vol. 34th，2021年
触媒表面基準エッチング法を用いた高分子材料表面の高精度平坦化手法-ポリカーボネートの加工特性評価-，竹田広大,藤大雪,佐野泰久,山内和人，精密工学会関西地方定期学術講演会講演論文集，Vol. 2021，2021年
SF6ガスを用いたサブ大気圧プラズマによるSiC-MOSFETの裏面薄化におけるデバイス性能への影響の調査，大島政明,中西悠真,藤大雪,松山智至,山内和人,佐野泰久，精密工学会関西地方定期学術講演会講演論文集，Vol. 2021，2021年
触媒表面基準エッチング法におけるシリコンの除去機構の解明，板垣果歩,萩原拓,萱尾清人,VAN PHO Bui,藤大雪,佐野泰久,山内和人，精密工学会関西地方定期学術講演会講演論文集，Vol. 2021，2021年
X線自由電子レーザー用sub10nm集光システムの開発-高反射率多層膜ミラーの作製-，井上陽登,松山智至,山田純平,中村南美,大坂泰斗,湯本博勝,小山貴久,大橋治彦,矢橋牧名,矢橋牧名,石川哲也,山内和人，日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム(Web)，Vol. 33rd，2020年
X線自由電子レーザーナノ集光システムの開発格子干渉計を用いたX線波面計測法の検証，中村南美,松山智至,山田純平,井上陽登,大坂泰斗,湯本博勝,小山貴久,大橋治彦,矢橋牧名,矢橋牧名,石川哲也,山内和人，精密工学会大会学術講演会講演論文集，Vol. 2020，2020年
WolterIII型Advanced KBミラーを用いたX線自由電子レーザーsub-10nm集光システムの開発(第2報)-高反射率多層膜の作製と差分成膜による形状修正-，井上陽登,松山智至,山田純平,中村南美,大坂泰斗,湯本博勝,小山貴久,大橋治彦,矢橋牧名,矢橋牧名,石川哲也,山内和人，精密工学会大会学術講演会講演論文集，Vol. 2020，2020年
WolterIII型Advanced KBミラーを用いたX線自由電子レーザーsub-10nm集光システムの開発(第3報)-差分成膜によるX線ミラーの高精度形状修正およびSPring-8における性能評価-，井上陽登,松山智至,山田純平,中村南美,田中優人,大坂泰斗,湯本博勝,小山貴久,大橋治彦,矢橋牧名,矢橋牧名,石川哲也,山内和人，精密工学会大会学術講演会講演論文集，Vol. 2020，2020年
完全結晶基板上に成長したFe3O4極薄膜金属-絶縁体相転移特性，大坂藍,服部梓,田中秀和,藤大雪,山内和人,佐野泰久，日本表面真空学会学術講演会要旨集(Web)，Vol. 2020，2020年
X線自由電子レーザーナノ集光システムの開発(第2報)蛍光X線の強度干渉現象を利用したビーム径決定手法の実証，中村南美,松山智至,井上陽登,井上伊知郎,大坂泰斗,山田純平,湯本博勝,小山貴久,大橋治彦,矢橋牧名,矢橋牧名,石川哲也,山内和人，精密工学会大会学術講演会講演論文集，Vol. 2019，2019年
Wolter III型Advanced KBミラーを用いたX線自由電子レーザーsub-10nm集光システムの開発，井上陽登,松山智至,山田純平,中村南美,大坂泰斗,湯本博勝,小山貴久,大橋治彦,矢橋牧名,矢橋牧名,石川哲也,山内和人，精密工学会大会学術講演会講演論文集，Vol. 2019，2019年
X線自由電子レーザーナノ集光システムの開発-蛍光X線の強度干渉現象を利用したビーム径決定手法の検討-，中村南美,松山智至,井上陽登,井上伊知郎,大坂泰斗,山田純平,湯本博勝,小山貴久,大橋治彦,矢橋牧名,矢橋牧名,石川哲也,山内和人，精密工学会関西地方定期学術講演会講演論文集，Vol. 2019，2019年
X線自由電子レーザー用sub10nm集光システムの開発-新しいビーム径診断法を用いた精密ミラーアライメント-，井上陽登,松山智至,中村南美,湯本博勝,犬伏雄一,犬伏雄一,小山貴久,大坂泰斗,井上伊知郎,登野健介,登野健介,大橋治彦,矢橋牧名,矢橋牧名,石川哲也,山内和人，日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム(Web)，Vol. 32nd，2019年
X線自由電子レーザーナノ集光システムの開発，中村南美,松山智至,井上陽登,湯本博勝,犬伏雄一,犬伏雄一,小山貴久,大坂泰斗,井上伊知郎,登野健介,登野健介,大橋治彦,矢橋牧名,矢橋牧名,石川哲也,山内和人，精密工学会関西地方定期学術講演会講演論文集，Vol. 2018，2018年
X線自由電子レーザー用sub10nm集光システムの開発波面計測法とビームキャラクタリゼーション法の検討，井上陽登,松山智至,川合蕉吾,湯本博勝,犬伏雄一,小山貴久,大坂泰斗,大橋治彦,矢橋牧名,石川哲也,山内和人，日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム(Web)，Vol. 31st，2018年
大開口数多層膜集光ミラーを用いたsub-10nm集光システムの開発，川合蕉吾,松山智至,井上陽登,湯本博勝,犬伏雄一,小山貴久,大坂泰斗,大橋治彦,矢橋牧名,石川哲也,山内和人，日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム(Web)，Vol. 31st，2018年
多層膜KBミラーを用いたX線自由電子レーザーナノ集光システムの開発(第二報)-スペックルを利用したミラーアライメント調整精度の検討-，井上陽登,松山智至,中村南美,湯本博勝,犬伏雄一,犬伏雄一,小山貴久,大坂泰斗,井上伊知郎,登野健介,登野健介,大橋治彦,矢橋牧名,矢橋牧名,石川哲也,山内和人，精密工学会大会学術講演会講演論文集，Vol. 2018，2018年
放射光科学のための高精度X線ミラーの開発，山内和人，応用物理，応用物理学会，Vol. 86，No. 10，p. 862-866，2017年10月
触媒表面を基準面とする化学研磨法の開発 (特集 SiC研磨技術の現状と新加工法)，佐野泰久,有馬健太,山内和人，Abrasive technology : 砥粒加工学会誌 : journal of the Japan Society for Abrasive Technology，砥粒加工学会，Vol. 61，No. 8，p. 426-429，2017年08月
高エネルギー密度科学のための新しい実験ステーション，松岡健之,尾崎典雅,犬伏雄一,富樫格,籔内俊毅,佐野智一,末田敬一,松山智至,山内和人,湯本博勝,大橋治彦,羽原英明,冨澤宏光,冨澤宏光,小川奏,高橋謙次郎,宮西宏併,佐藤尭洋,松田朋己,近藤良彦,林圭輔,佐藤友哉,喜田美佳,小川剛史,山下真直,丹下慶範,奥地拓生,KOENIG Michel,佐藤友子,関根利守,瀬戸雄介,野間澄人,西川豊人,大月崇史,南卓海,FAENOV Anatoly,PIKUZ Tatiana,松山法央,坂田修身,佐野雄二,廣田圭一,藤田敏之,久保達也,政木清孝,田中和夫,石川哲也,石川哲也,矢橋牧名,矢橋牧名,兒玉了祐，日本物理学会講演概要集(CD-ROM)，Vol. 72，No. 1，2017年
XFEL用集光光学系のための精密波面計測法の開発，井上陽登,松山智至,川合蕉吾,湯本博勝,犬伏雄一,小山貴久,登野健介,大橋治彦,大坂泰斗,矢橋牧名,石川哲也,山内和人，精密工学会関西地方定期学術講演会講演論文集，Vol. 2017，2017年
X線自由電子レーザーナノ集光用の大開口数多層膜集光ミラーの開発，川合蕉吾,松山智至,井上陽斗,湯本博勝,犬伏雄一,小山貴久,登野健介,大橋治彦,矢橋牧名,石川哲也,山内和人，日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム(Web)，Vol. 30th，2017年
光電気化学酸化を利用した触媒表面基準エッチング法による窒化ガリウムの高能率平坦化，木田英香,藤大雪,中平雄太,松山智至,佐野泰久,山内和人，精密工学会大会学術講演会講演論文集，Vol. 2017，2017年
Pit Formation, Patterning and Flattening of Ge Surfaces in O2-Containing Water by Metal-Assisted Chemical Etching，Tatsuya Kawase,Atsushi Mura,Yusuke Saito,Takeshi Okamoto,Kentaro Kawai,Yasuhisa Sano,Kazuto Yamauchi,Mizuho Morita,Kenta Arima，ECS Transactions，The Electrochemical Society，Vol. 75，No. 1，p. 107-112，2016年09月
形状可変ミラーによる二段KBミラー集光光学系を用いた任意サイズ硬X線集光ビームの形成，後藤拓実,中森紘基,中森紘基,松山智至,木村隆志,KHAKUREL Krishna Prasad,佐野泰久,香村芳樹,西野吉則,石川哲也,山内和人，日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム予稿集，Vol. 29th，2016年01月09日
硬X線用楕円面集光ミラー作製法と集光特性，湯本博勝,小山貴久,松山智至,香村芳樹,山内和人,石川哲也,大橋治彦,大橋治彦，日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム予稿集，Vol. 29th，2016年
多層膜集光ミラーを用いたX線自由電子レーザーsub10nm集光の実現，川合蕉吾,松山智至,金章雨,西原明彦,湯本博勝,小山貴久,登野健介,犬伏雄一,片山拓也,大橋治彦,後藤俊治,矢橋牧名,石川哲也,山内和人，日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム予稿集，Vol. 29th，2016年
多層膜ミラーを用いたX線自由電子レーザーのナノビーム形成，川合蕉吾,松山智至,湯本博勝,犬伏雄一,小山貴久,登野健介,大橋治彦,後藤俊治,矢橋牧名,石川哲也,山内和人，精密工学会関西地方定期学術講演会講演論文集，Vol. 2016，2016年
GaN表面CARE加工の反応メカニズムの第一原理計算による解析 II-表面キンクサイト周辺のH2O終端構造-，稲垣耕司,BUI Pho Van,礒橋藍,藤大雪,森川良忠,山内和人，応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)，Vol. 63rd，2016年
WeC-2-5 HIGH-EFFICIENCY PLANARIZATION METHOD FOR HARD-TO-MACHINE SEMICONDUCTOR SUBSTRATES COMBINING MECHANICAL POLISHING AND ATMOSPHERIC-PRESSURE PLASMA ETCHING，Sano Yasuhisa,Shiozawa Kousuke,Doi Toshiro,Kurokawa Syuhei,Aida Hideo,Miyashita Tadakazu,Yamauchi Kazuto，Proceedings of ... JSME-IIP/ASME-ISPS Joint Conference on Micromechatronics for Information and Precision Equipment : IIP/ISPS joint MIPE，一般社団法人日本機械学会，Vol. 2015，p. "WeC-2-5-1"-"WeC-2-5-3"，2015年06月14日
硬X線集光用形状可変ミラーによる二段KBミラー集光光学系の開発，後藤拓実,中森紘基,松山智至,木村隆志,Khakurel Krishna,佐野泰久,香村芳樹,石川哲也,西野吉則,山内和人，アブストラクト集，公益社団法人精密工学会，Vol. 2015，No. 0，p. 1047-1048，2015年03月
Development of non‐interferometric, single‐shot quantitative phase imaging.，KHAKUREL Krishna Prasad,KIMURA Takashi,JOTI Yasumasa,MATSUYAMA Satoshi,YAMAUCHI Kazuto,NISHINO Yoshinori，日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム予稿集，Vol. 28th，2015年01月10日
多層膜KBミラーを用いたX線自由電子レーザーのナノ集光位相回折格子を用いた波面計測法によるビーム評価，西原明彦,松山智至,KIM Jangwoo,湯本博勝,小山貴久,登野健介,犬伏雄一,片山拓也,大橋治彦,後藤俊治,矢橋牧名,石川哲也,山内和人，精密工学会大会学術講演会講演論文集，Vol. 2015，2015年
形状可変ミラーを用いた二段Kirkpatrick-Baezミラー集光光学系による硬X線集光ビームの形成，後藤拓実,中森紘基,松山智至,木村隆志,Khakurel Krishna,佐野泰久,香村芳樹,西野吉則,石川哲也,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，公益社団法人精密工学会，Vol. 2015，No. 0，p. 703-704，2015年
Special issue on atomically controlled fabrication technology，Yukio Takahashi,Yuji Kuwahara,Kazuto Yamauchi，NANOSCALE RESEARCH LETTERS，SPRINGER，Vol. 9，2014年05月
高精度X線光学素子のためのコーティング膜の開発，小山貴久,道先裕志,湯本博勝,金章雨,松山智至,山内和人,矢橋牧名,大橋治彦，日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム予稿集，Vol. 27th，2014年
高精度形状計測法と非球面加工法を利用した硬X線楕円面集光ミラーの形状修正，湯本博勝,小山貴久,松山智至,山内和人,大橋治彦,大橋治彦，日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム予稿集，Vol. 27th，2014年
硬X線用部分回転楕円面集光ミラーのための表面加工プロセスの開発，湯本博勝,湯本博勝,小山貴久,小山貴久,松山智至,山内和人,大橋治彦,大橋治彦，精密工学会大会学術講演会講演論文集，Vol. 2014，2014年
硬X線用部分回転楕円面集光ミラーの作製-高精度非球面加工法によるミラー表面の形状修正加工-，湯本博勝,湯本博勝,小山貴久,小山貴久,松山智至,山内和人,大橋治彦,大橋治彦，精密工学会大会学術講演会講演論文集，Vol. 2014，2014年
硬X線自由電子レーザーシングルナノ集光用Pt/C多層膜の破壊特性評価，金章雨,長平良綾香,松山智至,福井亮介,西原明彦,小山貴久,湯本博勝,佐野泰久,大橋治彦,後藤俊治,矢橋牧名,石川哲也,山内和人，日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム予稿集，Vol. 27th，2014年
二次元位相回折格子を用いたXFELナノビームのシングルショット波面計測，西原明彦,福井亮介,松山智至,KIM Jangwoo,長平良綾香,湯本博勝,三村秀和,小山貴久,登野健介,犬伏雄一,佐藤尭洋,片山拓也,富樫格,矢代航,佐野泰久,大橋治彦,百生敦,後藤俊治,矢橋牧名,石川哲也,山内和人，精密工学会大会学術講演会講演論文集，Vol. 2014，2014年
位相回折格子を用いたX線レーザナノビームの波面計測法の研究-フーリエ変換法と縞走査法の2つの解析法の検討-，西原明彦,松山智至,金章雨,長平良綾香,湯本博勝,三村秀和,小山貴久,登野健介,犬伏雄一,佐藤尭洋,片山拓也,富樫格,矢代航,佐野泰久,大橋治彦,百生敦,後藤俊治,矢橋牧名,石川哲也,山内和人，精密工学会関西地方定期学術講演会講演論文集，Vol. 2014，2014年
チェス盤回折格子を用いたXFELナノビームのシングルショット波面計測，西原明彦,福井亮介,松山智至,金章雨,長平良綾香,湯本博勝,三村秀和,小山貴久,登野健介,犬伏雄一,佐藤尭洋,片山拓也,富樫格,矢代航,佐野泰久,大橋治彦,百生敦,後藤俊治,矢橋牧名,石川哲也,山内和人，日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム予稿集，Vol. 27th，2014年
Atomic Structure and Catalytic Activity of W-Modified Ni2P Surface Alloy by Photoelectron Diffraction and Spectroscopy，H. Matsui,F. Matsui,N. Maejima,T. Matsushita,T. Okamoto,A. N. Hattori,Y. Sano,K. Yamauchi,H. Daimon，e-Journal of Surface Science and Nanotechnology，Vol. 12，p. 53-56，2014年，速報，短報，研究ノート等（学術雑誌）
Development of non‐interferometric single‐shot quantitative phase imaging，KHAKUREL Krishna Prasad,KIMURA Takashi,JOTI Yasumasa,MATSUYAMA Satoshi,YAMAUCHI Kazuto,NISHINO Yoshinori，Abstracts. RIES-Hokudai International Symposium，Vol. 15th，p. 77-78，2014年
グローバルCOEプログラムを振り返って―自然現象の精緻さによって製造技術をかえる―，山内和人，精密工学会誌，The Japan Society for Precision Engineering，Vol. 80，No. 1，p. 47-51，2014年01月
Abrasive-Free Polishing of SiC Wafer Utilizing Catalyst Surface Reaction，Y. Sano,K. Arima,K. Yamauchi，ECS Transactions，Vol. 58，No. 4，p. 447-453，2013年10月
X線自由電子レーザー集光技術の現状と将来，山内和人，高圧力の科学と技術，The Japan Society of High Pressure Science and Technology，Vol. 23，No. 3，p. 220-226，2013年09月
X線ナノ集光の最前線とX線補償光学，山内和人，光学，応用物理学会分科会日本光学会，Vol. 42，No. 6，p. 296-302，2013年06月10日
Scanning Protein Analysis of Electrofocusing Gels using X-ray Fluorescence，S. Matsuyama,A. Matsunaga,S. Sakamoto,Y. Iida,Y. Suzuki,Y. Ishizaka,K. Yamauchi,T. Ishikawa,M. Shimura，Metallomics，Vol. 5，No. 5，p. 492-500，2013年05月
ウエットエッチングによる原子スケール平坦化 : 触媒表面基準エッチング法の開発 (表面改質による材料の新規性発現とその応用)，山内和人,佐野泰久,有馬健太，応用物理，応用物理学会，Vol. 82，No. 5，p. 403-406，2013年05月
ウエットエッチングによる原子スケール平坦化触媒表面基準エッチング法の開発，山内和人,佐野泰久,有馬健太，応用物理学会誌，応用物理学会，Vol. 82，No. 5，p. 403-406，2013年05月
I-2-1 触媒表面反応を利用した新しい研磨法によるGaN基板表面の平坦化(窒化物半導体デバイスの精密加工プロセス-結晶基板の将来加工技術-,口頭発表)，佐野泰久,定國峻,浅野博弥,八木圭太,有馬健太,山内和人，IIP情報・知能・精密機器部門講演会講演論文集，一般社団法人日本機械学会，Vol. 2013，p. 22-23，2013年03月20日
部分回転楕円面ミラーによる硬X線集光光学系の開発-波動光学集光シミュレーターと表面形状計測法-，湯本博勝,小山貴久,松山智至,山内和人,大橋治彦,大橋治彦，精密工学会大会学術講演会講演論文集，Vol. 2013，2013年
波動光学シミュレーターを用いた部分回転楕円面ミラーによる硬X線集光特性の検討，湯本博勝,小山貴久,松山智至,山内和人,大橋治彦,大橋治彦，日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム予稿集，Vol. 26th，2013年
XFELマイクロビームによる光学材料アブレーション試験，小山貴久,湯本博勝,仙波泰徳,登野健介,富樫格,犬伏雄一,佐藤尭洋,松山智至,金章雨,木村隆志,三村秀和,山内和人,矢橋牧名,大橋治彦,石川哲也，日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム予稿集，Vol. 26th，2013年
Study of Terminated Species on 4H-SiC (0001) Surface Planarized by Catalyst-Referred Etching，P. V. Bui,S. Sadakuni,T. Okamoto,K. Arima,Y. Sano,K. Yamauchi，Materials Science Forum，Vol. 740-724，p. 510-513，2013年01月
Study on Reactive Species in Catalyst-Referred Etching of 4H-SiC using Platinum and Hydrofluoric Acid，A. Isohashi,Y. Sano,T. Okamoto,K. Tachibana,K. Arima,K. Inagaki,K. Yagi,S. Sadakuni,Y. Morikawa,K. Yamauchi，Materials Science Forum，Vol. 740-742，p. 847-850，2013年01月
X線自由電子レーザー集光技術の現状と将来，山内和人，高圧力の科学と技術 = The Review of high pressure science and technology，Vol. 23，No. 3，p. 220-226，2013年
The 4th International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology Preface，Kazuto Yamauchi,Kazuya Yamamura，CURRENT APPLIED PHYSICS，ELSEVIER SCIENCE BV，Vol. 12，p. S1-S1，2012年12月
半導体SiC基板の新しい研磨技術 : 触媒表面反応を利用した研磨技術の開発(<小特集>話題の材料を活かす加工技術)，八木圭太,辻村学,佐野泰久,山内和人，日本機械学會誌，一般社団法人日本機械学会，Vol. 115，No. 1128，p. 767-771，2012年11月05日
触媒表面基準エッチングによる単結晶SiC, GaN表面の平滑化，山内和人,佐野泰久,有馬健太，精密工学会誌，公益社団法人精密工学会，Vol. 78，No. 11，p. 947-951，2012年11月
C08 Elastic emission machining の加工点における粉末粒子挙動(OS10 班磨技術(2))，金岡政彦,野村和司,山内和人,森勇藏，生産加工・工作機械部門講演会 : 生産と加工に関する学術講演会，一般社団法人日本機械学会，Vol. 2012，No. 9，p. 143-144，2012年10月27日
触媒表面基準エッチングによる単結晶SiC, GaN, ZnO表面の平滑化，山内和人,佐野泰久,有馬健太，表面科学 : hyomen kagaku = Journal of the Surface Science Society of Japan，日本表面科学会，Vol. 33，No. 6，p. 334-338，2012年06月10日
触媒表面基準エッチングによる単結晶SiC、GaN表面の平滑化 (特集先端部品のための高付価値研磨・切断加工技術)，山内和人,佐野泰久,有馬健太，機械技術，日刊工業出版プロダクション，Vol. 60，No. 5，p. 37-41，2012年05月
SACLAにおける1μmコヒーレント集光装置の開発，三村秀和,湯本博勝,小山貴久,大橋治彦,石川哲也,山内和人，放射光，日本放射光学会，Vol. 25，No. 2，p. 76-81，2012年03月31日
放射光X線ミラーのための高精度非球面加工装置の開発，湯本博勝,松山智至,三村秀和,山内和人,大橋治彦，精密工学会大会学術講演会講演論文集，Vol. 2012，2012年
SACLA硬X線自由電子レーザービームラインにおける1μm集光用KBミラー光学系の開発，湯本博勝,小山貴久,三村秀和,八須洋輔,木村隆志,横山光,金章雨,松山智至,佐野泰久,登野健介,富樫格,犬伏雄一,佐藤尭洋,矢橋牧名,大橋治彦,大橋治彦,大森整,山内和人,石川哲也，日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム予稿集，Vol. 25th，2012年
触媒表面基準エッチングによる単結晶SiC，GaN，ZnO表面の平滑化，山内和人,佐野泰久,有馬健太，表面科学，The Surface Science Society of Japan，Vol. 33，No. 6，p. 334-338，2012年
SiC基板表面の原子レベル平坦化，佐野泰久,有馬健太,山内和人，光技術コンタクト，日本オプトメカトロニクス協会，Vol. 49，No. 12，p. 22-27，2011年12月
Graphene Formation on 4H-SiC(0001) Surface Flattened by Catalyst-Assisted Chemical Etching in HF Solution，Keisuke Nishitani,Hiroki Sakane,Azusa N. Hattori,Takeshi Okamoto,Kentaro Kawai,Junichi Uchikoshi,Yasuhisa Sano,Kazuto Yamauchi,Mizuho Morita,Kenta Arima，ECS Transactions, State-of-the-Art Program on Compound Semiconductors 53 (SOTAPOCS 53)，The Electrochemical Socity，Vol. 41，No. 6，p. 241-248，2011年10月
二次元硬X線 Sub-10nm 集光システムの構築，木村隆志,三村秀和,横山光,今井将太,湯本博勝,松山智至,香村芳樹,西野吉則,玉作賢治,矢橋牧名,石川哲也,山内和人，放射光，Vol. 24，No. 2，p. 102-103，2011年03月31日
硬X線集光用高精度形状可変ミラーの作製と評価，今井将太,木村隆志,三村秀和,横山光,湯本博勝,松山智至,香村芳樹,西野吉則,玉作賢治,矢橋牧名,石川哲也,山内和人，日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム予稿集，Vol. 24th，2011年01月07日
KBミラー集光X線を用いた高分解能走査型回折顕微法の開発，鈴木明大,高橋幸生,堤良輔,西野吉則,松原英一郎,山内和人,石川哲也，日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム予稿集，Vol. 24th，2011年01月07日
試料厚さの効果を考慮した高分解能コヒーレントX線回折顕微法，高橋幸生,堤良輔,西野吉則,是津信行,松原英一郎,山内和人,石川哲也，日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム予稿集，Vol. 24th，2011年01月07日
コヒーレントイメージングの現状と展望，西野吉則,田中義人,伊藤基巳紀,高橋幸生,三村秀和,松山智至,前島一博,志村まり,城地保昌,苙口友隆,別所義隆,竹内昌治,岡田真,岡谷基弘,野崎公彦,大路祐介,松下雄多,堤良輔,矢橋牧名,永園充,富樫格,大橋治彦,松井真二,松原英一郎,山内和人,石川哲也，日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム予稿集，Vol. 24th，2011年01月07日
Surface replication with one-nanometer-level smoothness by a nickel electroforming process，MIMURA Hidekazu,MATSUYAMA Satoshi,SANO Yasuhisa,YAMAUCHI Kazuto，International journal of electrical machining，No. 16，p. 21-25，2011年01月01日
高能率高精度Ｘ線ミラー加工のためのIBF(Ion Beam Figuring)システムの開発，北村真一,松山智至,三村秀和,佐野泰久,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，Vol. 2011，No. 0，p. 513-514，2011年
硬X線自由電子レーザー用オートコリレータに用いるSi ビームスプリッタの作製・評価，大坂泰斗,矢橋牧名,佐野泰久,登野健介,犬伏雄一,佐藤尭洋,三村秀和,松山智至,石川哲也,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，The Japan Society for Precision Engineering，Vol. 2011，No. 0，p. 511-512，2011年
シャドウマスクを用いたPCVM(Plasma Chemical Vaporization Machining)によるSiC 基板の切断加工の検討，西川央明,佐野泰久,会田浩平,山村和也,松山智至,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，The Japan Society for Precision Engineering，Vol. 2011，No. 0，p. 509-510，2011年
硬X 線集光用ナノ精度形状可変ミラーの開発（第２報）:形状可変ミラーを用いた波面制御の結果，今井将太,木村隆志,三村秀和,横山光,松山智至,佐野泰久,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，Vol. 2011，No. 0，p. 497-498，2011年
シミュレーションを用いた硬X線用形状可変ミラー設計に関する研究，中森紘基,松山智至,今井将太,木村隆志,三村秀和,佐野泰久,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，Vol. 2011，No. 0，p. 495-496，2011年
高密度X線ナノビーム形成のための並列型Kirkpatrick-Baezミラー光学系の開発:放射光を用いたX線ミラー評価，松山智至,脇岡敏之,木谷直隆,横山光,三村秀和,佐野泰久,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，Vol. 2011，No. 0，p. 493-494，2011年
多層膜ミラーによる硬X線Sub-10nm集光と顕微鏡への応用，三村秀和,木村隆志,横山光,今井将太,湯本博勝,松山智至,佐野泰久,石川哲也,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，Vol. 2011，No. 0，p. 491-492，2011年
SiC 基板表面の原子レベル平坦化技術（キーノートスピーチ），佐野泰久,有馬健太,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，Vol. 2011，No. 0，p. 373-374，2011年
電鋳プロセスによるナノ精度形状転写法の開発第1報 : 多孔質裏打ち電鋳法の提案と実証，三村秀和,石倉寛之,山内和人，電気加工学会全国大会講演論文集，Vol. 2010，p. 47-48，2010年11月25日
電鋳プロセスによるナノ精度形状転写法の開発第2報 : 電析条件の高精度化と安定化，三村秀和,石倉寛之,山内和人，電気加工学会全国大会講演論文集，Vol. 2010，p. 49-50，2010年11月25日
高分解能コヒーレントX線回折顕微法による金属ナノ粒子の三次元電子密度マッピング，高橋幸生,是津信行,堤良輔,山内和人,西野吉則,石川哲也,松原英一郎，日本金属学会講演概要，Vol. 147th，2010年09月25日
超平坦化加工を施した4H-SiC(0001)表面 : 高品質グラフェン作製への応用，服部梓,岡本武志,定國峻,村田順二,有馬健太,佐野泰久,遠藤勝義,山内和人，表面科学 : hyomen kagaku = Journal of the Surface Science Society of Japan，The Surface Science Society of Japan，Vol. 31，No. 9，p. 466-473，2010年09月10日
P3002-(4) 高機能化原子制御製造プロセス教育研究拠点「自然現象の精緻さによって製造技術をかえる」(【P3002】世界で活躍する若手研究者の育成に向けた大学院博士課程教育,特別企画)，山内和人，年次大会講演資料集，一般社団法人日本機械学会，Vol. 2010，No. 9，p. 39-41，2010年09月04日
24aPS-73 4H-SiC(0001)上のグラフェン形成過程の追跡と層分解構造解析(24aPS 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))，松井公佑,松井文彦,橋本美絵,後藤謙太郎,西嘉山徳之,前島尚行,田中攻,松下智裕,加藤有香子,岡本武志,服部梓,佐野泰久,山内和人,大門寛，日本物理学会講演概要集，The Physical Society of Japan (JPS)，Vol. 65，No. 2，p. 855-855，2010年08月18日
High-resolution TEM observation of SiC surface flattened by catalyst referred etching，S. Sadakuni,N. X. Dai,Y. Sano,K. Arima,A. N. Hattori,K. Yagi,J. Murata,T. Okamoto,K. Tachibana,K. Yamauchi，Abstract Booklet of the 8th European Conference on Silicon Carbide and Related Materials，The Japan Society for Precision Engineering，Vol. 2010，No. 0，p. 303-304，2010年08月
大気圧プラズマによるエッチングを応用した種々の加工法とその特性 (特集最近の興味深いビーム加工技術と将来動向)，佐野泰久,山村和也,山内和人，光技術コンタクト，日本オプトメカトロニクス協会，Vol. 48，No. 6，p. 260-265，2010年06月
触媒表面を基準面とする化学研磨法の開発，佐野泰久,有馬健太,山内和人,サノヤスヒサ,アリマケンタ,ヤマウチカズト，大阪大学低温センターだより，大阪大学低温センター，Vol. 150，p. 22-27，2010年04月
硬X線ナノ集光ビーム用波面誤差算出法の開発，木村隆志,三村秀和,半田宗一郎,湯本博勝,山川大輔,松山智至,佐野泰久,玉作賢治,西野吉則,矢橋牧名,石川哲也,山内和人，放射光，日本放射光学会，Vol. 23，No. 2，p. 119-121，2010年03月31日
高分解X線ナノプローブ顕微鏡を用いた細胞内元素分布イメージング，志村まり,前島一博,松山智至,松浦孝枝,岡村匡史,飯田豊,萩原將太郎,齋藤彰,玉作賢治,西野吉則,湯本博勝,三村秀和,山内和人,石川哲也,石坂幸人，日本薬学会年会要旨集，Vol. 130th，No. 1，2010年03月05日
Ｘ線ミラー用ナノ精度表面創成法の開発-形状修正加工の高分解能化とＸ線集光ミラーへの適応，三村秀和,湯本博勝,松山智至,佐野泰久,山内和人，精密工学会誌，The Japan Society for Precision Engineering，Vol. 76，No. 3，p. 338-342，2010年03月
22pGQ-6 超平坦化加工した4H-SiC(0001)表面上のグラフェン(22pGQ 表面界面構造,領域9(表面・界面,結晶成長))，服部梓,岡本武志,定国峻,村田順二,有馬健太,佐野泰久,遠藤勝義,山内和人，日本物理学会講演概要集，The Physical Society of Japan (JPS)，Vol. 65，No. 1，p. 957-957，2010年03月01日
21pPSA-27 4H-SiC(0001)表面上のグラフェン形成過程の組成・構造解析(21pPSA 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))，松井公佑,松井文彦,橋本美絵,後藤謙太郎,西嘉山徳之,前島尚行,田中攻,松下智裕,加藤有香子,岡本武志,服部梓,佐野泰久,山内和人,大門寛，日本物理学会講演概要集，The Physical Society of Japan (JPS)，Vol. 65，No. 1，p. 949-949，2010年03月01日
原子レベルで平坦な表面の創成技術，佐野泰久,原英之,有馬健太,山内和人，トライボロジスト，日本トライボロジー学会，Vol. 55，No. 3，p. 148-153，2010年03月
X線ミラー用ナノ精度表面創成法の開発-形状修正加工の高分解能化とX線集光ミラーへの適応-，三村秀和,三村秀和,湯本博勝,松山智至,佐野泰久,山内和人,山内和人，精密工学会誌(CD-ROM)，Vol. 76，No. 3，2010年
結像型X線顕微鏡のための4枚ミラー反射型結像光学系の開発，松山智至,藤井正輝,脇岡敏之,木谷直隆,三村秀和,佐野泰久,西野吉則,玉作賢治,矢橋牧名,石川哲也,山内和人，第23回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム，Vol. 23rd，2010年01月
２本の光ファイバからの点光源回折球面波を基準とする位相シフト干渉計:非球面凹面ミラーの表面形状計測精度，小川尚利,中野元博,押鐘寧,井上晴行,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，The Japan Society for Precision Engineering，Vol. 2010，No. 0，p. 741-742，2010年
PCVM (Plasma Chemical Vaporization Machining)を用いた2インチSiC基板の全面加工，会田浩平,佐野泰久,西川央明,山村和也,三村秀和,松山智至,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，Vol. 2010，No. 0，p. 735-736，2010年
EEM(elastic emission machining)の曲面加工への適用，金岡政彦,瀧野日出雄,野村和司,三村秀和,山内和人,森勇藏，精密工学会学術講演会講演論文集，Vol. 2010，No. 0，p. 733-734，2010年
高密度X線ナノビーム形成のための並列型Kirkpatrick-Baezミラー光学系の開発，脇岡敏之,松山智至,木谷直隆,三村秀和,佐野泰久,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，Vol. 2010，No. 0，p. 721-722，2010年
硬X線集光用ナノ精度形状可変ミラーの開発，今井将太,木村隆志,三村秀和,横山光,松山智至,佐野泰久,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，Vol. 2010，No. 0，p. 719-720，2010年
4枚の非球面ミラーを用いた結像型硬X線顕微鏡の開発，松山智至,脇岡敏之,木谷直隆,三村秀和,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，Vol. 2010，No. 0，p. 717-718，2010年
多層膜ミラーによるSub-10nm硬Ｘ線集光システムの開発，三村秀和,木村隆志,横山光,今井将太,湯本博勝,松山智至,佐野泰久,石川哲也,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，The Japan Society for Precision Engineering，Vol. 2010，No. 0，p. 715-716，2010年
数値制御大気圧プラズマ犠牲酸化法の開発:多電極型プラズマ発生装置の試作と評価，吉永圭之介,上坂翔平,佐野泰久,三村秀和,松山智至,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，The Japan Society for Precision Engineering，Vol. 2010，No. 0，p. 309-310，2010年
多孔質裏打ち電鋳法によるナノ精度表面形状転写プロセスの構築，三村秀和,石倉寛之,松山智至,佐野泰久,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，The Japan Society for Precision Engineering，Vol. 2010，No. 0，p. 305-306，2010年
高密度X線ナノビーム形成のための並列型Kirkpatrick-Baezミラー光学系の開発，脇岡敏之,松山智至,藤井正輝,木谷直隆,三村秀和,佐野泰久,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，The Japan Society for Precision Engineering，Vol. 2010，No. 0，p. 291-292，2010年
大型ミラーによる硬Ｘ線集光システムの開発と集光特性の評価，今井将太,山川大輔,三村秀和,木村隆志,八須洋輔,大森整,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，The Japan Society for Precision Engineering，Vol. 2010，No. 0，p. 289-290，2010年
硬Ｘ線ミラー用多層膜の作製と評価，横山光,半田宗一郎,三村秀和,木村隆志,松山智至,佐野泰久,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，The Japan Society for Precision Engineering，Vol. 2010，No. 0，p. 287-288，2010年
ELID研削による石英長尺ミラーの製作，八須洋輔,上原嘉宏,大森整,林偉民,三村秀和,山川大輔,木村隆志,山内和人,高橋豊,山田大輔，精密工学会学術講演会講演論文集，The Japan Society for Precision Engineering，Vol. 2010，No. 0，p. 263-264，2010年
硬X線ナノ集光ビーム用波面誤差算出法の開発，木村隆志,三村秀和,半田宗一郎,湯本博勝,山川大輔,松山智至,佐野泰久,玉作賢治,西野吉則,矢橋牧名,石川哲也,山内和人，日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム予稿集，Vol. 23rd，2009年12月10日
KBミラー放射光集光X線を用いた高分解能コヒーレントX線回折顕微法の開発，堤良輔,高橋幸生,西野吉則,久保英人,榊茂之,三村秀和,松山智至,是津信行,石川哲也,松原英一郎,山内和人，日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム予稿集，Vol. 23rd，2009年12月10日
KBミラー集光X線を用いたコヒーレントX線回折顕微法の応用，久保英人,高橋幸生,是津信行,堤良輔,榊茂之,西野吉則,石川哲也,松原英一郎,山内和人，日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム予稿集，Vol. 23rd，2009年12月10日
円すいころ軸受ころ大端面の最適曲率半径 (特集環境対応) -- (環境対応商品/技術)，藤原宏樹,辻本崇,山内和人，NTN technical review，NTN，No. 77，p. 94-102，2009年12月
X線自由電子レーザ用大型集光ミラーの開発，三村秀和,山内和人,大森整，精密工学会誌，The Japan Society for Precision Engineering，Vol. 75，No. 12，p. 1387-1390，2009年11月
放射光用X線ミラーの開発，三村秀和,山内和人,ミムラヒデカズ,ヤマウチカズト，大阪大学低温センターだより，大阪大学低温センター，Vol. 148，p. 19-25，2009年10月
高分解能コヒーレントX線回折顕微法の開発と金ナノケージの電子密度分布観察，堤良輔,高橋幸生,是津信行,久保英人,山内和人,西野吉則,石川哲也,松原英一郎，日本金属学会講演概要，Vol. 145th，2009年09月15日
Beveling of Silicon Carbide Wafer by Plasma Etching Using Atmospheric-Pressure Plasma，Y. Sano,T. Kato,K. Yamamura,H. Mimura,S. Matsuyama,K. Yamauchi，Proceedings of 31st International Symposium on Dry Process，Vol. 49，No. 8，2009年09月
円すいころ軸受ころ大端面の最適曲率半径(機械要素,潤滑,設計,生産加工,生産システムなど)，藤原宏樹,辻本崇,山内和人，日本機械学會論文集. C編，一般社団法人日本機械学会，Vol. 75，No. 756，p. 2319-2326，2009年08月25日
触媒基準エッチング法(CAtalyst Referred Ething: CARE)の開発--SiC, GaN基板加工への応用 (特集グリーンエネルギー時代を支える先進加工技術とその課題)，山内和人,佐野泰久,有馬健太，機械と工具，工業調査会，Vol. 53，No. 8，p. 20-24，2009年08月
X線自由電子レーザ集光ミラーの開発，三村秀和,山内和人,大森整，光アライアンス，日本工業出版，Vol. 20，No. 7，p. 29-32，2009年07月
KBミラー集光放射光X線を用いた高分解能回折顕微法の実現可能性の検討，堤良輔,高橋幸生,三村秀和,久保英人,山内和人,西野吉則,石川哲也，精密工学会関西地方定期学術講演会講演論文集，Vol. 2009，p. 65-66，2009年05月07日
超精密加工専門委員会活動報告(5.3 専門委員会・分科会の活動,5.精密工学の輪,<特集>創立75周年記念)，山内和人，精密工学会誌，公益社団法人精密工学会，Vol. 75，No. 1，p. 181-181，2009年01月05日
硬X線微小集光用多層膜ミラーの開発，半田宗一郎,木村隆志,三村秀和,湯本博勝,松山智至,佐野泰久,玉作賢治,西野吉則,矢橋牧名,石川哲也,山内和人，日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム予稿集，Vol. 22nd，2009年
K‐Bミラー集光コヒーレントX線回折顕微法の検討，堤良輔,高橋幸生,三村秀和,西野吉則,古川隼人,久保英人,石川哲也,山内和人，日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム予稿集，Vol. 22nd，2009年
硬X線ナノビーム用波面補正ミラーの開発，木村隆志,半田宗一郎,三村秀和,湯本秀和,山川大輔,松山智至,佐野泰久,玉作賢治,西野吉則,矢橋牧名,石川哲也,山内和人，日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム予稿集，Vol. 22nd，2009年
フレネルミラーを用いたX線の可干渉性の評価，山川大輔,三村秀和,木村隆志,松山智至,佐野泰久,玉作賢治,西野吉則,矢橋牧名,石川哲也,山内和人，日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム予稿集，Vol. 22nd，2009年
高度好熱菌丸ごと一匹プロジェクト走査型X線顕微鏡を用いた細胞イメージング，松山智至,志村まり,藤井正輝,脇岡敏之,三村秀和,佐野泰久,矢橋牧名,西野吉則,玉作賢治,石川哲也,山内和人，高度好熱菌丸ごと一匹プロジェクト第8回連携研究会理研シンポジウム平成21年，p. 9-10，2009年
コヒーレントX線回折顕微法によるエレクトロマイグレーションボイド生成過程のその場観察，古川隼人,高橋幸生,久保英人,山内和人,西野吉則,石川哲也,松原英一郎，日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム予稿集，Vol. 22nd，2009年
コヒーレントX線回折顕微法によるナノ構造物の電子密度分布定量評価法の開発，久保英人,高橋幸生,古川隼人,山内和人,西野吉則,石川哲也,松原英一郎，日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム予稿集，Vol. 22nd，2009年
多孔質裏打ち電鋳法によるナノ精度表面形状転写プロセスの構築，三村秀和,石倉寛之,松山智至,佐野泰久,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，The Japan Society for Precision Engineering，Vol. 2009，No. 0，p. 263-264，2009年
触媒基準エッチング法による4H-SiCの加工（第5報）:加工原理の考察，原英之,佐野泰久,森川良忠,岡本武志,八木圭太,村田順二,定国峻,有馬健太,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，The Japan Society for Precision Engineering，Vol. 2009，No. 0，p. 1011-1012，2009年
ファイバ型PS/PDIの非球面形状計測への応用:平面ミラーへの適用，宇高和明,松浦敏普,押鐘寧,井上晴行,中野元博,片岡俊彦,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，The Japan Society for Precision Engineering，Vol. 2009，No. 0，p. 455-456，2009年
ELID研削によるXFEL用Si大型集光ミラー作製，八須洋輔,上原嘉宏,大森整,林偉民,森田晋也,三村秀和,山内和人,高橋豊，精密工学会学術講演会講演論文集，The Japan Society for Precision Engineering，Vol. 2009，No. 0，p. 249-250，2009年
多孔質裏打ち電鋳法によるナノ精度表面転写法の開発:減圧電析法の検討とミラーへの応用，石倉寛之,三村秀和,松山智至,佐野泰久,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，The Japan Society for Precision Engineering，Vol. 2009，No. 0，p. 181-182，2009年
多孔質裏打ち電鋳法によるナノ精度表面形状転写プロセスの構築:多孔質内部への電析条件の検討，三村秀和,石倉寛之,松山智至,佐野泰久,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，The Japan Society for Precision Engineering，Vol. 2009，No. 0，p. 179-180，2009年
ショットキーバリアダイオードの特性評価によるGaN基板表面の評価，白沢佑樹,佐野泰久,村田順二,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，The Japan Society for Precision Engineering，Vol. 2009，No. 0，p. 175-176，2009年
光電気化学プロセス及び固体酸触媒を用いたGaN基板平坦化技術の開発，定国峻,村田順二,八木圭太,佐野泰久,有馬健太,岡本武志,三村秀和,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，The Japan Society for Precision Engineering，Vol. 2009，No. 0，p. 173-174，2009年
ワイヤー電極を用いたPCVM(Plasma Chemical Vaporization Mchining)によるSIC基板の切断加工，会田浩平,佐野泰久,山村和也,三村秀和,松山智至,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，The Japan Society for Precision Engineering，Vol. 2009，No. 0，p. 161-162，2009年
XFEL集光システムの開発，山川大輔,三村秀和,木村隆志,八須洋輔,大森整,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，The Japan Society for Precision Engineering，Vol. 2009，No. 0，p. 155-156，2009年
高密度X線ナノビーム形成のための並列型Kirkpatrick-Baezミラー光学系の開発，脇岡敏之,松山智至,藤井正輝,三村秀和,佐野泰久,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，The Japan Society for Precision Engineering，Vol. 2009，No. 0，p. 151-152，2009年
Pt/C多層膜集光ミラーによる硬X線Sub-10nm集光，半田宗一郎,木村隆志,山川大輔,湯本博勝,三村秀和,松山智至,佐野泰久,石川哲也,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，The Japan Society for Precision Engineering，Vol. 2009，No. 0，p. 149-150，2009年
硬X線用高精度波面制御システムの開発，木村隆志,半田宗一郎,山川大輔,湯本博勝,三村秀和,松山智至,佐野泰久,石川哲也,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，Vol. 2009，No. 0，p. 147-148，2009年
SPring-8 におけるX 線ミラーのための表面形状計測装置 LTP(Long trace profiler)の開発，岸本輝,仙波泰徳,湯本博勝,大橋治彦,後藤俊治,山内和人,石川哲也，精密工学会学術講演会講演論文集，The Japan Society for Precision Engineering，Vol. 2009，No. 0，p. 145-146，2009年
硬X線ナノ集光楕円筒面ミラーのための相対角度決定型スティッチング干渉法に基づく表面形状計測法の開発，湯本博勝,三村秀和,半田宗一郎,木村隆志,松山智至,佐野泰久,大橋治彦,石川哲也,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，The Japan Society for Precision Engineering，Vol. 2009，No. 0，p. 143-144，2009年
SPring-8における大型X線ミラーのためのスティッチング干渉計法に基づく高精度表面形状計測装置の開発:MSI(Microstitching Interferometry)とRADSI(Relative Angle Determinable Stitching Interferometry)，湯本博勝,三浦孝紀,三村秀和,木村隆志,大橋治彦,後藤俊治,山内和人,石川哲也，精密工学会学術講演会講演論文集，The Japan Society for Precision Engineering，Vol. 2009，No. 0，p. 141-142，2009年
未踏の光源、X線自由電子レーザー開発に挑む！，矢橋牧名,山内和人，精密工学会誌，The Japan Society for Precision Engineering，Vol. 75，No. 12，p. 1371-1374，2009年
Advanced Kirkpatrick-Baez ミラー光学系の開発，藤井正輝,松山智至,三村秀和,脇岡敏之,半田宗一郎,木村隆志,佐野泰久,西野吉則,玉作賢治,矢橋牧名,石川哲也,山内和人，第22回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム，Vol. 23，No. 2，p. 118-119，2009年01月
円筒ころ軸受における対数クラウニングの公差設計，藤原宏樹,山内和人，日本機械学會論文集. C編，一般社団法人日本機械学会，Vol. 75，No. 749，p. 1-7，2009年
次世代の超精密加工 : 原子制御製造プロセスの創出に向けて(超精密加工専門委員会,<特集>専門委員会・分科会研究レビュー)，山内和人，精密工学会誌，公益社団法人精密工学会，Vol. 74，No. 10，p. 1013-1015，2008年10月05日
円筒ころ軸受における部分円弧クラウニングと対数クラウニングの実験的比較(機械要素,潤滑,工作,生産管理など)，藤原宏樹,山内和人，日本機械学會論文集. C編，一般社団法人日本機械学会，Vol. 74，No. 745，p. 2308-2314，2008年09月25日
コヒーレントX線回折顕微法による金属材料の電子密度分布定量評価法の開発，久保英人,高橋幸生,古川隼人,山内和人,西野吉則,石川哲也,松原英一郎，日本金属学会講演概要，Vol. 143rd，2008年09月23日
コヒーレントX線回折顕微法によるCu細線のボイド生成過程のその場観察，古川隼人,高橋幸生,久保英人,山内和人,西野吉則,石川哲也,松原英一郎，日本金属学会講演概要，Vol. 143rd，2008年09月23日
硬X線ナノビームを用いた細胞イメージング，松山智至,藤井正輝,三村秀和,脇岡敏之,志村まり,西野吉則,玉作賢治,石川哲也,山内和人，高度好熱菌丸ごと一匹プロジェクト第7回連携研究会，2008年09月
K・Bミラー光学系によるXFELナノ集光システムの開発―大型X線集光ミラーの集光特性の評価―，三村秀和,森田晋也,木村隆志,山川大輔,LIN W,上原嘉宏,松山智至,湯本博勝,大橋治彦,西野吉則,玉作賢治,矢橋牧名,石川哲也,大森整,山内和人，精密工学会大会学術講演会講演論文集，Vol. 2008，2008年09月01日
K‐BミラーによるX線自由電子レーザー集光システムの開発―大型X線集光ミラーの作製―，山川大輔,木村隆志,三村秀和,松山智至,山内和人,森田晋也,林偉民,上原嘉宏,大森整,西野吉則,玉作賢治,矢橋牧名,石川哲也,湯本博勝,大橋治彦，精密工学会関西地方定期学術講演会講演論文集，Vol. 2008，p. 15-16，2008年07月22日
元素識別可能なコヒーレントX線回折顕微法の開発，久保英人,高僑幸生,古川隼人,山内和人,松原英一郎,石川哲也,西野吉則，精密工学会関西地方定期学術講演会講演論文集，Vol. 2008，p. 17-18，2008年07月22日
円筒ころ軸受における部分円弧クラウニングと対数クラウニングの実験的比較，藤原宏樹,山内和人，日本機械学会論文集 C編，The Japan Society of Mechanical Engineers，Vol. 74，No. 745，p. 2308-2314，2008年04月
触媒基準エッチング法，原英之,佐野泰久,有馬健太,山内和人，應用物理，応用物理学会，Vol. 77，No. 2，p. 168-171，2008年02月10日
XFEL大型集光ミラーの高能率・高精度加工法の開発，森田晋也,三村秀和,LIN Weimin,上原嘉宏,山形豊,木村隆志,山川大輔,湯本博勝,湯本博勝,松山智至,西野吉則,玉作賢治,大橋治彦,矢橋牧名,石川哲也,石川哲也,山内和人,大森整，精密工学会大会学術講演会講演論文集，Vol. 2008，2008年
Kirkpatrick-Baez ミラー光学系を搭載した走査型蛍光X 線顕微鏡による細胞内元素分布の観察，藤井正輝,松山智至,志村まり,三村秀和,前島一博,片岸恵子,湯本博勝,半田宗一郎,佐野泰久,西野吉則,玉作賢治,矢橋牧名,石川哲也,山内和人，第21回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム要旨集，Vol. 21st，2008年01月
コヒーレントＸ線回折顕微法の材料科学応用に関する取り組み，高橋幸生,古川隼人,久保英人,山内和人,西野吉則,石川哲也,松原英一郎，KEK proceedings，No. 2007-18，p. 27-30，2008年01月
触媒作用を援用したSiC の超精密研磨に関する研究:Si面とC面の加工特性の評価，久保田章亀,安井平司,宮本士郎,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，The Japan Society for Precision Engineering，Vol. 2008，No. 0，p. 275-276，2008年
ELID・EEMによるXFEL大型集光ミラーの作製，森田晋也,三村秀和,林偉民,上原嘉宏,木村隆志,山川大輔,湯本博勝,石川哲也,山内和人,大森整，精密工学会学術講演会講演論文集，The Japan Society for Precision Engineering，Vol. 2008，No. 0，p. 211-212，2008年
EEM(elastic emission machining)のEUV光学素子作製への適用:粉末粒子の挙動解析による加工速度の考察，金岡政彦,瀧野日出雄,野村和司,三村秀和,山内和人,森勇藏，精密工学会学術講演会講演論文集，The Japan Society for Precision Engineering，Vol. 2008，No. 0，p. 823-824，2008年
SiC表面上への微細構造形成プロセスに関する研究:微細溝構造の形成，久保田章亀,宮本士郎,濟陽崇志,安井平司,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，Vol. 2008，No. 0，p. 449-450，2008年
遷移金属微粒子を用いた研磨法によるGaN基板の平坦化:基礎加工特性の検討，宮本士郎,久保田章亀,安井平司,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，The Japan Society for Precision Engineering，Vol. 2008，No. 0，p. 445-446，2008年
KBミラー光学系によるXFELナノ集光システムの開発―400mmX線集光ミラーの作製と評価―，三村秀和,森田晋也,木村隆志,山川大輔,林偉民,上原嘉宏,湯本博勝,松山智至,西野吉則,玉作賢治,大橋治彦,矢橋牧名,石川哲也,大森整,山内和人，日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム予稿集，Vol. 21st，2007年12月20日
硬X線反射用多層膜ミラーの開発，半田宗一郎,玉作賢治,三村秀和,湯本博勝,木村隆志,松山智至,佐野泰久,西野吉則,矢橋牧名,石川哲也,山内和人，日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム予稿集，Vol. 21st，2007年12月20日
硬X線集光ミラーのためのスティッチング干渉法に基づく高精度表面形状計測法の開発，湯本博勝,三村秀和,木村隆志,半田宗一郎,松山智至,佐野泰久,西野吉則,玉作賢治,矢橋牧名,石川哲也,山内和人，日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム予稿集，Vol. 21st，2007年12月20日
KBミラー光光学系におけるX線集光状態維持システム，山川大輔,三村秀和,木村隆志,湯本博勝,松山智至,佐野泰久,玉作賢治,西野吉則,矢橋牧名,石川哲也,山内和人，日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム予稿集，Vol. 21st，2007年12月20日
Cu細線のコヒーレントX線回折測定，古川隼人,高橋幸生,久保英人,西野吉則,山内和人,石川哲也,松原英一郎，日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム予稿集，Vol. 21st，2007年12月20日
元素識別コヒーレントX線回折顕微法の開発，久保英人,高橋幸生,古川隼人,西野吉則,山内和人,石川哲也,松原英一郎，日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム予稿集，Vol. 21st，2007年12月20日
コヒーレントX線回折顕微法の空間分解能向上のための新たな試み，高橋幸生,西野吉則,古川隼人,久保英人,山内和人,松原英一郎,石川哲也，日本金属学会講演概要，Vol. 141st，2007年09月19日
コヒーレントX線回折顕微法による物質構造変化の動画化に向けた基礎研究，古川隼人,高橋幸生,久保英人,西野吉則,山内和人,石川哲也,松原英一郎，日本金属学会講演概要，Vol. 141st，2007年09月19日
元素識別コヒーレントX線回折顕微法の開発，久保英人,高橋幸生,古川隼人,西野吉則,山内和人,石川哲也,松原英一郎，日本金属学会講演概要，Vol. 141st，2007年09月19日
クライオ走査型蛍光X線顕微鏡による急速凍結された細胞の元素分布測定，片岸恵子,松山智至,志村まり,三村秀和,湯本博勝,半田宗一郎,木村隆志,佐野泰久,西野吉則,玉作賢治,矢橋牧名,石川哲也,山内和人，2007年秋季第68回応用物理学会学術講演会要旨集，Vol. 68th，No. 3，2007年09月
超高精度ミラーによる硬X線ナノビーム形成とその応用，三村秀和,松山智至,湯本博勝,半田宗一郎,片岸恵子,木村隆志,佐野泰久,山村和也,稲垣耕司,玉作賢治,西野吉則,矢橋牧名,石川哲也,山内和人，日本物理学会講演概要集，Vol. 62，No. 2，2007年08月21日
22pTC-3 超高精度ミラーによる硬X線ナノビーム形成とその応用(領域10シンポジウム主題:X線・電子線による回折イメージングの最前線,領域10,誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性)，三村秀和,松山智至,湯本博勝,半田宗一郎,片岸恵子,木村隆志,佐野泰久,山村和也,稲垣耕司,玉作賢治,西野吉則,矢橋牧名,石川哲也,山内和人，日本物理学会講演概要集，The Physical Society of Japan (JPS)，Vol. 62，No. 2，p. 989-989，2007年08月21日
Atomic-scale Characterization of HF-treated 4H-SiC(0001)1x1 Surfaces by Scanning Tunneling Microscopy，Kenta Arima,Hideyuki Hara,Keita Yagi,Ryota Okamoto,Hidekazu Mimura,Akihisa Kubota,Kazuto Yamauchi，Program of 2007 MRS Spring Meeting, H7.6，Materials Research Society，Vol. 996，p. 157-162，2007年04月
高精度非球面ミラーの加工技術，佐野泰久,三村秀和,山村和也,山内和人,森勇藏，レーザー研究，レ-ザ-学会，Vol. 35，No. 3，p. 162-167，2007年03月15日
硬X線集光光学系における波面補正法の開発，木村隆志,三村秀和,松山智至,湯本博勝,半田宗一郎,佐野泰久,山内和人，精密工学会関西地方定期学術講演会講演論文集，Vol. 2007，2007年
Fabrication of X‐ray Mirror for Hard X‐ray Diffraction Limited Nanofocusing，YUMOTO Hirokatsu,MIMURA Hidekazu,MATSUYAMA Satoshi,HANDA Soichiro,SHIBATANI Akihiko,KATAGISHI Keiko,YAMAMURA Kazuya,SANO Yasuhisa,ENDO Katsuyoshi,MORI Yuzo,YABASHI Makina,NISHINO Yoshinori,TAMASAKU Kenji,ISHIKAWA Tetsuya,YAMAUCHI Kazuto，AIP Conference Proceedings，Vol. 879，No. Pt.1，p. 967-970，2007年
Development of a Scanning X‐ray Fluorescence Microscope Using Size‐Controllable Focused X‐ray Beam from 50 to 1500nm，MATSUYAMA Satoshi,MIMURA Hidekazu,YUMOTO Hirokatsu,KATAGISHI Keiko,HANDA Soichiro,SHIBATANI Akihiko,SANO Yasuhisa,YAMAMURA Kazuya,ENDO Katsuyoshi,MORI Yuzo,NISHINO Yoshinori,TAMASAKU Kenji,YABASHI Makina,ISHIKAWA Tetsuya,YAMAUCHI Kazuto，AIP Conference Proceedings，Vol. 879，No. Pt.2，p. 1325-1328，2007年
肝癌モデルラットを用いた細胞の元素分析，志村まり,前島一博,鈴木美成,松山智至,岡村匡史,片岸恵子,飯田豊,宮澤雅之,玉作賢治,西野吉則,矢橋牧名,湯本博勝,三村秀和,今本尚子,石坂幸人,山内和人,石川哲也，生化学，2007年
触媒作用を援用したSiCの超精密研磨に関する研究:単結晶SiC表面研磨の試み，久保田章亀,八木圭太,村田順二,原英之,宮本士郎,三村秀和,佐野泰久,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，The Japan Society for Precision Engineering，Vol. 2007，No. 0，p. 81-82，2007年
触媒作用を援用したSiCの超精密研磨に関する研究:鉄触媒を用いた基礎加工特性の検討，久保田章亀,安井平司,宮本士郎,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，The Japan Society for Precision Engineering，Vol. 2007，No. 0，p. 317-318，2007年
XFEL用Siミラーの鏡面加工の研究:第一報：V-Camを援用した粗さ改善手法の検討，上原嘉宏,森田晋也,三石憲英,林偉民,大森整,三村秀和,山内和人,大竹豊,加瀬究,金井崇，精密工学会学術講演会講演論文集，The Japan Society for Precision Engineering，Vol. 2007，No. 0，p. 285-286，2007年
触媒基準エッチング法による4H-SiCの加工（第4報）:2インチウエハの平坦化，原英之,佐野泰久,岡本武志,有馬健太,八木圭太,村田順二,三村秀和,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，The Japan Society for Precision Engineering，Vol. 2007，No. 0，p. 1001-1002，2007年
走査型蛍光X線顕微鏡を用いた細胞内元素分布の測定，片岸恵子,松山智至,志村まり,三村秀和,湯本博勝,半田宗一郎,芝谷昭彦,佐野泰久,西野吉則,玉作賢治,矢橋牧名,石川哲也,山内和人，応用物理学会学術講演会講演予稿集，Vol. 67th，No. 3，2006年08月29日
At-wavelength figure metrology of total reflection mirrors in hard x-ray region，Hirokatsu Yumoto,Hidekazu Mimura,Satoshi Matsuyama,Soichiro Handa,Akihiko Shibatani,Keiko Katagishi,Yasuhisa Sano,Makina Yabashi,Yoshinori Nishino,Kenji Tamasaku,Tetsuya Ishikawa,Kazuto Yamauchi，Proceedings of SPIE，Vol. 6317，2006年08月
X線ナノ集光ミラーの形状計測，三村秀和,山内和人，光アライアンス，日本工業出版，Vol. 17，No. 8，p. 45-49，2006年08月
高分解能硬X線顕微鏡のためのミラーマニピュレータの開発 : 硬X線領域における50nm以下の回折限界集光の実現，松山智至,三村秀和,湯本博勝,原英之,山村和也,佐野泰久,西野吉則,玉作賢治,矢橋牧名,石川哲也,山内和人，精密工学会誌論文集，公益社団法人精密工学会，Vol. 72，No. 7，p. 884-888，2006年07月05日
EEM(Elastic Emission Machining)によるナノ精度加工，三村秀和,久保田亀章,山内和人,森勇藏，混相流，日本混相流学会，Vol. 20，No. 2，p. 110-116，2006年05月
超純水・高速せん断流による洗浄法の開発(第2報) : 超純水・高速せん断流によるCu除去メカニズムの研究，森田健一,後藤英和,遠藤勝義,山内和人,堤建一,森勇藏，精密工学会誌論文集，公益社団法人精密工学会，Vol. 72，No. 4，p. 529-533，2006年04月05日
走査型蛍光X線顕微鏡を用いた細胞内元素分布の測定，片岸恵子,松山智至,三村秀和,湯本博勝,山村和也,佐野泰久,遠藤勝義,森勇蔵,西野吉則,玉作賢治,矢橋牧名,石川哲也,山内和人，応用物理学関係連合講演会講演予稿集，Vol. 53rd，No. 2，2006年03月22日
超純水・高速せん断流によるSi基板洗浄法の研究 : Si基板表面のDOP汚染の洗浄効果，森田健一,後藤英和,山内和人,遠藤勝義,森勇藏，精密工学会誌論文集，公益社団法人精密工学会，Vol. 72，No. 3，p. 387-392，2006年03月05日
超高精度X線ミラーの作製とコヒーレントX線による評価，三村秀和,湯本博勝,松山智至,山村和也,佐野泰久,遠藤勝義,森勇藏,玉作賢治,矢橋牧名,西野吉則，精密工学会学術講演会講演論文集，公益社団法人精密工学会，Vol. 2006，No. 0，p. 233-234，2006年03月01日
超純水・高速せん断流による洗浄法の開発(第1報) : Si基板表面のCu汚染の洗浄効果，森田健一,後藤英和,山内和人,遠藤勝義,森勇藏，精密工学会誌論文集，公益社団法人精密工学会，Vol. 72，No. 1，p. 89-94，2006年01月05日
高分解能硬X線顕微鏡のためのミラーマニピュレータの開発-硬X線領域における50nm以下の回折限界集光の実現-，松山智至,三村秀和,湯本博勝,原英之,山村和也,佐野泰久,西野吉則,玉作賢治,矢橋牧名,石川哲也,山内和人，精密工学会誌(CD-ROM)，Vol. 72，No. 7，2006年
触媒を援用した化学ポリシング法による4H–SiCの加工(第2報):加工速度の検討，原英之,佐野泰久,三村秀和,竹川雄也,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，The Japan Society for Precision Engineering，Vol. 2006，No. 0，p. 557-558，2006年
EEM(Elastic Emission Machining)における表面平滑化機構に関する研究，三村秀和,久保田章亀,大道朱里,山内和人,森勇藏，精密工学会学術講演会講演論文集，The Japan Society for Precision Engineering，Vol. 2006，No. 0，p. 445-446，2006年
新規な研磨加工を行った4H–SiC(0001)表面の原子構造解析，石田剛志,有馬健太,原英之,山村和也,山内和人,遠藤勝義，精密工学会学術講演会講演論文集，The Japan Society for Precision Engineering，Vol. 2006，No. 0，p. 1115-1116，2006年
EEM（Elastic Emission Machining)によるSiC表面凹凸の改善，久保田章亀,三村秀和,稲垣耕司,佐野泰久,森勇藏,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，The Japan Society for Precision Engineering，Vol. 2006，No. 0，p. 967-968，2006年
湿式プロセスにより得られた超平坦4H-SiC(0001)実用表面の原子構造解析，岡本亮太,有馬健太,佐野泰久,原英之,石田剛志,八木圭太,山内和人,遠藤勝義，精密工学会学術講演会講演論文集，The Japan Society for Precision Engineering，Vol. 2006，No. 0，p. 539-540，2006年
触媒基準エッチング法によるGaNの加工，村田順二,久保田章亀,八木圭太,佐野泰久,原英之,有馬健太,三村秀和,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，The Japan Society for Precision Engineering，Vol. 2006，No. 0，p. 533-534，2006年
触媒基準エッチング法による4H-SiCの加工（第3報):モリブデン触媒の検討，原英之,佐野泰久,有馬健太,八木圭太,村田順二,久保田章亀,三村秀和,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，The Japan Society for Precision Engineering，Vol. 2006，No. 0，p. 531-532，2006年
触媒作用を援用したSiCの超精密研磨に関する研究:焼結SiC表面研磨の試み，久保田章亀,八木圭太,安井平司,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，The Japan Society for Precision Engineering，Vol. 2006，No. 0，p. 253-254，2006年
At-wavelength形状計測法による硬X線ナノ集光鏡の開発，三村秀和,湯本博勝,半田宗一郎,松山智至,佐野泰久,西野吉則,玉作賢治,矢橋牧名,石川哲也,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，The Japan Society for Precision Engineering，Vol. 2006，No. 0，p. 207-208，2006年
細胞内エレメントアレイ法の開発とその生物学及び医学領域における展開，石坂幸人,志村まり,斎藤彰,三村秀和,松山智至,矢橋牧名,玉作賢治,西野吉則,山内和人,石川哲也，日本分子生物学会年会講演要旨集，Vol. 28th，2005年11月25日
硬X線ナノ集光用超高精度楕円ミラーの作製と1次元集光性能の評価，湯本博勝,三村秀和,松山智至,原英之,山村和也,佐野泰久,上野一匡,遠藤勝義,森勇藏,西野吉則,玉作賢治,矢橋牧名,石川哲也,山内和人，精密工学会誌論文集，公益社団法人精密工学会，Vol. 71，No. 9，p. 1137-1140，2005年09月05日
Fabrication of elliptically figured mirror for focusing hard X-rays to size less than 50 nm，H. Yumoto,H. Mimura,S. Matsuyama,K. Yamamura,Y. Sano,K. Ueno,K. Endo,Y. Mori,Y. Nishino,M. Yabashi,K. Tamasaku,T. Ishikawa,K. Yamauchi，Review of Scientific Instruments, 76, 063708 (2005).，Vol. 76，No. 6，2005年07月
EEM(Elastic Emission Machining)プロセスにおける微粒子表面の形態が加工表面に及ぼす影響，久保田章亀,三村秀和,稲垣耕司,森勇藏,山内和人，精密工学会誌論文集，公益社団法人精密工学会，Vol. 71，No. 6，p. 762-766，2005年06月05日
EEM(Elastic Emission Machining)プロセスにおける加工液がSi(001)表面のマイクロラフネスに及ぼす影響，久保田章亀,三村秀和,湯本博勝,森勇藏,山内和人，精密工学会誌論文集，公益社団法人精密工学会，Vol. 71，No. 5，p. 628-632，2005年05月05日
Hard X-ray Focusing less than 50nm for Nanoscopy/spectroscopy，K. Yamauchi,H. Mimura,S. Matsuyama,H. Yumoto,S. Handa,K. Yamamura,Y. Sano,K. Endo,Y. Mori,Y. Nishino,K. Tamasaku,M. Yabashi,T. Ishikawa，AIP Conference Proceedings，Vol. 879，No. Pt.1，p. 786-791，2005年05月
EEM(Elastic Emission Machining)による4H-SiC(0001)表面の平滑化，久保田章亀,三村秀和,佐野泰久,山村和也,山内和人,森勇藏，精密工学会誌論文集，公益社団法人精密工学会，Vol. 71，No. 4，p. 477-480，2005年04月05日
Relative angle determinable stitching interferometry for hard X-ray reflective optics，H. Mimura,H. Yumoto,S. Matsuyama,K. Yamamura,Y. Sano,K. Ueno,K. Endo,Y. Mori,Y. Nishino,K. Tamasaku,M. Yabashi,T. Ishikawa,K. Yamauchi，Review of Scientfic Instruments，Vol. 76，No. 4，2005年02月
EEM(Elastic Emission Machining)プロセスにおける加工液がSi(001)表面のマイクロラフネスに及ぼす影響，久保田章亀,三村秀和,湯本博勝,森勇蔵,山内和人，精密工学会誌，Vol. 71，No. 5，2005年
硬X線ナノ集光用超高精度楕円ミラーの作製と1次元集光性能の評価，湯本博勝,三村秀和,松山智至,原英之,山村和也,佐野泰久,上野一匡,遠藤勝義,森勇蔵,西野吉則,玉作賢治,矢橋牧名,石川哲也,石川哲也,山内和人，精密工学会誌，Vol. 71，No. 9，2005年
EEM (Elastic Emission Machining)による4H-SiC(0001)表面の平滑化，久保田章亀,三村秀和,佐野泰久,山村和也,山内和人,森勇藏，精密工学会誌論文集，The Japan Society for Precision Engineering，Vol. 71，No. 4，p. 477-480，2005年
超高精度X線集光ミラーの作製と集光特性の評価，三村秀和,松山智至,湯本博勝,原英之,山村和也,佐野泰久,遠藤勝義,森勇藏,石川哲也,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，The Japan Society for Precision Engineering，Vol. 2005，No. 0，p. 788-788，2005年
EEMによるSiC表面の平坦化，久保田章亀,三村秀和,稲垣耕司,佐野泰久,山村和也,山内和人,森勇藏，精密工学会学術講演会講演論文集，The Japan Society for Precision Engineering，Vol. 2005，No. 0，p. 785-785，2005年
STMによるEEM(Elastic Emission Machining)の加工機構の解明，加藤潤,久保田章亀,有馬健太,山村和也,森勇藏,山内和人,遠藤勝義，精密工学会学術講演会講演論文集，The Japan Society for Precision Engineering，Vol. 2005，No. 0，p. 779-780，2005年
超純水・高速せん断流による洗浄法の開発:Si基板表面のDOP汚染の洗浄，森田健一,澤井康二,後藤英和,山内和人,遠藤勝義,森勇藏，精密工学会学術講演会講演論文集，The Japan Society for Precision Engineering，Vol. 2005，No. 0，p. 549-550，2005年
超純水・高速せん断流による洗浄法の開発:Si基板表面のCu汚染の洗浄効果，増谷宗彦,森田健一,森勇藏,遠藤勝義,山内和人,後藤英和，精密工学会学術講演会講演論文集，The Japan Society for Precision Engineering，Vol. 2005，No. 0，p. 547-548，2005年
水分解触媒電極を用いた超純水電気化学加工法の研究，村田順二,一井愛雄,森勇藏,広瀬喜久治,遠藤勝義,山内和人,後藤英和，精密工学会学術講演会講演論文集，The Japan Society for Precision Engineering，Vol. 2005，No. 0，p. 543-544，2005年
EEMの表面創成機構に関する研究:超純水および溶存酸素がSi(001)表面に与える影響，大道朱里,三村秀和,久保田章亀,山内和人,森勇藏，精密工学会学術講演会講演論文集，The Japan Society for Precision Engineering，Vol. 2005，No. 0，p. 537-538，2005年
プラズマCVMによるSiCの加工特性，渡辺容代,佐野泰久,山村和也,山内和人,石田剛志,有馬健太,遠藤勝義,森勇藏，精密工学会学術講演会講演論文集，The Japan Society for Precision Engineering，Vol. 2005，No. 0，p. 529-530，2005年
硬X線ナノ集光ミラーの形状計測:高精度スティッチング法の開発，湯本博勝,三村秀和,松山智至,山村和也,佐野泰久,遠藤勝義,森勇藏,石川哲也,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，The Japan Society for Precision Engineering，Vol. 2005，No. 0，p. 453-454，2005年
触媒を援用した化学ポリシング法によるSiCの加工，原英之,佐野泰久,三村秀和,山内和人，精密工学会学術講演会講演論文集，The Japan Society for Precision Engineering，Vol. 2005，No. 0，p. 337-338，2005年
硬X線ナノ集光のための高精度楕円体ミラーの作製と集光特性の評価，湯本博勝,山内和人,三村秀和,松山智至,山村和也,佐野泰久,西野吉則,玉作賢治,矢橋牧名，応用物理学会学術講演会講演予稿集，Vol. 65th，No. 2，2004年09月01日
ミラー集光系を用いたX線顕微鏡(ナノスコピー)の開発，松山智至,山内和人,三村秀和,湯本博勝,山村和也,西野吉則,玉作賢治,矢橋牧名,石川哲也，応用物理学会学術講演会講演予稿集，Vol. 65th，No. 2，2004年09月01日
EEM(Elastic Emission Machining)によるSi(001)表面の平坦化(第2報) : 加工表面の原子像観察と構造評価，山内和人,三村秀和,久保田章亀,有馬健太,稲垣耕司,遠藤勝義,森勇蔵，精密工学会誌論文集，公益社団法人精密工学会，Vol. 70，No. 4，p. 547-551，2004年04月05日
走査型X線顕微鏡のための楕円体ミラーを用いた二次元集光ユニットの開発，松山智至,山内和人,山村和也,三村秀和,佐野泰久,玉作賢治,矢橋牧名,西野吉則,石川哲也，応用物理学関係連合講演会講演予稿集，Vol. 51st，No. 2，2004年03月28日
EEM(Elastic Emission Machining)によるSi(001)表面の平坦化(第1報) : 半導体表面の超平坦化のための超清浄EEMシステムの開発，森勇藏,山内和人,三村秀和,稲垣耕司,久保田章亀,遠藤勝義，精密工学会誌論文集，公益社団法人精密工学会，Vol. 70，No. 3，p. 391-396，2004年03月05日
EEM(Elastic Emission Machining)によるSi(001)表面の平坦化 (第2報):—加工表面の原子像観察と構造評価—，山内和人,三村秀和,久保田章亀,有馬健太,稲垣耕司,遠藤勝義,森勇蔵，精密工学会誌論文集，The Japan Society for Precision Engineering，Vol. 70，No. 4，p. 547-551，2004年
EEMプロセスにおいてシリカ分散超純水がSi(001)表面のマイクロラフネスに及ぼす影響，久保田章亀,三村秀和,山内和人,森勇藏，精密工学会学術講演会講演論文集，The Japan Society for Precision Engineering，Vol. 2004，No. 0，p. 399-399，2004年
STMによるSi(011),(111)ウエハ超精密加工表面の原子構造解析，加藤潤,久保田章亀,有馬健太,山村和也,山内和人,遠藤勝義,森勇藏，精密工学会学術講演会講演論文集，The Japan Society for Precision Engineering，Vol. 2004，No. 0，p. 384-384，2004年
干渉計を用いた楕円体ミラーの形状計測:高精度スティッチング法の開発，湯本博勝,山内和人,三村秀和,松山智至,山村和也,佐野泰久,遠藤勝義,石川哲也,森勇藏，精密工学会学術講演会講演論文集，The Japan Society for Precision Engineering，Vol. 2004，No. 0，p. 116-116，2004年
Flattening of Si (001) Surface by EEM (Elastic Emission Machining):—Atomic Structure Identification of Processed Surface—，山内和人,三村秀和,久保田章亀,有馬健太,稲垣耕司,遠藤勝義,森勇蔵，精密工学会誌論文集，The Japan Society for Precision Engineering，Vol. 70，No. 4，p. 547-551，2004年
原子の滑らかさの加工技術 (特集光技術の極限をめざして)，森勇蔵,山村和也,山内和人，O plus E，新技術コミュニケ-ションズ，Vol. 26，No. 1，p. 36-42，2004年01月
超高精度硬X線集光ミラーの製作とナノスペクトロスコピーへの応用，山村和也,山内和人,佐野泰久,三村秀和,遠藤勝義,森勇蔵,ヤマムラカズヤ,ヤマウチカズト,サノヤスヒサ,ミムラヒデカズ,エンドウカツヨシ,モリユウゾウ，大阪大学低温センターだより，大阪大学低温センター，Vol. 125，p. 4-10，2004年01月
硬X線用斜入射平面ミラーの形状誤差が反射X線強度・位相分布に及ぼす影響の波動光学的評価，山内和人,山村和也,三村秀和,佐野泰久,齋藤彰,久保田章亀,金岡政彦,SOUVOROV Alexei,玉作賢治,矢橋牧名,石川哲也,森勇藏，精密工学会誌，公益社団法人精密工学会，Vol. 69，No. 7，p. 997-1001，2003年07月
高精度X線ミラーのための干渉計を利用した形状計測システムの開発，山内和人,山村和也,三村秀和,佐野泰久,久保田章亀,関戸康裕,上野一匡,SOUVOROV Alexei,玉作賢治,矢橋牧名,石川哲也,森勇藏，精密工学会誌，公益社団法人精密工学会，Vol. 69，No. 6，p. 856-860，2003年06月05日
EEM(Elastic Emission Machining)による表面広空間波長帯域の形状/粗さ修正，森勇藏,山内和人,三村秀和,久保田章亀,稲垣耕司,有馬健太,遠藤勝義，精密工学会学術講演会講演論文集，The Japan Society for Precision Engineering，Vol. 2003，No. 0，p. 411-411，2003年
プラズマCVMおよびEEMによる超高精度X線ミラーの作製とその応用，森勇藏,山内和人,山村和也,三村秀和,佐野泰久,久保田章亀,遠藤勝義,Alexei Souvorov,玉作賢治,矢橋牧名,石川哲也，精密工学会学術講演会講演論文集，The Japan Society for Precision Engineering，Vol. 2003，No. 0，p. 388-388，2003年
数値制御EEM (Elastic Emission Machining)による広空間波長帯域の形状修正，森勇藏,山内和人,三村秀和,久保田章亀,遠藤勝義,有馬健太,稲垣耕司，精密工学会学術講演会講演論文集，The Japan Society for Precision Engineering，Vol. 2003，No. 0，p. 387-387，2003年
ナノパーティクル測定機を用いたウエット洗浄によるSiウエハ表面のラフネス評価，佐々木都至,安弘,竹崎尚之,森勇藏,片岡俊彦,遠藤勝義,山内和人,井上晴行，精密工学会学術講演会講演論文集，The Japan Society for Precision Engineering，Vol. 2003，No. 0，p. 139-139，2003年
プラズマCVMおよびEEMによるシンクロトロン放射X線用楕円ミラーの作製と集光特性の評価，森勇藏,山内和人,山村和也,三村秀和,佐野泰久,斎藤彰,Souvorov Alexei,玉作賢治,矢橋牧名,石川哲也，精密工学会誌，公益社団法人精密工学会，Vol. 68，No. 10，p. 1347-1350，2002年10月05日
超清浄EEM(Elastic Emission Machining)システムに関する研究 : 最適加工条件の探索，森勇藏,山内和人,三村秀和,有馬健太,稲垣耕司,久保田章亀,新林洋介，精密工学会大会学術講演会講演論文集，Vol. 2002，No. 2，p. 460-460，2002年10月01日
プラズマCVMおよびEEMによる放射光用X線ミラーの作製とその応用 : 二枚の平面ミラーを用いたX線干渉計の開発，森勇藏,山内和人,山村和也,三村秀和,佐野泰久,齋藤彰,SOUVOROV A,矢橋牧名,玉作賢治,石川哲也，精密工学会大会学術講演会講演論文集，Vol. 2002，No. 2，p. 459-459，2002年10月01日
プラズマCVMおよびEEMによる放射光用X線ミラーの作製とその応用 : 硬X線顕微鏡の開発，森勇蔵,山内和人,山村和也,三村秀和,佐野泰久,斉藤彰,SOUVOROV Alexei,矢橋牧名,玉作賢治,石川哲也，精密工学会大会学術講演会講演論文集，Vol. 2002，No. 2，p. 458-458，2002年10月01日
光散乱法を用いたSiウエハ表面のウエット洗浄によるナノパーティクル評価，佐々木都至,安弘,竹崎尚之,森勇蔵,片岡俊彦,遠藤勝義,山内和人,井上晴行，精密工学会大会学術講演会講演論文集，Vol. 2002，No. 2，p. 311-311，2002年10月01日
コヒーレント照射でのX線全反射ミラー，石川哲也,矢橋牧名,玉作賢治,スボロフアレクセイ,山内和人,山村和也,三村秀和,斉藤彰,森勇蔵，放射光，日本放射光学会，Vol. 15，No. 5，p. 30-36，2002年09月30日
ナノパーティクル測定機によるシリコンウエハ面のナノ欠陥計測，佐々木都至,安弘,森勇藏,片岡俊彦,遠藤勝義,山内和人,井上晴行，精密工学会誌，公益社団法人精密工学会，Vol. 68，No. 9，p. 1200-1205，2002年09月05日
Elastic Emission Machiningにおける表面原子除去過程の解析とその機構の電子論的な解釈，山内和人,稲垣耕司,三村秀和,杉山和久,広瀬喜久治,森勇藏，精密工学会誌，公益社団法人精密工学会，Vol. 68，No. 3，p. 456-460，2002年03月05日
25pPSB-47 EEM (Elastic Emission Macining)における表面原子除去能率の考察(25pPSB 表面界面・結晶成長,領域9(表面・界面,結晶成長分野))，稲垣耕司,山内和人,神尾豪,中越亮佑,杉山和久,広瀬喜久治,森勇藏，日本物理学会講演概要集，The Physical Society of Japan (JPS)，Vol. 57，No. 1，p. 847-847，2002年03月01日
第一原理分子動力学シミュレーションによるEEM(Elastic Emission Maching)加工機構の解明:加工物表面構造に対する反応性の依存性，稲垣耕司,山内和人,神尾豪,中越亮佑,三村秀和,広瀬喜久治,森勇蔵，精密工学会大会学術講演会講演論文集，Vol. 2002，No. 1，p. 611-611，2002年03月01日
超純粋超高速せん断流によるシリコンウエハ表面の洗浄:汚染微粒子の除去特性，森勇蔵,広瀬喜久治,後藤英和,山内和人,森田健一,漢健太郎,岡本弥華,當間康,小畠厳貴，精密工学会大会学術講演会講演論文集，Vol. 2002，No. 1，p. 609-609，2002年03月01日
超清浄EEM (Elastic Emission Machining)加工システムの開発:加工表面の原子レベルでの評価，森勇蔵,山内和人,三村秀和,有馬健太,稲垣耕司,久保田章亀,新林洋介，精密工学会大会学術講演会講演論文集，Vol. 2002，No. 1，p. 606-606，2002年03月01日
プラズマCVMおよびEEMによるX線平面ミラーの加工と放射光による評価，森勇蔵,山内和人,山村和也,三村秀和,佐野泰久,斉藤彰,金岡政彦,SOUVOROV A,矢橋牧名,玉作賢治,石川哲也，精密工学会大会学術講演会講演論文集，Vol. 2002，No. 1，p. 605-605，2002年03月01日
数値制御プラズマCVMおよび数値制御EEMによる硬X線集光用超精密非球面ミラーの加工，森勇蔵,山内和人,山村和也,三村秀和,佐野泰久,斉藤彰,SOUVOROV A,矢橋牧名,玉作賢治,石川哲也，精密工学会大会学術講演会講演論文集，Vol. 2002，No. 1，p. 604-604，2002年03月01日
光散乱法を用いたシリコンウエハ面の洗浄によるナノ構造評価，佐々木都至,安弘,竹崎尚之,森勇蔵,片岡俊彦,遠藤勝義,山内和人,井上晴行，精密工学会大会学術講演会講演論文集，Vol. 2002，No. 1，p. 39-39，2002年03月01日
レーザー光散乱法によるSiウエハ表面上のナノパーティクルの計測，佐々木都至,安弘,森勇藏,片岡俊彦,遠藤勝義,山内和人,井上晴行，精密工学会誌，公益社団法人精密工学会，Vol. 67，No. 11，p. 1818-1823，2001年11月05日
20aTF-1 表面原子エッチングプロセスにおけるバックボンド弱体化機構のBond order DOSによる解析，稲垣耕司,山内和人,神尾崇,中越亮佑,杉山和久,広瀬喜久治,森勇藏，日本物理学会講演概要集，The Physical Society of Japan (JPS)，Vol. 56，No. 2，p. 771-771，2001年09月03日
超精密非球面形状計測装置の開発 : ゴニオメータの角度位置決め精度の検証，東保男,杉山弘,張小威,安藤正海,遠藤勝義,山内和人,山村和也,打越純一,森勇蔵，精密工学会大会学術講演会講演論文集，Vol. 2001，No. 2，p. 133-133，2001年09月01日
光反射率スペクトルによるSiウエハ表面評価法の開発 : 装置の開発と加工表面評価，稲垣耕司,小野倫也,杉江利章,山内和人,遠藤勝義,広瀬喜久治,森勇蔵，精密工学会大会学術講演会講演論文集，Vol. 2001，No. 2，p. 672-672，2001年09月01日
第一原理分子動力学シミュレーションによるEEM(Elastic Emission Machining)加工特性の加工物材料(Si, Ge)依存性の解析，中越亮祐,神尾豪,稲垣耕司,山内和人,広瀬喜久治,森勇蔵,杉山和久，精密工学会大会学術講演会講演論文集，Vol. 2001，No. 2，p. 242-242，2001年09月01日
第一原理分子動力学シミュレーションによるEEM(Elastic Emission Machinig)加工機構の解明 : Si(001)表面とSiO_2微粒子の結合過程および分離過程の解明，神尾豪,中越亮祐,稲垣耕司,山内和人,広瀬喜久治,森勇蔵,杉山和人，精密工学会大会学術講演会講演論文集，Vol. 2001，No. 2，p. 241-241，2001年09月01日
プラズマCVMおよびEEMによるX線光学素子の加工と放射光による評価，森勇蔵,山内和人,山村和也,三村秀和,斉藤彰,岸本宏樹,関戸康裕,金岡政彦，精密工学会大会学術講演会講演論文集，Vol. 2001，No. 2，p. 240-240，2001年09月01日
EEM(Elastic Emission Machining)による超精密数値制御加工に関する研究(第3報) : 形状修正加工システムの高精度化，森勇蔵,山内和人,稲垣耕司,三村秀和,関戸康裕,金岡政彦，精密工学会大会学術講演会講演論文集，Vol. 2001，No. 2，p. 239-239，2001年09月01日
超清浄EEM(Elastic Emission Machining)システムに関する研究(第2報) : 原子像による加工表面の評価，森勇蔵,山内和人,稲垣耕司,三村秀和,久保田章亀，精密工学会大会学術講演会講演論文集，Vol. 2001，No. 2，p. 238-238，2001年09月01日
光散乱法によるSiウエハ表面のナノ微細欠陥とナノ構造の計測と評価，佐々木都至,安弘,竹崎尚之,森勇蔵,片岡俊彦,遠藤勝義,山内和人,井上晴行，精密工学会大会学術講演会講演論文集，Vol. 2001，No. 2，p. 216-216，2001年09月01日
数値制御EEM(Elastic Emission Machining)加工システムの開発 : nmオーダでの加工精度の評価，森勇藏,山内和人,杉山和久,稲垣耕司,三村秀和,今井利幸，精密工学会誌，公益社団法人精密工学会，Vol. 67，No. 4，p. 607-612，2001年04月05日
数値制御EEM(Elastic Emission Machining)加工システムの開発，山内和人,三村秀和,森勇藏，表面科学 = Journal of The Surface Science Society of Japan，日本表面科学会，Vol. 22，No. 3，p. 152-159，2001年03月10日
29pPSA-39 水素終端化Si表面とZrO_2微粒子の水中での接触過程の第一原理計算による解析，稲垣耕司,山内和人,杉山和久,神尾豪,広瀬喜久治,森勇蔵，日本物理学会講演概要集，The Physical Society of Japan (JPS)，Vol. 56，No. 1，p. 822-822，2001年03月09日
プラズマCVMによる機能材料の切断加工 : 内周刃型切断加工装置の試作とその切断加工特性，森勇藏,山内和人,山村和也,佐野泰久，精密工学会誌，公益社団法人精密工学会，Vol. 67，No. 2，p. 295-299，2001年02月05日
超精密・超微細加工数値制御ＥＥＭ（ＥｌａｓｔｉｃＥｍｉｓｓｉｏｎＭａｃｈｉｎｉｎｇ）加工システムの開発，山内和人,三村秀和,森勇藏，表面科学，The Surface Science Society of Japan，Vol. 22，No. 3，p. 152-159，2001年
プラズマCVMの開発，森勇藏,山内和人,山村和也,佐野泰久，精密工学会誌，公益社団法人精密工学会，Vol. 66，No. 8，p. 1280-1285，2000年08月05日
SPV(Surface Photo-voltage)スペクトロスコピーによる超精密加工表面評価法の開発，山内和人,杉山和久,稲垣耕司,山村和也,佐野泰久,森勇藏，精密工学会誌，公益社団法人精密工学会，Vol. 66，No. 4，p. 630-634，2000年04月05日
24aPS-49 第一原理分子動力学によるElastic Emission Machiningにおける表面反応の材料依存性の解析I : Si(001)表面とSiO_2, ZrO_2, TiO_2微粒子間の反応，山内和人,稲垣耕司,山本幸治,神尾豪,杉山和久,広瀬喜久治,森勇藏，日本物理学会講演概要集，The Physical Society of Japan (JPS)，Vol. 55，No. 1，p. 789-789，2000年03月10日
微粒子定機によるナノメータオーダのSiウエハ表面形状の測定，佐々木都至,安弘,瑞原重勲,森勇藏,片岡俊彦,遠藤勝義,山内和人,井上晴行,押鐘寧,竹村太一，精密工学会大会学術講演会講演論文集，Vol. 2000，No. 1，p. 604-604，2000年03月01日
EEM(Elastic Emission Machining)による超精密数値制御加工に関する研究(第1報) : nmオーダの形状修正加工システムの開発，森勇蔵,山内和人,杉山和久,稲垣耕司,島田尚一,打越純一,三村秀和,今井利幸，精密工学会大会学術講演会講演論文集，Vol. 2000，No. 1，p. 195-195，2000年03月01日
超洗浄EEM(Elastic Emission Machining)システムに関する研究(第1報) : シリコン表面の平坦化及び評価，森勇蔵,山内和人,杉山和久,稲垣耕司,島田尚一,打越純一,三村秀和,金村一秀，精密工学会大会学術講演会講演論文集，Vol. 2000，No. 1，p. 190-190，2000年03月01日
光散乱法によるナノメータオーダの粒径測定法の開発 (第5報) : Siウエハ表面に対する洗浄前後の微粒子測定による表面評価，安弘,佐々木都至,森勇蔵,片岡俊彦,遠藤勝義,井上晴行,山内和人,谷口浩之，精密工学会誌，公益社団法人精密工学会，Vol. 65，No. 10，p. 1435-1439，1999年10月05日
微粒子測定機を用いたSiウェハ表面におけるナノメータオーダのスクラッチ形状の測定，佐々木都至,安弘,瑞原重勲,森勇蔵,片岡俊彦,遠藤勝義,山内和人,井上晴行,押鐘寧,竹村太一，精密工学会大会学術講演会講演論文集，Vol. 1999，No. 2，p. 389-389，1999年09月01日
傾斜角積分法による形状測定(第2報)-EEMよる修正加工前後の形状測定-，東保男,森勇蔵,山内和人,遠藤勝義,打越純一,杉山和久，精密工学会大会学術講演会講演論文集，Vol. 1999，No. 2，p. 332-332，1999年09月01日
傾斜角積分法による形状測定(第1報)-製作した自動測定装置の性能-，東保男,森勇蔵,山内和人,遠藤勝義,打越純一,杉山和久，精密工学会大会学術講演会講演論文集，Vol. 1999，No. 2，p. 331-331，1999年09月01日
ナノメータオーダの粒径測定機を用いたSiウエハ表面の微粒子および欠陥計測による表面評価，安弘,佐々木都至,谷口浩之,瑞原重勲,森勇蔵,片岡俊彦,遠藤勝義,山内和人,井上晴行,押鐘寧，精密工学会大会学術講演会講演論文集，Vol. 1999，No. 1，p. 464-464，1999年03月05日
EMM(Elastic Emission Machining)における表面原子除去過程の第一原理分子動力学シミュレーション，稲垣耕司,広瀬喜久治,山内和人,杉山和久,森勇蔵,大谷和男，精密工学会大会学術講演会講演論文集，Vol. 1999，No. 1，p. 420-420，1999年03月05日
超清浄数値制御EEM(Elastic Emission Machining)の開発(第2報) -ノズル噴射流れを利用した加工ヘッドの開発-，森勇蔵,山内和人,杉山和久,稲垣耕司,島田尚一,打越純一,三村秀和,大谷和男，精密工学会大会学術講演会講演論文集，Vol. 1999，No. 1，p. 419-419，1999年03月05日
超清浄数値制御EEM(Elastic Emission Machining)の開発(第1報) -超純水静圧軸受けを用いた数値制御ステージシステムの開発-，森勇蔵,片岡俊彦,山内和人,杉山和久,稲垣耕司,島田尚一,打越純一,南部征一郎,大谷和男,平岡大治，精密工学会大会学術講演会講演論文集，Vol. 1999，No. 1，p. 418-418，1999年03月05日
ナノメータオーダの粒径測定機を用いたSiウェーハの洗浄による表面評価，安弘,佐々木都至,谷口浩之,森勇藏,片岡俊彦,遠藤勝義,山内和人,井上晴行,押鐘寧，精密工学会大会学術講演会講演論文集，Vol. 1998，No. 2，p. 512-512，1998年09月01日
EEM(Elastic Emission Machining)に関する研究 : 加工液中の溶存酸素がSiウエハ表面に与える影響，山内和人,片岡俊彦,遠藤勝義,稲垣耕司,杉山和久,牧野修之,森勇藏，精密工学会誌，公益社団法人精密工学会，Vol. 64，No. 6，p. 907-912，1998年06月05日
大気中で使用する時のHe-Neレーザ光の特性，東保男,小池重明,高富俊和,森勇蔵,山内和人,遠藤勝義,打越純一，精密工学会大会学術講演会講演論文集，Vol. 1998，No. 1，p. 639-639，1998年03月05日
光散乱法によるナノメータオーダの粒径測定法 (第7報) -ウルトラクリーンルームでのSiウェーハ面の測定と微粒子測定表面評価-，安弘,佐々木都至,谷口浩之,森勇蔵,片岡俊彦,遠藤勝義,山内和人,井上晴行,押鐘寧,井山章吾，精密工学会大会学術講演会講演論文集，Vol. 1998，No. 1，p. 674-674，1998年03月05日
EEM(Elastic Emission Machining) 加工システムの超清浄化，森勇藏,片岡俊彦,山内和人,島田尚一,杉山和久,打越純一,稲垣耕司,兵頭潤一，精密工学会大会学術講演会講演論文集，Vol. 1998，No. 1，p. 517-517，1998年03月05日
EEM (Elastic Emission Machining)用微粒子作製装置の開発，森勇蔵,山内和人,山村和也,佐野泰久,松本光弘,三村秀和，精密工学会大会学術講演会講演論文集，Vol. 1998，No. 1，p. 430-430，1998年03月05日
EEMにおける原子除去過程の第一原理分子動力学シミュレーション，稲垣耕司,山内和人,杉山和久,杉本光宏,広瀬喜久治,後藤英和,森勇蔵，精密工学会大会学術講演会講演論文集，Vol. 1998，No. 1，p. 176-176，1998年03月05日
EEMにおける原子除去過程の第一原理分子動力学シミュレーション，広瀬喜久治,森勇藏,山内和人,後藤英和,杉山和久,稲垣耕司,杉本光宏，精密工学会大会学術講演会講演論文集，Vol. 1997，No. 2，p. 97-97，1997年10月01日
光散乱法によるナノメータオーダの粒径測定法 (第6報) -Siウェーハ面の測定と微粒子付着分布による表面評価-，安弘,南川文孝,佐々木都至,森勇蔵,片岡俊彦,遠藤勝義,山内和人,井上晴行,押鐘寧,井山章吾，精密工学会大会学術講演会講演論文集，Vol. 1997，No. 1，p. 391-392，1997年03月01日
Plasma CVM(Chemical Vaporization Machining)におけるポリシング加工に関する研究(第3報) -加工面の平坦度と電極形状ならびに試料保持方法の相関(その2)-，森勇蔵,山内和人,山村和也,佐野泰久，精密工学会大会学術講演会講演論文集，Vol. 1996，No. 2，p. 197-198，1996年09月01日
光散乱法によるナノメータオーダの粒径測定法の開発(第4報) : 光電子増倍管出力特性の定式化とダイナミックレンジの改善法，安弘,森勇藏,片岡俊彦,遠藤勝義,山内和人,稲垣耕司,山村和也,井上晴行,佐野泰久，精密工学会誌，公益社団法人精密工学会，Vol. 62，No. 8，p. 1198-1202，1996年08月05日
次世代を担う原子・電子レベルの先端技術 : 超精密加工専門委員会の目指すところ(超精密加工専門委員会)(<特集>専門委員会研究レビュー)，森勇藏,安武潔,遠藤勝義,山内和人，精密工学会誌，公益社団法人精密工学会，Vol. 62，No. 6，p. 766-772，1996年06月05日
Plasma CVM(Chemical Vaporization Machining)におけるポリシング加工に関する研究(第1報) -ポリシング加工用高速回転型電極の試作とその加工特性-，森勇藏,山内和人,山村和也,佐野泰久，精密工学会大会学術講演会講演論文集，Vol. 1996，No. 1，p. 1145-1146，1996年03月01日
プラズマCVM(Chemical Vaporization Machining)における切断加工に関する研究 -切断加工用高速回転電極の試作とその加工特性-，森勇藏,山内和人,山村和也,佐野泰久，精密工学会大会学術講演会講演論文集，Vol. 1996，No. 1，p. 1143-1144，1996年03月01日
Plasma CVM(Chemical Vaporization Machining)におけるNC加工に関する研究(第1報) -NC加工用高速回転型電極の試作とその加工特性-，森勇藏,山内和人,山村和也,佐野泰久，精密工学会大会学術講演会講演論文集，Vol. 1996，No. 1，p. 1141-1142，1996年03月01日
光散乱法によるナノメータオーダの粒径測定法 (第5報) -ダイナミックレンジの改善法と標準粒子の測定-，安弘,南川文孝,森勇蔵,片岡俊彦,遠藤勝義,山内和人,稲垣耕司,井上晴行,山村和也,佐野泰久，精密工学会大会学術講演会講演論文集，Vol. 1996，No. 1，p. 1109-1110，1996年03月01日
EEM(Elastic Emission Machining)における加工現象の第一原理分子動力学シミュレーション (第3報) -化学結合の分子軌道計算-，山内和人,山村和也,佐野泰久,広瀬喜久治,後藤英和,坂本正雄,森勇藏，精密工学会大会学術講演会講演論文集，Vol. 1996，No. 1，p. 989-990，1996年03月01日
プラズマCVM(Chemical Vaporization Machining)における加工現象の第一原理分子動力学シミュレーション(第5報)-Si表面とハロゲン原子の相互作用の解析(その3)-，山村和也,佐野泰久,山内和人,広瀬喜久治,後藤英和,坂本正雄,森勇藏，精密工学会大会学術講演会講演論文集，Vol. 1995，No. 2，p. 625-626，1995年09月01日
光反射率スペクトルによるSi自然酸化表面の酸化膜厚およびひずみの計測，森勇藏,片岡俊彦,遠藤勝義,山内和人,稲垣耕司,山村和也,広瀬喜久治，精密工学会誌，公益社団法人精密工学会，Vol. 61，No. 3，p. 396-400，1995年03月05日
光反射率スペクトルによる超精密加工表面評価法の開発，森勇藏,片岡俊彦,遠藤勝義,山内和人,稲垣耕司,山村和也,広瀬喜久治，精密工学会誌，公益社団法人精密工学会，Vol. 60，No. 9，p. 1360-1364，1994年09月05日
水分子と相互作用するシリコン単結晶(001)水素終端化表面の第一原理分子動力学シミュレーション，広瀬喜久治,後藤英和,土屋八郎,森勇藏,遠藤勝義,山内和人，精密工学会誌，公益社団法人精密工学会，Vol. 60，No. 8，p. 1139-1143，1994年08月05日
材料表面現象の第一原理分子動力学シミュレーション : シリコン単結晶(001)表面の水素終端化反応，広瀬喜久治,後藤英和,土屋八郎,森勇蔵,遠藤勝義,山内和人，精密工学会誌，公益社団法人精密工学会，Vol. 60，No. 3，p. 402-406，1994年03月05日
光散乱法によるナノメータオーダの粒径測定法の開発(第3報) : 標準微粒子による粒径測定法の評価，森勇蔵,安弘,片岡俊彦,遠藤勝義,稲垣耕司,山内和人,山村和也,福池敬重，精密工学会誌，公益社団法人精密工学会，Vol. 59，No. 7，p. 1121-1126，1993年07月05日
超精密加工とマイクロトライボロジ- (マイクロトライボロジ-<特集>)，森勇蔵,山内和人，トライボロジスト，日本トライボロジ-学会，Vol. 37，No. 11，p. p913-917，1992年11月
若手研究者は精密工学会に何を期待するか(1992年度精密工学会春季大会公開座談会)，遠藤篤,小野里雅彦,芝正孝,冨山哲男,保坂寛,山内和人,吉川昌範，精密工学会誌，The Japan Society for Precision Engineering，Vol. 58，No. 9，p. 1474-1484，1992年09月05日
摩擦力の原子論的考察(第2報) : 弾性接触状態における摩擦力の測定，森勇蔵,遠藤勝義,山内和人,稲垣耕司,井出敞，精密工学会誌，公益社団法人精密工学会，Vol. 57，No. 6，p. 1017-1022，1991年06月05日
ダンヤモンドと金属の表面原子間の結合力に関する研究，森勇蔵,遠藤勝義,山内和人,王暉,井出敞,後藤英和，精密工学会誌，公益社団法人精密工学会，Vol. 57，No. 5，p. 881-886，1991年05月05日
超高真空用大電流イオンビーム表面改質装置の開発，森勇蔵,王暉,遠藤勝義,山内和人,井出敞,後藤英和，精密工学会誌，公益社団法人精密工学会，Vol. 57，No. 4，p. 674-680，1991年04月05日
固体表面間の相互作用力に関する研究(第2報) : 超高真空中における同種金属間の相互作用力と接触領域，森勇蔵,遠藤勝義,山内和人,王暉,井出敞，精密工学会誌，公益社団法人精密工学会，Vol. 57，No. 2，p. 310-317，1991年02月05日
Center of Excellence : 極限精密加工技術(<特集>グローバリゼーション)，森勇蔵,山内和人,遠藤勝義，精密工学会誌，公益社団法人精密工学会，Vol. 57，No. 1，p. 36-42，1991年01月05日
光散乱法によるナノメータオーダの粒径測定法の開発(第2報) : シリコンウエハ表面付着微粒子の測定，森勇蔵,安弘,遠藤勝義,山内和人,井出敞，精密工学会誌，公益社団法人精密工学会，Vol. 56，No. 10，p. 1847-1852，1990年10月05日
加工と量子力学，森勇蔵,山内和人,後藤英和,遠藤勝義，日本機械学會誌，一般社団法人日本機械学会，Vol. 93，No. 862，p. 773-778，1990年09月05日
摩擦力の原子論的考察(第1報) : 原子間相互作用に基づく摩擦の概念，森勇蔵,遠藤勝義,山内和人,王暉,井出敞，精密工学会誌，公益社団法人精密工学会，Vol. 56，No. 4，p. 679-684，1990年04月05日
固体表面間の相互作用力に関する研究ダイヤモンドと金属間の相互作用力，森勇蔵,遠藤勝義,山内和人,豊田洋通,西沢慶太郎，精密工学会大会学術講演会講演論文集，Vol. 1989，No. Autumn 1，p. 3-4，1989年10月
Elastic Emission Machining，山内和人，55/3,480，精密工学会誌，Vol. 55，No. 3，p. 480-484，1989年
光散乱法によるナノメータオーダの粒径測定法の開発，森勇蔵,安弘,遠藤勝義,山内和人,杉山和久,土屋八郎,井出敞，精密工学会誌，公益社団法人精密工学会，Vol. 54，No. 11，p. 2132-2137，1988年11月05日
熱化学反応を用いたSi3N4の除去加工，土屋八郎,後藤英和,森勇藏,遠藤勝義,山内和人,宮崎眞,西雅文，精密工学会誌，第54巻，第1号 (1988) pp.96-100.，公益社団法人精密工学会，Vol. 54，No. 1，p. 96-100，1988年01月
CO2レーザによるSiおよびSi3N4表面酸化反応層の形成と表面層の除去機構，土屋八郎,後藤英和,森勇藏,広瀬喜久治,遠藤勝義,山内和人,宮崎眞,西雅文，精密工学会誌，第53巻，第11号 (1987) pp.107-113.，公益社団法人精密工学会，Vol. 53，No. 11，p. 1765-1771，1987年11月
焼結機構ＩＩ雰囲気ガスのネック成長におよぼす影響:雰囲気ガスのネック成長におよぼす影響，森勇蔵,八木秀次,紺田功,山内和人，粉体および粉末冶金，Japan Society of Powder and Powder Metallurgy，Vol. 33，No. 6，p. 296-301，1986年
焼結機構Ｉ新しい焼結式の提案:新しい焼結式の提案，森勇蔵,八木秀次,紺田功,山内和人，粉体および粉末冶金，Japan Society of Powder and Powder Metallurgy，Vol. 33，No. 6，p. 291-295，1986年
EEMの原理と応用，森勇蔵,山内和人,モリユウゾウ,ヤマウチカズト，大阪大学低温センターだより，大阪大学低温センター，Vol. 53，p. 12-16，1986年01月
シンクロトロン放射光用ミラーの超精密形状測定装置の開発，森勇蔵,本郷俊夫,東保男,杉山和久,山内和人,西川和仁,酒井啓至，精密機械，公益社団法人精密工学会，Vol. 51，No. 11，p. 2090-2095，1985年11月05日
EEM(Elastic Emission Machining)の基礎研究(第2報) : 応力場から見た格子欠陥の発生, 増殖の可能性，森勇蔵,井川直哉,杉山和久,奥田徹,山内和人，精密機械，公益社団法人精密工学会，Vol. 51，No. 6，p. 1187-1194，1985年06月05日
EEM(Elastic Emission Machining)による超精密数値制御加工法 : 流体中の粉末の挙動と加工特性，森勇蔵,奥田徹,杉山和久,山内和人，精密機械，公益社団法人精密工学会，Vol. 51，No. 5，p. 1033-1039，1985年05月05日
原子の大きさに迫る加工(1.巨大・微細)(<特集>極限へのアプローチ)，森勇蔵,山内和人，精密機械，公益社団法人精密工学会，Vol. 51，No. 1，p. 12-18，1985年01月05日
シンクロトロン放射光用ミラーの超精密形状測定装置の開発，森勇蔵,本郷俊夫,東保男,杉山和久,山内和人,西川和仁,酒井啓至，精密機械，The Japan Society for Precision Engineering，Vol. 51，No. 11，p. 2090-2095，1985年
EEM (Elastic Emission Machining)の基礎研究(第2報):応力場から見た格子欠陥の発生,増殖の可能性，森勇蔵,井川直哉,杉山和久,奥田徹,山内和人，精密機械，The Japan Society for Precision Engineering，Vol. 51，No. 6，p. 1187-1194，1985年
ＥＥＭ（ＥｌａｓｔｉｃＥｍｉｓｓｉｏｎＭａｃｈｉｎｉｎｇ）による超精密数値制御加工法流体中の粉末の挙動と加工特性:流体中の粉末の挙動と加工特性，森勇蔵,奥田徹,杉山和久,山内和人，精密機械，The Japan Society for Precision Engineering，Vol. 51，No. 5，p. 1033-1039，1985年
極限へのアプローチＩ巨大・微細原子の大きさに迫る加工，森勇蔵,山内和人，精密機械，The Japan Society for Precision Engineering，Vol. 51，No. 1，p. 12-18，1985年
EEM(Elastic Emission Machining)による超精密数値制御加工法 : 流体の挙動解析と膜厚分布，森勇蔵,井川直哉,奥田徹,杉山和久,山内和人，精密機械，公益社団法人精密工学会，Vol. 49，No. 11，p. 1540-1548，1983年11月05日
ＥＥＭ（ＥｌａｓｔｉｃＥｍｉｓｓｉｏｎＭａｃｈｉｎｉｎｇ）による超精密数値制御加工法流体の挙動解析と膜厚分布:流体の挙動解析と膜厚分布，森勇蔵,井川直哉,奥田徹,杉山和久,山内和人，精密機械，The Japan Society for Precision Engineering，Vol. 49，No. 11，p. 1540-1548，1983年

著書

NEW GLASS Vol.32 No.3 触媒表面基準エッチング法による機能材料表面の原子スケール平坦化，山内和人，ニューガラスフォーラム，2017年11月
応用物理 vol.86 no.10 放射光科学のための高精度X線ミラーの開発，山内和人，応用物理学会，2017年10月
學士會会報 No.923 放射光科学に貢献するX線のナノ集光技術，山内和人，學士會，2017年03月
学術書，蛍光X線分析の実際第2版 13.4章高空間分解能化のための光学技術，山内和人,松山智至，朝倉書店，ISBN:9784254141030，2016年07月
学術書，蛍光X線分析の実際第2版 13.4章高空間分解能化のための光学技術，山内和人,松山智至，朝倉書店，ISBN:9784254141030，2016年07月
学術書，病理と臨床各種顕微鏡の進歩[8] X線顕微鏡，山内和人,松山智至，文光堂，2015年10月
学術書，病理と臨床 vol.33 no.11 各種顕微鏡の進歩[8] X線顕微鏡，山内和人,松山智至，文光堂，2015年10月
学術書，SiCパワーデバイスの開発と最新動向、第7章第5節SiC 基板表面の原子レベル平坦化技術，佐野泰久,有馬健太,山内和人，S&T出版，ISBN:9784907002060，2012年10月
学術書，Crystal Growth Technology (Chapter 18; Crystal Machining Using Atmospheric Pressure Plasma)，Yasuhisa Sano,Kazuya Yamamura,Kazuto Yamauchi，WILEY-VCH，ISBN:9783527325931，2010年09月
学術書，次世代パワー半導体－省エネルギー社会に向けたデバイス開発の最前線－第1章第1節2 PCVMを用いたSiC基板の薄化，佐野泰久,山村和也,山内和人，(株)エヌ・ティー・エス，2009年10月
学術書，大気圧プラズマ基礎と応用 6.7.5 マイクロ／ナノ加工日本学術振興会プラズマ材料科学第153委員会，佐野泰久,山村和也,山内和人，オーム社，ISBN:9784274207600，2009年10月
学術書，Crystal Growth Technology (Chapter 19; Plasma Chemical Vaporization Machining and Elastic Emission Machining)，Yasuhisa Sano,Kazuya Yamamura,Hidekazu Mimura,Kazuto Yamauchi,Yuzo Mori，Wiley-VCH，ISBN:9783527317622，2008年03月
学術書，Elastic Emission Machining図解「砥粒加工技術のすべて」（砥粒加工学会偏），三村秀和,山内和人,森勇藏，工業調査会，2006年09月
学術書，Crystal Growth Technology edited by H. J. Scheel and T. Fukuda Numerically Controlled EEM (Elastic Emission Machining) System for Ultraprecision Figuring and Smoothing of Aspherical Surfaces (Chapter 27)，YUZO MORI,KAZUTO YAMAUCHI,KIKUJI HIROSE,KAZUHISA SUGIYAMA,KOUJI INAGAKI,HIDEKAZU MIMURA，John Wiley & Sons, Ltd.，2003年10月
学術書，原子レベルの平滑面の創成（第Ⅰ編，第4章，第7節）ナノテクノロジーハンドブック, 難波進他12名編，森勇藏,山内和人，オーム社，2003年05月
学術書，究極の物づくり－原子を操る－，森勇藏,広瀬喜久治,芳井熊安,森田瑞穂,片岡俊彦,青野正和,山内和人,遠藤勝義,安武潔,桑原裕司,後藤英和，大阪大学出版会，2002年04月
学術書，超精密加工技術超精密ポリシング（第5章），森勇藏,山内和人,遠藤勝義，コロナ社(日本機会学会編)，1998年06月
学術書，エレクトロニクス用結晶材料の精密加工技術EEM (Elastic Emission Machining)における粉末粒子・加工物間の相互作用力と加工特性（第5章，第3節）および，光反射率スペクトルと表面層の格子欠陥（第11章，第5節）松永正久他３名編，森勇藏,杉山和久,山内和人，サイエンスフォーラム社，1985年05月

受賞

全国発明表彰未来創造発明奨励賞，山内和人,石川哲也,大橋治彦,津村尚史，（公社）発明協会，2023年06月
紫綬褒章，山内和人，日本国，2023年04月
泰山賞（レーザー進歩賞），山内和人，（公財）レーザー技術総合研究所，2019年07月
文部科学大臣表彰科学技術賞（研究部門），山内和人，文部科学省，2016年04月
安田賞，中出和希,森大地,川瀬達也,川合健太郎,佐野泰久,山内和人,森田瑞穂,有馬健太，応用物理学会第21回電子デバイス界面テクノロジー研究会，2016年01月
日本表面科学会会誌賞，山内和人,佐野泰久,有馬健太，公益社団法人日本表面科学会，2013年11月
JSPE Prize Best Paper Award，Shun Sadakuni,Junji Murata,Keita Yagi,Kenta Arima,Yasuhisa Sano,Takeshi Okamoto,Hidekazu Mimura,Kazuto Yamauchi，3rd International Conference of Asian Society for Precision Engineering and Nanotechnology (Japan Society for Precision Engineering)，2009年11月
第22回日本放射光学会ポスター賞，久保英人,高橋幸生,古川隼人,山内和人,西野吉則,石川哲也,松原英一郎，日本放射光学会，2009年01月
第19回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム学生会員発表賞，松山智至,三村秀和,湯本博勝,原英之,山村和也,佐野泰久,遠藤勝義,森勇藏,西野吉則,玉作賢治,矢橋牧名,石川哲也,山内和人，日本放射光学会，2006年02月
奨励研究賞，原英之,佐野泰久,三村秀和,山内和人，応用物理学会、SiC及び関連ワイドギャップ半導体研究会，2005年11月
精密工学会賞，佐々木都至,安弘,森勇蔵,片岡俊彦,遠藤勝義,山内和人,井上晴行，精密工学会，2003年03月
精密工学会賞，山内和人,杉山和久,稲垣耕司,山村和也,佐野泰久,森勇藏，精密工学会，2001年03月
工作機械技術振興賞(論文賞)，森勇蔵,山内和人,山村和也,佐野泰久，(財)工作機械技術振興財団，2000年06月
社団法人日本機械学会生産加工・工作機械部門優秀講演論文表彰，安弘,佐々木都至,森勇蔵,片岡俊彦,遠藤勝義,井上晴行,山内和人，社団法人日本機械学会，1999年12月
精密工学会賞，森勇藏,遠藤勝義,山内和人,王暉,井出敞,後藤英和，精密工学会，1992年03月
精密工学会賞，森勇蔵,井川直哉,奥田徹,山内和人，精密工学会，1986年03月

講演・口頭発表等

Atomically Controlled Surfacing of Single crystalline SiC and GaN by Catalyst-Referred Etching (CARE)，山内和人，The 6th Quantum Science (QS) symposium -The Main Symposium of ICCMSE 2020 -Computational Chemistry and Computational Physics, ONLINE
Development of Catalyst Referred Etching to Produce Atomically Smooth and Crystallographically Ordered Surfaces，山内和人，The 22nd International Symposium on Advances in Abrasive Technology (ISAAT 2019)
Recent Progress in Hard X-ray Reflective Optics for Synchrotron Radiation Sources，山内和人，X RIAO-XIII OPTILAS-MOPM 2019
Fabrication and metrology of precision X-ray optics for new generation synchrotron radiation sources，山内和人，International Symposium on Measurement Technology and Intelligent Instruments (ISMTII 2019)
Mirror based X-ray optical system for the next generation beamline，山内和人，International Baltic School 2019 "4-th Generation X-ray Sources: coherent optics and techniques"
Precision Measurement, Fabrication and Related Technologies for X-ray Mirror Optics，山内和人
Abrasive-free planarization method of functional materials by Catalyst-Referred Etching (CARE)，山内和人，2018 KSPE Autumn Conference
Advances in X-ray mirror optics for 3rd and 4th generation synchrotron radiation sources，山内和人，The International School on XFEL: Science and Instrumentation
Precision Measurement, Fabrication and Related Technologies for Grazing-incidence X-ray Mirror Optics，山内和人，Ultra Precision Manufacturing of Aspheres & Freeforms, Fraunhofer IOF
Novel Reflective Optics and Systems for Hard X-ray Microscopy，山内和人，2018 Denver X-ray Conference (DXC), Imaging (Meadowbrook), S-6
Cutting-edge optics for X-ray microscopy based on SR and FEL，山内和人，The 6th HeKKSaGon University Presidents' Conference WG5
Abrasive-free Planarization of Functional Materials by Catalyst Referred Etching，山内和人，The 17th International Manufacturing Conference in China (IMCC2017)
Advances and future prospects of precision X-ray mirror optics，山内和人，Light Conference 2017
Nano-focusing and nano-imaging optics for advanced synchrotron radiation sources，山内和人，International Workshop on Frontiers of XFEL science
Atomically smoothing SiC and GaN surfaces by catalyst referred etching，山内和人，International Workshop on Advanced Materials and Nanotechnology 2016 (IWAMN 2016)
Advanced mirror-based optics for full field imaging and zoon condenser systems，山内和人，13th International Conference on X-ray Microscopy (XRM2016)
Progress of mirror-based optical system for X-ray nanofocusing and imaging，山内和人，International Conference on X-ray Optics, Detectors, Sources, and their Applications (XOPT)
Mirror-based optical system for the 3rd and 4th generation synchrotron radiation sources，山内和人，23rd International Congress on X-ray Optics and Microanalysis (ICXOM 23)
X-ray focusing optics at SACLA，山内和人，HeKKSaGOn University Consortium The 4th Japanese-German University Presidents' Conference
Atomically controlled surfacing of single crystalline SiC and GaN by catalyst referred etching，山内和人，2014 International Conference on Planarization/CMP Technology (ICPT 2014)
Recent progress of the K-B nano-focusing system，山内和人，ALBA-SSRF Bilateral Workshop
Abrasive-Free Polishing of SiC Wafer Utilizing Catalyst Surface Reaction，山内和人，224th ECS (The Electrochemical Society) Meeting
Nanofocusing of X-ray free electron laser for coherent X-ray science，山内和人，X-ray lasers in biology, The Royal Society
Planarization of GaN Wafer Using Novel Polishing Technique Utilizing Catalyst Surface Reaction,，山内和人，2013 JSPA-MRS Joint Symposia, Symposium J
Development of full-field hard x-ray microscopy with four aspherical mirrors，山内和人，SPIE Optics+Photonics
Nanofocusing and single shot wavefront diagnosis of SACLA，山内和人，SPIE Optics+Optelectronics
Mirror optics of beam delivery & spectrometers，山内和人，European XFEL Users' Meeting
Recent progress on mirror-based optics for the 3rd and 4th generation synchrotron radiation sources，山内和人，5th International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology
Nanofocusing optics for hard x-ray free electron laser，山内和人，SPIE Optics+Photonics
Recent progress on mirror-based optical systems for coherent hard-x-ray science，山内和人，11th International Conference on Synchrotron Radiation Instrumentation (SRI 2012)
Hard X-ray nanofocusing and wavefront diagnosis，山内和人，4th international workshop on Metrology for X-ray Optics, Mirror Design, and Fabrication, International Workshop on X-ray Mirror and related devices
Progress of Mirror-based Focusing Optics for X-ray Free Electron Laser，山内和人，5th Asian Workshop on Generation and Application of Coherent XUV and X-ray Radiation
Nanofocusing and wavefront analysis of SACLA，山内和人，Coherence 2012
High-resolution X-ray ptychography using focused hard X-ray beam，山内和人，Coherence 2012
Current status of mirror-based optics for coherent x-ray science，山内和人，3rd Ringberg Workshop on Science with FELs
Mirror-based optical systems for nanofocusing and nanoimaging of hard X-rays，山内和人，4th International Workshop on FEL Science，2011年08月29日
Deterministic fabrication process for precision X-ray mirrors，山内和人，2nd EOS Conference on Manufacturing of Optical Components (EOSMOC 2011)
Current status of precision mirror development for coherent X-rays，山内和人，SPIE Optics+Optoelectronics
Single-nanometer focusing of hard x-rays using novel adaptive optical system，山内和人，Adaptive & Active X-ray and XUV optics (ACTOP11)
Highly-Ordered GaN (0001) Surface Prepared by Catalyst Referred Etching，山内和人，The 7th International Workshop on Bulk Nitride Semiconductors
Recent Achievement in Mirror Optics for Coherent X-rays，山内和人，3rd Workshop on FEL Science
Atomically Controlled Polishing of Single-Crystalline SiC and GaN，山内和人，2nd International Conference on Nanomanufacturing
Sub10nm Focusing of Hard X-rays Using Mirror Optics，山内和人，10th International Conference on X-ray Microscopy (XRM)
10nm-Level Focusing of Hard X-Rays by KB Mirrors，山内和人，OSA'S 93rd Annual Meeting
Mirror Optics for Coherent X-rays and Overview of the Osaka International Workshop on X-ray Mirror Design, Fabrication and Metrology，山内和人，10th International Conference on Synchrotron Radiation Instrumentation
Hard X-ray Nanofocusing by Kirkpatrick-Baez (KB) mirrors，山内和人，20th international congress on X-ray optics and microanalysis
Spatial wavelength range of surface roughness improved using elastic emission machining，山内和人，The 9th International Euspen Conference
X-ray focusing with Kirkpatrick-Baez optics，山内和人，SPIE Optics + Photonics 2008 (Workshop: Focus on X-ray Focusing)
Synchrotron-radiation-based hard X-ray nanobeam by Kirkpatrick-Baez mirrors，山内和人，European Conference on X-Ray Spectrometry
Catalyst-referred etching - novel abrasive-free polishing method，山内和人，4th International Workshop on Crystal Growth Technology
Focusing hard X-ray to sub-10nm by reflective optics，山内和人，ESRF, SPring-8, APS Three-Way Meeting
Recent achievements and next strategies in hard-X-ray nano-focusing，山内和人，Advanced X-ray Optics Metrology for Nano-focusing and Coherence Preservation，2007年10月05日
Elastic Emission Machining for the Fabrication of X-ray and EUV Mirrors，山内和人，OSA Optical Fabrication and Testing, Topical Meeting
Diffraction-limited X-ray nanobeam with KB mirrors，山内和人，Workshop on New Science Opportunities with Nanometer-Sized X-Ray Beams (ERL X-ray Science Workshops 6)
Hard X-ray Nano-Focusing with Ultraprecisely Figured Mirrors，山内和人，ESRF, APS, SPring-8, The 10th Three-Way Meeting
Hard X-ray Focusing less than 50 nm for Nanoscopy/spectroscopy，山内和人，9th International Conference on Synchrotron Radiation Instrumentation (SRI2006)

報道

微細構造にハイブリッド機能阪大など製造技術素材内の特定場所表面加工親水・撥水薄膜を実現，日刊工業新聞，2017年05月
放射線損傷ない正確な結晶構造決定タンパク質で初の成功 SACLAのレーザーX線利用，科学新聞，2014年06月
X線光子同時吸収理研など 1つの原子に当て成功，日経産業新聞，2014年02月
エックス線自由電子レーザー集光強度、4万倍に理研など鏡を開発，日経産業新聞，2012年12月
最高強度のX線レーザー高輝度センター米の1.5倍実現，日刊工業新聞，2012年12月
What lies beneath: mapping hidden nanostructures，RIKEN Research，2012年02月
物質中の電子密度や特定元素の分布観察大視野・高分解能Ｘ線顕微鏡阪大、名大、理研の研究グループ開発，科学新聞，2011年10月
元素識別が可能に大視野、高分解能Ｘ線顕微鏡を開発阪大など，化学工業日報，2011年10月
大視野で高分解能阪大などがＸ線顕微鏡，日刊工業新聞，2011年10月
原子見分ける顕微鏡阪大・理研など開発，読売新聞，2011年09月
10ナノのくぼみはっきり新型のＸ線顕微鏡阪大グループ開発，朝日新聞（大阪），2010年05月
Ｘ線顕微鏡観察精度10ナノ以下，日経産業新聞，2010年04月
たんぱく質結晶構造解析用 1マイクロメートル径X線ビーム作成，日刊工業新聞，2010年01月
エックス線ビーム世界最小レベル成功，毎日新聞，2009年12月
エックス線ビーム世界最小レベル成功，毎日新聞（大阪），2009年12月
世界最小径7ナノエックス線実現，フジサンケイビジネスアイ，2009年12月
エックス線を1000分の1ミリに，東京新聞，2009年12月
極細X線、直径7ナノメートル細胞活動に光，日本経済新聞，2009年11月
世界最小直径X線ビーム，朝日新聞（大阪），2009年11月
直径7ナノのX線ビーム顕微鏡解像度向上へ，日刊工業新聞，2009年11月
世界最小のX線ビーム直径7ナノ・メートル，読売新聞（大阪），2009年11月
世界最小のX線ビーム細胞の撮影可能に，東京新聞，2009年11月
世界最小直径7ナノメートルX線ビーム阪大チーム実現新治療法開発に期待，産経新聞（大阪），2009年11月
夢の光XFEL使った顕微鏡システム開発，産経新聞（大阪），2008年11月
X線レーザー強度1億倍，岡山日日新聞，2008年08月
X線レーザー強度1億倍の鏡を開発，フジサンケイビジネスアイ，2008年08月
夢の光強度1億倍に世界初大型鏡阪大・理研開発，産経新聞（大阪），2008年08月
滑らかさ極めた鏡レーザー光1億倍強力に，読売新聞（大阪），2008年08月
超滑らか「鏡」開発，朝日新聞，2008年08月
X線自由電子レーザー用大型集光鏡表面誤差最大2ナノメートル阪大、理研と作製，日刊工業新聞，2008年08月
反射鏡、表面凹凸2ナノ X線レーザー回析力向上，日経産業新聞，2008年08月

学術貢献

アメリカ光学会（OSA)（フェロー），2017年09月～継続中
アメリカ光学会（OSA)（シニアメンバー），2017年06月～継続中
国際光工学会（SPIE）（フェロー），2017年01月～継続中
国際光工学会（SPIE）（シニアメンバー），2015年09月～継続中
精密工学会超精密加工専門委員会（委員長），2008年07月～継続中
精密工学会関西支部（幹事），2007年04月～ 2011年03月
精密工学会関西支部（幹事），2002年02月～ 2007年01月
精密工学会関西支部（商議員），2002年02月～ 2006年01月
International Conference on X-ray Optics and Applications 2019 (XOPT2019)，理化学研究所放射光科学総合研究センター，大阪大学大学院工学研究科附属超精密科学研究センター，2020年04月～
International Conference on X-ray Optics and Applications 2019 (XOPT2019)，理化学研究所放射光科学総合研究センター，大阪大学大学院工学研究科附属超精密科学研究センター，2019年04月～
International Conference on X-ray Optics and Applications 2018 (XOPT2018)，理化学研究所放射光科学総合研究センター，大阪大学大学院工学研究科附属超精密科学研究センター，2018年04月～
International Conference on X-ray Optics and Applications 2017 (XOPT’17)，理化学研究所放射光科学総合研究センター，大阪大学大学院工学研究科附属超精密科学研究センター，2017年04月～
International Conference on X-ray Optics, Detectors, Sources, and their Applications 2016 (XOPT'16)，理化学研究所放射光科学総合研究センター，大阪大学大学院工学研究科附属超精密科学研究センター，2016年05月～
日本物理学会大阪支部公開シンポジウム「サイエンスからテクノロジーへ−役に立つ物理への出帆−」，日本物理学会大阪支部，2014年12月～
Workshop on Atomically Controlled Fabrication Technology，卓越した大学院形成支援補助金（高機能化原子制御製造プロセス教育研究拠点），2014年02月～
The 12th Symposium on X-ray Imaging Optics，X線結像光学研究会，2013年11月～
グローバルCOEプログラム国際シンポジウム，大阪大学グローバルCOEプログラム「高機能化原子制御製造プロセス教育研究拠点」，2012年10月～
グローバルCOEプログラム国際シンポジウム，大阪大学グローバルCOEプログラム「高機能化原子制御製造プロセス教育研究拠点」，2011年10月～
グローバルCOEプログラム国際シンポジウム，大阪大学グローバルCOEプログラム「高機能化原子制御製造プロセス教育研究拠点」，2010年11月～
グローバルCOEプログラム国際シンポジウム，大阪大学グローバルCOEプログラム「高機能化原子制御製造プロセス教育研究拠点」，2009年11月～
International Workshop on X-ray Mirror Design, Fabridation, and Metrology，大阪大学グローバルCOEプログラム「高機能化原子制御製造プロセス教育研究拠点」，2009年09月～
21世紀COE国際ワークショップ，精密科学教室，2005年11月～
Optics Photonics，The International Society for Oprical Engineering，2005年08月～

基本情報

研究

社会活動

その他の活動

山内和人

経歴

研究内容・専門分野

所属学会

論文

MISC

著書

受賞

講演・口頭発表等

報道

学術貢献

基本情報

研究

社会活動

その他の活動

山内 和人

経歴

研究内容・専門分野

所属学会

論文

MISC

著書

受賞

講演・口頭発表等

報道

学術貢献

山内和人